JPH05507181A - 気体放電パルスレーザシステム - Google Patents
気体放電パルスレーザシステムInfo
- Publication number
- JPH05507181A JPH05507181A JP92507494A JP50749492A JPH05507181A JP H05507181 A JPH05507181 A JP H05507181A JP 92507494 A JP92507494 A JP 92507494A JP 50749492 A JP50749492 A JP 50749492A JP H05507181 A JPH05507181 A JP H05507181A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- microwave
- gas discharge
- gas
- discharge
- laser system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 106
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 74
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 74
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 74
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 58
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 44
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 241000370685 Arge Species 0.000 description 1
- 241001178076 Zaga Species 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/091—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
- H01S3/094—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
- H01S3/0943—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a gas laser
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0975—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
気体放電パルスレーザシステム
本発明は、気体放電パルスレーザシステム、特にパルス駆動のエキシマ・レーザ
システムに関しており、そのレーザシステムは、共振器と気体放電が励起される
レーザガスにより充たされているガス体、少なくとも部分的に気体放電を維持す
るためのそのガス体を取囲んだマイクロ波放電構造体、マイクロ波パルスを発生
するためのマイクロ波発生源、および、マイクロ波発生源からマイクロ波放電構
造体へ導くマイクロ波伝送線を備えている。
例えば米国特許4,802.183号により知られている、このような気体放電
パルスレーデシステムにおいては、到達可能なレーザパルスのパワーはマイクロ
波ボンピングのパワーに比例する。このため、マイクロ波によりボンピングされ
る気体放電パルスレーザシステムはこれまで高いパワーに到達することができな
かった。
そこで、本発明が基礎とした目的は、マイクロ波ボンピングによる気体放電パル
スレーザシステムであって、レーザパルスのパワーがポンピングのパワーの比例
以上のものとなるように動作するシステムを提供することである。
この目的は、冒頭に述べた種類の気体放電パルスレーザシステムに関する本発明
により達成され、そのために、共振性のマイクロ波蓄積構造体が結合部材により
マイクロ波伝送路に結合され、マイクロ波蓄積構造体はガス体に導かれ、かつ、
少なくともその一部分がマイクロ波放電構造体とマイクロ波伝送路との間に延在
しており、そして、マイクロ波蓄積構造体は、それがマイクロ波発生源から放出
されるマイクロ波パルスからのエネルギーを、気体放電の点弧まで蓄え、そして
、気体放電が点弧された後は、蓄えられたエネルギーにより気体放電を維持する
ように、設計されており、かつ、そのような態様で結合部材によりマイクロ波伝
送路に結合される。
本発明の解決手段の利点は、マイクロ波パルスがいわば「圧縮されて」おり、そ
して、それによりパワーがマイクロ波発生源のマイクロ波パルスのパワーを約1
0から約1000のファクターで超えるような気体放電の維持のために有効なも
のとなるという事実にみることができる。それ故、TEAボンブト・レーザに匹
敵するレーザパルスパワーを通常のマイクロ波発生源により実現することができ
