JPH0548615B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0548615B2 JPH0548615B2 JP59277538A JP27753884A JPH0548615B2 JP H0548615 B2 JPH0548615 B2 JP H0548615B2 JP 59277538 A JP59277538 A JP 59277538A JP 27753884 A JP27753884 A JP 27753884A JP H0548615 B2 JPH0548615 B2 JP H0548615B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflecting mirror
- drive mechanism
- synchrotron
- vacuum
- reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、シンクロトロンから放射されるＸ線
ビームを反射鏡の振動で掃引するＸ線露光装置に
係り、特に、該反射鏡を振動させる駆動機構の構
成に関する。
ビームを反射鏡の振動で掃引するＸ線露光装置に
係り、特に、該反射鏡を振動させる駆動機構の構
成に関する。
半導体装置製造などのウエーハプロセスに使用
されるリソグラフイ技術において、露光に使用さ
れる照射ビームは、パターンの微細化に伴つて可
視光から遠紫外線へと短波長化してきており、更
にＸ線の採用が研究されている。
されるリソグラフイ技術において、露光に使用さ
れる照射ビームは、パターンの微細化に伴つて可
視光から遠紫外線へと短波長化してきており、更
にＸ線の採用が研究されている。
このＸ線源には、シンクロトロンの回転してい
る電子から接線方向に放射される放射線、所謂
SOR（Synchrotron Orbit Radiation）光が、鋭
い指向性、レーザ光に匹敵する平行性、広い波長
範囲（0.1Å〜数1000Å）に亙る連続的なスペク
トル分布などの優れた特徴を有することから、最
有力視されている。
る電子から接線方向に放射される放射線、所謂
SOR（Synchrotron Orbit Radiation）光が、鋭
い指向性、レーザ光に匹敵する平行性、広い波長
範囲（0.1Å〜数1000Å）に亙る連続的なスペク
トル分布などの優れた特徴を有することから、最
有力視されている。
しかしながら第３図に示すように、SOR光の
Ｘ線ビーム１は、電子の回転軌道２の面に平行な
ａ方向には所望の大きさの幅を得ることが出来る
が、該面に対して直角なｂ方向の幅が極めて小さ
いため、露光に使用する場合には、一つの方法と
して、ビーム１の光路の途中に反射鏡３を配置し
これをｃ方向に振動させてビーム１をｂ方向に掃
引し、所望の露光領域を形成している。
Ｘ線ビーム１は、電子の回転軌道２の面に平行な
ａ方向には所望の大きさの幅を得ることが出来る
が、該面に対して直角なｂ方向の幅が極めて小さ
いため、露光に使用する場合には、一つの方法と
して、ビーム１の光路の途中に反射鏡３を配置し
これをｃ方向に振動させてビーム１をｂ方向に掃
引し、所望の露光領域を形成している。
反射鏡３は、白金（Pt）や金（Au）などの金
属で形成される反射面にビーム１が入射すると、
大気中の炭化水素などの焼きつきによる反射率の
低下を生ずるので、これを防ぐため、通常、回転
軌道２が形成される真空室に連通した真空中に配
置される。
属で形成される反射面にビーム１が入射すると、
大気中の炭化水素などの焼きつきによる反射率の
低下を生ずるので、これを防ぐため、通常、回転
軌道２が形成される真空室に連通した真空中に配
置される。
一方、シンクロトロンＸ線源を使用した露光装
置は、シンクロトロンが高価であるため、一つの
シンクロトロンに複数の露光部を設けてコストパ
ーフオマンスを高めることが考えられている。
置は、シンクロトロンが高価であるため、一つの
シンクロトロンに複数の露光部を設けてコストパ
ーフオマンスを高めることが考えられている。
この場合、回転軌道２が形成される真空室の真
空度劣化は、露光装置全体を稼働不能にして影響
が大きいため、反射鏡３を配設する真空領域にお
いても気密不良になる恐れのない構成にすること
が重要である。
空度劣化は、露光装置全体を稼働不能にして影響
が大きいため、反射鏡３を配設する真空領域にお
いても気密不良になる恐れのない構成にすること
が重要である。
第４図は上述のＸ線露光装置において、反射鏡
を振動させる従来の駆動機構の構成を示す側断面
模式図である。
を振動させる従来の駆動機構の構成を示す側断面
模式図である。
ちなみにこの駆動機構は、例えば文献
“Journal of Vacuum Science Technology，
