JPH0545865A - フオトマスク保護用フイルム - Google Patents
フオトマスク保護用フイルムInfo
- Publication number
- JPH0545865A JPH0545865A JP20201491A JP20201491A JPH0545865A JP H0545865 A JPH0545865 A JP H0545865A JP 20201491 A JP20201491 A JP 20201491A JP 20201491 A JP20201491 A JP 20201491A JP H0545865 A JPH0545865 A JP H0545865A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- haze
- polyoxymethylene
- photomask
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 露光時の散乱光線による露光かぶりが少なく
線幅変化量の少ないことによって原画に忠実な像の形成
を行うことが出来るフォトマスク保護用フィルムを提供
する。 【構成】 ２軸延伸ポリオキシメチレンフィルムであっ
て、全曇り度が１０％以下、且つ全曇り度に対する内部
曇り度の割合が５０％以下であるフォトマスク保護用フ
ィルム。
線幅変化量の少ないことによって原画に忠実な像の形成
を行うことが出来るフォトマスク保護用フィルムを提供
する。 【構成】 ２軸延伸ポリオキシメチレンフィルムであっ
て、全曇り度が１０％以下、且つ全曇り度に対する内部
曇り度の割合が５０％以下であるフォトマスク保護用フ
ィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性樹脂に露光処理
を施すためのフォトマスク保護用フィルムに関する。
を施すためのフォトマスク保護用フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント基板等の回路形成のためのレジ
ストパターンを写真製版法により得るには、通常、感光
性樹脂の上に原画フィルム（以下フォトマスク）を密着
した後、活性光線を照射し、次いで現像処理を行うとい
う操作が施される。この際、フォトマスクへの感光性樹
脂の付着による汚れ防止、あるいは損傷防止のためにプ
ラスチックフィルム（以下保護用フィルム）を積層して
使用する場合が多い。この保護用フィルムは光学的に均
質であり、無色透明で、膜厚が均一であり且つ化学的に
も安定であることが要求されることからポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカー
ボネート等のフィルムが一般に使用され、特にポリエチ
レンテレフタレートフィルムがより一般的である。
ストパターンを写真製版法により得るには、通常、感光
性樹脂の上に原画フィルム（以下フォトマスク）を密着
した後、活性光線を照射し、次いで現像処理を行うとい
う操作が施される。この際、フォトマスクへの感光性樹
脂の付着による汚れ防止、あるいは損傷防止のためにプ
ラスチックフィルム（以下保護用フィルム）を積層して
使用する場合が多い。この保護用フィルムは光学的に均
質であり、無色透明で、膜厚が均一であり且つ化学的に
も安定であることが要求されることからポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカー
ボネート等のフィルムが一般に使用され、特にポリエチ
レンテレフタレートフィルムがより一般的である。
【０００３】近年この分野でのファインパターン化が進
む中で、より解像度の高い、原画に忠実なパターン形成
がもとめられており、この保護用フィルムの薄肉化、光
線透過率の更なる向上が図られている。しかしながら、
例えばポリエチレンテレフタレートフィルムには滑り性
等を付与するために微粒子を含んでおり、これがフィル
ム内部で光を散乱するために、光で透かすとぼんやりと
したヘイズとして観測される。そのためにこのポリエチ
レンテレフタレートフィルムを保護用フィルムとして用
いると原画の透明部分以外にも光が散乱して、不透明部
分下の感光層にも作用するため、原画の幅よりも露光に
より硬化した層の幅が太くなり（線幅変化量が大とな
り）、原画幅の再現性が得られない。また低露光の場合
にはこのヘイズのために逆にレジスト幅が細くなり、同
様に再現性等の問題が生じてくる。かかる影響を低減す
るために、例えば保護用フィルムの薄肉化が図られてい
るが１０μ以下の膜厚になると保護用フィルムの剛性が
不足し積層時の作業性等に支障を来たすことから、より
優れた性能を持つ保護用フィルムが要求されて来てい
る。
む中で、より解像度の高い、原画に忠実なパターン形成
がもとめられており、この保護用フィルムの薄肉化、光