ることとなる。
マイクロ波発生源を保護するためには、マイクロ波蓄積構造体が、気体放電の点
弧後に、マイクロ波伝送路中に最大でマイクロ波パルスのマイクロ波パワーの2
倍のマイクロ波パワーを帰還結合するように、設計され、かつ、結合部材により
マイクロ波伝送路に結合されることが特に有効であることが証明されている。こ
のことは、本発明の解決手段においては、気体放電が点弧されていない時に、可
能な限り多くのパワーがマイクロ波蓄積構造体中に蓄積されるような最大限のB
様で、マイクロ波蓄積構造体が結合部材によりマイクロ波伝送路に結合するとい
うことが問題ではなく、気体放電が点弧されている時に、マイクロ波伝送路中に
帰還結合されるマイクロ波パワーがマイクロ波発生源を破壊しないような1!様
で、結合部材によりマイクロ波蓄積構造体を設計し、かつ、結合することが問題
であることを意味している。
マイクロ波蓄積構造体が、気体放電の点弧後に、最大でマイクロ波パルスのマイ
クロ波パワーの1.5倍のマイクロ波パワーをマイクロ波伝送路中に結合するこ
とは、更により有効であり、そして、帰還結合されるマイクロ波パワーが最大で
マイクロ波パルスのマイクロ波パワーに一致することが特に有効である。
気体放電の維持のためのマイクロ波放電構造体中の最大限の結合を達成するため
に、マイクロ波放電構造体中のマイクロ波の電界ベクトルが共振器の光軸に垂直
に向くように設定することが有効である。この方法によれば、特に気体放電への
マイクロ波の結合を最大限のものとすることができる。
更に、気体放電の維持のためのマイクロ波の有効な結合を達成するためには、マ
イクロ波放電構造体内の電界によって透過されるガス体の区域が、共振器の光軸
の方向にマイクロ波放電構造体のカントオフ波長の少なくとも1.5倍の長さを
有することが有効であり、それは、この寸法が本発明による気体放電パルスレー
ザにおいて畜骨なものとするために、マイクロ波蓄積構造体がレーザパルスの期
間中にマイクロ波が波及する行路の約半分の長さを有するようにすることが、更
に有効であり、それにより、レーザパルスを発生するためにマイクロ波蓄積構造
体中に蓄えられた全マイクロ波エネルギーを利用することが可能となる。
可能な限り損失を少なくするために、マイクロ波蓄積構造体を非誘電性に設計す
ることが特に有効である0例えば、非gt性のマイクロ波蓄積構造体は、導波管
構造であり、すなわち、マイクロ波蓄積構造体全体が導波管部材により製作され
る。
更に、マイクロ波放電構造体は、それがマイクロ波蓄積構造体と簡単に適合しう
ろことから、導波管構造であることが有効である。
有効な実施例の一つとして、マイクロ波蓄積構造体が蓄積伝送路とマイクロ波放
電構造体とを備える、すなわち、マイクロ波放電構造体が、蓄積伝送路とともに
、マイクロ波エネルギーを蓄えることができる共振構造を形成するようにされる
。
このケースにおいて、蓄積伝送路およびマイクロ波放電構造体はともに、導波管
部材により製作されることが有効である。
本発明による解決手段においては、マイクロ波蓄積構造体を異なる方法により製
作することもできる。それによれば、マイクロ波蓄積構造体が細長い共振構造と
することが一つの有効な代替手段として実施され、特に、この細長い共振構造に
は折曲部が含まれ、そして、短絡プレートにより有効に終端される。
他の代替手段として、マイクロ波蓄積構造体は閉じられたリング共振構造とされ
、すなわち、マイクロ波蓄積構造体は定在波電界が形成されるリング状共振器の
形態に製作される。
以上の実施例の記載においては、気体放電が点弧される方法については詳細な説
明がなされていない0本発明による最も簡単な実施例においては、ガス体中にお
ける気体放電の点弧が自己点弧により生成されるようになされ、すなわち、マイ
クロ波蓄積構造体内に存在する定在波の電界強度がガス体内で気体放電の点弧が
励起されるような大きさとなるまで、マイクロ波蓄積構造体中にマイクロ波エネ
ルギーが蓄えられるようにされる。vtいて、その蓄えられたマイクロ波エネル
ギーの全てが完全にガス体中に結合されることとなる。
これに代わるものとしては、前期flf(pre4onizatjon)により
気体放電の点弧が生しるようにされる。前期電離は、マイクロ波パルスの継続期
間中およびその後における特定の時点に設定することができ、かつ、マイクロ波
蓄積構造体内にそれによるマイクロ波エネルギーがある程d蓄えられた後に気体
放電の点弧が始まり、そして、気体放電に対する特定された時点での点弧は、ガ
ス体の圧力や温度の変動に依存することなく達成されうるという利点を有してい
る。
前期!離による気体放電の点弧のためには、種々の実現手段がある。一つの実現
手段としては、前期電離は電界、特に高周波電界ζこより生成される。
前期電離は、好ましくは、光軸を横切る電界であって、好ましくは、結合された
マイクロ波エネルギーの電界に平行となるように整列された電界により生成され
る態様で実現される。
また、これに対する代替方法として、前期電離が光軸の方向の電界により生成さ
れるようにすることも可能である。
