JPH054977A - ベンズオキサジン誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 種々の有害植物に対して除草活性を有する新
規骨格化合物及びそれを有効成分として含有する除草剤
を開発する。 【構成】 一般式（Ｉ）： 〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙは水素原子又
はハロゲン原子を示す）を表し；Ｘは、ハロゲン原子を
表し；Ｚは、酸素原子又は硫黄原子を表し；Ｒ¹ は、水
素原子、置換されてもよい低級アルキル基脂肪族アシル
基等を表し；Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を表
し；Ｒ³ は、エステル化またはアミド化されてもよいカ
ルボキシル基、置換されてもよい脂肪族アシル基、低級
アルコキシチオカルボニル基等を表す〕で表されるベン
ズオキサジン誘導体及びその塩並びにそれを有効成分と
する除草剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規なベンズオキサジ
ン誘導体及びそれを有効成分として含有する除草剤に関
する。

【０００２】

【従来の技術】フェノキシベンズオキサジン誘導体につ
いては、J. Med. Chem., 17(10), 1125 等に開示されて
いるが、除草効果については全く記載がない。又、本発
明のベンズオキサジン誘導体は、置換基の種類、位置等
において前記文献化合物とは大きく異なり、いずれも新
規な化合物である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた除草
活性を有する新規なベンズオキサジン誘導体及びそれを
有効成分として含有する除草剤を提供することを目的と
する。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、ベンズオ
キサジン系化合物の除草効果について検討した結果、そ
のベンゼン環にフェノキシ基又はピリジルオキシ基が置
換された置換ベンズオキサジン誘導体は、優れた除草活
性を有することを見い出し本発明を完成したものであ
る。即ち、本発明に従えば式（Ｉ）：

【０００５】

【化６】

【０００６】〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙ
は水素原子又はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハ
ロゲン原子を表し、Ｚは、酸素原子又は硫黄原子を表
し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよい低級アルキル
基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低級アルコ
キシ基もしくはアリール基のいずれかである）、低級ア
ルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪族アシル基を表
し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ³
は、エステル化またはアミド化されてもよいカルボキシ
ル基、置換されてもよい脂肪族アシル基（ここで、置換
基としてはハロゲン原子、ジアゾ基もしくはアシル化さ
れてもよい水酸基のいずれかである）、低級アルコキシ
チオカルボニル基、基Ｃ（＝ＮＲ⁴ ）Ｒ⁵ （ここで、Ｒ
⁴ は水酸基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ
基、低級アルキニルオキシ基、アミノ基、低級アルキル
アミノ基又はアルコキシカルボニルアルキルオキシ基を
示し、Ｒ⁵ は低級アルキル基を示す）、基Ｃ（ＯＲ⁶)₂
Ｒ⁷ （ここで、Ｒ⁶ は低級アルキル基を示すか又は２個
のＲ⁶ でアルキレン基を形成する基を示し、Ｒ⁷ は低級
アルキル基を示す）又は基Ｃ（Ｒ⁸)₂ＯＨ（ここで、Ｒ
⁸ は低級アルキル基を示す）を表す〕で表されるベンズ
オキサジン誘導体及びその塩、並びにそれを有効成分と
して含有する除草剤が提供される。

【０００７】式（Ｉ）中、Ｘで示されるハロゲン原子並
びにＡで示される基ＣＹのＹで示されるハロゲン原子と
しては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原
子が挙げられる。Ｒ¹ 及びＲ² で示される低級アルキル
基としては、直鎖及び分岐鎖の炭素数１〜５のアルキル
基（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、イソプロピル、イソブチル、イソペンチル、 sec−
ブチル等）が挙げられる。Ｒ¹ で示される低級アルキル
基の置換基としては、ハロゲン原子としてフッ素原子、
塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子の１個又は２個以上
が挙げられ、低級アルコキシ基としては、炭素数１〜５
のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、プロピオ
キシ、ブトキシ、ペンチルオキシ等）が挙げられ、アリ
ール基としては、炭素数６〜１０のアリール基、例えば
フェニル基又はナフチル基等が挙げられる。Ｒ¹ で示さ
れる低級アルケニル基としては、炭素数２〜５のアルケ
ニル基（例えばビニル、２−プロペニル、３−ブテニ
ル、４−ペンテニル等）が挙げられる。Ｒ¹ で示される
低級アルキニル基としては、炭素数２〜５のアルキニル
基（例えばエチニル、２−プロピニル、３−ブチニル、
４−ペンチニル等）が挙げられる。Ｒ¹ で示される脂肪
族アシル基としては、炭素数１〜５のアシル基（例えば
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、バレリ
ル等）が挙げられる。

