JPH0543500U - 高周波４重極型線形加速器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ４本の電極を支持部材で支持して成る電極ア
センブリ２が収容される真空容器１の開口部には、真空
雰囲気側と大気側とを隔離する開閉自在な扉部材２５が
設けられる。電極アセンブリ２の電極および支持部材の
内部には冷媒通路が設けられており、複数の冷媒導入・
導出配管１６〜１８が電極アセンブリ２の冷媒通路に接
続される。複数の冷媒導入・導出配管１６〜１８は、所
定部位がフランジ部材１９により連架されており、フラ
ンジ部材１９はボルト２７により扉部材２５の貫通孔２
５ｂに取付けられる。 【効果】 電極アセンブリ２の真空容器１への取付け取
り外しが容易であり、装置の組立て分解が迅速に行える
ので、生産性およびメンテナンス性の向上が図れる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、例えばイオン注入装置等に用いられる高周波４重極（以下、ＲＦＱ ：Radio Frequency Quadrupoleと称する) 型線形加速器に関し、特にその冷却機 構に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

イオン注入装置は、拡散したい不純物をイオン化し、この不純物イオンを磁界 を用いた質量分析法により選択的に取り出し、電界により加速してイオン照射対 象物に照射することで、イオン照射対象物内に不純物を注入するものである。そ して、このイオン注入装置は、半導体プロセスにおいてデバイスの特性を決定す る不純物を任意の量および深さに制御性良く注入できることから、現在の集積回 路の製造に重要な装置になっている。

【０００３】 近年、半導体デバイスメーカでは、Ｃ−ＭＯＳデバイス製造プロセスにおける レトログレイドウエルの形成、ＲＯＭ後書込み等の利点を有する、ＭｅＶ級の高 エネルギーイオン注入装置の必要性が高まっている。

【０００４】 上記高エネルギーイオン注入装置には、従来より、イオン加速手段としてＲＦ Ｑ型線形加速器が用いられている。このＲＦＱ型線形加速器には、図９に示すよ うに、筒状の真空容器５１内に４本の棒（Rod ）状の電極５２〜５５を互いに９ ０゜の間隔で水平軸まわりに配置し、これらの電極を導電性のポスト５６・５７ で支持した構造の、いわゆる４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器がある。上記４Ｒｏ ｄ−ＲＦＱ型線形加速器は、図示しない高周波電源から供給される高周波電力を 受けて、所定の高エネルギーまでイオンを加速する。

【０００５】 上記ポスト５６は対角線上に相対向する一対の電極５２・５３を支持し、また 、ポスト５７は同じく対角線上に相対向する一対の電極５４・５５を支持してい る。そして、上記電極５２〜５５を支持したポスト５６・５７が導電性のベース ５８に立設されて、真空容器５１内に取付けられる電極アセンブリ５９が構成さ れている。

【０００６】 尚、上記電極５２〜５５、ポスト５６・５７、ベース５８の表面部には大きな 高周波電流が流れるので、これらの部材が昇温する。通常、上記各部材の昇温を 防ぐため、上記各部材内部には、水等の冷却液を流す冷却液路が形成されている 。そして、上記各部材の冷却液路と循環ポンプ（図示せず）とを接続する目的で 、電極アセンブリ５９の電極５２〜５５やベース５８からは、冷却液を上記冷却 液路へ導入・導出する複数の冷却液導入・導出管６０…（同図にはベース５８に 接続されている冷却液導入・導出管のみを示している）が、真空容器５１の壁を 貫通して容器外部の循環ポンプへと延びている。

【０００７】 ４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器の組立ては、先ず、真空容器５１の外で上記電 極アセンブリ５９が組立てられ、この電極アセンブリ５９の冷却液路に、複数の 冷却液導入・導出管６０…が溶接やろう付け等によって接続される。そして、こ の複数の冷却液導入・導出管６０…が接続された電極アセンブリ５９が、真空容 器５１内の所定位置に固着される。この際、上記冷却液導入・導出管６０…と真 空容器５１との間には、Ｏリング等により真空シールが施されると共に、例えば 表面に銀メッキが施されたステンレス線を挟んで締めつけ、電気的コンタクトを とる、いわゆる高周波シール（以下、ＲＦシールと称する）が施される。