Ｂ，Vol.1、No.４、1984、P.1271”に示されたも
のと同類のものである。
“Journal of Vacuum Science Technology，
Ｂ，Vol.1、No.４、1984、P.1271”に示されたも
のと同類のものである。
第４図において、１と３はそれぞれ第３図図示
のＸ線ビームと反射鏡、４は反射鏡３の配設領域
を真空に保つ反射鏡室、５はシンクロトロンから
のビーム１をは反射鏡３に導入するビーム導入
管、６は反射鏡３で反射したビーム１を図示され
ない露光部に導出するビーム導出管、７はビーム
１を透過させる材料例えばベリリウム（Be）な
どからなり反射鏡室４を外気から隔絶して真空に
保つためビーム導出管６に設けられた窓である。
のＸ線ビームと反射鏡、４は反射鏡３の配設領域
を真空に保つ反射鏡室、５はシンクロトロンから
のビーム１をは反射鏡３に導入するビーム導入
管、６は反射鏡３で反射したビーム１を図示され
ない露光部に導出するビーム導出管、７はビーム
１を透過させる材料例えばベリリウム（Be）な
どからなり反射鏡室４を外気から隔絶して真空に
保つためビーム導出管６に設けられた窓である。
また、８は反射鏡３をｃ方向に揺動可能にその
一端部（図上右側）を支持する支持棒、９は反射
鏡３の他端部（図上左側）を支持し反射鏡３をｃ
方向に振動させる駆動棒、１０は反射鏡室４の外
にあり駆動棒９を駆動する加振機、１１は反射鏡
室４を外気から隔絶して真空に保つため駆動棒９
の中間と反射鏡室４とに接合されて駆動棒９の移
動に追随して伸縮可能なベローズであつて、駆動
棒９と加振機１０とベローズ１１とで反射鏡３を
振動させる駆動機構１２を形成している。
一端部（図上右側）を支持する支持棒、９は反射
鏡３の他端部（図上左側）を支持し反射鏡３をｃ
方向に振動させる駆動棒、１０は反射鏡室４の外
にあり駆動棒９を駆動する加振機、１１は反射鏡
室４を外気から隔絶して真空に保つため駆動棒９
の中間と反射鏡室４とに接合されて駆動棒９の移
動に追随して伸縮可能なベローズであつて、駆動
棒９と加振機１０とベローズ１１とで反射鏡３を
振動させる駆動機構１２を形成している。
ビーム導入管５を通り反射鏡３に入射したビー
ム１は、ビーム導出管６を通り露光部に向けて反
射する際に反射鏡３の振動によりｂ方向に掃引さ
れ、先に述べたように露光部において所望の露光
領域を形成する。
ム１は、ビーム導出管６を通り露光部に向けて反
射する際に反射鏡３の振動によりｂ方向に掃引さ
れ、先に述べたように露光部において所望の露光
領域を形成する。
この構成のＸ線露光装置において、ベローズ１
１は、一般に軟弱であつて、反射鏡３の振動が重
なると駆動棒９の移動に追随する変形の繰り返し
疲労により破壊するに至り、反射鏡室４に外気が
漏れて反射鏡３が劣化し、更にはシンクロトロン
が作動不能になる。
１は、一般に軟弱であつて、反射鏡３の振動が重
なると駆動棒９の移動に追随する変形の繰り返し
疲労により破壊するに至り、反射鏡室４に外気が
漏れて反射鏡３が劣化し、更にはシンクロトロン
が作動不能になる。
この故障は、特に複数の露光部を有する場合、
全露光部の作動を不能にさせるので、生産上大き
な被害をもたらす問題である。
全露光部の作動を不能にさせるので、生産上大き
な被害をもたらす問題である。
上記問題点は、反射鏡を振動させる駆動機構に
おける該反射鏡に係合する可動部分の全てが該反
射鏡を設ける空域内に配設されて、シンクロトロ
ンから放射されるＸ線ビームを該反射鏡の振動で
掃引する本発明のＸ線露光装置によつて解決され
る。
おける該反射鏡に係合する可動部分の全てが該反
射鏡を設ける空域内に配設されて、シンクロトロ
ンから放射されるＸ線ビームを該反射鏡の振動で
掃引する本発明のＸ線露光装置によつて解決され
る。
本発明によれば、上記駆動機構は上記可動部分
が摺動する個所を有しないものにするのが望まし
い。
が摺動する個所を有しないものにするのが望まし
い。
上記構成により、反射鏡を振動させる従来の駆
動機構に必要としていたベローズが不要になつ
て、反射鏡の振動を重ねることにより疲労破壊し
て外気を漏らせる部分がなくなり、真空度劣化の
発生確率が低減する。
動機構に必要としていたベローズが不要になつ
て、反射鏡の振動を重ねることにより疲労破壊し
て外気を漏らせる部分がなくなり、真空度劣化の
発生確率が低減する。
そして本駆動機構を、反射鏡に係合する可動部
分が摺動する個所を有しないもの例えばリニヤモ
ータ若しくは圧電素子などの駆動体にしたものに
することにより、真空中に配設した際に発生する
問題例えば潤滑に伴う問題などを回避することが
出来る。
分が摺動する個所を有しないもの例えばリニヤモ
ータ若しくは圧電素子などの駆動体にしたものに
