JPH0548319B2 - - Google Patents
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- JPH0548319B2 JPH0548319B2 JP5645186A JP5645186A JPH0548319B2 JP H0548319 B2 JPH0548319 B2 JP H0548319B2 JP 5645186 A JP5645186 A JP 5645186A JP 5645186 A JP5645186 A JP 5645186A JP H0548319 B2 JPH0548319 B2 JP H0548319B2
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Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
本発明はステンレス管内面の電解研磨方法に関
するものであり、前記管内に対極と電解液を押入
し、管に陽極電流を流して管内面を電解研磨する
際に、前記陽極電流を特定の範囲内でパルス化
し、光沢のある平滑表面を効率よく迅速に得るこ
とに関する。
するものであり、前記管内に対極と電解液を押入
し、管に陽極電流を流して管内面を電解研磨する
際に、前記陽極電流を特定の範囲内でパルス化
し、光沢のある平滑表面を効率よく迅速に得るこ
とに関する。
＜従来の技術＞
食品プラント、薬品プラント、化学プラントあ
るいは半導体製造プラントなどに用いられる長尺
細径ステンレス鋼管においてはその内面に雑菌、
ゴミ等が付着残存すると、プラントによつて製造
しようとする製品の品質を悪化させたり、場合に
よつては全くの不良品にしてしまうと言われてい
る。そこで、付着抑制あるいは洗浄の容易化のた
めに、それら管内面は0.5μｍRnax以下の表面粗度
に仕上げることが要求され始めている。
るいは半導体製造プラントなどに用いられる長尺
細径ステンレス鋼管においてはその内面に雑菌、
ゴミ等が付着残存すると、プラントによつて製造
しようとする製品の品質を悪化させたり、場合に
よつては全くの不良品にしてしまうと言われてい
る。そこで、付着抑制あるいは洗浄の容易化のた
めに、それら管内面は0.5μｍRnax以下の表面粗度
に仕上げることが要求され始めている。
ところで、金属の表面仕上げ方法としては、研
削やバフなどの機械研磨による方法が知られてい
る。
削やバフなどの機械研磨による方法が知られてい
る。
しかしながら、研削やバフなどの機械研磨方法
により長尺細径管内面にそのような平滑表面を付
与することは、生産性、コストなどを考慮すると
工業的には不可能に近い。
により長尺細径管内面にそのような平滑表面を付
与することは、生産性、コストなどを考慮すると
工業的には不可能に近い。
そこで最近では電解研磨が適用され始めてい
る。
る。
長尺管の内面に対する電解研磨法としては、
特開昭54−48399号に記載の方法が知られて
いる。すなわち、この方法は、第８図に示すよ
うに、金属管１の内径より小なる外径を有する
円筒状の電極４の両端面を、絶縁物で被覆し、
電極４を管１内に移動自在に設け、管１を陽極
性に、電極４を陰極性にそれぞれ接続し、管１
内に電解液を圧送するとともに、電極４を移動
し、かつ、金属管１と電極４間に、第２図に示
すような不動態領域と過不動態領域を交互に繰
り返す脈流電圧あるいはパルス電圧を印加し、
電解溶出におり、金属管１の内面を研磨する方
法（脈流電流電解法）である。
いる。すなわち、この方法は、第８図に示すよ
うに、金属管１の内径より小なる外径を有する
円筒状の電極４の両端面を、絶縁物で被覆し、
電極４を管１内に移動自在に設け、管１を陽極
性に、電極４を陰極性にそれぞれ接続し、管１
内に電解液を圧送するとともに、電極４を移動
し、かつ、金属管１と電極４間に、第２図に示
すような不動態領域と過不動態領域を交互に繰
り返す脈流電圧あるいはパルス電圧を印加し、
電解溶出におり、金属管１の内面を研磨する方
法（脈流電流電解法）である。
また、特開昭54−48399号における脈流電流
に代え、第３図に示すようなく形波電流を陽極
と陰極を反転させつつ通電する反転電流電解法
も知られている（特開昭60−159200）。
に代え、第３図に示すようなく形波電流を陽極
と陰極を反転させつつ通電する反転電流電解法
