JPH0545498A - 多層膜反射鏡 - Google Patents
多層膜反射鏡Info
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】周期が小さくても高い反射率を有する多層膜を
提供する。 【構成】軟Ｘ線領域での屈折率と真空の屈折率との差が
大きい物質と小さい物質とを交互に積層してなる多層膜
反射鏡において、前記屈折率の差が大きい物質として、
クロムを５重量パーセント以上含むニッケル−クロム合
金またはクロム単体を用いた。なお、前記屈折率の差が
小さい物質としては、酸化バナジウム、酸化珪素または
炭素を用いることができる。
提供する。 【構成】軟Ｘ線領域での屈折率と真空の屈折率との差が
大きい物質と小さい物質とを交互に積層してなる多層膜
反射鏡において、前記屈折率の差が大きい物質として、
クロムを５重量パーセント以上含むニッケル−クロム合
金またはクロム単体を用いた。なお、前記屈折率の差が
小さい物質としては、酸化バナジウム、酸化珪素または
炭素を用いることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、軟Ｘ線領域で用いられ
る多層膜反射鏡、特に、生体観察用の軟Ｘ線顕微鏡に好
適な多層膜反射鏡に関するものである。
る多層膜反射鏡、特に、生体観察用の軟Ｘ線顕微鏡に好
適な多層膜反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線領域では物質の屈折率は ｎ＝１−δ−ｉｋ（δ、ｋ：実数）と表され、δ、ｋと
もに１に比べて非常に小さい。（屈折率の虚部ｋはＸ線
の吸収を表す）そのため、可視光領域のような屈折を利
用したレンズは使用できない。
もに１に比べて非常に小さい。（屈折率の虚部ｋはＸ線
の吸収を表す）そのため、可視光領域のような屈折を利
用したレンズは使用できない。
【０００３】そこで、反射を利用した光学系が用いられ
るが、全反射臨界角θc （波長25Åで５°程度以下）よ
りも垂直に近い入射角では反射率が非常に小さいので、
界面の振幅反射率の高い物質の組合せを何層も積層する
ことにより、反射面を多数（例えば数百層も）設けて、
それぞれの反射波の位相が合うように光学干渉理論に基
づいて各層の厚さを調整した多層膜反射鏡が用いられ
る。
るが、全反射臨界角θc （波長25Åで５°程度以下）よ
りも垂直に近い入射角では反射率が非常に小さいので、
界面の振幅反射率の高い物質の組合せを何層も積層する
ことにより、反射面を多数（例えば数百層も）設けて、
それぞれの反射波の位相が合うように光学干渉理論に基
づいて各層の厚さを調整した多層膜反射鏡が用いられ
る。
【０００４】より具体的に説明すれば、多層膜反射鏡
は、使用Ｘ線波長での屈折率と真空の屈折率（＝１）と
の差が大きい物質と、差の小さい物質とを交互に積層す
ることによって得られ、その代表例としてＷ（タングス
テン）／Ｃ（カーボン）、Ｍo （モリブデン）／Ｓi
（シリコン）などの組合せが従来から知られており、ス
パッタリング、真空蒸着、ＣＶＤ等の薄膜形成技術によ
って形成されていた。
は、使用Ｘ線波長での屈折率と真空の屈折率（＝１）と
の差が大きい物質と、差の小さい物質とを交互に積層す
ることによって得られ、その代表例としてＷ（タングス
テン）／Ｃ（カーボン）、Ｍo （モリブデン）／Ｓi
（シリコン）などの組合せが従来から知られており、ス
パッタリング、真空蒸着、ＣＶＤ等の薄膜形成技術によ
って形成されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】軟Ｘ線顕微鏡で生体観
察を行なう場合に使用するＸ線の波長は、図６に示すよ
うにタンパク質と水との吸収係数の差の大きい「水の
窓」と呼ばれる領域、即ち、酸素のＫ吸収端（23Å）と
炭素のＫ吸収端（44Å）の間の領域が用いられる。（な
お、なるべく厚い試料まで観察できるように、吸収係数
の小さい酸素の吸収端近傍の25Åの波長がより好まし
い。）また、図１に示すように多層膜反射鏡の周期（前
記真空の屈折率との差が大きい物質と小さい物質の１ペ
ア分の膜厚）をｄとすると、周期ｄは使用するＸ線の波
長λと斜入射角θに対し、近似的に ２ｄｓｉｎθ＝λで表されるブラッグの式を満たさなけ