線透過率の更なる向上が図られている。しかしながら、
例えばポリエチレンテレフタレートフィルムには滑り性
等を付与するために微粒子を含んでおり、これがフィル
ム内部で光を散乱するために、光で透かすとぼんやりと
したヘイズとして観測される。そのためにこのポリエチ
レンテレフタレートフィルムを保護用フィルムとして用
いると原画の透明部分以外にも光が散乱して、不透明部
分下の感光層にも作用するため、原画の幅よりも露光に
より硬化した層の幅が太くなり（線幅変化量が大とな
り）、原画幅の再現性が得られない。また低露光の場合
にはこのヘイズのために逆にレジスト幅が細くなり、同
様に再現性等の問題が生じてくる。かかる影響を低減す
るために、例えば保護用フィルムの薄肉化が図られてい
るが１０μ以下の膜厚になると保護用フィルムの剛性が
不足し積層時の作業性等に支障を来たすことから、より
優れた性能を持つ保護用フィルムが要求されて来てい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は新規なフォト
マスク保護用フィルムを提供することによって、前記の
問題点を解決しようとするものである。
マスク保護用フィルムを提供することによって、前記の
問題点を解決しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは特定のポリ
オキシメチレンフィルムがかかる保護用フィルムとして
好適であることを見い出し本発明に至った。本発明は、
２軸延伸ポリオキシメチレンフィルムであって、全曇り
度が１０％以下、且つ全曇り度に対する内部曇り度の割
合が５０％以下であるフォトマスク用保護フィルムに関
する。
オキシメチレンフィルムがかかる保護用フィルムとして
好適であることを見い出し本発明に至った。本発明は、
２軸延伸ポリオキシメチレンフィルムであって、全曇り
度が１０％以下、且つ全曇り度に対する内部曇り度の割
合が５０％以下であるフォトマスク用保護フィルムに関
する。
【０００６】本発明における曇り度は、全光線透過率
（Ｔｔ）＝平行光線透過率（Ｔｐ）＋散乱光透過率（Ｔ
ｄ）としたとき、曇り度（％）＝Ｔｄ／Ｔｔ×１００の
式により算出され、これらの値は通常の積分球式光線透
過率測定装置により得ることが出来る。曇り度の値が高
いと平行光線の透過率の値が低くなることにより、露光
時に線幅変化量が大きくなり、印刷回路板のファインパ
ターンの形成に適合しなくなる。曇り度は表面曇り度と
内部曇り度の２つからなり、本発明の全曇り度はこれら
２つの和である。表面曇り度とは主にフィルム表面の凹
凸によって光が散乱されることにより生じるもので、ま
た内部曇り度とはフィルムを形成するポリマーの結晶
性、結晶配向状態、あるいは滑り性等を付与するために
添加される微粒子、及びその他添加剤等により生じるも
のである。内部曇り度はフィルムの表裏面にシリコーン
系オイル、流動パラフィン等の透明で粘性のある液体を
塗布し、表面の凹凸の影響を除いた後に測定することに
よって得られる。表面曇り度は全曇り度からこの内部曇
り度を引いた値ある。
（Ｔｔ）＝平行光線透過率（Ｔｐ）＋散乱光透過率（Ｔ
ｄ）としたとき、曇り度（％）＝Ｔｄ／Ｔｔ×１００の
式により算出され、これらの値は通常の積分球式光線透
過率測定装置により得ることが出来る。曇り度の値が高
いと平行光線の透過率の値が低くなることにより、露光
時に線幅変化量が大きくなり、印刷回路板のファインパ
ターンの形成に適合しなくなる。曇り度は表面曇り度と
内部曇り度の２つからなり、本発明の全曇り度はこれら
２つの和である。表面曇り度とは主にフィルム表面の凹
凸によって光が散乱されることにより生じるもので、ま
た内部曇り度とはフィルムを形成するポリマーの結晶
性、結晶配向状態、あるいは滑り性等を付与するために
添加される微粒子、及びその他添加剤等により生じるも
のである。内部曇り度はフィルムの表裏面にシリコーン
系オイル、流動パラフィン等の透明で粘性のある液体を
塗布し、表面の凹凸の影響を除いた後に測定することに
よって得られる。表面曇り度は全曇り度からこの内部曇
り度を引いた値ある。
【０００７】本発明の保護用フィルムでは上記のように
曇り度の低いことが要求される。特にこの保護用フィル
ムはフォトマスクに積層された状態で露光されるために
内部曇り度の値に大きく影響される。即ち本発明では、
全曇り度が１０％以下、且つ全曇り度に対する内部曇り
度の割合が５０％以下である。好ましくは全曇り度が６
％以下、且つ全曇り度に対する内部曇り度の割合が３０
％以下である。ポリオキシメチレンフィルムはかかる要
求に充分対応しうる優れた性能を有したフィルムであ
る。
曇り度の低いことが要求される。特にこの保護用フィル
ムはフォトマスクに積層された状態で露光されるために
内部曇り度の値に大きく影響される。即ち本発明では、
