JPH0546845Y2 - - Google Patents

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JPH0546845Y2
JPH0546845Y2 JP9004787U JP9004787U JPH0546845Y2 JP H0546845 Y2 JPH0546845 Y2 JP H0546845Y2 JP 9004787 U JP9004787 U JP 9004787U JP 9004787 U JP9004787 U JP 9004787U JP H0546845 Y2 JPH0546845 Y2 JP H0546845Y2
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donut
disk substrate
shaped disk
grinding
core
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は、ドーナツ型デイスク基板の内外周仕
上げを同時に行なうことができるドーナツ型デイ
スク基板の内外周研削具に係り、特に、研削加工
時における被研削部に必要にして十分な量の冷却
液を円滑に供給することができるドーナツ型デイ
スク基板の内外周研削具に関する。
[従来の技術] 近時、光デイスクや光磁気デイスクなど、各種
の高密度情報記録媒体が広く用いられるようにな
つてきている。
このような高密度情報記録媒体を構成するデイ
スク基板の材料としては、アルミ材などの金属材
料のほか、ガラスやセラミツクス、さらには硬質
プラスチツクなどの非金属材料が用いられてお
り、最近では、平面性に優れているガラスなどの
硬脆性材料を用いたデイスク基板も多用されるに
至つている。
また、上記したデイスク基板としては、一般に
その中心部に円孔を有するドーナツ型デイスク基
板が多く用いられるようになつてきている。
そして、ガラスなどのような硬脆性材料を用い
たドーナツ型デイスク基板の場合、アルミ材など
の金属材料とは材質が違うためプレス機で打つ抜
くことには困難があり、板材から切り出すことに
よりドーナツ型デイスク基板を形成する必要があ
つた。
この場合、切り出し後のドーナツ型デイスク基
板は、その内外周における切削面が微視的には平
坦でなく、かつ、その強度向上を図るうえから
も、周端面の仕上げ加工と面取りとを行なう必要
があつた。
第4図は、ドーナツ型デイスク基板に対するこ
のような周端面の仕上げ加工と面取りを行なう際
に用いられていた研削具の従来例を示すものであ
る。これによれば、真空吸着台101に吸着させ
て載置固定されているドーナツ型デイスク基板D
は、その外周縁と内周縁との研削を各別に用意さ
れた研削具104,105に担当させ、しかも、
それぞれの周端面102,103を研削した後
に、表裏両側の面取り加工も別工程で行なうもの
であつた。また、研削加工時におけるドーナツ型
デイスク基板Dの各被研削部に対する加熱防止策
としては、それぞれの被研削部近傍に配置させた
注液パイプP1,P2から冷却液Lを供給すること
により行なうことができるので、簡単、確実、か
つ効率よく冷却することができた。このため、コ
スト的な配慮をそれほど必要としない試験的で、
かつ少量、多品種タイプのドーナツ型デイスク基
板を加工する際の研削具としては優れたものであ
つた。
[考案が解決しようとする問題点] しかし、上記した従来例によるときは、ドーナ
ツ型デイスク基板Dの外周縁の研削を担当させる
研削具104と、内周縁の研削を担当させる研削
具105とを各別に配置する必要があり、しか
も、内外周縁ともに少なくとも周端面研削加工
と、表側の面取り加工と、裏側の面取り加工との
3工程が必要であり、作業性が悪く、かつ、コス
ト高を招いていた。
また、外周縁と内周縁とを担当させる研削具1
04と105とを別々に用意しなければならず、
したがつて、これらの研削具104と105とを
回転させるため、2軸からなる主軸スピンドル
S1,S2が必要となり、それに応じて駆動装置や位
置決め装置なども2組必要となる結果、装置全体
の構造も複雑なものとならざるをえず、しかも、
加工後の内外径中心の同芯性など、その製品精度
も好ましいものではなかつた。
一方、上記したような不都合をなくすため、ド
ーナツ型デイスク基板の内外周を同時に研削しよ
うとするときは、図示は省略したが、一軸の主軸
スピンドルを有する研削具をドーナツ型デイスク