ればならない。そのため、従来の多層膜反射鏡は前記周
期と斜入射角を適宜設定することで前記「水の窓」領域
の波長を有するＸ線を反射させていた。
察を行なう場合に使用するＸ線の波長は、図６に示すよ
うにタンパク質と水との吸収係数の差の大きい「水の
窓」と呼ばれる領域、即ち、酸素のＫ吸収端（23Å）と
炭素のＫ吸収端（44Å）の間の領域が用いられる。（な
お、なるべく厚い試料まで観察できるように、吸収係数
の小さい酸素の吸収端近傍の25Åの波長がより好まし
い。）また、図１に示すように多層膜反射鏡の周期（前
記真空の屈折率との差が大きい物質と小さい物質の１ペ
ア分の膜厚）をｄとすると、周期ｄは使用するＸ線の波
長λと斜入射角θに対し、近似的に ２ｄｓｉｎθ＝λで表されるブラッグの式を満たさなけ
ればならない。そのため、従来の多層膜反射鏡は前記周
期と斜入射角を適宜設定することで前記「水の窓」領域
の波長を有するＸ線を反射させていた。
【０００６】一方、前記軟Ｘ線顕微鏡等においては、多
層膜反射鏡をできるだけ直入射に近い状態で使用した方
が該反射鏡を小さくでき、光学系の設計の自由度が高く
なる。そのため顕微鏡の小型化も可能になる。従って、
前記斜入射角θはできるだけ大きい方が望ましかった。
しかし、前記ブラッグの式から明らかなように、前記波
長域内でなるべく直入射に近い斜入射角で多層膜反射鏡
にＸ線を入射させるためには、周期を小さくしなければ
ならなかった。例えば、波長33.7ÅのＸ線を斜入射角45
°で多層膜反射鏡に入射させる場合、周期を24Åにしな
ければならない。そのため、周期を小さくしても高い反
射率を有する多層膜反射鏡が望まれていた。
層膜反射鏡をできるだけ直入射に近い状態で使用した方
が該反射鏡を小さくでき、光学系の設計の自由度が高く
なる。そのため顕微鏡の小型化も可能になる。従って、
前記斜入射角θはできるだけ大きい方が望ましかった。
しかし、前記ブラッグの式から明らかなように、前記波
長域内でなるべく直入射に近い斜入射角で多層膜反射鏡
にＸ線を入射させるためには、周期を小さくしなければ
ならなかった。例えば、波長33.7ÅのＸ線を斜入射角45
°で多層膜反射鏡に入射させる場合、周期を24Åにしな
ければならない。そのため、周期を小さくしても高い反
射率を有する多層膜反射鏡が望まれていた。
【０００７】ところで、ニッケルは前記波長域で真空と
の屈折率の差が大きく、高い反射率が得られることが期
待される物質である。しかし、実際にニッケルを用いた
多層膜では、ニッケル層の膜厚を薄くする（反射鏡の周
期を小さくする）と反射率が急激に低下してしまうこと
が実験によって確かめられた。図３は、ニッケル／酸化
珪素の組合せの多層膜に波長1.54ÅのＸ線を反射させた
時の、周期と反射率比（実測値／計算値）の関係を示す
ものである。図３から、ニッケル／酸化珪素の組合せの
多層膜は、周期が60Åの時は計算値の80％を反射率が得
られるが、周期を小さくすると反射率は急激に低下し、
周期が30Åになると全く反射しなくなることが分かる。
従って、ニッケルを用いた多層膜でも周期を小さくする
と反射率が低下し、前記「水の窓」領域の波長において
斜入射角が大きい状態で高い反射率を得ることができな
かった。
の屈折率の差が大きく、高い反射率が得られることが期
待される物質である。しかし、実際にニッケルを用いた
多層膜では、ニッケル層の膜厚を薄くする（反射鏡の周
期を小さくする）と反射率が急激に低下してしまうこと
が実験によって確かめられた。図３は、ニッケル／酸化
珪素の組合せの多層膜に波長1.54ÅのＸ線を反射させた
時の、周期と反射率比（実測値／計算値）の関係を示す
ものである。図３から、ニッケル／酸化珪素の組合せの
多層膜は、周期が60Åの時は計算値の80％を反射率が得
られるが、周期を小さくすると反射率は急激に低下し、
周期が30Åになると全く反射しなくなることが分かる。
従って、ニッケルを用いた多層膜でも周期を小さくする
と反射率が低下し、前記「水の窓」領域の波長において
斜入射角が大きい状態で高い反射率を得ることができな
かった。
【０００８】本発明は上記課題を解決することを目的と
する。
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的のために本発明