【０００８】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記従来の４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器では、電極アセンブ リ５９に接続された複数の冷却液導入・導出管６０…が真空容器５１の壁を貫通 する方向に延びているため、これらの冷却液導入・導出管６０…が邪魔になり、 電極アセンブリ５９の真空容器５１内への出入れがスムーズに行えない。また、 複数の冷却液導入・導出管６０…と真空容器５１との間の真空シールおよびＲＦ シールは、冷却液導入・導出管６０一つ一つに対して行う必要がある。

【０００９】 従って、真空容器５１の外で組立てられた電極アセンブリ５９を真空容器５１ に取付ける作業は、作業者にとって煩雑で手間がかかる作業である。従って、従 来の４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器は生産性が悪く量産には適さない。

【００１０】 ところで、進入イオンが電極５２〜５５に衝突するのは避けられず、電極５２ 〜５５が汚染される。さらに、電極５２〜５５が経時的に撓むといったような原 因から、共振周波数に変動が生じたり、放電が起きた場合、上記４Ｒｏｄ−ＲＦ Ｑ型線形加速器を分解してメンテナンスを行う必要が生じる。この場合も、上記 の理由から装置の分解およびメンテナンス後の組立てが容易に行えない。

【００１１】 本考案は、上記に鑑みなされたものであり、その目的は、電極アセンブリを真 空容器内外に簡単且つ迅速に入出することができ、生産性およびメンテナンス性 の向上が図れる４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】

本考案の４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器は、上記の課題を解決するために、筒 状の真空容器と、この真空容器内を通過する被加速粒子の通過経路のまわりに配 置された４本の電極を支持部材で支持して成る電極アセンブリとを備え、上記電 極および／または支持部材の内部に冷媒が通過する冷媒通路が設けられていると 共に、上記冷媒通路と接続されて真空雰囲気外へと延びる複数の冷媒導入・導出 配管を有している高周波４重極型線形加速器において、以下の手段を講じている 。

【００１３】 即ち、上記複数の冷媒導入・導出配管はこれらの所定部位がフランジ部材によ り連架されており、上記真空容器の開口部には、真空雰囲気側と大気側とを隔離 する開閉自在な扉部材が設けられ、この扉部材には、上記複数の冷媒導入・導出 配管を通す、上記フランジ部材よりも小さい貫通孔が穿設されており、上記フラ ンジ部材はボルト等の取付手段により、上記貫通孔を塞ぐようにして扉部材に取 付けられている。

【００１４】

【作用】

上記の構成によれば、４本の電極を支持部材で支持して成る電極アセンブリが 真空容器内に設けられる。この真空容器の開口部には、真空雰囲気側と大気側と を隔離する開閉自在な扉部材が設けられており、電極アセンブリは、上記扉部材 を開いて真空容器内外に入出される。

【００１５】 上記電極アセンブリの電極および／または支持部材の内部には冷媒通路が設け られており、複数の冷媒導入・導出配管が上記冷媒通路に接続されている。そし て、上記複数の冷媒導入・導出配管は、所定部位がフランジ部材により連架され ており、フランジ部材を取付手段により扉部材に取付ければ、複数の冷媒導入・ 導出配管は、扉部材に穿設された貫通孔を通って真空容器内から大気側へと出る 。

【００１６】 このように、複数の冷媒導入・導出管は、所定部位がフランジ部材により連架 されてまとまっているので、フランジ部材と扉部材との間のみ真空シールおよび ＲＦシールを行えば、冷媒導入・導出配管一つ一つに対して真空シールおよびＲ Ｆシールを行うことなく、複数の冷媒導入・導出配管を大気側へと取り出すこと ができる。

【００１７】 また、電極アセンブリに取付けられる冷媒導入・導出配管の先端は、電極アセ ンブリを真空容器の内外に入出する真空容器の開口部方向に、フランジ部材によ りまとめられて延びているので、電極アセンブリを真空容器の内外に入出する際 、冷媒導入・導出配管が邪魔にならない。従って、電極アセンブリを真空容器内 に取付ける作業は、簡単且つ迅速に行える。また、フランジ部材を扉部材に取付 けていた取付手段を取り外して扉部材を開けば、迅速に電極アセンブリを真空容 器の外に取り出すことができる。