全曇り度が１０％以下、且つ全曇り度に対する内部曇り
度の割合が５０％以下である。好ましくは全曇り度が６
％以下、且つ全曇り度に対する内部曇り度の割合が３０
％以下である。ポリオキシメチレンフィルムはかかる要
求に充分対応しうる優れた性能を有したフィルムであ
る。
【０００８】ポリオキシメチレンは結晶性の高いポリマ
−であり、このフィルムはその結晶性に起因して剛性の
高い優れたフィルムである。通常の溶融固化法によって
得られたフィルムは結晶が球昌状態を形成するために透
明性に劣る。そのためこれを１軸あるいは２軸方向に延
伸することによって結晶を高度に配向させた１軸あるい
は２軸延伸フィルムが知られているが、本発明の如く光
学的用途であって、均質性が要求される用途では２軸延
伸フィルムが好適である。
−であり、このフィルムはその結晶性に起因して剛性の
高い優れたフィルムである。通常の溶融固化法によって
得られたフィルムは結晶が球昌状態を形成するために透
明性に劣る。そのためこれを１軸あるいは２軸方向に延
伸することによって結晶を高度に配向させた１軸あるい
は２軸延伸フィルムが知られているが、本発明の如く光
学的用途であって、均質性が要求される用途では２軸延
伸フィルムが好適である。
【０００９】本発明の２軸延伸ポリオキシメチレンフィ
ルムについては、本発明者らが先に出願した公報（特開
昭６１−２５２１３５号公報、同６１−２８６１１５号
公報、同６２−１３３１８号公報、特開平１−８０５１
４号公報、同１−２８６８２０号公報、同２−７０４２
２号公報）に開示されている。本発明はこれらに特に限
定するものではないが好適な例として挙げることが出来
る。ポリオキシメチレンにはホモポリマー、コポリマー
の２種類が一般に知られているが、本発明にはそのいず
れもあるいは両者の混合物であってもよい。
ルムについては、本発明者らが先に出願した公報（特開
昭６１−２５２１３５号公報、同６１−２８６１１５号
公報、同６２−１３３１８号公報、特開平１−８０５１
４号公報、同１−２８６８２０号公報、同２−７０４２
２号公報）に開示されている。本発明はこれらに特に限
定するものではないが好適な例として挙げることが出来
る。ポリオキシメチレンにはホモポリマー、コポリマー
の２種類が一般に知られているが、本発明にはそのいず
れもあるいは両者の混合物であってもよい。
【００１０】ポリオキシメチレンホモポリマーとは、主
鎖の繰返し単位がオキシメチレン基−（ＣＨ2 Ｏ）−
からなるものであって、ホルムアルデヒドまたはホルム
アルデヒドの環状オリゴマーであるトリオキサン、テト
ラオキサン等を重合して得られる。またポリオキシメチ
レンコポリマーとは主鎖の大部分がオキシメチレン連鎖
からなるものであるが、エチレンオキサイドあるいは
１，３−ジオキソランのような少なくとも２個の隣接炭
素原子を有する環状エーテルを例えばトリオキサンに対
して０．１〜１５モル％添加して重合して得られるコポ
リマーである。
鎖の繰返し単位がオキシメチレン基−（ＣＨ2 Ｏ）−
からなるものであって、ホルムアルデヒドまたはホルム
アルデヒドの環状オリゴマーであるトリオキサン、テト
ラオキサン等を重合して得られる。またポリオキシメチ
レンコポリマーとは主鎖の大部分がオキシメチレン連鎖
からなるものであるが、エチレンオキサイドあるいは
１，３−ジオキソランのような少なくとも２個の隣接炭
素原子を有する環状エーテルを例えばトリオキサンに対
して０．１〜１５モル％添加して重合して得られるコポ
リマーである。
【００１１】またコポリマーには、例えばトリオキサン
と共重合し得る少なくとも１つの多官能的に反応する化
合物及びトリオキサンと共重合し得る少なくとも１つの
単官能的に反応する化合物と共重合して得られる共重合
体、具体的には例えばトリオキサン、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル及びエチレンオキサイドと
を共重合して得られるコポリマーも含まれる。このコポ
リマーは分子鎖が線状ではなく分枝あるいは網状化した
ポリオキシエチレンを形成する。即ち本発明のコポリマ
ーは通常の線状ポリオキシメチレンコポリマーあるいは
分枝あるいは網状化したポリオキシメチレンコポリマー
あるいは両者が適当な割合で混合された混合物のいずれ
のコポリマーであってもよい。
と共重合し得る少なくとも１つの多官能的に反応する化
合物及びトリオキサンと共重合し得る少なくとも１つの
単官能的に反応する化合物と共重合して得られる共重合
体、具体的には例えばトリオキサン、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル及びエチレンオキサイドと
を共重合して得られるコポリマーも含まれる。このコポ
リマーは分子鎖が線状ではなく分枝あるいは網状化した
ポリオキシエチレンを形成する。即ち本発明のコポリマ