では、軟Ｘ線領域での屈折率と真空の屈折率（＝１）と
の差が大きい物質と小さい物質とを交互に積層してなる
多層膜反射鏡において、前記屈折率の差が大きい物質と
して、クロムを５重量パーセント以上含むニッケル−ク
ロム合金またはクロム単体を用いるようにした。
では、軟Ｘ線領域での屈折率と真空の屈折率（＝１）と
の差が大きい物質と小さい物質とを交互に積層してなる
多層膜反射鏡において、前記屈折率の差が大きい物質と
して、クロムを５重量パーセント以上含むニッケル−ク
ロム合金またはクロム単体を用いるようにした。
【００１０】
【作用】図４は、軟Ｘ線の波長（20〜50Å）とニッケル
およびクロムの光学定数δ、ｋの値との関係を示すもの
である。図から明らかなように、ニッケルの方が真空と
の屈折率の差が大きい（δ、ｋの値が大きいため）。従
って、この波長域においてはニッケルを用いた方が高い
反射率が得られることが予想される。しかし、前述のよ
うに、ニッケルを用いた多層膜では周期を小さくすると
反射率が急激に低下してしまう。
およびクロムの光学定数δ、ｋの値との関係を示すもの
である。図から明らかなように、ニッケルの方が真空と
の屈折率の差が大きい（δ、ｋの値が大きいため）。従
って、この波長域においてはニッケルを用いた方が高い
反射率が得られることが予想される。しかし、前述のよ
うに、ニッケルを用いた多層膜では周期を小さくすると
反射率が急激に低下してしまう。
【００１１】図３は、ニッケル／酸化珪素の組合せの多
層膜、ニッケル−クロム合金（重量％でニッケル80％、
クロム20％）／酸化珪素の組合せの多層膜、およびクロ
ム／酸化珪素の組合せの多層膜について、波長1.54Åの
Ｘ線における、周期と反射率比の関係を示している。図
３から、ニッケルの代わりにニッケル−クロム合金また
はクロムを用いた場合は、周期を小さくした時の反射率
比の低下の度合いが著しく改善されることが分かる。
層膜、ニッケル−クロム合金（重量％でニッケル80％、
クロム20％）／酸化珪素の組合せの多層膜、およびクロ
ム／酸化珪素の組合せの多層膜について、波長1.54Åの
Ｘ線における、周期と反射率比の関係を示している。図
３から、ニッケルの代わりにニッケル−クロム合金また
はクロムを用いた場合は、周期を小さくした時の反射率
比の低下の度合いが著しく改善されることが分かる。
【００１２】なお、波長20〜50Åの軟Ｘ線に対して、ニ
ッケル−クロム合金の光学定数は、ニッケルとクロムの
混合比によってニッケル単体の光学定数とクロム単体の
光学定数の間の値をとる。即ち、クロムの混合比が小さ
い場合にはニッケル単体に近い光学定数となり、該混合
比が大きい場合にはクロム単体に近い光学定数となる。
従って、クロム単体を用いた多層膜に比べ、ニッケル−
クロム合金を用いた多層膜の方が、少ない層数で高い反
射率を得ることができる。
ッケル−クロム合金の光学定数は、ニッケルとクロムの
混合比によってニッケル単体の光学定数とクロム単体の
光学定数の間の値をとる。即ち、クロムの混合比が小さ
い場合にはニッケル単体に近い光学定数となり、該混合
比が大きい場合にはクロム単体に近い光学定数となる。
従って、クロム単体を用いた多層膜に比べ、ニッケル−
クロム合金を用いた多層膜の方が、少ない層数で高い反
射率を得ることができる。
【００１３】図５は、波長33.7Åの軟Ｘ線を使用した時
にニッケルに対するクロムの含有量（重量パーセント）
と反射率の関係を示している。ここで使用した多層膜
は、膜厚20Åのニッケル−クロム合金と、真空との屈折
率の差が小さい物質である膜厚20Åの酸化バナジウム、
とをそれぞれ50層ずつ交互に積層して形成した。図から
明らかなように、ニッケルにクロムを含有させると、ニ
ッケル単体の場合より反射率が高くなる。
にニッケルに対するクロムの含有量（重量パーセント）
と反射率の関係を示している。ここで使用した多層膜
は、膜厚20Åのニッケル−クロム合金と、真空との屈折
率の差が小さい物質である膜厚20Åの酸化バナジウム、
とをそれぞれ50層ずつ交互に積層して形成した。図から
明らかなように、ニッケルにクロムを含有させると、ニ
ッケル単体の場合より反射率が高くなる。
【００１４】従って、ニッケル−クロム合金またはクロ
ム単体を真空との屈折率の差が大きい物質として用いる
ことで、周期を小さくすることで生じる反射率比の急激