原理的には、電界は一定のものでよい。しかしながら、前期電離が高周波電界に
より生成されることが特に有効であり、そして、この高周波電界は、好ましくは
、付加的なマイクロ波放電により生成されることも可能である。
更に、この電界が電磁気放射によって発生されることも、本発明の技術的範囲内
のものであることは明らかである。
前期電離に対する更に他の代替手段として光学的に実現されるものがあり、この
ケースにおいては、レーザガスができる限り効果的にそれを電離することのでき
る放射線により照射される0例えば、υν放射がここでは利用できるが、他の電
離用放射、例えば、X線あるいはガンマ放射線もまた有効である。
前期電離をガス体の異なった部分において引起すことができる。
すなわち、一実施例としては、可能な限り一様な気体放電の点弧を実現するため
に、マイクロ波放電構造体内に前期電離が生成されるようにされる。このケース
において、電界が前期電離のために用いられるならば、その電界は、マイクロ波
放電構造体を経て結合される蓄積されたマイクロ波エネルギーの電界に平行とな
るように、整列されることが有効である。
本発明の解決手段の他の有効な実施例においては、前期電離がマイクロ波放電構
造体の外側に生しるようにされる。これは、マイクロ波放電構造体内の状態が、
そしてそれにより蓄積されたマイクロ波エネルギーの結合もまた、乱されること
がないという利点を有している。このケースにおいては、マイクロ波放電構造体
の外側に位置するガス体の部分的な区域に前期ft離が生成されることに利点が
ある。
更に他の有効な実施例においては、本発明の技術的範囲内のものとして、マイク
ロ波蓄積構造体がマイクロ波伝送路に結合された蓄積導波管を存するようにされ
、それにスイッチ部材を介してマイク° 口波放電構造体が結合される。これは
、このケースにおいては、マイクロ波蓄積構造体とマイクロ波放電構造体とが互
いに完全に分離されており、そして、マイクロ波エヌルギーはまずマイクロ波蓄
積構造体内に蓄えられて、スイッチ部材の作動後にマイクロ波放電構造体中にの
み結合されることを意味している。特に、これはマイクロ波放電構造体をマイク
ロ波蓄積構造体のため゛に必要な共振条件において考慮に入れる必要がないとい
う利点を有しており、また、スイッチ部材によりレーザガスに対する特定された
点弧を達成することができるという更なる利点を有している。
この実施例においては、また、マイクロ波蓄積構造体およびマイクロ波放電構造
体は、結合部材とともに、好ましくは、スイッチ部材がオンにされた時に、マイ
クロ波蓄積構造体がマイクロ波伝送路中へ、最大でマイクロ波発生源から到来す
るマイクロ波パルスのマイクロ波パワーの2倍、好ましくは1,5倍、あるいは
同じでもよい、に一致するマイクロ波パワーを帰還結合するように、相互に調整
されるようになされる。
スイッチ部材は、好ましくは、Hl−T部材、特にスイッチが組合わされたスイ
ッチ導波管を含むものを有している。
スイッチは、好ましくは、トリガーされ、あるいは、自己トリガ−される高圧あ
るいは低圧の気体放電スイッチであり、すなわち、そのスイッチは、スイッチン
グのために内部で気体放電が点弧されるようなガス体を含んでいる。気体放電は
、マイクロ波蓄積構造体内に十分に大きい量のエネルギーが蓄積された時に自動
的に点弧されるか、あるいは、例えば前期電離により上述したようなM、様で点
弧される。ただし、これの代替手段として、電子ビームもまたスイッチングとし
て可能なものである。
いずれのケースにおいても、スイッチのスイッチング動作は、マイクロ波蓄積構
造体中の定在波電界に導波管波長の1/4はどの変移をもたらし、そして、それ
により、H−T部材を介してその開口に接続されているマイクロ波数を構造体の
結合をもたらすことになる。
特に、そのような実施例においては、マイクロ波放電構造体は、ガス体中に本質
的に一定な電界を発生するような形状を有するように、構成される。
最も簡単なケースとして、そのようなマイクロ波放電構造体は、それを貫通して
いる力′気体の区域において、蓄積導波管からの離隔する距離とともに先細りし
ていくような側壁区域を有するように、構成されている。
本発明の更に他の特徴や利点は、以下の記載および数個の実施例の図面から、明
らかとなる事項である。
図は、それぞれ次のものを示している。
第1図:第1の実施例の透視図、
第2図:第1図の線2−2に沿う断面図、第3図:マイクロ波発生源から到来す
るマイクロ波パワー札、マイクロ波発生源に帰還結合されるマイクロ波パワーM
ZおよびレーザパルスLの経時変化を示す特性図、第4図:第2の実施例の部分
的な概略構成図、第5図:第3の実施例の部分的な概略構成図、第6図:第5図
の線6−6に沿う第3の実施例の断面図、第7図:第4の実施例の部分的な概略
構成図、第8図:第5の実施例の部分的な概略構成図、第9図:第6の実施例の
第2図と同様な断面図、第10図:線図により示されている導波管を備えた第7
の実施例の概略構成図、
第11図:第8の実施例の透視図、
第12図:第9の実施例の透視図。
図1に示されている気体放電パルスレーザの第1の実施例は、マイクロ波発生源