基板に覆い被せるように配置し、研削を行なうこ
とができる構造のものが考えられる。しかし、こ
のような構造のものを採用しようとするときは、
特に内周縁の側の加熱している被研削部に対し、
その遠心力に抗して必要にして十分な量の冷却液
を供給することには困難があり、したがつて、ド
ーナツ型デイスク基板に焼き割れを生じさせるな
どして、面品質を劣化させる傾向があつた。
[考案の目的] 本考案は、従来例に見られた上記問題点に鑑
み、ドーナツ型デイスク基板の内外周を同時研削
することで加工時間の短縮を図るとともに、加工
装置全体の構造を簡略化しつつも、加工時におけ
る被研削部に対する冷却液の供給を過不足なく行
なうことができる研削具を提供することをその目
的とするものである。
[問題点を解決するための手段] このような目的を達成するため、本考案は次の
ようにして構成した。
すなわち、本考案は、円形の天板部と、この天
板部の上面中心部に立設したシヤンク部とからな
り、前記天板部における周縁下側部には周壁部
を、下面中心部にはコア部をそれぞれ垂設し、周
壁部の内周面とコア部の外周面とには、相対向さ
せて被加工物であるドーナツ型デイスク基板を研
削するための第1砥石部と第2砥石部とを周設
し、コア部における第2砥石部までの半径をr1
周壁部における第1砥石部までの半径をr2、コア
部の外周最大半径をr3、周壁部の内周最小半径を
r4、ドーナツ型デイスク基板の内周半径をr5、ド
ーナツ型デイスク基板の外周半径をr6とすると
き、 r1<r3<r5,r2>r4>r6 であつて、 r1+r2=r5+r6 となるようにして形成するとともに、第1砥石部
近傍の天板部には冷却液の通孔を設け、第2砥石
部近傍の天板部にはコア部を介して供給される冷
却液のための液溜部をコア部近傍の底部にスリツ
トを設けることで形成したことに構成上の特徴が
ある。
[実施例] 以下、図面に基づいて本考案の実施例を説明す
る。
第1図および第2図は、本考案に係る一実施例
としての研削具の構造と、その研削工程とを示す
ものであり、被加工物であるドーナツ型デイスク
基板Dは、第3図に示すステンレス等の平滑な硬
質材からなる吸着テーブル24上に正確に位置決
めされ、かつ複数の吸引孔25を介し真空引きす
ることで載置固定されている。この場合、前記吸
着テーブル24は、図示しない加工機本体のX軸
走行(左右移動)の走行台に搭載され、かつ水平
回転することができる構造となつており、ドーナ
ツ型デイスク基板Dは、その上方に位置している
研削具の中心軸O−O′とその回転軸が一致する
ようにして走行配置される。
ドーナツ型デイスク基板Dとの関係でこのよう
な配置関係にある研削具は、被加工物であるドー
ナツ型デイスク基板Dの直径との関係で適宜の口
径を有して形成されている円形の天板部1と、そ
の上面中央部に立設されたシヤンク部2とを有し
ており、このシヤンク部2は、油圧チヤツク等、
適宜のチヤツク20との関係で適長さと外径とを
有して形成されている。また、前記天板部1にお
ける周縁下側部には、前記ドーナツ型デイスク基
板Dの直径よりも大径な開口面18を形成してい
る周壁部3が、天板部1の下面中央部には前記ド
ーナツ型デイスク基板Dに穿設されている円孔2
3の直径よりは小径であるコア部4が好ましくは
相互の下端面の高さを同じくしてそれぞれ垂設さ
れている。研削具を構成する前記シヤンク部2
は、高速回転とZ軸移動(上下移動)が可能な図
示しない主軸スピンドルの先端部に付設されてい
る前記チヤツク20を介して確実に保持される。
一方、前記周壁部3の内周面5には、前記ドー
ナツ型デイスク基板Dの外周縁21を研削するた
めの第1砥石部6が、コア部4の外周面には、前
記ドーナツ型デイスク基板Dの円孔23を形成し
ている内周縁22を研削するための第2砥石部7
がそれぞれ相互の砥石面を相対向させて周設され
ている。この砥石面は、ダイヤモンドや窒化硼素
などの超硬砥粒、例えば粒度が#375〜#400程度
のダイヤモンド砥粒を使用し、電着法など、適宜
の手法を用いることで形成されている。
このようにして形成される第1砥石部6と第2
砥石部7とは、それぞれの砥石面が被加工物であ
る研削対象としてのドーナツ型デイスク基板Dの
外周縁21と内周縁22とに対する端面加工と面
取り加工とを同時に行なうことができる形状をと
つて形成されている。すなわち、第1砥石部6
は、ドーナツ型デイスク基板Dの外周縁21にお
ける端面加工を担当させるための垂直面6aと、