【０００８】式（Ｉ）中、Ｒ³ で示されるカルボキシル
基としては、遊離の酸であってもよく、又はアルカリ金
属（例えば、ナトリウム、カリウム）もしくはアルカリ
土類金属（例えば、カルシウム、マグネシウム）の塩で
あってもよい。 Ｒ³ で示されるエステル化されたカルボキシル基として
は、炭素数２〜７の直鎖又は分岐鎖アルコキシカルボニ
ル基（ここで、直鎖又は分岐鎖アルコキシ基としては例
えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピオキシ、ｎ−ブ
トキシ、ｎ−ペンチルオキシ、ｔ−ブトキシ、イソプロ
ピオキシ等があげられる）、炭素数３〜６のアルケニル
オキシカルボニル基（ここで、アルケニル基としては例
えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、イソプレニル
等があげられる）、炭素数３〜６のアルキニルオキシカ
ルボニル基（ここで、アルキニル基としては例えば、エ
チニル、２−プロピニル、３−ブチニル、４−ペンチニ
ル等があげられる）、置換されてもよいフェノキシカル
ボニル基（ここで、置換フェノキシ基としては例えば、
ｐ−クロロフェノキシ、ｍ−ブロモフェノキシ、ｏ−フ
ルオロフェノキシ等があげられる）、炭素数８〜１０の
アラルキルオキシカルボニル基（ここで、アラルキル基
としては例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロ
ピル等があげられる）、炭素数２〜６のハロアルキルオ
キシカルボニル基（ここで、ハロアルキル基としては、
同一又は異なって塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又は
フッ素原子の１〜３個が置換したメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル等で、例えば、クロロメチル、
ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−
トリフルオロエチル、３，３，３−トリフルオロロプロ
ピル等があげられる）、炭素数３〜６のアルコキシアル
キルオキシカルボニル基（ここで、アルコキシアルキル
基としては例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、
エトキシエチル等があげられる）、炭素数３〜６のアル
コキシカルボニルアルキルオキシカルボニル基（ここ
で、アルコキシカルボニルアルキル基としては例えば、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチ
ル、エトキシカルボニルエチル等があげられる）、炭素
数３〜９のアミドカルボニルアルキルオキシカルボニル
基（ここで、アミドカルボニルアルキル基としては例え
ば、アミドカルボニルメチル、エチルアミドカルボニル
メチル、ジメチルアミドカルボニルメチル、ジエチルア
ミドカルボニルメチル、ジエチルアミドカルボニルエチ
ル等があげられる）又は炭素数２〜５のアルキルチオカ
ルボニル基（ここで、アルキルチオ基としては例えば、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ等があげられ
る）が挙げられる。

【０００９】Ｒ³ で示されるアミド化されたカルボキシ
ル基としては、アミドカルボニル基又は置換基が、同一
又は異なって、１個又は２個結合した１級アミドカルボ
ニル基又は２級アミドカルボニル基が挙げられ、置換基
としては、炭素数１〜１０の直鎖、分岐鎖又は環状のア
ルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イ
ソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−オクチ
ル、シクロヘキシル等）、炭素数２〜６のアルケニル基
（例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、イソプレ
ニル等）、炭素数２〜６のアルキニル基（例えば、エチ
ニル、２−プロピニル、３−ブチニル、４−ペンチニル
等）、炭素数７〜１０のアラルキル基（例えば、ベンジ
ル、フェネチル、フェニルプロピル等）、置換されても
よいフェニル基（例えば、フェニル基、ｐ−クロロフェ
ニル、ｍ−ブロモフェニル、ｏ−フルオロフェニル等が
あげられる）、異項環基（例えば、ピリジル、ピラジ
ル、ピリミジル、フリル等）、炭素数１〜３のハロアル
キル基（同一又は異なって塩素原子、臭素原子、ヨウ素
原子又はフッ素原子の１〜３個が結合したメチル基、エ
チル基又はプロピル基で、例えば、クロロメチル、ジフ
ルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリ
フルオロエチル、３，３，３−トリフルオロロプロピル
等があげられる）、炭素数１〜３のアルコキシ基（例え
ば、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ等）、炭素数
２〜５のアルコキシアルキル基（例えば、メトキシメチ
ル、エトキシメチル、エトキシエチル等）、炭素数２〜
５のエステル化又はアミド化されたカルボキシ基（例え
ば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メチル
アミドカルボニル、エチルアミドカルボニル等があげら
れる）、炭素数２〜５のエステル化又はアミド化されも
よいカルボキシアルキル基（例えば、カルボキシメチ
ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、エトキシカルボニルエチル、１−エトキシカルボ
ニルエチル、エチルアミドカルボニルメチル、１−エチ
ルアミドカルボニルエチル等があげられる）、炭素数２
〜５の脂肪族アシル基（例えば、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル等）、メタンスルホニリル基、エチルアミ
ノチオカルボニル基、エトキシチオカルボニル基又はジ
メチルアミノ基が挙げられる。

【００１０】Ｒ³ で示される低級アルコキシチオカルボ
ニル基としては、例えばメトキシチオカルボニル基又は
エトキシチオカルボニル基が挙げられる。 Ｒ³ で示される置換されてもよい脂肪族アシル基として
は、炭素数２〜５のアシル基（例えば、ホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、バレリル等）で、置換
基としては水酸基、アセトキシ基、アセトキシアセチル
オキシ基、ジアゾ基又は１〜３個の同一又は異なったハ
ロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子
又はヨウ素原子）が挙げられる。

【００１１】Ｒ³ で示される基Ｃ（＝ＮＲ⁴ ）Ｒ⁵ にお
いて、Ｒ⁴ で表される低級アルコキシ基としては、炭素
数１〜５のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキ
シ、ｎ−プロピオキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオ
キシ、ｔ−ブトキシ、イソプロピルオキシ等）が挙げら
れ、Ｒ⁴ で表される低級アルケニルオキシ基としては炭
素数１〜５のアルケニルオキシ基（例えば、ビニルオキ
シ、アリルオキシ、イソプロペニルオキシ、イソプレニ
ルオキシ等）が挙げられ、Ｒ⁴ で表される低級アルキニ
ルオキシ基としては炭素数１〜５のアルキニルオキシ基
（例えば、エチニルオキシ、２−プロピニルオキシ、３
−ブチニルオキシ、４−ペンチニルオキシ等）が挙げら
れ、Ｒ⁴ で表される低級アルキルアミノ基としては炭素
数１〜５のアルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、
エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ等）が
挙げられ、Ｒ⁴ で表されるアルコキシカルボニルアルキ
ルオキシ基としては例えば、メチル・エトキシカルブニ
ルメチルオキシ基が挙げられる。又、Ｒ⁵ で表される低
級アルキル基としては炭素数１〜５のアルキル基（例え
ば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、ｎ−ヘキシル等）が挙げられる。