10を有し、そこからマイクロ波伝送路12が結合部材14まで案内しており、
その結合部材は、ここでは2重スタブラインとして設計されていて、マイクロ波
伝送路12と全体を16で示されているマイクロ波蓄積構造体との間に結合を形
成している。一方、このマイクロ波蓄積構造体16は、2重スタブラインI4と
直結された蓄積伝送路18とその蓄積伝送路18に接続されたマイクロ波放電構
造体20とを備えている。
蓄積伝送路18は蓄積導波管として示されており、マイクロ波放電構造体20は
同様に導波管として示され、それは蓄積導波管に接合する90”折曲部22を存
しており、そして、90°折曲部22は反対側が短絡プレート26により終端さ
れている結合導波管24に接合している。
マイクロ波放電構造体20には気体放電管28が貫通しており、その気体放電管
は、結合導波管24の管軸30と平行に延び、好ましくは結合導波管24と同軸
であり、マイクロ波放電構造体20から、その一方の端部において90”折曲部
22の区域の開孔32を通って、かつ、他方の端部において短絡プレート26の
開孔34を通って突抜け、そして、開孔32から突出した第1の端部36と開孔
34から突出した第2の端部38を有するようにマイクロ波放電構造体20から
突き出ている。気体放電管28は第1の端部36を閉し込めるための第1のブル
ースター窓(Brewster window) 40と第2の端部38を閉じ
込めるためのブルースター窓42を有しており、それにより、気体放電管2日は
閉し込められたガス体44を含むこととなり、その中にはレーザガス、好ましく
は、例えばXeC1のようなエキシマレーザガス、が存在する。
気体放電管28は全体がレーザ共振器内に配置されており、そのレーザ共振器は
、第1のブルースター窓40に対向する第1の共振器ミラー46と、第2のブル
ースター窓42に対向する第2の共振器ミラー48とにより形成されている。共
振器ミラー46.48の一方は送信ミラーを兼ねており、そこからレーザ放射が
放出される。
気体放電管28の結合導波管24に対する配室が第2図に拡大して示されており
、そこには、導波管のX−およびY一方向と、導波管中を伝播するHot波の方
向とが示されている。第2図に示すように、共振器の光軸50は、好ましくは、
放電管の管軸に一致する。光軸50はまた結合導波管24の管軸30にも一致し
、そして、H4゜波が伝播する方向も同様に管軸30に平行となる。
そのような導波管中の電界EのベクトルはY一方向に平行となるので、導波管の
中心において好適に発生される電界Eは、結合導波管24の光軸に垂直に延びる
こととなる。それ故、マイクロ波放電構造体内に横たわるガス体44の全領域は
、光軸50に直交する電界已により透過される。マイクロ波放電構造体20内に
横たわるガス体44中にマイクロ波エネルギーを十分に結合させるようにするた
めに、光軸50の方向に電界Eにより透過されるガス体44の区域Aは、好まし
くは、それがマイクロ波放電構造体20のカントオフ波長の少なくとも1.5倍
までの大きさとなるように、選定される。
第1図および2図の気体放電パルスレーザシステム中に示されている第1の実施
例が動作する態様が、第3図に概略的に示されている。他方、第3回は、マイク
ロ波発生#lOにより放出され、そして、約500nsecのパルス幅を有する
パルスを表わしているマイクロ波パワー札の過程を示している。第3図には、ま
た、マイクロ波放電構造体20および結合部材14から帰還結合されるマイクロ
波パワーMZが示されている。マイクロ波パルスの初期において、このパワーは
マイクロ波パワー札とともに、それと同じように、立上るが、マイクロ波蓄積構
造体16におけるマイクロ波エネルギーの蓄積が増大するために、殆んど零まで
降下する。それ故、同時に、マイクロ波放電構造体中の電界のサイズがその中に
定在波が形成されるような範囲まで増大し、そこでは、電界Eのベクトルの大き
さがこの定在波中に蓄えられるエネルギーが増大するにつれて増大する。十分に
高い電界の強さ已に達すると、ガス体44中に含まれているレーザガスの自己点
弧が発生し、そして、レーザパルスLがミラー46および48を備えた共振器中
に形成される。ガス体44中のレーザガスが点弧されると、この場合は、マイク
ロ波放電構造体20が結合部材14と整合しなくなるという不整合が発生し、そ
こで、帰還結合マイクロ波パワー北がマイクロ波発生源10によって生成される
マイクロ波パルスのマイクロ波パワー札に一致する値まで同様に増大する。好ま
しくは、結合用開孔14はマイクロ波放電構造体20に適合するように選定され
て、それにより、ガス体44中のレーザガスの点弧の際に帰還結合されるマイク
ロ波パワーMZがマイクロ波発生源により生成されるレーザパルスのマイクロ波
パワー札を超えないようにされ、マイクロ波発生源10が損傷されないようにさ
れている。
マイクロ波蓄積構造体16は、この実施例においては、蓄積導波管18とマイク
ロ波数を構造体20とを備えており、その長さは、好ましくは、それがレーザパ
ルスの継続時間の間にマイクロ波が進行する行路の約半分となるように選定され