【００１８】

【実施例】

本考案の一実施例について図１ないし図８に基づいて説明すれば、以下の通り である。

【００１９】 本実施例に係る４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器１０は、図８に示すように、高 エネルギーイオン注入装置に適用されるが、これに限定されるものではない。

【００２０】 上記イオン注入装置において、引出し電源３２によってイオン源３１から引出 されたイオンは、質量分析器３３によって質量分析され、所定質量のイオンのみ が選択的に導出されて静電加速管３４に導入される。この静電加速管３４は、加 速電源３５によって４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７に適合するエネルギーま でイオンを加速する。加速されたイオンはＱレンズ等の集束系３６によって整形 された後、４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７に導入される。４Ｒｏｄ−ＲＦＱ 型線形加速器３７は、高周波電源３８からの高周波電力を受けて所定の高エネル ギーまで上記イオンを加速する。この後、上記高エネルギーイオンは、図示しな い注入室内のウエハ等のターゲット３９に照射される。

【００２１】 上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７は、図３に示すように、円筒状の真空 容器１と、この真空容器１の内部に設けられる電極アセンブリ２とを備えている 。

【００２２】 上記電極アセンブリ２は、被加速粒子としてのイオンの通過経路のまわりに互 いに９０゜の間隔で配置された４本の棒（Rod ）状の銅製電極３〜６（図１参照 ）と、導電性（銅製）の平板状のベース（支持部材）７と、このベース７に立設 され、対角線上に相対向する一対の電極３・４を支持する導電性（銅製）のポス ト（支持部材）８・９と、同じくベース７に立設され、対角線上に相対向する一 対の電極５・６を支持する導電性（銅製）のポスト（支持部材）１０・１１とに より構成されている。

【００２３】 上記対角線上に相対向する一対の電極３・４の対向面、および電極５・６の対 向面にはモジュレーションが形成されており、電極３・４のモジュレーションと 電極５・６のモジュレーションとは相互に１８０゜ずれている。上記４Ｒｏｄ− ＲＦＱ型線形加速器３７は、２対の電極（３・４および５・６）が電極間のキャ パシタンスとポスト８・９のインダクタンスとで結合された共振器であり、これ に高周波電源３８（図８参照）から所定周波数の高周波電力を供給し、電極中心 軸上に４重極電場ができるように共振させることにより、電極中心を通過するイ オンが所定エネルギーまで加速される。

【００２４】 この場合、上記電極３〜６、ベース７、ポスト８〜１１の各表面部には大きな 高周波電流が流れるので、これらの部材が昇温する。そこで、上記の電極３〜６ 、ベース７およびポスト８〜１１の各内部には冷却液（冷媒）を流す冷却液路（ 冷媒通路）３ａ〜１１ａ（図３および図４参照）が形成されている。

【００２５】 本実施例の場合、図４に示すように、上記電極３・４の各内部に形成されてい る冷却液路３ａ・４ａは、ポスト９に付設された接続配管１２を介して連通して いる。上記接続配管１２は、ステンレス製のパイプ１２ａと、フレキシブルチュ ーブ１２ｂと、表面に銅メッキが施されたステンレス製のジョイント部１２ｃ・ １２ｃとから成り、ポスト９に固定具１３・１３により固定される。

【００２６】 上記ジョイント部１２ｃと電極４との接続部は、図６および図７に示すように 、Ｏリング１４で冷却液および真空をシールすると共に、ジョイント部１２ｃの 外周に爪１２ｄを突設して電気的コンタクトをとっている。即ち、ジョイント部 １２ｃを電極４にボルト１５…で締めつければ、ジョイント部１２ｃの外周に突 設されたステンレスの爪１２ｄが銅製の電極４ａに食い込む様になり、電気的コ ンタクトがとれるのである。尚、全てのジョイント部と電極あるいはベースとの 接続部が上記のようになっている。

【００２７】 そして、図５に示すように、上記電極３には真空容器１外から冷却液を冷却液 路３ａに導入する第１導入配管（冷媒導入・導出配管）１６が、また、上記電極 ４には冷却液を冷却液路４ａから真空容器１外へと導く第１導出配管（冷媒導入 ・導出配管）１７が接続される。上記第１導入配管１６および第１導出配管１７ は、図１および図５に示すように、固定具１３…で固定されてベース７およびポ スト８に付設される。