【００１２】Ｒ³ で示される基Ｃ（ＯＲ⁶)₂ Ｒ⁷ におい
て、Ｒ⁶ 及びＲ⁷ で表される低級アルキル基としては炭
素数１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ
−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル
等）が挙げられ、Ｒ⁶ で示される２個のＲ⁶ でアルキレ
ン基を形成する基としては、エチレン基が挙げられる。 Ｒ³ で示される基Ｃ（Ｒ⁸)₂ ＯＨにおいて、Ｒ⁸ で表さ
れる低級アルキル基としては炭素数１〜５のアルキル基
（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピ
ル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル等）が挙げられる。

【００１３】本発明に従った好ましい化合物は式（II
ａ）：

【００１４】

【化７】

【００１５】〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙ
は水素原子又はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハ
ロゲン原子を表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよ
い低級アルキル基（ここで、置換基としてはハロゲン原
子、低級アルコキシ基、又はアリール基のいずれかであ
る）、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪族
アシル基を表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基
を表し、Ｒ⁹ は、水素原子、置換されてもよい直鎖乃至
は分岐鎖低級アルキル基（ここで、置換基としてはハロ
ゲン原子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アル
コキシカルボニル基もしくはアリール基のいずれかであ
る）、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は置換さ
れてもよいアリール基（ここで、置換基としてはハロゲ
ン原子もしくは低級アルキル基のいずれかである）を表
す〕で表されるベンズオキサジン誘導体及びその塩であ
る。

【００１６】本発明に従った他の好ましい化合物は、式
（IIｂ）：

【００１７】

【化８】

【００１８】〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙ
は水素原子又はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハ
ロゲン原子を表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよ
い低級アルキル基（ここで、置換基としてはハロゲン原
子、低級アルコキシ基もしくはアリール基のいずれかで
ある）、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪
族アシル基を表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル
基を表し、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なり水素原子、
置換されてもよい炭素数１〜１０の直鎖、分岐鎖乃至は
環状アルキル基（ここで、置換基としてはハロゲン原
子、低級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルコキシ
カルボニル基もしくはアリール基のいずれかである）、
低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換されてもよ
いアリール基（ここで、置換基としてはハロゲン原子も
しくは低級アルキル基のいずれかである）、又は置換さ
れてもよいヘテロアリール基（ここで、置換基としては
ハロゲン原子もしくは低級アルキル基のいずれかであ
る）を表す〕で表されるベンズオキサジン誘導体及びそ
の塩である。

【００１９】本発明に従った更に他の好ましい化合物
は、式（IIｃ）：

【００２０】

【化９】

【００２１】〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙ
は水素原子又はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハ
ロゲン原子を表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよ
い低級アルキル基（ここで、置換基としてはハロゲン原
子、低級アルコキシ基もしくはアリール基のいずれかで
ある）、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪
族アシル基を表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル
基を表し、Ｒ¹²は、置換されてもよい低級アルキル基
（ここで、置換基としてはハロゲン原子、水酸基、ジア
ゾ基もしくは脂肪族アシルオキシ基のいずれかである）
を表す〕で表されるベンズオキサジン誘導体及びその塩
である。

【００２２】本発明に従った更に他の好ましい化合物
は、式（IIｄ）：

【００２３】

【化10】

【００２４】〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙ
は水素原子又はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハ
ロゲン原子を表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよ
い低級アルキル基（ここで、置換基としてはハロゲン原
子、低級アルコキシ基もしくはアリール基のいずれかで
ある）、低級アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪
族アシル基を表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル
基を表し、Ｒ¹³は、低級アルキル基を表し、Ｒ¹⁴は、水
酸基、低級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低
級アルキニルオキシ基、低級アルキルアミノ基又はアル
コキシカルボニルアルキルオキシ基を表す〕で表される
ベンズオキサジン誘導体及びその塩である。

【００２５】本発明の式（Ｉ）で表されるベンズオキサ
ジン誘導体は、式(III) で示される２−ニトロフェノー
ル誘導体から、下記反応式に従い製造することができ
る。

【００２６】

【化11】

【００２７】（反応式中、Ａ、Ｘ、Ｚ、Ｒ¹ 、Ｒ² 及び
Ｒ³ 示される各基は、前記定義と同じである） 即ち、式(III) で表されるフェノキシ又はピリジルオキ
シニトロフェノール誘導体（ドイツ公開特許公報第２，
３１１，６３８号）のアルカリ金属塩、例えばナトリウ
ム塩とハロマロン酸ジエチル誘導体とを、不活性溶媒、
例えばジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）中で反応させ
ることにより、式（IV）で表されるフェノキシマロン酸
誘導体を得ることができる。

【００２８】化合物（IV）は、ラネーニッケル触媒の存
在下に、不活性溶媒、例えばエタノール中で、通常の方
法により接触還元することにより、本発明の一部である
ベンズオキサジン誘導体（Ｉ′）を得ることができる。
化合物（Ｉ′）は、４位窒素原子への各種置換基の導入
（アルキル化又はアシル化）、３位カルボニル基のチオ
カルボニル基への変換及び２位エトキシカルボニル基の
各種誘導体への変換（加水分解、エステル化、アミド
化、グリニヤ反応、イミド化等）を、必要により適宜組
み合わせて反応することにより、本発明の式（Ｉ）で表
される化合物を得ることができる。本発明の化合物
（Ｉ）には、その置換基に基づく各種光学異性体が存在
するが、それらは全て本発明に含まれるものである。