も知られている（特開昭60−159200）。
さらに、特開昭54−48399号における脈流電
流に代え第４図に示すような直流電流を通電さ
せる直流定電流電解法も知られている。
流に代え第４図に示すような直流電流を通電さ
せる直流定電流電解法も知られている。
＜発明が解決しようとする問題点＞
ところで、金属管内面を電解研磨する場合に
は、管内に押入する電極の表面積が管内面の表面
積よりも本質的に必ず小さくならざるを得ないた
め、流し得る電解電流が限定される。そのため、
電流密度を高くして電解研磨効率を上げようとす
れば、管内に押入した対極の通電部分の面積、す
なわち通電部分長さを短かくせなばならず、従つ
て長尺管内面を全長に渡つて平滑表面にするため
には長時間を要するし、逆に、電極の通電部分長
さを長くして、長尺管の移動距離を相対的に短か
くすることによつて、時間の短縮をしようとする
と、電流密度が高く出来ず、電解研磨効率が下
り、結局長時間を要する。
は、管内に押入する電極の表面積が管内面の表面
積よりも本質的に必ず小さくならざるを得ないた
め、流し得る電解電流が限定される。そのため、
電流密度を高くして電解研磨効率を上げようとす
れば、管内に押入した対極の通電部分の面積、す
なわち通電部分長さを短かくせなばならず、従つ
て長尺管内面を全長に渡つて平滑表面にするため
には長時間を要するし、逆に、電極の通電部分長
さを長くして、長尺管の移動距離を相対的に短か
くすることによつて、時間の短縮をしようとする
と、電流密度が高く出来ず、電解研磨効率が下
り、結局長時間を要する。
しかるに、従来の研磨方法では、0.5μｍRnaxの
表面粗度に達するまでの時間が長いという問題点
があつた。
表面粗度に達するまでの時間が長いという問題点
があつた。
なお、従来の方法では、高い表面粗度を良好な
研磨効率をもつて得ることは困難であつた。
研磨効率をもつて得ることは困難であつた。
＜問題点を解決するための手段＞
本発明者らは、ステンレス管内に、通電部以外
は絶縁被覆を施した、ステンレス管の内径より径
の小さい電極を押入し、電解液を循環させながら
種々のパルス電流等により電解研磨を行つた結
果、特定条件下での矩形波による電解研磨によ
り、著しく短時間で一定の平滑鏡面が得られるこ
とを発見した。この発見に基づいて、更に種々検
討を重ね、本発明を構成するに至つた。
は絶縁被覆を施した、ステンレス管の内径より径
の小さい電極を押入し、電解液を循環させながら
種々のパルス電流等により電解研磨を行つた結
果、特定条件下での矩形波による電解研磨によ
り、著しく短時間で一定の平滑鏡面が得られるこ
とを発見した。この発見に基づいて、更に種々検
討を重ね、本発明を構成するに至つた。
すなわち、本発明は、ステンレス管内に、該ス
テンレス管内を長手方向に移動自在であり通電部
以外は絶縁皮膜を施した電極棒を押入し、該ステ
ンレス管内に電解液を送り込み、かつ、該ステン
レス管内を該電極棒を移動させつつ、該ステンレ
ス管と該電極棒との間に矩形波の電流を通電する
ことにより前記ステンレス管内面を電解研磨する
方法において、平均陽極電流密度を60A／ｄm2以
上とし、その時の平均電流密度に対する高電流の
電流密度および低電流の電流密度の比が10〜80％
の範囲内とすることを特徴とする電解研磨方法で
ある。
テンレス管内を長手方向に移動自在であり通電部
以外は絶縁皮膜を施した電極棒を押入し、該ステ
ンレス管内に電解液を送り込み、かつ、該ステン
レス管内を該電極棒を移動させつつ、該ステンレ
ス管と該電極棒との間に矩形波の電流を通電する
ことにより前記ステンレス管内面を電解研磨する
方法において、平均陽極電流密度を60A／ｄm2以
上とし、その時の平均電流密度に対する高電流の
電流密度および低電流の電流密度の比が10〜80％
の範囲内とすることを特徴とする電解研磨方法で
ある。
ステンレス鋼管の形状には限定されないが、陰
極面積に制限を受けて流し得る電流密度に制限を
受けるようなステンレス管、たとえは長尺細径ス
テンレス管等、に対して好適である。
極面積に制限を受けて流し得る電流密度に制限を
受けるようなステンレス管、たとえは長尺細径ス
テンレス管等、に対して好適である。
電極棒は導電性材料よりなるものならばその種
類は問わない。電極棒は電流密度を高めるために
通電部以外は絶縁されている。そして、電極棒を