【００２８】 上記第１導入配管１６は、ジョイント部１６ａと、ステンレス製のパイプ１６ ｂと、フレキシブルチューブ１６ｃと、銅ベローズ１６ｄと、クイックコネクタ １６ｅとから成り、銅ベローズ１６ｄと、クイックコネクタ１２ｃとの間には、 フランジ部材１９が形成されている。

【００２９】 また、第１導出配管１７は、ジョイント部１７ａと、ステンレス製のパイプ１ ７ｂと、フレキシブルチューブ１７ｃと、銅ベローズ１７ｄと、クイックコネク タ１７ｅとから成り、銅ベローズ１７ｄと、クイックコネクタ１７ｅとの間には 、フランジ部材１９が形成され、上記第１導入配管１６と連架されている。

【００３０】 また、上記同様、上記電極５・６の各内部に形成されている冷却液路５ａ・６ ａ（図４参照）は、ポスト１０に付設された接続配管２０（図２参照）を介して 連通しており、上記電極５には冷却液を導入する第２導入配管（冷媒導入・導出 配管）２１が、また、上記電極６には冷却液を真空容器１外へと導出する第２導 出配管（冷媒導入・導出配管）２２が接続される。

【００３１】 また、本実施例では、ベース７およびポスト８〜１１の各内部に形成されてい る冷却液路７ａ〜１１ａは連通しており、ベース７の一端部には、冷却液を冷却 液路７ａに導入する第３導入配管（冷媒導入・導出配管）１８が、また、ベース ７の他端部には冷却液を冷却液路７ａから真空容器１外へと導く第３導出配管（ 冷媒導入・導出配管）２３が接続されている。

【００３２】 上記第３導入配管１８は、表面に銅メッキが施されたステンレス製のジョイン ト部１８ｂと、銅ベローズ１８ｃと、クイックコネクタ１７ｅとから成り、銅ベ ローズ１８ｂと、クイックコネクタ１８ｃとの間には、フランジ部材１９が形成 され、上記第１導入配管１６および第１導出配管１７と連架されている。また、 上記第３導出配管２３も上記第３導入配管１８と同様の構成である。

【００３３】 上記のように、フランジ部材１９は、第１導入配管１６と第１導出配管１７と 第３導入配管１８とを連架する部材であり、例えば３つの貫通孔を有するフラン ジ部材１９の一方の面（真空側）に銅ベローズ１６ｄ・１７ｄ・１８ｂを溶接し 、他方の面（大気側）にクイックコネクタ（着脱ワンタッチの配管ジョイント） １６ｅ・１７ｅ・１８ｃを取付けることにより作製される。

【００３４】 また、上記フランジ部材１９は、真空容器１の一方の開口部に設けられ、他方 の開口部には、図３に示すように、第２導入配管２１と、第２導出配管２２と、 第３導出配管２３とを連架するフランジ部材２４が設けられる。

【００３５】 また、真空容器１の両開口部には、扉部材２５・２６がヒンジ２８により開閉 自在に取付けられている。上記扉部材２５（２６）には、イオンビームの通過経 路を確保するためのビーム通過孔２５ａ（２６ａ）が穿設されている。また、扉 部材２５（２６）には、導入・導出配管１６〜１８（２１〜２３）を通すフラン ジ部材１９（２４）よりも小さい貫通孔２５ｂ（２６ｂ）が穿設されている。

【００３６】 上記フランジ部材１９は、真空側から上記貫通孔２５ｂを塞ぐようにして扉部 材２５に取付けられ、取付手段としてのボルト２７・２７によって大気側から固 定される。この場合、フランジ部材１９と扉部材２５との間には、Ｏリングと銀 メッキが施されたステンレス線とが挟み込まれ、真空シールおよびＲＦシールが 施される。また、フランジ部材２４も、上記フランジ部材１９と同様にして扉部 材２６に取付けられる。

【００３７】 上記の構成において、上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７の組み立て手順 を以下に示す。

【００３８】 先ず、真空容器１の外で図示しないボルトを用いて電極３〜６、ベース７、ポ スト８〜１１から電極アセンブリ２を組立てる。この後、電極アセンブリ２の所 定位置に冷却液導入・導出配管（第１導入配管１６、第１導出配管１７、第３導 入配管１８、第２導入配管２１、第２導出配管２２、第３導出配管２３）、およ び接続配管１２・２０を取付ける。