することにより、真空中に配設した際に発生する
問題例えば潤滑に伴う問題などを回避することが
出来る。
かくして、シンクロトロンが作動不能になる確
率が低減して、特に複数の露光部を有する場合に
おいても露光部の作動を従来より安定して確保す
ることが可能になる。
率が低減して、特に複数の露光部を有する場合に
おいても露光部の作動を従来より安定して確保す
ることが可能になる。
以下反射鏡を振動させる本発明による駆動機構
の二つの実施例について、その構成をそれぞれ示
す第１図および第２図の側断面模式図により説明
する。全図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
の二つの実施例について、その構成をそれぞれ示
す第１図および第２図の側断面模式図により説明
する。全図を通じ同一符号は同一対象物を示す。
第１図は第４図に対応する図であり、第１図図
示のＸ線露光装置においては、反射鏡３を振動さ
せる駆動機構１２ａの全てが反射鏡室４内に配設
されている。
示のＸ線露光装置においては、反射鏡３を振動さ
せる駆動機構１２ａの全てが反射鏡室４内に配設
されている。
即ち、９ａが９に対応する駆動棒、１０ａが１
０に対応する加振機で、駆動棒９ａと加振機１０
ａとで１２に対応する駆動機構１２ａを形成して
いる。
０に対応する加振機で、駆動棒９ａと加振機１０
ａとで１２に対応する駆動機構１２ａを形成して
いる。
加振機１０ａの駆動体は例えばリニヤモータ若
しくは圧電素子などであつて、駆動機構１２ａ
は、駆動棒９ａを含む可動部分に摺動する個所が
ないように形成されている。従つて、真空中に配
設されて発生する問題例えば潤滑に伴う問題など
は回避されている。
しくは圧電素子などであつて、駆動機構１２ａ
は、駆動棒９ａを含む可動部分に摺動する個所が
ないように形成されている。従つて、真空中に配
設されて発生する問題例えば潤滑に伴う問題など
は回避されている。
この駆動機構１２ａによる反射鏡３の振動は、
従来の駆動機構１２による場合と全く同様にな
り、ビーム１の掃引は第４図図示の場合と変らな
い。然も駆動機構１２ａには、反射鏡３の振動を
重ねるために発生する疲労破壊により外気を漏ら
す第４図図示のベローズ１１のような部分がない
ので、反射鏡室４の真空度が劣化してシンクロト
ロンが作動不能になる確率が低減する。
従来の駆動機構１２による場合と全く同様にな
り、ビーム１の掃引は第４図図示の場合と変らな
い。然も駆動機構１２ａには、反射鏡３の振動を
重ねるために発生する疲労破壊により外気を漏ら
す第４図図示のベローズ１１のような部分がない
ので、反射鏡室４の真空度が劣化してシンクロト
ロンが作動不能になる確率が低減する。
第２図は第４図に対応する図であり、第２図図
示のＸ線露光装置においては、反射鏡３を振動さ
せる駆動機構１２ｂにおける可動部分の全てが反
射鏡室４内に配設されている。
示のＸ線露光装置においては、反射鏡３を振動さ
せる駆動機構１２ｂにおける可動部分の全てが反
射鏡室４内に配設されている。
即ち、９ｂが９に対応する駆動棒、１０ｂが１
０に対応する加振機、１１ｂがベローズ１１に対
応する隔壁で、駆動棒９ａと加振機１０ａと隔壁
１１ｂとで１２に対応する駆動機構１２ｂを形成
している。
０に対応する加振機、１１ｂがベローズ１１に対
応する隔壁で、駆動棒９ａと加振機１０ａと隔壁
１１ｂとで１２に対応する駆動機構１２ｂを形成
している。
駆動機構１２ｂにおいて、加振機１０ｂの駆動
体は例えばリニヤモータであつて、加振機１０ｂ
の例えばコイルからなる可動部１０baは反射室
４の中に配設され、加振機１０ｂの例えば電磁石
からなる固定部１０bbは反射室４の外に配設さ
れている。また、可動部１０baと固定部１０bb
との間には例えば非磁性の材料からなり反射室４
に接合された隔壁１１ｂが配設されて反射鏡室４
の真空を保持している。
体は例えばリニヤモータであつて、加振機１０ｂ
の例えばコイルからなる可動部１０baは反射室
４の中に配設され、加振機１０ｂの例えば電磁石
からなる固定部１０bbは反射室４の外に配設さ
れている。また、可動部１０baと固定部１０bb
との間には例えば非磁性の材料からなり反射室４
に接合された隔壁１１ｂが配設されて反射鏡室４
の真空を保持している。
そして、駆動棒９ｂと可動部１０baとからな
る駆動機構１２ｂの可動部分は、摺動する個所が
ないように形成されている。従つて、該可動部分
が真空中に配設されて発生する問題例えば潤滑に
伴う問題などは回避されている。
る駆動機構１２ｂの可動部分は、摺動する個所が
ないように形成されている。従つて、該可動部分
が真空中に配設されて発生する問題例えば潤滑に
伴う問題などは回避されている。
この駆動機構１２ｂによる反射鏡３の振動も、