【００２９】

【実施例】以下、実施例及び参考例をもって本発明をよ
り詳細に説明する。実施例１ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−
ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化合物１）
の合成 ２−〔５−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）−２−ニトロフェノキシ〕マロン酸ジエチル
（参考例化合物IV−１）（２．０ｇ）をエタノール（２
０ml）に溶解し、ラネーニッケルを触媒として加えて室
温、常圧で１０時間水素添加を行った。反応液をろ過
し、ろ液を減圧下に濃縮した。得られた残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸
エチル＝３／１）を用いて精製すると、標記化合物（無
色結晶）０．９ｇを得た。

【００３０】実施例１において、参考例化合物IV−１に
代え参考例化合物IV−２、参考例化合物IV−３、参考例
化合物IV−４、及び参考例化合物IV−５を用いて同様に
反応することにより、７−（２−クロロ−４−トリフル
オロメチルフェノキシ）−２−メチル−３，４−ジヒド
ロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２
−カルボン酸エチル（化合物２）、７−（２，６−ジク
ロロ−４−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−メチ
ル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベ
ンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化合物３）、
７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２−メチル−３，４−ジヒドロ−３
−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カル
ボン酸エチル（化合物４）及び６−（３−クロロ−５−
トリフルオロメチルピリジン−２−イル）−３，４−ジ
ヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン
−２−カルボン酸エチル（化合物５）が得られた。

【００３１】実施例２ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−４−メチル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２
Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル
（化合物６）の合成 ６０％水素化ナトリウム（１．０ｇ）をジメチルホルム
アミド（以下、ＤＭＦと略す）（５ml）に懸濁し、氷冷
下に７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノ
キシ）−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４
−ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化合物
１）（０．８ｇ）のＤＭＦ（５ml）溶液を滴下し、１０
分間攪拌した。ヨウ化メチル（０．４ｇ）を加え、更に
１０分間攪拌した。反応液に水（２０ml）を加え、酢酸
エチル（５０ml）で２度抽出した。抽出液を水、ついで
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶
媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）
を用いて精製して、標記化合物（無色油状）０．４ｇを
得た。

【００３２】実施例２において、水素化ナトリウムおよ
びヨウ化メチルの２倍量を用い、同様に反応することに
より、７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−
オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボ
ン酸エチル（化合物７）が得られ、又、ヨウ化メチルに
代えて２倍量の臭化エチルを用いることにより７−（２
−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキシ）−２，
４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−
１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化
合物８）が得られた。

【００３３】実施例３ ７−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）−４−ジフルオロメチル−３，４−ジヒドロ−
３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カ
ルボン酸エチル（化合物２０）の合成 ７−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，
４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化合物
５）（１．５ｇ）のＤＭＦ（５０ml）溶液に、６０％水
素化ナトリウム（０．２ｇ）を加え、１時間攪拌した。
ドライアイス−アセトン浴で冷却下クロロジフロロメタ
ンガスを１時間導入し、その後２昼夜攪拌した。水（５
０ml）を加え、酢酸エチル（５０ml）で２度抽出した。
抽出液を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢
酸エチル＝９／１）を用いて精製して、標記化合物（無
色油状）０．６ｇを得た。

【００３４】実施例４ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３，４−ジヒドロ−３−チオ−２Ｈ−１，４−ベ
ンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化合物２１）
の合成 ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−
ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル（化合物１）
（０．４ｇ）をトルエン（５ml）に溶解し、２，４−ビ
ス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４
−ジフォスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン
試薬）（０．２ｇ）を加えて、２時間加熱還流した。溶
媒を減圧下に留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）
を用いて精製して、標記化合物（無色結晶）０．４ｇを
得た。

【００３５】実施例５ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
（化合物２３）の合成 ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−４−メチル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２
Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸エチル
（化合物６）（１．１ｇ）をメタノール（１０ml）に溶
解し、１Ｎ水酸化ナトリウム（３ml）を加えて室温で２
時間攪拌した。１Ｎ塩酸（５ml）を加え、溶媒を減圧下
に留去、残渣を酢酸エチル（２０ml）で２度抽出した。
抽出液を水、ついで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して、標記化合
物（無色油状）０．９ｇを得た。

【００３６】実施例６ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
メチル（化合物２９）の合成 ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
（化合物２３）（０．４ｇ）をベンゼン（１０ml）に溶
解し、塩化チオニル（２ml）を加えて３時間加熱還流し
た。溶媒を減圧下に留去し、メタノール（５ml）を加え
て室温で１時間攪拌した。溶媒を減圧下に留去、残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサ
ン／酢酸エチル＝３／１）を用いて精製して、標記化合
物（無色結晶）０．２ｇを得た。

【００３７】実施例７ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
メトキシカルボニルメチルエステル（化合物４６）の合
成 ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
（化合物２３）（０．４ｇ）をＤＭＦ（０．２ml）に溶
解し、ジシクロヘキシルアミン（０．２ml）を加えて６
０℃で１５分間攪拌した。ブロモ酢酸メチル（０．２
ｇ）を加え、６０℃で更に３時間攪拌した。反応液に水
（２０ml）を加え、酢酸エチル（２０ml）で２度抽出し
た。抽出液を水、ついで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去した。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキ
サン／酢酸エチル＝３／１）を用いて精製して、標記化
合物（無色結晶）０．３ｇを得た。