長手方向に移動さつつ電極棒とステンレス管との
間に通電する。
類は問わない。電極棒は電流密度を高めるために
通電部以外は絶縁されている。そして、電極棒を
長手方向に移動さつつ電極棒とステンレス管との
間に通電する。
電解液は電解研磨しようとするステンレス管の
種類に応じて適宜選択すればよい。
種類に応じて適宜選択すればよい。
通電する電流は矩形波の電流である。
本発明においては、この電流の平均陽極電流密
度inは60A／ｄm2以上とする。また、平均電流密
度inに対する高電流の電流密度ihおよび定電流の
電流密度ilの比は10〜80％の範囲内とすることを
特徴とする。
度inは60A／ｄm2以上とする。また、平均電流密
度inに対する高電流の電流密度ihおよび定電流の
電流密度ilの比は10〜80％の範囲内とすることを
特徴とする。
なお、１パルスあたりの高電流の通電時間
（T1）および低電流の通電時間（T2）をそれぞれ
0.1〜30秒とすることが好ましい。この場合には、
研磨効率が高くなるばかりでなく得られるステン
レス管の内面の表面粗度は0.2μｍRnax以下であ
り、極めて高い平滑表面が得られる。
（T1）および低電流の通電時間（T2）をそれぞれ
0.1〜30秒とすることが好ましい。この場合には、
研磨効率が高くなるばかりでなく得られるステン
レス管の内面の表面粗度は0.2μｍRnax以下であ
り、極めて高い平滑表面が得られる。
＜実施例＞
以下、本発明を一実施例によつてより詳細に説
明する。
明する。
外径6.4φmm、内径4.4φmm、長さ4000mmの
SUS316Lステンレス鋼管で、管内面粗度が２〜
3μｍRnaxの鋼管内に、60℃に保持した燐酸、硫
酸および水の混合した電解液をポンプにより循環
させた状態で、通電部分長さを300mmにし、他の
部分を絶縁被覆処理した外径3φmmの銅線を、そ
の通電受分に対応する管内面への通電時間の合計
が、それぞれの試験において所定の時間となる速
度で管内を移動させながら、第１表に示す種々の
電解条件で電解研磨を行つた。
SUS316Lステンレス鋼管で、管内面粗度が２〜
3μｍRnaxの鋼管内に、60℃に保持した燐酸、硫
酸および水の混合した電解液をポンプにより循環
させた状態で、通電部分長さを300mmにし、他の
部分を絶縁被覆処理した外径3φmmの銅線を、そ
の通電受分に対応する管内面への通電時間の合計
が、それぞれの試験において所定の時間となる速
度で管内を移動させながら、第１表に示す種々の
電解条件で電解研磨を行つた。
それぞれの電解条件下での、上記の通電時間は
30秒間隔で、５分間まで実施した。すなわち、第
１表に示す各電解条件No.のそれぞれにおいて、９
条件の電解研磨を実施した。
30秒間隔で、５分間まで実施した。すなわち、第
１表に示す各電解条件No.のそれぞれにおいて、９
条件の電解研磨を実施した。
電解研磨後、管内面の表面粗度を粗さ測定器で
測定した。
測定した。
それぞれの試験において、得られた表面粗度が
0.3μｍRnaxを達成する時間で整理したものを第５
図に示す。これらの試験におけるT1およびT2は
全て５秒とした。
0.3μｍRnaxを達成する時間で整理したものを第５
図に示す。これらの試験におけるT1およびT2は
全て５秒とした。
第５図より明らかなように、本発明による電解
研磨方法である電条件No.16〜23は、0.3μｍRnaxの
表面粗度を得るまでの電解時間が３分以内であ
り、従来法の直流定電流電解、陽極と陰極の反転
電流電解あるいは脈流電流電解法に比べて、著し
い電勝時間の短縮となつている。
研磨方法である電条件No.16〜23は、0.3μｍRnaxの
表面粗度を得るまでの電解時間が３分以内であ
り、従来法の直流定電流電解、陽極と陰極の反転
電流電解あるいは脈流電流電解法に比べて、著し
い電勝時間の短縮となつている。
第６図に従来法である第１の電解条件No.２およ
び本発明法である同じく第１表の電解条件No.22に
おける電解時間と電解後表面粗度の関係を示す。
従来法では、５分間電解にも到達表面粗度は約
0.3μｍRnaxであるが、本発明法においては、わず
か２分間の電解により0.15μｍRnaxとなり、更に、
３分間以上で0.10μｍRnax以下の鏡面が得られ、
本発明による電解法の著しい研磨効率が明らかで
ある。
び本発明法である同じく第１表の電解条件No.22に