な減少を防止することができる。さらに、図５から分か
るようにニッケル中へクロムを５％以上含有させれば、
クロム単体の場合よりも反射率を高くすることができ
る。
ム単体を真空との屈折率の差が大きい物質として用いる
ことで、周期を小さくすることで生じる反射率比の急激
な減少を防止することができる。さらに、図５から分か
るようにニッケル中へクロムを５％以上含有させれば、
クロム単体の場合よりも反射率を高くすることができ
る。
【００１５】
【実施例１】図１に示すように、Ｓi ウエハ基板３上
に、イオンビームスパッタ法によりニッケル−クロム合
金２と、酸化バナジウム１を所定の膜厚（それぞれａ
Å、ｂÅとする）で交互に10層（図では層数を省略）ず
つ積層して多層膜反射鏡Ａを作製した。
に、イオンビームスパッタ法によりニッケル−クロム合
金２と、酸化バナジウム１を所定の膜厚（それぞれａ
Å、ｂÅとする）で交互に10層（図では層数を省略）ず
つ積層して多層膜反射鏡Ａを作製した。
【００１６】同様に、基板上に、イオンビームスパッタ
法によりクロムと、酸化バナジウムを所定の膜厚（それ
ぞれａÅ、ｂÅとする）で交互に10層（図では層数を省
略）ずつ積層して多層膜反射鏡Ｂを作製した。さらに、
基板上に、イオンビームスパッタ法によりニッケルと、
酸化バナジウムを所定の膜厚（それぞれａÅ、ｂÅとす
る）で交互に10層（図では層数を省略）ずつ積層して多
層膜反射鏡Ｃを作製した。
法によりクロムと、酸化バナジウムを所定の膜厚（それ
ぞれａÅ、ｂÅとする）で交互に10層（図では層数を省
略）ずつ積層して多層膜反射鏡Ｂを作製した。さらに、
基板上に、イオンビームスパッタ法によりニッケルと、
酸化バナジウムを所定の膜厚（それぞれａÅ、ｂÅとす
る）で交互に10層（図では層数を省略）ずつ積層して多
層膜反射鏡Ｃを作製した。
【００１７】上記多層膜反射鏡ＡないしＣは、それぞれ
に対して周期ｄを40Å、50Å、60Åとした３種類を作製
した。なお、前記多層膜の各層の膜厚ａおよびｂは、そ
れぞれ多層膜の周期の1/2 になる（つまり、ａ＝ｂ＝ｄ
／２（Å）となる）ようにした。例えば、周期が40Åの
場合はそれぞれ20Åずつ、また周期が50Åの場合はそれ
ぞれ25Åずつ交互に積層するようにした。
に対して周期ｄを40Å、50Å、60Åとした３種類を作製
した。なお、前記多層膜の各層の膜厚ａおよびｂは、そ
れぞれ多層膜の周期の1/2 になる（つまり、ａ＝ｂ＝ｄ
／２（Å）となる）ようにした。例えば、周期が40Åの
場合はそれぞれ20Åずつ、また周期が50Åの場合はそれ
ぞれ25Åずつ交互に積層するようにした。
【００１８】そして、これら多層膜反射鏡ＡないしＣの
反射率を波長33.7Åの軟Ｘ線を用いて測定した。この結
果を表１に示す。なお、測定に際して軟Ｘ線の斜入射角
は、周期ｄが40Åの時は約25°、50Åの時は約20°、60
Åの時は約17°とした。
反射率を波長33.7Åの軟Ｘ線を用いて測定した。この結
果を表１に示す。なお、測定に際して軟Ｘ線の斜入射角
は、周期ｄが40Åの時は約25°、50Åの時は約20°、60
Åの時は約17°とした。
【００１９】
【表１】
【００２０】表１から分かるように、周期が60Åの時は
多層膜反射鏡Ｃ（ニッケル／酸化バナジウムの組合せ）
が最も高い反射率を示しているが、周期が小さくなる
（40Å、50Å）と多層膜反射鏡Ａ（ニッケル−クロム合
金／酸化バナジウムの組合せ）および多層膜反射鏡Ｂ
（クロム／酸化バナジウムの組合せ）の方が高い反射率
を示す。
多層膜反射鏡Ｃ（ニッケル／酸化バナジウムの組合せ）
が最も高い反射率を示しているが、周期が小さくなる
（40Å、50Å）と多層膜反射鏡Ａ（ニッケル−クロム合
金／酸化バナジウムの組合せ）および多層膜反射鏡Ｂ
（クロム／酸化バナジウムの組合せ）の方が高い反射率
を示す。
【００２１】なお、真空の屈折率の差が小さい物質とし
て、酸化バナジウムの代わりに酸化珪素または炭素を使
用しても、ほぼ同様の効果を奏することができる。
て、酸化バナジウムの代わりに酸化珪素または炭素を使
用しても、ほぼ同様の効果を奏することができる。
【００２２】
【実施例２】図２は、本発明の多層膜反射鏡を用いた生
体観察用の軟Ｘ線顕微鏡を示す概略構成図である。多層