る。
上述の実施例においては、マイクロ波蓄積構造体16中の高い共振器品質とそれ
による大きい蓄積可能なマイクロ波エネルギーを得るために、全ての導波部材は
高導電率の材質により構成されるのがよい。他の可能な構成としては、電導性の
内部コーティングを有する導波管があり1.また、超電導コーティングを有する
導波管あるいは超電導体からなる導波管もこの発明の解決手段の変形として用い
ることができる。
とくに、導波管により製作されたマイクロ波蓄積構造体16は、レーザガスのガ
ス体を除き、誘電性の部材を含まない。そして、特に好ましい実施例においては
、それは、電界強度を増大し、それにより、蓄積可能なエネルギーを更に増大す
るために、真空にされるか、あるいは、ある圧力に絶縁ガスを充たすかされる。
上述した第1の実施例においては、ガス体44中のレーザガスは、十分に大きな
量のエネルギーが蓄積された時に、電界ベクトルEのサイズにより自動的に点火
するのであり、そして、そのレーザガスの点弧をガス体44中においてそのガス
の圧力および温度の下で生しさせることのできるエネルギーを設定することが可
能である。
このような自己点弧するレーザガスを含む構造体は、本発明の解決手段の最も簡
単な形式を代表するものであるが、レーザガスがガス体44中で点弧する時点は
精密には固定化することができない。
このため、第4図に示されている第2の実施例においては、ガス体中に存在する
レーザガスが自動的に点弧するのではなく、全体が60により示されている予め
電離された放射源によって照射され、それによって前期電;il[(preio
nized)される。そこで、マイクロ波蓄積構造体16中に蓄えられたエネル
ギーの電界がガス体44中で気体放電の自己点弧が生じる電界以下であっても、
レーザガスの気体放電が始まることとなる。
この予めtE、lAされた放射源60は、好ましくは、2つの共振ミラー62お
よび64とそれらの間に配Iされ、好ましくは、レーザ活物質として同じように
ボンピングされたガスを含んでいるガスレーザ管によって同様に形成されたレー
ザ活物質66とを有するレーザである。
これによりレーザビーム68が生成され、それはレンズ70により集束されて第
2の共振ミラー48を通り、好ましくは、光軸50に平行にガス体44に入射し
、そこで、光軸50に沿うガス体44中のレーザガスの前期電M (preio
nization)が行われることとなる。レーザビーム60の波長は、本発明
によれば、紫外(UV)域となる。
第2の実施例におけるマイクロ波蓄積構造体16は、第1の実施例におけるもの
と全く同じ設計であり、このマイクロ波蓄積構造体16の設計および概念につい
ては第1の実施例において述べたことを参照することができる。
同様に、結合部材14、マイクロ波伝送路12およびマイクロ波発生源10も同
じ設計であり、この点についても第1の実施例において述べたことを参照するこ
とができる。
第5および6図に示されている本発明による気体放電パルスレーザシステムの第
3の実施例においては、マイクロ波蓄積構造体16は第1の実施例のものと同し
設計である。
更に、結合部材14、マイクロ波伝送路12およびマイクロ波発生源10もまた
第1の実施例のものと同じ設計である。それ故、これら全の部材について第1の
実施例において述べたことが参照される。
第1の実施例と対照的に、第3の実施例においてもガス体中のレーザガスの前期
電離が行われるが、それは第2の実施例における予め電離された放射S6Oに対
するものではなく、前期電離放電(preio−nization disch
arge)である。
このために、特に第6図に示すように、2つの電極72および74が気体放電管
28の対向する側面に配置され、高周波tJsoにリード線76および78に接
続される。これらの電極は、好ましくは、マイクロ波放電構造体20内に延在す
る気体放電管28の放電区域を覆うように延びている。
ガス体44中にこの2つの電極72および74により生成される電界EVは、マ
イクロ波蓄積構造体16中に蓄積されるマイクロ波エネルギーによって決定され
る電界E゛のベクトルと平行に派生されるので、電界強度Eと電界強度EVとは
互いに重畳することとなる。
電極72および74に電圧を印加することにより、゛電界EVがマイクロ波蓄積
構造体16中に蓄えられるマイクロ波エネルギーが派生される電界已に加えられ
、その結果、マイクロ波蓄積構造体16中に蓄えられるマイクロ波エネルギーか
ら派生される電界Eが気体放電の自己点弧が生じる電界以下であっても、ガス体
44中において気体放電が点弧されることとなる。このようにして、もしマイク
ロ波蓄積構造体16中に一十分なマイクロ波エネルギーが蓄積されておれば、マ
イクロ波パワー札のマイクロ波発生源10から到来するマイ久口波ノマルスの経
時変化に関係する限定された時点において、電極72および74に電圧を印加す
ることによりレーザパルスLを励起することが可能となる。
第7図に示されている本発明による気体放電パルスレーザシステムの第4の実施
例においては、マイクロ波蓄積構造体16は第1の実施例におけるものと同じ設
計である。