表裏両側の面取り加工を担当させるべく内方にむ
かつて拡開傾斜させた傾斜面6b,6cとを有し
て形成されている。このうち、前記垂直面6aの
長さについては、少なくともドーナツ型デイスク
基板D自体の厚さよりは小さな適宜の幅を有して
形成されており、傾斜面6b,6c相互の拡開角
度については、所望する適宜の角度で形成されて
いる。第2砥石部7は、ドーナツ型デイスク基板
Dの内周縁22における端面加工を担当させるた
めの垂直面7aと、表裏両側の面取り加工を担当
させるべく外方にむかつて拡開させた傾斜面7
b,7cとを有して形成されており、垂直面7a
の長さと傾斜面7b,7c相互の拡開角度につい
ては第1砥石部6における場合と同一にして形成
されている。
この場合、被加工物であるドーナツ型デイスク
基板Dと、研削具を構成している周壁部3とコア
部4との相互関係については、コア部の第2砥石
部7における垂直面7aまでの半径をr1、周壁部
の第1砥石部6における垂直面6aまでの半径を
r2、コア部の最大外周半径をr3、周壁部の内周最
小半径をr4、ドーナツ型デイスク基板Dの内周半
径をr5、ドーナツ型デイスク基板Dの外周半径を
r6とするとき、 r1<r3<r5,r2>r4>r6であつて、r1+r2=r5
r6となるようにして形成されている。
一方、天板部1は、前記チヤツク20とシヤン
ク部2とを貫通している中心通路8と、これに連
通させた分岐路9と通孔10および仕切板11を
有して形成され、前記通孔10と連通させた仕切
空間12が形成されている。このうち、第1砥石
部6近傍の仕切板11には、前記仕切空間12を
介して送られてくる冷却液を第1砥石部6へと供
給すべく、第1砥石部6方向に開口させた適宜の
口径、例えば口径が2mm程度である通孔13が円
周方向に複数個、例えば8個程度、放射状となつ
て配設されている。
また、第2砥石部7近傍における天板部1の構
成部材としての前記仕切板12のコア部4近傍に
は、コア部4内にまで到達している前記中心通路
8から放射状に延設され、仕切板12の側に開口
させた分岐路14を介して供給される冷却液を一
時的に貯溜するための液溜部15が凹設されてい
る。この液溜部15は、コア部4近傍に位置する
側の底部16に周設されたスリツト17を介する
ことで、第2砥石部7側の空間と連通している。
なお、図中の符合19は、研削時に生ずる20〜
40μm程度の切削屑を含んだ使用済み冷却液を外
部に排出するための排出口を示す。
本考案に係る研削具はこのようにして構成され
ているので、被加工物であるドーナツ型デイスク
基板Dを研削するに際しては、まず、第1図に示
すように、研削具におけるシヤンク部2の中心軸
をO−O′とするとき、吸着テーブル24を走行
させることで、ドーナツ型デイスク基板Dはその
回転軸が前記中心軸O−O′と一致している下方
に配置される。
しかる後、シヤンク部2と一体に形成されてい
る天板部1をZ軸方向に沿つて降下させ、ドーナ
ツ型デイスク基板Dの厚さ方向での中央と、第1
砥石部6(第2砥石部7)の砥石面中央との高さ
を一致させた後、その移動を停止させる。この
際、ドーナツ型デイスク基板Dに対し、周壁部1
の内周面5とコア部4とは、 r3<r5,r4>r6 となるようにして形成されているので、コア部4
のドーナツ型デイスク基板Dの円孔23内への挿
入は円滑の行なうことができる。
次いで、主軸スピンドルの高速回転の開始とと
もに、チヤツク20を介して主軸スピンドルと連
結されているシヤンク部2もその回転を開始す
る。このシヤンク部2が高速で回転すると同時
に、天板部1、周壁部3、コア部4のそれぞれも
同速で回転し始める。この際、シヤンク部2内に
設けられている中心通路8を介しての冷却液の供
給も開始される。このとき、ドーナツ型デイスク
基板Dを吸引載置している吸着テーブル24も低
速でその回転を開始する。
しかる後、吸着テーブル24は、第2図に示す
ようにX軸方向、つまり、左方向(もしくは右方
向)に一定の距離だけ移動し、研削が開始され
る。この場合、r1<r5,r2>r6であつて、r1+r2
r5+r6となるようして第1砥石部6と第2砥石部
7とドーナツ型デイスク基板Dとが形成されてい
るので、ドーナツ型デイスク基板Dの外周縁21
と内周縁22とは同時に研削することができる。
研削時における主軸スピンドル(シヤンク部2)
の回転速度は、第1砥石部6の周速が1800m/
minとなるように設定することが好ましい。ま
た、吸着テーブル24のX軸送りについては、1