膜コンデンサーミラー４は、回転楕円体状に形成され、
該回転楕円体の２つの焦点には、それぞれ光源５と試料
６が設置されている。光源５からは波長33.7ÅのＸ線が
得られるように設定してある。また、前記顕微鏡は試料
６を照射したＸ線を結像させるゾーンプレートからなる
結像光学系７と、試料６を照射したＸ線を検出する検出
器８とを備えている。
体観察用の軟Ｘ線顕微鏡を示す概略構成図である。多層
膜コンデンサーミラー４は、回転楕円体状に形成され、
該回転楕円体の２つの焦点には、それぞれ光源５と試料
６が設置されている。光源５からは波長33.7ÅのＸ線が
得られるように設定してある。また、前記顕微鏡は試料
６を照射したＸ線を結像させるゾーンプレートからなる
結像光学系７と、試料６を照射したＸ線を検出する検出
器８とを備えている。
【００２３】上記顕微鏡においては、光源５から発した
Ｘ線は多層膜コンデンサーミラー４で反射され試料６を
照射する。そして、試料６を照射したＸ線はゾーンプレ
ートからなる結像光学系７によって検出器８上に結像す
るように構成されている。このような軟Ｘ線顕微鏡に使
用される多層膜を成膜した回転楕円体ミラーの反射効率
を波長33.7Åの軟Ｘ線を用いて測定した。
Ｘ線は多層膜コンデンサーミラー４で反射され試料６を
照射する。そして、試料６を照射したＸ線はゾーンプレ
ートからなる結像光学系７によって検出器８上に結像す
るように構成されている。このような軟Ｘ線顕微鏡に使
用される多層膜を成膜した回転楕円体ミラーの反射効率
を波長33.7Åの軟Ｘ線を用いて測定した。
【００２４】多層膜コンデンサーミラーは、ガラスを研
磨加工して得られた回転楕円体状の基板に、イオンビー
ムスパッタ法でニッケル−クロム合金と酸化バナジウム
の組合せの多層膜を成膜して作製した。ミラーへの斜入
射角は、ニッケル−クロム合金と酸化バナジウムの組合
せの多層膜において高い反射率が予想される71°に設定
した。成膜した多層膜は、ミラーの中心部での周期を54
Å、積層数を75ペアとした。また、ミラー面内における
周期の均一性が２％以内になるようにした。ミラーの大
きさは対物ゾーンプレートのＮＡ（＝0.024 ）に合わせ
て100 ×39（mm）とした。
磨加工して得られた回転楕円体状の基板に、イオンビー
ムスパッタ法でニッケル−クロム合金と酸化バナジウム
の組合せの多層膜を成膜して作製した。ミラーへの斜入
射角は、ニッケル−クロム合金と酸化バナジウムの組合
せの多層膜において高い反射率が予想される71°に設定
した。成膜した多層膜は、ミラーの中心部での周期を54
Å、積層数を75ペアとした。また、ミラー面内における
周期の均一性が２％以内になるようにした。ミラーの大
きさは対物ゾーンプレートのＮＡ（＝0.024 ）に合わせ
て100 ×39（mm）とした。
【００２５】この多層膜コンデンサーミラーの反射効率
を測定したところ、14.3％であった。また、比較のため
に同様の形状の基板に前述と同じ条件下でニッケル／酸
化バナジウムの組合せの多層膜を成膜して測定したとこ
ろ、反射効率は12％しか得られなかった。
を測定したところ、14.3％であった。また、比較のため
に同様の形状の基板に前述と同じ条件下でニッケル／酸
化バナジウムの組合せの多層膜を成膜して測定したとこ
ろ、反射効率は12％しか得られなかった。
【００２６】
【実施例３】実施例２で使用した顕微鏡において、斜入
射角65°で使用するミラーにクロム／酸化バナジウムの
組合せの多層膜を使用し、実施例２と同様に反射効率の
測定を行った。多層膜は、ミラー中心での周期を40Å、
積層数を200 ペアとして成膜した。また、ミラー面内に
おける周期の均一性は２％以内になるようにしてある。
ミラーの大きさは対物ゾーンプレートのＮＡ（＝0.024
）に合わせて100 ×42mmとした。
射角65°で使用するミラーにクロム／酸化バナジウムの
組合せの多層膜を使用し、実施例２と同様に反射効率の
測定を行った。多層膜は、ミラー中心での周期を40Å、
積層数を200 ペアとして成膜した。また、ミラー面内に
おける周期の均一性は２％以内になるようにしてある。
ミラーの大きさは対物ゾーンプレートのＮＡ（＝0.024
）に合わせて100 ×42mmとした。
【００２７】上述のように形成した多層膜コンデンサー
ミラーの波長33.7Åの軟Ｘ線に対する反射効率を測定し