おける電解時間と電解後表面粗度の関係を示す。
従来法では、５分間電解にも到達表面粗度は約
0.3μｍRnaxであるが、本発明法においては、わず
か２分間の電解により0.15μｍRnaxとなり、更に、
３分間以上で0.10μｍRnax以下の鏡面が得られ、
本発明による電解法の著しい研磨効率が明らかで
ある。
更に、第７図に、第１表に示した本発明法であ
る電解条件No.22において、電解時間が４分間の場
合における、T1およびT2のパルス電流間隔時間
に対する電解研磨後の表面粗度を示す。第７図よ
り明らかなように、矩形波電流間隔時間が0.1秒
未満では、到達表面粗度が0.3μｍRnax以下とな
り、また30秒を越えると0.3μｍRnax以上と、研磨
効果が劣化してくる。従つて、望ましくは、本発
明法における電解研磨法において、その矩形波電
流の間隔時間は、0.1〜30秒の範囲である。
る電解条件No.22において、電解時間が４分間の場
合における、T1およびT2のパルス電流間隔時間
に対する電解研磨後の表面粗度を示す。第７図よ
り明らかなように、矩形波電流間隔時間が0.1秒
未満では、到達表面粗度が0.3μｍRnax以下とな
り、また30秒を越えると0.3μｍRnax以上と、研磨
効果が劣化してくる。従つて、望ましくは、本発
明法における電解研磨法において、その矩形波電
流の間隔時間は、0.1〜30秒の範囲である。
以上の実施例が示すように、本発明による電解
研磨法の効果は長尺細径の内面電解研磨のよう
に、陰極面積に制限を受けて、流し得る電流密度
に制限を受ける場合において極めて有効である。
なお、本発明は長尺細径以外の形状のもの、ある
いは、材質が異つても、同様の効果があることは
言うまでもない。
研磨法の効果は長尺細径の内面電解研磨のよう
に、陰極面積に制限を受けて、流し得る電流密度
に制限を受ける場合において極めて有効である。
なお、本発明は長尺細径以外の形状のもの、ある
いは、材質が異つても、同様の効果があることは
言うまでもない。
＜発明の効果＞
本発明によれば長尺細径ステンレス鋼管内面を
所定の表面粗度を有する表面に仕上げる電解時間
が大幅に短縮されること、従つて生産性が著しく
向上すると共に使用電力も大幅に減少すること等
による工業的価値は極めて大きい。
所定の表面粗度を有する表面に仕上げる電解時間
が大幅に短縮されること、従つて生産性が著しく
向上すると共に使用電力も大幅に減少すること等
による工業的価値は極めて大きい。
第１図は本発明の一実施例における電流波形を
示すグラフである。第２図から第４図までは従来
例における電流波形を示すグラフである。第５図
は0.3μｍRnaxまでの到達電解時間を示すグラフで
ある。第６図は電解時間と電解研磨後の表面粗度
との関係を示すグラフである。第７図はパルス電
流間隔と電解研磨後の表面粗度との関係を示すグ
ラフである。第８図は電解研磨方法例を示すため
のステンレス管内の断面図である。 １……ステンレス管、４……電極、７……電解
液。
示すグラフである。第２図から第４図までは従来
例における電流波形を示すグラフである。第５図
は0.3μｍRnaxまでの到達電解時間を示すグラフで
ある。第６図は電解時間と電解研磨後の表面粗度
との関係を示すグラフである。第７図はパルス電
流間隔と電解研磨後の表面粗度との関係を示すグ
ラフである。第８図は電解研磨方法例を示すため
のステンレス管内の断面図である。 １……ステンレス管、４……電極、７……電解
液。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ステンレス管内に、該ステンレス管内を長手
方向に移動自在であり通電部以外は絶縁皮膜を施
した電極棒を押入し、該ステンレス管内に電解液
を送り込み、かつ、該ステンレス管内を該電極棒
を移動させつつ、該ステンレス管と該電極棒との
間に矩形波の電流を通電することにより前記ステ
ンレス管内面を電解研磨する方法において、平均
陽極電流密度を60A／ｄm2以上とし、その時の平
均電流密度に対する高電流の電流密度および低電
流の電流密度の比が10〜80％の範囲内とすること
を特徴とする電解研磨方法。 ２ 高電流および低電流の通電時間がそれぞれ１
パルスあたり0.1〜30秒である特許請求の範囲第