【００３９】 そして、真空容器１の両開口部に扉部材２５・２６をヒンジ２８により開閉自 在に取付ける。そして、扉部材２５・２６を開いて、上記の配管が取付けられた 電極アセンブリ２を真空容器１内に入れ、所定位置に図示しないボルトで固定す る。

【００４０】 この後、真空容器１の開口部と扉部材２５・２６との間、扉部材２５とフラン ジ部材１９との間、および扉部材２６とフランジ部材２４との間に、それぞれＯ リングとＲＦシールとを挟んで扉部材２５・２６を閉じる。そして、扉部材２５ ・２６を図示しないボルトで真空容器１の開口部に固定する。また、真空容器１ 外からボルト２７・２７によって、フランジ部材１９を扉部材２５の貫通孔２５ ｂに、また、フランジ部材２４を扉部材２５の貫通孔２５ｂにそれぞれ取付ける 。

【００４１】 そして、図示しない循環ポンプと接続された同じく図示しない冷却液配管を、 フランジ部材１９の大気側のクイックコネクタ１６ｅ・１７ｅ・１８、およびフ ランジ部材２４の大気側のクイックコネクタにワンタッチで接続する。

【００４２】 本実施例の４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７は、上記のように、複数の冷却 液導入・導出配管１６〜１８（２１〜２３）がフランジ部材１９（２４）により 連架されてまとまっているので、フランジ部材１９（２４）と扉部材２５（２６ ）との間のみ真空シールおよびＲＦシールを行えば、従来のように冷却液導入・ 導出配管一つ一つに対して真空シールおよびＲＦシールを行う必要なく、複数の 冷媒導入・導出配管を大気側へと取り出すことができる。

【００４３】 また、本実施例の４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７では、冷却液導入・導出 配管１６〜１８（２１〜２３）は、真空容器１の開口部に設けられた扉部材２５ （２６）を通って大気側へ延びる。即ち、電極アセンブリ２に取付けられる冷却 液導入・導出配管１６〜１８（２１〜２３）の先端は、電極アセンブリ２を真空 容器１の内外に入出する方向にフランジ部材１９（２４）によりまとめられて延 びているので、電極アセンブリ２を真空容器１の内外に入出する際、冷却液導入 ・導出配管１６〜１８（２１〜２３）が邪魔にならない。

【００４４】 従って、真空容器１の外で組立てられて冷却液導入・導出配管１６〜１８・２ １〜２３が取付けられた電極アセンブリ２を真空容器１に取付ける作業は、簡単 且つ迅速に行え、従来に比べて４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器の生産性が向上す る。

【００４５】 また、本４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器３７では、冷却液導入・導出配管１６ 〜１８（２１〜２３も同じ）に、銅ベローズ１６ｄ・１７ｄ・１８ｂやフレキシ ブルチューブ１６ｃ・１７ｃが用いられているので、真空引きによるひずみ、熱 変化によるひずみ、あるいは組立て時のゆがみ等がこれらによって吸収される。 （冷却液導入・導出配管２１〜２３も同じ。）さらに、本４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線 形加速器３７の冷却液導入・導出配管は、溶接を使わずに全てボルトにより電極 アセンブリ２に取付けられるので、冷却液導入・導出配管をまるごと交換可能で きる。

【００４６】 ところで、電極３〜６が汚染される等により上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速 器３７を分解してメンテナンスを行う必要が生じた場合、以下のようにして分解 を行う。

【００４７】 先ず、上記クイックコネクタ１６ｅ・１７ｅ・１８ｃに接続されていた大気側 の冷却液配管を取り外し（ワンタッチ）、次にフランジ部材１９を扉部材２５に 固定していたボルト２７・２７、フランジ部材２４を扉部材２６に固定していた ボルト、および扉部材２５・２６を真空容器１の開口部に固定していたボルトを 取り外して扉部材２５・２６を開く。そして、電極アセンブリ２を真空容器１に 固定していたボルトを外して電極アセンブリ２を真空容器１から取り出し、電極 アセンブリ２の分解を行う。