たところ10.5％であった。比較のために、同様のミラー
にニッケル／酸化バナジウムの組合せの多層膜を成膜し
て測定したところ、反射効率は６％しか得られなかっ
た。
ミラーの波長33.7Åの軟Ｘ線に対する反射効率を測定し
たところ10.5％であった。比較のために、同様のミラー
にニッケル／酸化バナジウムの組合せの多層膜を成膜し
て測定したところ、反射効率は６％しか得られなかっ
た。
【００２８】
【発明の効果】以上のように本発明は、真空の屈折率と
の差が大きい物質としてニッケル−クロム合金またはク
ロム単体を用いて多層膜反射鏡を構成したことにより、
周期が小さくても高い反射率を得ることができる。その
ため、前記多層膜に対して軟Ｘ線を直入射に近い状態で
入射させる光学系を構成することが可能となり、光学系
を設計する際の自由度が増す。
の差が大きい物質としてニッケル−クロム合金またはク
ロム単体を用いて多層膜反射鏡を構成したことにより、
周期が小さくても高い反射率を得ることができる。その
ため、前記多層膜に対して軟Ｘ線を直入射に近い状態で
入射させる光学系を構成することが可能となり、光学系
を設計する際の自由度が増す。
【００２９】また、多層膜反射鏡の寸法を小さくするこ
とができ、該反射鏡を使用した装置の小型、軽量化に役
立つ。本発明は、生体観察用の軟Ｘ線顕微鏡を初め、そ
の他の用途のＸ線顕微鏡やＸ線リソグラフィー、Ｘ線望
遠鏡、Ｘ線レーザ等の軟Ｘ線領域で用いられる光学機器
全般に適用することができる。
とができ、該反射鏡を使用した装置の小型、軽量化に役
立つ。本発明は、生体観察用の軟Ｘ線顕微鏡を初め、そ
の他の用途のＸ線顕微鏡やＸ線リソグラフィー、Ｘ線望
遠鏡、Ｘ線レーザ等の軟Ｘ線領域で用いられる光学機器
全般に適用することができる。
【図１】は、本発明の実施例１における多層膜反射鏡の
断面図である。
断面図である。
【図２】は、多層膜反射鏡を用いたＸ線顕微鏡の概略構
成図である。
成図である。
【図３】は、ニッケル／酸化珪素、ニッケル−クロム合
金／酸化珪素、クロム／酸化珪素の組合せの各多層膜に
おける波長1.54ÅのＸ線で使用した場合の周期と反射率
比の関係を示すグラフである。
金／酸化珪素、クロム／酸化珪素の組合せの各多層膜に
おける波長1.54ÅのＸ線で使用した場合の周期と反射率
比の関係を示すグラフである。
【図４】は、ニッケルとクロムの波長20〜50Åの軟Ｘ線
に対する光学定数δおよびｋの関係を示すグラフであ
る。
に対する光学定数δおよびｋの関係を示すグラフであ
る。
【図５】は、ニッケル中へのクロム含有量による反アラ
イメント光学率の変化を示すグラフである。
イメント光学率の変化を示すグラフである。
【図６】は、軟Ｘ線領域での水とタンパク質の吸収係数
を示すグラフである。
を示すグラフである。
１ 酸化バナジウム（V2O5）層 ２ ニッケル−クロム合金またはクロム層 ３ 基板 ４ 多層膜コンデンサミラー ５ Ｘ線源 ６ 試料 ７ 結像光学系 ８ 検出器 ９ Ｘ線
Claims (2)
- 【請求項１】 軟Ｘ線領域での屈折率と真空の屈折率と
の差が大きい物質と小さい物質とを交互に積層してなる
多層膜反射鏡において、 前記屈折率の差が大きい物質として、クロムを５重量パ
ーセント以上含むニッケル−クロム合金またはクロム単
体を用いたことを特徴とする多層膜反射鏡。 - 【請求項２】 前記屈折率の差が小さい物質として、酸
化バナジウム、酸化珪素または炭素を用いたことを特徴
とする請求項１記載の多層膜反射鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3199711A JP3060624B2 (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 多層膜反射鏡 |
| US07/911,493 US5239566A (en) | 1991-08-09 | 1992-07-10 | Multi-layered mirror |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3199711A JP3060624B2 (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 多層膜反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545498A true JPH0545498A (ja) | 1993-02-23 |