【００３８】実施例８ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒド
ロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２
−カルボン酸（エチルアミドカルボニル）メチルエステ
ル（化合物４７）の合成 グリコール酸（０．３ｇ）及びトリエチルアミン（１．
０ml）のジクロロメタン（２０ml）溶液に、７−（２−
クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェノ
キシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オ
キソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン
酸（化合物２５）より実施例６と同様にして調整した酸
塩化物（１．５ｇ）を加え、室温で１時間攪拌した。反
応液を減圧下に濃縮、残渣を酢酸エチル（２０ml）で２
度抽出した。抽出液を水、ついで飽和食塩水で洗浄し、
硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を減圧下に留去し
て、７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオ
ロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジ
ヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン
−２−カルボン酸カルボキシメチルエスエルを得た。こ
の酸をベンゼン（２０ml）に溶解し、塩化チオニル
（０．９ｇ）を加えて３時間加熱還流した。溶媒を減圧
下に留去後、残渣をジクロロメタン（２０ml）に溶解
し、エチルアミン塩酸塩（０．６ｇ）及びトリエチルア
ミン（２ml）を加えて１時間攪拌した。反応液を減圧下
に濃縮、残渣を酢酸エチル（２０ml）で２度抽出した。
抽出液を水、ついで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後溶媒を減圧下に留去した。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／
酢酸エチル＝３／１）を用いて精製して、標記化合物
（無色油状）０．５ｇを得た。

【００３９】実施例９ ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボキサ
ミド（化合物４８）の合成 ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
（化合物２３）より実施例６と同様にして調整した酸塩
化物（０．４ｇ）をテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦ
と略す）（５ml）に溶解し、アンモニアガスを吹き込み
ながら１時間攪拌した。溶媒を減圧下に留去、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン
／酢酸エチル＝１／１）を用いて精製して、標記化合物
（無色結晶）０．３ｇを得た。

【００４０】実施例１０ Ｎ−エチル−７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチ
ルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ
−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−
カルボキサミド（化合物４９）の合成 ７−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボン酸
（化合物２３）より実施例６と同様にして調整した酸塩
化物（０．４ｇ）をジオキサン（５ml）に溶解し、エチ
ルアミン塩酸塩（０．１ｇ）を加えて３時間加熱還流し
た。溶媒を減圧下に留去、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／
１）を用いて精製して、標記化合物（無色結晶）０．３
ｇを得た。

【００４１】実施例１１ Ｎ−メトキシメチル−７−（２−クロロ−６−フルオロ
−４−トリフルオロメチルフェノキシ）−２，４−ジメ
チル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−
ベンズオキサジン−２−カルボキサミド（化合物７２）
の合成 ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒド
ロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２
−カルボキサミド（化合物５５）（０．４ｇ）をトルエ
ン（５ml）に溶解し、クロロジメチルエーテル（０．１
ml）及び水素化ナトリウム（０．１ｇ）を加え、室温で
２時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチル（２
０ml）で２度抽出した。抽出液を水、ついで飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を減圧下
に留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）を用いて
精製して、標記化合物（無色油状）０．３ｇを得た。

【００４２】実施例１２ Ｎ−（２−エコキシカルボニルエチル）─７−（２−ク
ロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−２−カルボキサ
ミド（化合物７６）の合成 β−アラニンエチルエステル塩酸塩（０．２ｇ）を塩化
メチレン（５ml）に溶解し、トリエチルアミン（０．４
ml）と７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフル
オロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−
ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジ
ン−２−カルボン酸（化合物２５）より実施例６と同様
にして得た酸塩化物（０．５ｇ）の塩化メチレン（５m
l）溶液を加え、室温で２時間攪拌した。反応液を減圧
下に濃縮、残渣を酢酸エチル（２０ml）で２度抽出し
た。抽出液を１Ｎ−塩酸、水、飽和重曹水、飽和食塩水
で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧下に留去、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展
開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）を用いて
精製して、標記化合物（無色油状）０．４ｇを得た。

【００４３】実施例１３ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−プロピオニ
ル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベ
ンズオキサジン（化合物８７）及び７−（２−クロロ−
６−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェノキシ）−
２，４−ジメチル−２−〔３−（３−ヒドロキシペンチ
ル）〕−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４
−ベンズオキサジン（化合物８８）の合成 ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４ −トリフルオロ
メチルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，４−ジヒ
ドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン−
２−カルボン酸（化合物２５）から実施例６と同様にし
て得た酸塩化物（０．８ｇ）をＴＨＦ（５ml）に溶解
し、窒素ガス雰囲気下ドライアイス−アセトン浴で冷却
し、１Ｍ−エチルマグネシウムブロミドＴＨＦ溶液
（１．９ml）を５分間で滴下した。室温で１夜攪拌後、
反応液に水を加え、酢酸エチル（２０ml）で２度抽出し
た。抽出液を水、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去、残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／
酢酸エチル＝３／１）を用いて分離精製して、標記２化
合物（無色結晶）のそれぞれ０．３ｇ及び０．２ｇを得
た。

【００４４】実施例１４ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−ジアゾアセ
チル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−
ベンズオキサジン（化合物９１）の合成 常法により調整したジアゾメタンエーテル溶液（２５０
ml）に、７−（２−クロロ−６−フルオロ−４ −トリ
フルオロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル−３，
４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキ
サジン−２−カルボン酸（化合物２５）より実施例６と
同様にして得た酸塩化物（３．０ｇ）のＴＨＦ（５ml）
溶液を氷冷下に加え、室温で１０分間攪拌した。反応液
を減圧下に濃縮、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー
（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）を用
いて精製して、標記化合物（無色結晶）２．８ｇを得
た。