しかしながら、第2および第3の実施例とは対照的に、前期電離がマイクロ波放
電構造体20内に存在するガス体44の区域におし)で生成されず、代わりに、
第2の端部38の区域において生成される。このために、第2の端部38には、
短絡プレート26からある間隔をおいて、リード線84を介して電圧源86の一
方の出力に接続されたリング電極82が配設される。そして、電圧a86の他方
の出力は、リード線88を介して開孔34によって同様なリング電極ということ
ができる短絡プレート26に接続されており、そこで、マイクロ波放電構造体2
0に近接した箇所において、気体放電管28が互いに間隔を置いて配列された2
つのリング電極により囲まれることとなる。を圧源86からの電圧印加は、第2
の端部の区域において、光軸50に平行な電界のために、気体放電管28中のそ
の部分に存在するガス体の部分の前期電離を引き起すこととなり、そして、この
前期を離は、レーザガスの自己点弧が生しる電界強度以下の電界強度において、
全ガス体中、特にマイクロ波放電構造体20内に存在するガス体44中に気体放
電を点弧するに十分なものである。
こうして、上述した実施例におけると同様cfして、まず、マイクロ波エネルギ
ーがマイクロ波蓄積構造体16中に蓄積され、次いで、所望の時点において、レ
ーザガスの前期電離によるリング電極28と短絡プレート26との間の前期電離
放電を経て、マイクロ波放電構造体20内の全ガス体中において気体放電が点弧
される。
マイクロ波放電構造体20の外側におけるレーザガスの前期電離を行う他の手段
が、本発明による気体放電パルスレーザシステムの第5の実施例に関連して、第
8図に示されている。
第5の実施例においては、マイクロ波蓄積構造体16は、上述の第1の実施例お
よび他の全ての実施例のものと同し設計である。また、マイクロ波発生源10、
マイクロ波伝送路12および結合部材14も第1の実施例のものと同し設計であ
る。・それ故、これらの部材に関連して第1の実施例において述べられたことが
全て参照される。
第2の端部38の区域におけるレーザガスの前期電離が、その第2の端部が、部
分的に、マイクロ波伝送路92および追加のマイクロ波発生源94を介して供給
される結合導波管部分9o内に存在するという方法によって、達成される。この
結合導波管部分9oは光軸5oと平行して延在し、短絡プレート26に載置され
た同様な短絡プレート96を有しており、他方、それは折曲部98を介してマイ
クロ波伝送路92につながっている。第2の端部38は、その折曲部区域におい
て、結合導波管部分90から突出しており、そこで、第2のブルースター窓42
は結合導波管部分90の外部に位置し、それにより、結合導波管部分90が共振
ミラー47および48によって形成される共振器内の全放射行路を乱すことはな
い。
こうして、マイクロ波発生[94により発生されるマイクロ波パルする部分にお
ける気体放電を点弧するに十分な前期電離を結合導波管部分90中に生成するこ
とが可能となり、そこで、それぞれ所望の時点において、第4の実施例における
電圧パルス、特に好ましくは高周波の電圧パルスによるものと同様にして、マイ
クロ波発生源94からのマイクロ波パルスにより全ガス体44中に気体放電が点
弧されることとなる。
第9図に部分的に示されている第6の実施例においては、気体放電管28が、結
合導波管24に関して、光軸5oが結合導波管24′の管軸30に直交するよう
に延びるが、結合導波管24′のY一方向に平行に形成される電界のベクトルに
も直交するような態様で、配置されている。この実施例においては、それ故、光
軸5oが結合導波管24′のX一方向に平行に延び、そして、同様に、結合導波
管24′中においてそれを横断するように設けた気体放電管28を通って走行す
るI”110波の伝播方向に直交することとなる。
その他の点については、第6の実施例は第1の実施例と全く同し態様で構成され
ており、そこで、この点−関する第1の実施例について述べたことおよびそれぞ
れの部分についての記述が参照される。
第1の実施例と対照的な点としては、マイクロ波蓄積構造体16とともに結合部
材14が、ガス体44中のレーザガスが点弧された時にマイクロ波伝送路12中
に帰還結合されるパワーがマイクロ波発生源1oがら到来するマイクロ波パルス
のパワー札を超えないような態様で、調整されなければならないことのみがある
。
第10図に示されている第7の実施例においては、第1の実施例と同様な態様で
設けられたマイクロ波発生源10がマイクロ波蓄積構造体16′に、マイクロ波
伝送路12および結合部材14を経て、マイクロ波パルスを供給している。第1
の実施例と対照的な点としては、これた線状構造に設計されておらず、マイクロ
波放電構造体20として気体放電管1日がその2つの端部36および38を突出
している2つの90”折曲部112および114を両端に有する結合導波管11
0を備えたリング状構造となっていることである。結合部材14としてのパワー
結合器あるいはパワー合成器を付加的に備えているU−形状に設計された蓄積導
波管116が、これら2つの90°折曲部112および114を接合している。