| JP3060624B2 JP3060624B2 (ja) | 2000-07-10 |
Family
ID=16412342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3199711A Expired - Lifetime JP3060624B2 (ja) | 1991-08-09 | 1991-08-09 | 多層膜反射鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5239566A (ja) |
| JP (1) | JP3060624B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| JP2012014153A (ja) * | 2010-06-02 | 2012-01-19 | Canon Inc | Ｘ線導波路 |
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|---|---|---|---|---|
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| US6295164B1 (en) | 1998-09-08 | 2001-09-25 | Nikon Corporation | Multi-layered mirror |
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| JP4374735B2 (ja) * | 1999-08-11 | 2009-12-02 | 株式会社ニコン | 反射型軟ｘ線顕微鏡、マスク検査装置及び反射マスクの製造方法 |
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| JP4071714B2 (ja) * | 2001-10-24 | 2008-04-02 | カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー | 多層系の製造方法 |
| JP5344123B2 (ja) * | 2008-07-18 | 2013-11-20 | 独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 | Ｘ線反射体、ｘ線反射装置およびｘ線反射鏡作成方法 |
| CN102782531B (zh) * | 2009-12-15 | 2014-12-17 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 用于极紫外光刻的反射光学元件 |
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| US4684565A (en) * | 1984-11-20 | 1987-08-04 | Exxon Research And Engineering Company | X-ray mirrors made from multi-layered material |
| JPH02225346A (ja) * | 1989-02-27 | 1990-09-07 | Central Glass Co Ltd | 熱線反射ガラス |
-
1991
- 1991-08-09 JP JP3199711A patent/JP3060624B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-07-10 US US07/911,493 patent/US5239566A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3060624B2 (ja) | 2000-07-10 |
| US5239566A (en) | 1993-08-24 |
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