１項記憶の電解研磨方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5645186A JPS62214200A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | ステンレス管内面の電解研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5645186A JPS62214200A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | ステンレス管内面の電解研磨方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62214200A JPS62214200A (ja) | 1987-09-19 |
| JPH0548319B2 true JPH0548319B2 (ja) | 1993-07-21 |
Family
ID=13027464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5645186A Granted JPS62214200A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | ステンレス管内面の電解研磨方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62214200A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012211126A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-11-01 | Mitsubishi Chemicals Corp | 共役ジエンの製造方法 |
| US9340472B2 (en) | 2011-03-09 | 2016-05-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing conjugated diene |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8201619B2 (en) | 2005-12-21 | 2012-06-19 | Exxonmobil Research & Engineering Company | Corrosion resistant material for reduced fouling, a heat transfer component having reduced fouling and a method for reducing fouling in a refinery |
| KR20080089418A (ko) | 2005-12-21 | 2008-10-06 | 엑손모빌 리서치 앤드 엔지니어링 컴퍼니 | 파울링 감소를 위한 내식성 물질, 내식성 및 내파울링성이개선된 열 전달 부품, 및 파울링 감소 방법 |
| JP7029742B1 (ja) * | 2021-11-09 | 2022-03-04 | 株式会社アサヒメッキ | 電解研磨液及びそれを用いたステンレス鋼の電解研磨方法並びに耐食性に優れるステンレス鋼の製造方法 |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP5645186A patent/JPS62214200A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9340472B2 (en) | 2011-03-09 | 2016-05-17 | Mitsubishi Chemical Corporation | Method for producing conjugated diene |
| JP2012211126A (ja) * | 2011-03-22 | 2012-11-01 | Mitsubishi Chemicals Corp | 共役ジエンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62214200A (ja) | 1987-09-19 |
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