【００４５】実施例１５ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−アセチル−
３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズ
オキサジン（化合物９３）の合成 氷冷下、実施例１４で得た７−（２−クロロ−６−フル
オロ−４−トリフルオロメチルフェノキシ）−２，４−
ジメチル−２−ジアゾアセチル−３，４−ジヒドロ−３
−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン（化合物９
１）（１．８ｇ）のエーテル（１０ml）溶液に５５％ヨ
ウ化水素酸（１ml）を加え、３０分間攪拌した。反応液
を水で洗浄後硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に濃縮
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）を用いて精製
して、標記化合物（無色結晶）０．４ｇを得た。実施例
１５において、溶媒としてジクロロメタンを用い、ヨウ
化水素酸に代えトリフロロ酢酸又は濃塩酸を用いること
により、７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフ
ルオロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−ヒ
ドロキシアセチル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２
Ｈ−１，４−ベンズオキサジン（化合物９５）及び７−
（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメチル
フェノキシ）−２，４−ジメチル−２−クロロアセチル
−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベン
ズオキサジン（化合物９７）が得られた。

【００４６】実施例１６ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−〔１−（ヒ
ドロキシイミノ）エチル〕−３，４−ジヒドロ−３−オ
キソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン（化合物１０
１）の合成 実施例１５で得た７−（２−クロロ−６−フルオロ−４
−トリフルオロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル
−２−アセチル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ
−１，４−ベンズオキサジン（化合物９３）（０．３
ｇ）をエタノール（１０ml）に溶解し、ヒドキシルアミ
ン塩酸塩（０．１ｇ）及び１Ｎ−水酸化ナトリウム
（０．８ml）を加えて９０℃で２時間攪拌した。反応液
を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）を
用いて精製して、標記化合物（無色結晶）０．３ｇを得
た。

【００４７】実施例１７ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−〔１−（メ
トキシイミノ）エチル〕−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン（化合物１０２）
の合成 実施例１５で得た７−（２−クロロ−６−フルオロ−４
−トリフルオロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル
−２−アセチル−３，４−ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ
−１，４−ベンズオキサジン（化合物９３）（０．３
ｇ）をピリジン（４ml）に溶解し、Ｏ−メチルヒドロキ
シアミン塩酸塩（０．１ｇ）を加えて室温で４時間、更
に６０℃で１時間攪拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸
エチル（２０ml）で２度抽出した。抽出液を１Ｎ−塩
酸、次いで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧下に留去、残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝
４／１）を用いて精製して、標記化合物（無色油状）
０．３ｇを得た。

【００４８】実施例１８ ７−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメ
チルフェノキシ）−２，４−ジメチル−２−〔１−（エ
トキシイミノ）エチル〕−３，４−ジヒドロ−３−オキ
ソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジン（化合物１０４）
の合成 実施例１６で得た７−（２−クロロ−６−フルオロ−４
−トリフルオロメチルフェノキシ）−２，４−ジメチル
−２−〔１−（ヒドロキシイミノ）エチル〕−３，４−
ジヒドロ−３−オキソ−２Ｈ−１，４−ベンズオキサジ
ン（化合物１０１）（０．３ｇ）のＤＭＦ（１０ml）溶
液に、氷冷下に６０％水素化ナトリウム（０．０３ｇ）
を加え、２０分間攪拌後ブロモエタン（０．１ｇ）を滴
下した。２時間攪拌後１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチル（２
０ml）で２度抽出した。抽出液を水、次いで飽和食塩水
で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下
に留去、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶
媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）を用いて精製
して、標記化合物（無色油状）０．３ｇを得た。

【００４９】上で得られた実施例化合物及び実施例１〜
１８に示したいずれかの方法に準じて製造することがで
きたその他の化合物について、その物性ともに第１表
（表中、＊は置換位置を示す）に記載した。

【００５０】

【表１】

【００５１】

【表２】

【００５２】

【表３】

【００５３】参考例１ ２−〔５−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェ
ノキシ）−２−ニトロフェノキシ〕マロン酸ジエチル
（IV−１）の合成 ６０％水素化ナトリウム（０．４ｇ）をＤＭＦ（５ml）
中に懸濁し、氷冷下に５−（２−クロロ−４−トリフル
オロメチルフェノキシ）−２−ニトロフェノノール
（３．３ｇ）のＤＭＦ（５ml）溶液を滴下し、１０分間
攪拌した。この溶液中にブロモマロン酸ジエチル（２．
１ml）を加え、７０℃で３０分間攪拌した。反応液に水
（１０ml）を加え、酢酸エチル（２０ml）で２度抽出し
た。抽出液を水、ついで飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下に留去し、残渣をシ
リカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒：ｎ−ヘキサン
／酢酸エチル＝５／１）を用いて精製して、標記化合物
（無色油状）３．０ｇを得た。また、原料のフェノール
誘導体０．７ｇが回収された。

【００５４】ＮＭＲ（δppm, CDCl₃）：1.29(6H, t, J=
8Hz)，4.30(4H, q, J=8Hz)，5.16(1H, s), 6.56 〜6.68
(2H, m), 7.20(1H, d, J=9Hz), 7.59(1H, dd, J=9&2H
z), 7.77(1H, d, J=2Hz), 7.97(1H, d, J=10Hz)