従来の駆動機構１２による場合と全く同様にな
り、ビーム１の掃引は第４図図示の場合と変わら
ない。然も隔壁１１ｂは、反射鏡３の振動に際し
てベローズ１１のように変形することがないので
破壊の恐れがなく、隔壁１１ｂに起因して反射鏡
室４の真空度が劣化しシンクロトロンが作動不能
になる確率は低減する。
従来の駆動機構１２による場合と全く同様にな
り、ビーム１の掃引は第４図図示の場合と変わら
ない。然も隔壁１１ｂは、反射鏡３の振動に際し
てベローズ１１のように変形することがないので
破壊の恐れがなく、隔壁１１ｂに起因して反射鏡
室４の真空度が劣化しシンクロトロンが作動不能
になる確率は低減する。
なお駆動機構１２ｂの構成は、駆動機構が大型
になる場合に都合がよい。
になる場合に都合がよい。
以上説明したように、本発明の構成によれば、
シンクロトロンから放射されるＸ線ビームを反射
鏡の振動で掃引するＸ線露光装置において、シン
クロトロンが作動不能になる確率が低減して、特
に複数の露光部を有する場合においても露光部の
作動を従来より安定して確保することを可能にさ
せる効果がある。
シンクロトロンから放射されるＸ線ビームを反射
鏡の振動で掃引するＸ線露光装置において、シン
クロトロンが作動不能になる確率が低減して、特
に複数の露光部を有する場合においても露光部の
作動を従来より安定して確保することを可能にさ
せる効果がある。
図面において、第１図は反射鏡を振動させる本
発明による駆動機構の一実施例の構成を示す側断
面模式図、第２図は同じく他の実施例の構成を示
す側断面模式図、第３図はSOR光と反射鏡の振
動によるビームの掃引とを説明する斜視図、第４
図は反射鏡を振動させる従来の駆動機構の構成を
示す側断面模式図である。 また、図中において、１はＸ線ビーム、２は電
子の回転軌道、３は反射鏡、４は反射鏡室、５は
ビーム導入管、６はビーム導出管、７は窓、８は
支持棒、９，９ａ，９ｂは駆動棒、１０，１０
ａ，１０ｂは加振機、１０baは可動部、１０bb
は固定部、１１はベローズ、１１ｂは隔壁、１
２，１２ａ，１２ｂは駆動機構、をそれぞれ示
す。
発明による駆動機構の一実施例の構成を示す側断
面模式図、第２図は同じく他の実施例の構成を示
す側断面模式図、第３図はSOR光と反射鏡の振
動によるビームの掃引とを説明する斜視図、第４
図は反射鏡を振動させる従来の駆動機構の構成を
示す側断面模式図である。 また、図中において、１はＸ線ビーム、２は電
子の回転軌道、３は反射鏡、４は反射鏡室、５は
ビーム導入管、６はビーム導出管、７は窓、８は
支持棒、９，９ａ，９ｂは駆動棒、１０，１０
ａ，１０ｂは加振機、１０baは可動部、１０bb
は固定部、１１はベローズ、１１ｂは隔壁、１
２，１２ａ，１２ｂは駆動機構、をそれぞれ示
す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 反射鏡を振動させる駆動機構における該反射
鏡に係合する可動部分の全てが該反射鏡を設ける
空域内に配設されて、シンクロトロンから放射さ
れるＸ線ビームを該反射鏡の振動で掃引すること
を特徴とするＸ線露光装置。 ２ 上記駆動機構は上記可動部分が摺動する個所
を有しないものであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載のＸ線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59277538A JPS61154034A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | Ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59277538A JPS61154034A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | Ｘ線露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61154034A JPS61154034A (ja) | 1986-07-12 |
| JPH0548615B2 true JPH0548615B2 (ja) | 1993-07-22 |
Family
ID=17584946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59277538A Granted JPS61154034A (ja) | 1984-12-26 | 1984-12-26 | Ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61154034A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2725295B2 (ja) * | 1988-08-02 | 1998-03-11 | 日本電気株式会社 | シンクロトロン放射光露光装置 |