ーは通常の線状ポリオキシメチレンコポリマーあるいは
分枝あるいは網状化したポリオキシメチレンコポリマー
あるいは両者が適当な割合で混合された混合物のいずれ
のコポリマーであってもよい。
【００１２】２軸延伸ポリオキシメチレンフィルムは高
い剛性を有しており、１０μあるいはそれ以下の薄肉化
を図ることも可能になる。また優れた温・湿度寸法安定
性も備えておりファインパターン用途にはより有効にな
る。更に本発明のフィルムとして重要である高い結晶配
向に起因した光線透過率の高い優れた光学的特性をも有
している。更に波長２００〜３００ｎｍ付近の紫外領域
での吸収が少なく、この領域での光線透過率が高いとい
うポリエチレンテレフタレートフィルムにはない優れた
特性がある。本発明の用途においてこの領域の光を使用
する場合にはより好適な材料になる。この紫外領域での
吸収が少ないことに起因して光に対する劣化が少なく、
本用途における繰り返し使用に対して極めて有利なフィ
ルムになる。
い剛性を有しており、１０μあるいはそれ以下の薄肉化
を図ることも可能になる。また優れた温・湿度寸法安定
性も備えておりファインパターン用途にはより有効にな
る。更に本発明のフィルムとして重要である高い結晶配
向に起因した光線透過率の高い優れた光学的特性をも有
している。更に波長２００〜３００ｎｍ付近の紫外領域
での吸収が少なく、この領域での光線透過率が高いとい
うポリエチレンテレフタレートフィルムにはない優れた
特性がある。本発明の用途においてこの領域の光を使用
する場合にはより好適な材料になる。この紫外領域での
吸収が少ないことに起因して光に対する劣化が少なく、
本用途における繰り返し使用に対して極めて有利なフィ
ルムになる。
【００１３】また滑り性を付与するための無機充填剤等
の微粒子を添加しなくても、微粒子を添加したポリエチ
レンテレフタレートフィルムと同等あるいはそれ以上の
滑り性が確保出来るため、曇り度、特に内部曇り度をよ
り低くすることが可能になり本発明の用途に対し極めて
優れた材料になる。尚、ポリオキシメチレンには通常熱
安定性等の向上を目的として各種の添加剤が用いられる
が、添加剤の種類によってはこれがフィルム中に微粒子
として存在する。かかる微粒子の存在は光線透過率の低
下、曇り度の増大を引き起こすために本発明には好まし
くない。従って、微粒子化する添加剤は極力避けるべき
である。
の微粒子を添加しなくても、微粒子を添加したポリエチ
レンテレフタレートフィルムと同等あるいはそれ以上の
滑り性が確保出来るため、曇り度、特に内部曇り度をよ
り低くすることが可能になり本発明の用途に対し極めて
優れた材料になる。尚、ポリオキシメチレンには通常熱
安定性等の向上を目的として各種の添加剤が用いられる
が、添加剤の種類によってはこれがフィルム中に微粒子
として存在する。かかる微粒子の存在は光線透過率の低
下、曇り度の増大を引き起こすために本発明には好まし
くない。従って、微粒子化する添加剤は極力避けるべき
である。
【００１４】本発明のフォトマスク保護用フィルムはフ
ォトマスクの片面あるいは両面に積層されて使用され
る。この積層には通常粘着剤が使用される。従って、通
常この保護用フィルムにはその片面に粘着剤が塗布され
ており、更にこの上に粘着層保護のためにカバーフィル
ムが積層された状態で供給され、フォトマスクに積層さ
れる時にこのカバーフィルムが剥離されフォトマスクに
密着ラミネートされる。即ち、保護用フィルム／粘着層
／カバーフィルムの構成で供給され、使用時にこのカバ
ーフィルムが分離除去される。尚、本発明はこの積層法
あるいは層構成に限るものではなく、フォトマスクの保
護用フィルムとして使用される場合はいずれも本発明に
含まれる。
ォトマスクの片面あるいは両面に積層されて使用され
る。この積層には通常粘着剤が使用される。従って、通
常この保護用フィルムにはその片面に粘着剤が塗布され
ており、更にこの上に粘着層保護のためにカバーフィル
ムが積層された状態で供給され、フォトマスクに積層さ
れる時にこのカバーフィルムが剥離されフォトマスクに
密着ラミネートされる。即ち、保護用フィルム／粘着層
／カバーフィルムの構成で供給され、使用時にこのカバ
ーフィルムが分離除去される。尚、本発明はこの積層法
あるいは層構成に限るものではなく、フォトマスクの保
護用フィルムとして使用される場合はいずれも本発明に
含まれる。
【００１５】本発明のフィルムは、粘着剤との粘着力を
用途に応じて制御する必要がある場合、コロナ処理、プ
ラズマ処理あるいは表面処理剤等により必要に応じて表
面処理が施される。
用途に応じて制御する必要がある場合、コロナ処理、プ
ラズマ処理あるいは表面処理剤等により必要に応じて表
面処理が施される。
【００１６】
【実施例】次に実施例によって本発明をさらに詳細に説
明する。
明する。
【００１７】