【００５５】参考例１において、５−（２−クロロ−４
−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ニトロフェノ
ールに代え４−（３−クロロ−５−トリフルオロメチル
ピリジン−２−イル）−２−ニトロフェノールを用いて
同様に反応することにより、２−〔４−（３−クロロ−
５−トリフルオロメチルピリジン−２−イル）−２−ニ
トロフェノキシ〕マロン酸ジエチル（IV−５）が得られ
た。同様に、ブロモマロン酸ジエチルに代えブロモメチ
ルマロン酸ジエチルを用い、５−（２−クロロ−４−ト
リフルオロメチルフェノキシ）−２−ニトロフェノー
ル、５−（２，６−ジクロロ−４−トリフルオロメチル
フェノキシ）−２−ニトロフェノール又は５−（２−ク
ロロ−６−フルオロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２−ニトロフェノールと反応することにより２−
〔５−（２−クロロ−４−トリフルオロメチルフェノキ
シ）−２−ニトロフェノキシ〕−２−メチルマロン酸ジ
エチル（IV−２）、２−〔５−（２，６−ジクロロ−４
−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ニトロフェノ
キシ〕−２−メチルマロン酸ジエチル（IV−３）及び２
−〔５−（２−クロロ−６−フルオロ−４−トリフルオ
ロメチルフェノキシ）−２−ニトロフェノキシ〕−２−
メチルマロン酸ジエチル（IV−４）が得られた。これら
の化合物の物性を第２表（表中、＊は置換位置を示す）
に示す。

【００５６】

【表４】

【００５７】試験例１（土壌処理） 土壌を充填した６cm×１５cm×１０cmシードリングケー
スにメヒシバ、イヌビユ、スベリヒユ、イヌタデ及びカ
ヤツリグサの各種子を播種した。播種翌日に、２０％水
和剤とした試験化合物を、有効成分で１０ａ当り４００
ｇ又は５０ｇとなるよう１０ａ当り２００リットルの水
で希釈し、土壌表面に散布した。薬剤処理後２週間目に
殺草程度（５：完全枯死〜０：無作用）を肉眼で観察評
価して、第３表の結果を得た。

【００５８】

【表５】

【００５９】試験例２（茎葉処理） 土壌を充填した６cm×１５cm×１０cmシードリングケー
スにメヒシバ、イヌビユ、スベリヒユ、イヌタデ及びカ
ヤツリグサの各種子を播種した。温室内で１０日間育成
後、２０％水和剤とした試験化合物を、有効成分で１０
ａ当り４００ｇ又は５０ｇとなるよう１０ａ当り２００
リットルの水で希釈し、茎葉表面に散布した。薬剤処理
後２週間目に殺草程度（５：完全枯死〜０：無作用）を
肉眼で観察評価して、第４表の結果を得た。

【００６０】

【表６】

【００６１】試験例３（土壌処理） 土壌を充填し、湛水した６cm×１６cm×１１cm塩ビパッ
クにタイヌビエ、コナギ、タマガヤツリ、ヒメミソハギ
及びホタルイの各種子を播種した。播種翌日に、試験化
合物のアセトン溶液（場合によりエタノール又は水溶
液）を、有効成分で１０ａ当り４００ｇ又は２５ｇとな
るよう１パック当り６０mlの水で希釈し、湛水滴下処理
した。薬剤処理後４週間目に殺草程度（５：完全枯死〜
０：無作用）を肉眼で観察評価して、第５表の結果を得
た。

【００６２】

【表７】

【００６３】試験例４（茎葉処理） 土壌を充填し、湛水した６cm×１６cm×１１cm塩ビパッ
クにタイヌビエ、コナギ、タマガヤツリ、ヒメミソハギ
及びホタルイの各種子を播種した。温室内で約２週間育
成後、試験化合物のアセトン溶液（場合によりエタノー
ル又は水溶液）を、有効成分で１０ａ当り４００ｇ又は
２５ｇとなるよう１パック当り６０mlの水で希釈し、茎
葉表面に散布した。薬剤処理後３週間目に殺草程度
（５：完全枯死〜０：無作用）を肉眼で観察評価して、
第６表の結果を得た。

【００６４】

【表８】

【００６５】試験例１〜４から明らかなように、本発明
化合物は発芽前及び発芽後の各種雑草に対して優れた除
草活性を示し、除草剤として有用な化合物である。式
（Ｉ）で表される本発明化合物は、その除草作用から、
単独又は合剤で、各種製剤として、発芽前又は発芽後に
使用することができる。本発明の化合物を除草剤として
施用するにあたっては、一般には通常の担体、例えば、
クレー又は珪草土等の固体担体、あるいは水、アルコー
ル類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類又はエ
ステル類等の液体担体と混用して適用することができ、
また必要・所望により乳化剤、分散剤、懸濁剤、展着
剤、安定剤等を添加し、他種除草剤、殺虫剤、殺菌剤、
植物成長調整剤等と混合して使用することができ、かか
る各種製剤を製造するに際しては有効成分含量を、例え
ば１〜９０重量％の範囲で含ませるのが好ましい。本発
明の除草剤は、発芽前の土壌処理剤又は発芽後の茎葉処
理剤として使用することができ、その施用量は広範囲に
わたり変えることができるが、一般には１０アール当た
り０．１〜４００ｇの範囲で使用するのが好ましい。

【００６６】製剤例１（乳剤） 常法により、化合物３７を１５重量部、キシレンを６５
重量部、及びポリオキシエチレンアルキルアリルエーテ
ルを２０重量部を混合して均一な溶液とし、有効成分１
５％を含有する乳剤を得た。