mm/min程度とし、その回転数は毎分5回転程度
とするのが好適である。また、吸着テーブル24
のX軸送りを所定の位置で停止し、かつ所定時間
の研削作業を終えた後であつても、約30秒間のス
パークアウト作業を行なうことで、仕上げ加工後
のドーナツ型デイスク基板Dの真円度や内外径の
同芯度の向上をはかり、かつ精密な面粗度を得る
ことができる。
このような研削作業時、第1砥石部6には、遠
心力の援助のもと、通孔13を介することで十分
な冷却液を供給することができる。また、第2砥
石部7に対しては、コア部4にまで到達している
中心通路8から分岐路14を介して供給されてき
た冷却液を、仕切板11に凹設されている液溜部
15で一時的に貯溜し、遠心力に抗しながらその
底部16に設けたスリツト17を介して供給する
ことができるので、必要にして十分な量の冷却液
の供給が可能となる。
このようにして研削作業を終了した後は、吸着
テーブル24を第1図のように中心軸O−O′が
一致する位置にまでX軸方向に移動させ、かつ、
シヤンク部2が連結されている主軸スピンドルを
Z軸方向、つまり上方へと所定の距離だけ移動さ
せることでその全作業が終了する。
[考案の効果] 以上述べたように本考案によれば、ドーナツ型
デイスク基板の内外周を同時研削することにより
1つの工程で仕上げ加工を行なうことができるの
でその作業能率を改善することができるととも
に、特に、ドーナツ型デイスク基板の内周縁に対
しては、液溜部を介することで十分な量の冷却液
を供給することにより、研削時の加熱を確実に防
止することができるので、焼き割れ等の不都合を
回避させることができ、製品精度の向上を図るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第1図と第2図は本考案に係る研削具の構造例
を示す縦断面図であり、このうち、第1図は被加
工物であるドーナツ型デイスク基板に対しての研
削作業に入る前の両者の位置関係を、第2図は研
削時における両者の位置関係をそれぞれ示す。第
3図は装置全体の位置関係を示す説明図、第4図
は従来装置の説明図である。 1……天板部、2……シヤンク部、3……周壁
部、4……コア部、5……内周面、6……第1砥
石部、6a……垂直面、6b,6c……傾斜面、
7……第2砥石部、7a……垂直面、7b,7c
……傾斜面、8……中心通路、9……分岐路、1
0……通孔、11……仕切板、12……仕切空
間、13……通孔、14……分岐路、15……液
溜部、16……底部、17……スリツト、18…
…開口面、19……排水口、20……チヤツク、
21……外周縁、22……内周縁、23……円
孔、24……吸着テーブル、25……吸引孔、D
……ドーナツ型デイスク基板。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 円形の天板部と、この天板部の上面中心部に立
    設したシヤンク部とからなり、前記天板部におけ
    る周縁下側部には周壁部を、下面中心部にはコア
    部をそれぞれ垂設し、周壁部の内周面とコア部の
    外周面とには、相対向させて被加工物であるドー
    ナツ型デイスク基板を研削するための第1砥石部
    と第2砥石部とを周設し、 コア部における第2砥石部までの半径をr1、 周壁部における第1砥石部までの半径をr2、 コア部の外周最大半径をr3、 周壁部の内周最小半径をr4、 ドーナツ型デイスク基板の内周半径をr5、 ドーナツ型デイスク基板の外周半径をr6、 とするとき、 r1<r3<r5,r2>r4>r6 であつて、 r1+r2=r5+r6 となるようにして形成するとともに、 第1砥石部近傍の天板部には冷却液の通孔を設
    け、第2砥石部近傍の天板部にはコア部を介して
    供給される冷却液のための液溜部をコア部近傍の
    底部にスリツトを設けることで形成したことを特
    徴とするドーナツ型デイスク基板の内外周研削
    具。
JP9004787U 1987-06-11 1987-06-11 Expired - Lifetime JPH0546845Y2 (ja)

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JPS63201048U JPS63201048U (ja) 1988-12-26
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