【実施例１】ポリオキシメチレンホモポリマー５０重量
％、エチレンオキサイドと共重合した直鎖状ポリオキシ
メチレンコポリマー２５重量％及びエチレンオキサイド
と１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルとを共
重合した分岐状ポリオキシメチレンコポリマー２５重量
％の３種のポリオキシメチレンからなるポリマ−をスリ
ットダイから押出し、１２０℃のロールで急冷固化し厚
さ８００μ、幅１５０ｍｍのシートを得た。次にこのシ
ートを圧延機によりロール温度１００℃、圧延倍率２倍
（圧下率０．５）の圧延を行った。次にこの圧延シート
を２軸延伸機に導き延伸温度１６５〜１７０℃にて２軸
延伸を行い、原シートに対し８×８倍に延伸された厚さ
１２μの２軸延伸フィルムを得た。
％、エチレンオキサイドと共重合した直鎖状ポリオキシ
メチレンコポリマー２５重量％及びエチレンオキサイド
と１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテルとを共
重合した分岐状ポリオキシメチレンコポリマー２５重量
％の３種のポリオキシメチレンからなるポリマ−をスリ
ットダイから押出し、１２０℃のロールで急冷固化し厚
さ８００μ、幅１５０ｍｍのシートを得た。次にこのシ
ートを圧延機によりロール温度１００℃、圧延倍率２倍
（圧下率０．５）の圧延を行った。次にこの圧延シート
を２軸延伸機に導き延伸温度１６５〜１７０℃にて２軸
延伸を行い、原シートに対し８×８倍に延伸された厚さ
１２μの２軸延伸フィルムを得た。
【００１８】このフィルムの機械的特性、光学的特性を
表１に示した。曇り度は日本電色工業製ＮＤＨ−２型積
分球式光線透過率測定装置により測定した。内部曇り度
はフィルムの両面に東芝シリコーン（株）製シリコーン
オイルＴＳＦ４３３を塗布した後測定した。更にこのフ
ィルムの可視紫外領域での吸収特性をポリエステルフィ
ルムと比較して図１に示した。
表１に示した。曇り度は日本電色工業製ＮＤＨ−２型積
分球式光線透過率測定装置により測定した。内部曇り度
はフィルムの両面に東芝シリコーン（株）製シリコーン
オイルＴＳＦ４３３を塗布した後測定した。更にこのフ
ィルムの可視紫外領域での吸収特性をポリエステルフィ
ルムと比較して図１に示した。
【００１９】上記ポリオキシメチレンフィルムにアクリ
ル系粘着剤を塗布した後ラミネーターによりフォトマス
クにラミネートした。一方、銅張り積層板にアルカリ現
像タイプの感光性樹脂の４０％メチルエチルケトン溶液
〔旭化成工業（株）製ＡＱ−５０４４〕をロールコータ
ーにより塗工し乾燥した。乾燥後の感光層の厚さは５０
μであった。
ル系粘着剤を塗布した後ラミネーターによりフォトマス
クにラミネートした。一方、銅張り積層板にアルカリ現
像タイプの感光性樹脂の４０％メチルエチルケトン溶液
〔旭化成工業（株）製ＡＱ−５０４４〕をロールコータ
ーにより塗工し乾燥した。乾燥後の感光層の厚さは５０
μであった。
【００２０】次に感光層の上に上記のポリオキシメチレ
ンフィルムをラミネートしたフォトマスクを密着し、高
圧紫外線露光機（オーク製作所製ＨＭＷ−２０１型）で
１０段／２１段ステップタブレットになるように露光
し、フォトマスクを除去後、現像した（無水炭酸ソーダ
の２％水溶液、３０℃／６０秒）。現像後、原画の透明
部の太さ１００μの部分の線幅を測定した結果、１０
０．５μであり、線幅変化量は＋０．５μであった。
ンフィルムをラミネートしたフォトマスクを密着し、高
圧紫外線露光機（オーク製作所製ＨＭＷ−２０１型）で
１０段／２１段ステップタブレットになるように露光
し、フォトマスクを除去後、現像した（無水炭酸ソーダ
の２％水溶液、３０℃／６０秒）。現像後、原画の透明
部の太さ１００μの部分の線幅を測定した結果、１０
０．５μであり、線幅変化量は＋０．５μであった。
【００２１】
【実施例２】実施例１で、感度を８段／２１段ステップ
タブレットにして露光し、同様に現像した。この時の線
幅変化量は−１．５μであった。
タブレットにして露光し、同様に現像した。この時の線
幅変化量は−１．５μであった。
【００２２】
【実施例３】実施例１と同じポリオキシメチレンホモポ
リマー９０重量％直鎖状ポリオキシメチレンコポリマー
５重量％及び分岐状ポリオキシメチレンコポリマー５重
量％からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルムを実施例１
と同様な方法により得た。このフィルムの特性を同じく
表１に示した。このフィルムを保護用フィルムとして実
施例１と同じくフォトマスクにラミネートし、同一露光
条件により露光し現像した。この時の線幅変化量は＋
１．５μであった。
リマー９０重量％直鎖状ポリオキシメチレンコポリマー
５重量％及び分岐状ポリオキシメチレンコポリマー５重