【００６７】製剤例２（水和剤） 常法により、化合物５６を４０重量部、ジークライトを
５５重量部、アルキルベンゼンスルホン酸ソーダを２重
量部、及びポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル
を３重量部を均一に粉砕混合し、有効成分４０％を含有
する水和剤を得た。

【００６８】製剤例３（粉剤） 常法により、化合物８２を５重量部、，ペントナイトを
２０重量部、クレー７３重量部、及びドデシルベンゼン
スルホン酸ソーダを２重量部を均一に混合し、水約２０
重量部を加えて混練機で練り合わせた。これを造粒機を
通して造粒し、乾燥後、製粒して有効成分５％を含有す
る粒剤を得た。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐合 隆一 神奈川県伊勢原市下糟屋1787−１ (72)発明者 井貝 敬太郎 神奈川県平塚市田村6348 全農協同住宅 104号

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙは水素原子又
   はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハロゲン原子を
   表し、Ｚは、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ¹ は、水
   素原子、置換されてもよい低級アルキル基（ここで、置
   換基としてはハロゲン原子、低級アルコキシ基もしくは
   アリール基のいずれかである）、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基又は脂肪族アシル基を表し、Ｒ² は、水
   素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ³ は、エステル化
   またはアミド化されてもよいカルボキシル基、置換され
   てもよい脂肪族アシル基（ここで、置換基としてはハロ
   ゲン原子、ジアゾ基もしくはアシル化されてもよい水酸
   基のいずれかである）、低級アルコキシチオカルボニル
   基、基Ｃ（＝ＮＲ⁴ ）Ｒ⁵ （ここで、Ｒ⁴ は水酸基、低
   級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキ
   ニルオキシ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基又はア
   ルコキシカルボニルアルキルオキシ基を示し、Ｒ⁵ は低
   級アルキル基を示す）、基Ｃ（ＯＲ⁶)₂ Ｒ⁷ （ここで、
   Ｒ⁶ は低級アルキル基を示すか又は２個のＲ⁶ でアルキ
   レン基を形成する基を示し、Ｒ⁷ は低級アルキル基を示
   す）又は基Ｃ（Ｒ⁸)₂ ＯＨ（ここで、Ｒ⁸ は低級アルキ
   ル基を示す）を表す〕で表されるベンズオキサジン誘導
   体及びその塩。
2. 【請求項２】 式（IIａ）： 【化２】 〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙは水素原子又
   はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハロゲン原子を
   表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよい低級アルキ
   ル基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低級アル
   コキシ基、又はアリール基のいずれかである）、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪族アシル基を表
   し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ⁹
   は、水素原子、置換されてもよい直鎖乃至は分岐鎖低級
   アルキル基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低
   級アルコキシ基、低級アシル基、低級アルコキシカルボ
   ニル基もしくはアリール基のいずれかである）、低級ア
   ルケニル基、低級アルキニル基又は置換されてもよいア
   リール基（ここで、置換基としてはハロゲン原子もしく
   は低級アルキル基のいずれかである）を表す〕で表され
   るベンズオキサジン誘導体及びその塩。
3. 【請求項３】 式（IIｂ）： 【化３】 〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙは水素原子又
   はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハロゲン原子を
   表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよい低級アルキ
   ル基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低級アル
   コキシ基もしくはアリール基のいずれかである）、低級
   アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪族アシル基を
   表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ
   ¹⁰及びＲ¹¹は、同一又は異なり水素原子、置換されても
   よい炭素数１〜１０の直鎖、分岐鎖乃至は環状アルキル
   基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低級アルコ
   キシ基、低級アシル基、低級アルコキシカルボニル基も
   しくはアリール基のいずれかである）、低級アルケニル
   基、低級アルキニル基、置換されてもよいアリール基
   （ここで、置換基としてはハロゲン原子もしくは低級ア
   ルキル基のいずれかである）、又は置換されてもよいヘ
   テロアリール基（ここで、置換基としてはハロゲン原子
   もしくは低級アルキル基のいずれかである）を表す〕で
   表されるベンズオキサジン誘導体及びその塩。
4. 【請求項４】 式（IIｃ）： 【化４】 〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙは水素原子又
   はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハロゲン原子を
   表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよい低級アルキ
   ル基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低級アル
   コキシ基もしくはアリール基のいずれかである）、低級
   アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪族アシル基を
   表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ
   ¹²は、置換されてもよい低級アルキル基（ここで、置換
   基としてはハロゲン原子、水酸基、ジアゾ基もしくは脂
   肪族アシルオキシ基のいずれかである）を表す〕で表さ
   れるベンズオキサジン誘導体及びその塩。
5. 【請求項５】 式（IIｄ）： 【化５】 〔式中、Ａは、Ｎ又は基ＣＹ（ここで、Ｙは水素原子又
   はハロゲン原子を示す）を表し、Ｘは、ハロゲン原子を
   表し、Ｒ¹ は、水素原子、置換されてもよい低級アルキ
   ル基（ここで、置換基としてはハロゲン原子、低級アル
   コキシ基もしくはアリール基のいずれかである）、低級
   アルケニル基、低級アルキニル基又は脂肪族アシル基を
   表し、Ｒ² は、水素原子又は低級アルキル基を表し、Ｒ
   ¹³は、低級アルキル基を表し、Ｒ¹⁴は、水酸基、低級ア
   ルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキニル
   オキシ基、低級アルキルアミノ基又はアルコキシカルボ
   ニルアルキルオキシ基を表す〕で表されるベンズオキサ
   ジン誘導体及びその塩。
6. 【請求項６】 請求項１記載の化合物を有効成分として
   含有する除草剤。