また、蓄積導波管116中にE/H調整部材118が配設されており、その調整
部材は、結合部材14とともに、蓄積導波管116とマイクロ波放電構造体20
′ とからなる全リング構造内における調整を可能とし、それにより、マイクロ
波エネルギーの共振蓄積(resonant storage)がマイクロ波蓄
積構造体16′全体にわたって生成されることとなる。
結合部材14は、マイクロ波蓄積構造体16′とともに、気体放電管28に気体
放電が起きた時に、マイクロ波伝送路12に帰還結合されるマイクロ波パワーが
マイクロ波発生源により発生されるマイクロ波パルスのパワーMLを超えないよ
うな態様に、調整されなければならない。
その他の点については、第7の実施例は、原理に関する限り、第1の実施例と全
く同じ態様で、すなわち、マイクロ波パルスがマイクロ波発生源10からマイク
ロ波伝送路12および結合部材14を経てマイクロ波蓄積構造体16中に結合さ
れるように、動作し、更に詳しくは、パルスが結合されている期間において、気
体放電管28のガス体44中に含まれているレーザガスが点弧するまでマイクロ
波蓄積構造体16内にマイクロ波エネルギーの蓄積が生成され、そして、共振ミ
ラー47および48を有する共振器内の気体放電に依ってレーザ放射パルスLが
作成されるような態様で動作する。
ガス体44中のレーザガスの点弧は、第1の実施例におけるような自己点弧によ
るか、あるいは、第2乃至第5の実施例において述べた全ての種類の前期電離に
よって、生成され、そこで、この点に関して対応する実施例について述べたこと
が同様に参照される。
第11図に示されている本発明による気体放電パルスレーザシステムの第8の実
施例においては、レーザパルスがマイクロ波発生源IOからマイクロ波伝送路1
2を経てマイクロ波蓄積構造体120中へ同様に導入され、更に詳しくは、ここ
では結合用開孔124をもったスクリーンにより構成されている結合部材122
によって同様に導入される。
マイクロ波蓄積構造体120は、結合部材122に近接して延在し、かつ、H−
T部材128に連接されている蓄積導波管126を有しており、そのH−7部材
に続いて、短絡プレート132により終端されているスイッチ導波管部分130
が配設されている。
H−7部材は、その部分として、導波管部分134を有しており、それは蓄積導
波管126と同し寸法であり、かつ、それと同軸であり、同時に、マイクロ波蓄
積構造体120の管軸138に平行であるその導波管部分134の狭い側140
に接合している折曲部136とも同軸となっている。結合導波管142がその折
曲部136に連続して配設されており、それは折曲部136から遠くなるに従っ
てY一方向の寸法が減少している。結合導波管142と折曲部136は、それを
貫通する気体放電管28を備え、全体を144により示されているマイクロ波放
電構造体144を形成している。気体放電管は、一方において折曲部136の開
孔146から突出し、他方において結合導波管142の折曲部136に対向する
側に配設された短絡プレート150の開孔148から突出している。
第1の端部36および第2の端部38の双方は、第1の実施例におけるように、
それぞれ第1のブルースター窓40および第2のブルースター窓42により終端
されている。更に、第1の共振ミラー46および第2の共振ミラー48が、気体
放電管28と同軸に延びる共振器軸50の延長上に配設されている。
この第8の実施例においては、マイクロ波放電構造体144は、マイクロ波蓄積
構造体120の一部となってはいない。
マイクロ波伝送路12からマイクロ波蓄積構造体120中に結合されるマイクロ
波パルスにより、マイクロ波エネルギーが結合部材122から短絡プレート13
2までの間に延在するマイクロ波蓄積構造体120中に共振状態で蓄えられる。
ここで、マイクロ波エネルギーがマイクロ波結合構造体144の折曲部136中
に過結合されることはない。
そのような過結合を実現するために、トリガーされ、あるいは、自己トリガーさ
れる高圧あるいは低圧の気体放電スイッチであるスイッチ152が、スイッチ導
波管130内に配設されている。このスイッチ152は、ガス体156を包含す
る管154として設計されている。
この管は、スイッチ導波管130のY一方向に平行であり、したがって、その内
部の電界Eと平行である管軸158を有して延在している。
スイッチ152は、短絡プレート132から1/4の導波管波長はど間隔をおい
て配設されている。
スイッチ152は、管154内のガス体中に気体放電が生じていない時に開放、
すなわち、スイッチオフされ、そこで、管154中のガス体はスイッチ導波管1
30を透過する定在波電界に影響を与えない。
しかし、管154内のガス体中に気体放電が点弧されると、これがスイッチ導波
管130中を伝播する定在波電界に影響を及ぼすこととなり、スイッチ152が
短絡プレート132から1/4導波管波長はど離隔しておれば、1/4導波管波
長はどそれを変移させることとなる。
ガス体156中の気体放電の点弧が、その気体放電の自己点弧が生じるようなサ