量％からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルムを実施例１
と同様な方法により得た。このフィルムの特性を同じく
表１に示した。このフィルムを保護用フィルムとして実
施例１と同じくフォトマスクにラミネートし、同一露光
条件により露光し現像した。この時の線幅変化量は＋
１．５μであった。
【００２３】
【実施４】実施例１と同じポリオキシメチレンホモポリ
マー１００％からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルムを
実施例１と同様な方法により得た。このフィルムの全曇
り度は６％、内部曇り度は１．６％であった。このフィ
ルムを保護用フィルムとして実施例１と同じく、同一露
光条件により露光し現像した。この時の線幅変化量は＋
２．５μであった。
マー１００％からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルムを
実施例１と同様な方法により得た。このフィルムの全曇
り度は６％、内部曇り度は１．６％であった。このフィ
ルムを保護用フィルムとして実施例１と同じく、同一露
光条件により露光し現像した。この時の線幅変化量は＋
２．５μであった。
【００２４】
【比較例１】表１の特性を有する市販の厚さ２０μのポ
リエステルフィルムを保護用フィルムとして、以下実施
例１と同様に露光、現像した。この時の線幅変化量は＋
５μであった。
リエステルフィルムを保護用フィルムとして、以下実施
例１と同様に露光、現像した。この時の線幅変化量は＋
５μであった。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【比較例２】実施例１とは安定剤組成が異なるポリオキ
シメチレンホモポリマー５０重量％、同じく安定剤組成
が異なる直鎖状ポリオキシメチレンコポリマー２５重量
％及び分岐状ポリオキシメチレンコポリマー２５重量％
からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルムを実施例１と同
様な方法により得た。得られたフィルムを顕微鏡で観察
すると安定剤によるとみられる多数の微粒子の存在が認
められた。このフィルムの全曇り度は８％、内部曇り度
は５％であった。このフィルムを保護用フィルムとして
実施例１に同じく露光、同様に現像した。この時の線幅
変化量は＋１２μであった。
シメチレンホモポリマー５０重量％、同じく安定剤組成
が異なる直鎖状ポリオキシメチレンコポリマー２５重量
％及び分岐状ポリオキシメチレンコポリマー２５重量％
からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルムを実施例１と同
様な方法により得た。得られたフィルムを顕微鏡で観察
すると安定剤によるとみられる多数の微粒子の存在が認
められた。このフィルムの全曇り度は８％、内部曇り度
は５％であった。このフィルムを保護用フィルムとして
実施例１に同じく露光、同様に現像した。この時の線幅
変化量は＋１２μであった。
【００２７】
【比較例３】比較例２と同じポリオキシメチレンホモポ
リマー１００％からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルム
を実施例１と同様な方法により得た。このフィルムの全
曇り度は１２％、内部曇り度は６％であった。このフィ
ルムを保護用フィルムとして実施例１に同じく露光、現
像した。この時の線幅変化量は＋１８μであった。
リマー１００％からなる厚さ２０μの２軸延伸フィルム
を実施例１と同様な方法により得た。このフィルムの全
曇り度は１２％、内部曇り度は６％であった。このフィ
ルムを保護用フィルムとして実施例１に同じく露光、現
像した。この時の線幅変化量は＋１８μであった。
【００２８】
【発明の効果】本発明のフォトマスク保護用フィルムは
露光時の散乱光線による露光かぶりが非常に少なく、逆
に低露光時の場合は曇り度の影響が小さいのでレジスト
が細くならず線幅変化量の少ない、原画に忠実な像の形
成を行うことができる。従って、露光することによって
画像を形成する各種用途、例えば印刷配線板用途、特に
そのファインパターン用途等のフォトマスクの保護用フ
ィルムとして好適なフィルムである。
露光時の散乱光線による露光かぶりが非常に少なく、逆
に低露光時の場合は曇り度の影響が小さいのでレジスト
が細くならず線幅変化量の少ない、原画に忠実な像の形
成を行うことができる。従って、露光することによって
画像を形成する各種用途、例えば印刷配線板用途、特に
そのファインパターン用途等のフォトマスクの保護用フ
ィルムとして好適なフィルムである。
【図１】実施例１で作成したポリオキシメチレンフィル
ム及び比較例１で用いたポリエステルフィルムの可視紫