【００４８】 このように、装置の分解が迅速に行え、メンテナンス後の組立ても前記の如く 容易であることより、従来に比べてメンテナンス性の向上が図れる。

【００４９】 尚、本実施例においては、３つの冷却液導入・導出配管がフランジ部材により 連架されているが、これに限定されるものではなく、２つあるいは４つ以上の冷 却液導入・導出配管がフランジ部材により連架されていてもよい。

【００５０】

【考案の効果】

本考案の４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器は、以上のように、複数の冷媒導入・ 導出配管はこれらの所定部位がフランジ部材により連架されており、上記真空容 器の開口部には、真空雰囲気側と大気側とを隔離する開閉自在な扉部材が設けら れ、この扉部材には、上記複数の冷媒導入・導出配管を通す、上記フランジ部材 よりも小さい貫通孔が穿設されており、上記フランジ部材は取付手段により、上 記貫通孔を塞ぐようにして扉部材に取付けられている構成である。

【００５１】 それゆえ、フランジ部材と扉部材との間のみ真空シールおよびＲＦシールを行 えば、従来のように冷媒導入・導出配管一つ一つに対して真空シールおよびＲＦ シールを行うことなく、複数の冷媒導入・導出配管を大気側へと取り出すことが できる。また、電極アセンブリに取付けられる冷媒導入・導出配管の先端は、電 極アセンブリを真空容器の内外に入出する真空容器の開口部方向に、フランジ部 材によりまとめられて延びているので、電極アセンブリを真空容器の内外に入出 する際、冷媒導入・導出配管が邪魔にならない。

【００５２】 従って、電極アセンブリの真空容器への取付け取り外しが容易であり、装置の 組立て分解が迅速に行えるので、生産性およびメンテナンス性の向上が図れると いう効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示すものであり、４Ｒｏｄ
−ＲＦＱ型線形加速器の概略の横断面図である。

【図２】上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器の電極アセ
ンブリを示す概略の斜視図である。

【図３】上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器の概略の縦
断面図である。

【図４】上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器の電極アセ
ンブリを示す概略の縦断面図である。

【図５】上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器の電極アセ
ンブリを示す概略の縦断面図である。

【図６】上記電極アセンブリにおける電極とジョイント
部との接続部を示す概略の平面図である。

【図７】上記電極アセンブリにおける電極とジョイント
部との接続部を示す概略の縦断面図である。

【図８】上記４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器を用いた高
イオン注入装置の一例を示す概略の構成図である。

【図９】従来例を示すものであり、４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型
線形加速器の概略の縦断面図である。

【符号の説明】

１ 真空容器 ２ 電極アセンブリ ３〜６ 電極 ３ａ〜１１ａ 冷却液路（冷媒通路） ７ ベース（支持部材） ８〜１１ ポスト（支持部材） １６ 第１導入配管（冷媒導入・導出配管） １７ 第１導出配管（冷媒導入・導出配管） １８ 第３導入配管（冷媒導入・導出配管） １９・２４ フランジ部材 ２１ 第２導入配管（冷媒導入・導出配管） ２２ 第２導出配管（冷媒導入・導出配管） ２３ 第３導出配管（冷媒導入・導出配管） ２５・２６ 扉部材 ２５ｂ・２６ｂ 貫通孔 ２７ ボルト（取付手段） ３７ ４Ｒｏｄ−ＲＦＱ型線形加速器

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】筒状の真空容器と、この真空容器内を通過
   する被加速粒子の通過経路のまわりに配置された４本の
   電極を支持部材で支持して成る電極アセンブリとを備
   え、上記電極および／または支持部材の内部に冷媒が通
   過する冷媒通路が設けられていると共に、上記冷媒通路
   と接続されて真空雰囲気外へと延びる複数の冷媒導入・
   導出配管を有している高周波４重極型線形加速器におい
   て、 上記複数の冷媒導入・導出配管はこれらの所定部位がフ
   ランジ部材により連架されており、上記真空容器の開口
   部には、真空雰囲気側と大気側とを隔離する開閉自在な
   扉部材が設けられ、この扉部材には、上記複数の冷媒導
   入・導出配管を通す、上記フランジ部材よりも小さい貫
   通孔が穿設されており、上記フランジ部材は取付手段に
   より、上記貫通孔を塞ぐようにして扉部材に取付けられ
   ていることを特徴とする高周波４重極型線形加速器。