| JP2742122B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1998-04-22 | キヤノン株式会社 | 照明系及びｘ線露光装置 |
-
1984
- 1984-12-26 JP JP59277538A patent/JPS61154034A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61154034A (ja) | 1986-07-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6590959B2 (en) | High-intensity sources of short-wavelength electromagnetic radiation for microlithography and other uses | |
| US6838684B2 (en) | Lithographic projection apparatus and particle barrier for use therein | |
| US5134640A (en) | Synchrotron radiation apparatus | |
| JP2000331931A (ja) | 真空室内の可動サポートおよびリソグラフィ投影装置への可動サポートの応用 | |
| EP0083394B1 (en) | A method and apparatus for providing a uniform illumination of an area | |
| KR890001264B1 (ko) | X-선 석판 인쇄 시스템 | |
| KR20190079559A (ko) | 미러 기반 광 이미징 대전 입자 현미경에서의 se 검출 향상을 위한 방법 및 장치 | |
| US5268951A (en) | X-ray beam scanning method for producing low distortion or constant distortion in x-ray proximity printing | |
| JP3231241B2 (ja) | Ｘ線縮小露光装置、及び該装置を用いた半導体製造方法 | |
| KR20260045830A (ko) | Euv 투영 노광 장치용 광학 조립체, euv 투영 노광 장치 | |
| JP3727222B2 (ja) | 真空チャンバと共に使用する絶縁マウントおよびリソグラフ投影装置内での使用 | |
| US11467107B2 (en) | X-ray analysis apparatus and x-ray generation unit | |
| JPH11330592A (ja) | レーザ光源装置およびそれを備えた露光装置 | |
| JPS61154034A (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| WO2008157388A1 (en) | Scanning x-ray radiation | |
| RU2242847C2 (ru) | Лазерный центратор для рентгеновского излучателя | |
| JPH04230900A (ja) | シンクロトロン放射光照射装置及びｘ線露光装置 | |
| JP2743861B2 (ja) | レーザスキャン装置 | |
| US5548625A (en) | Method for parallel multiple field processing in X-ray lithography | |
| Basov et al. | Two-dimensional X-ray focusing by a phase Fresnel zone plate at grazing incidence | |
| EP0869703B1 (en) | Acoustic delay line with movable partition plates | |
| JPH0570296B2 (ja) | ||
| JPH02234498A (ja) | シンクロトロン放射光走査装置 | |
| EP0435644B1 (en) | Scanning system | |
| JPH04112523A (ja) | シンクロトロン放射光による微細パターンの転写方法 |