外領域での吸収特性を示すスペクトル図である。
ム及び比較例１で用いたポリエステルフィルムの可視紫
外領域での吸収特性を示すスペクトル図である。
１ ポリオキシメチレンフィルム ２ ポリエステルフィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２９Ｋ 105:32 Ｂ２９Ｌ 7:00 4Ｆ Ｃ０８Ｌ 59:00
Claims (1)
- 【請求項１】 ２軸延伸ポリオキシメチレンフィルムで
あって、全曇り度が１０％以下、且つ全曇り度に対する
内部曇り度の割合が５０％以下であるフォトマスク保護
用フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20201491A JPH0545865A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | フオトマスク保護用フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20201491A JPH0545865A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | フオトマスク保護用フイルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0545865A true JPH0545865A (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16450498
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20201491A Withdrawn JPH0545865A (ja) | 1991-08-12 | 1991-08-12 | フオトマスク保護用フイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0545865A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001051403A (ja) * | 1999-06-01 | 2001-02-23 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2002090982A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2002169264A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2002169269A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2016050282A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリアセタール樹脂フィルム |
| WO2020029426A1 (zh) * | 2018-08-07 | 2020-02-13 | 唐山开滦化工科技有限公司 | 一种聚甲醛薄膜及其制备方法 |
-
1991
- 1991-08-12 JP JP20201491A patent/JPH0545865A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001051403A (ja) * | 1999-06-01 | 2001-02-23 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2002090982A (ja) * | 2000-09-13 | 2002-03-27 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2002169264A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2002169269A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Kimoto & Co Ltd | フォトマスクの作製方法およびフォトマスク |
| JP2016050282A (ja) * | 2014-09-02 | 2016-04-11 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリアセタール樹脂フィルム |
| WO2020029426A1 (zh) * | 2018-08-07 | 2020-02-13 | 唐山开滦化工科技有限公司 | 一种聚甲醛薄膜及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981112 |