イズである蓄積マイクロ波エネルギーの電界によるか、あるいは、そのガス体1
56中に生じる前期tMによるかのいずれかによって、発生され、そして、この
電離は、第2乃至第5の実施例において説明したものと全く同じ態様で実現され
る。
更に、H−T部材128は、スイッチ152がオフ、すなわち、開孔160から
マイクロ波蓄積構造体120中に蓄えられるマイクロ波エネルギーの過結合がな
い時に、その出口3としても示されているその開孔160が折曲部136の方向
に減結合されるような態様に、配設されている。スイッチ152がオン、すなわ
ち、気体放電が管154のガス体156中に生じている時には、これは1/4導
波管波長はど変移したマイクロ波蓄積構造体120中の定在波電界を有するマイ
クロ波蓄積構造体120の離調を引起こすこととなり、そこで、蓄積されたマイ
クロ波エネルギーが開孔160を経て折曲部136中、したがって、マイクロ波
結合構造体144中に結合されて、その中でそのマイクロ波エネルギーがガス体
44中の気体放電を維持させるように作用することとなる。
最も簡単化したケースとしては、第8の実施例においては、マイクロ波の終了直
前、すなわち、結合されたマイクロ波エネルギーの電界がガス体156中のレー
ザガスが自己点弧するほどのサイズとなった時点に、自己点弧によりガス体中の
気体放電が生しるようにされる。
しかしながら、第2乃至第5の実施例におけると同じ1!様で、ガス体156中
の前期iff離により、マイクロ波パルスの終了直前にスイッチ152を閉じる
ようにすることも可能である。
マイクロ波結合構造体144中に結合されたマイクロ波エネルギーにおける電界
強度について可能な限り一様に減少することを実現するために、結合導波管14
2は、それが折曲部136から短絡プレート150へと延びるにつれて、Y一方
向に先細りするように設計されており、それにより、この方向に電界強度を減少
させることが達成される。
第12図に示されている第9の実施例においては、同様に、マイクロ波パルスが
マイクロ波発生S1Oから、マイクロ波伝送路12および結合用開孔124を有
するスクリーンにより同様に形成された結合部材122を経て、マイクロ波蓄積
構造体120′中に結合される。このマイクロ波蓄積構造体120′は、結合部
材122に接合する第1の蓄積導波管部分170と、その蓄積導波管部分170
に接合する折曲部172と、中央の蓄積導波管部分174、それに続く折曲部1
76と、第2の蓄積導波管部分178と、それに接合し、短絡プレート180に
より終端されたスイッチ導波管180とを備えている。スイッチ導波管130と
同様に、スイッチ導波管180においては、スイッチ152と同様にスイッチ可
能に設計されているスイッチ184が配設されている。
更に、中央の蓄積導波管部分174には、マイクロ波結合構造体144′をマイ
クロ波蓄積構造体120′に結合するための数個の結合用スロット186が配設
されている。このマイクロ波結合構造体144′は、両端部において短絡プレー
ト190および192により終端された直線状の導波管部分188により形成さ
れており、結合用スロット186を経てマイクロ波蓄積構造体120′に結合さ
れている。
結合用スロット186間の間隔は、導波管波長の半分となるように選定されてお
り、更に、スイッチ184が開放されている時には、マイクロ波蓄積構造体12
0′からマイクロ波結合構造体144′へマイクロ波エネルギーが結合されない
ように配設されている。
スイッチ184が閉成されている時のみ、マイクロ波蓄積構造体120内の定在
波電界が1/4導波管波長はど変移され、それによって、エネルギーがマイクロ
波蓄積構造体120′からマイクロ波結合構造体144′中に結合される。
マイクロ波結合構造体144′は同様に気体放電管28によって貫通されており
、短絡プレート190および192の開孔194および196を通って突き出し
、第1の端部36および第2の端部38がそれぞれマイクロ波結合構造体から飛
び出している。2つの端部36.38には、既に詳細に述べた態様で、ブルース
ター窓40および42が設けられており、また、その共振ミラー46および48
がそれぞれ互いに対向するように配設されている。
マイクロ波伝送路12を経てマイクロ波発生B10から結合されるマイクロ波パ
ルスについては、第8の実施例と同じ態様によって、このマイクロ波パルスのエ
ネルギーがマイクロ波蓄積構造体120’に蓄えられる。スイッチ184がマイ
クロ波パルスの終了直前において閉しられ、そこでマイクロ波蓄積構造体120
′からマイクロ波結合構造体144′へのマイクロ波エネルギーの結合が急激に
生し、続いて、気体放電管28のガス体44中の気体放電がこのマイクロ波エネ
ルギーによりそこに維持されることとなる。
第8の実施例におけると同じ態様で気体放電を点弧するために、前期電離が与え
られるか、あるいは、気体放電が自己点弧により開始されるかのいずれかが行わ
れる。
更に、第8および第9の実施例においては、マイクロ波蓄積構造体120あるい
は120′における定在波電界の少量の変移によって、マイクロ波結合構造体1
44あるいは144′中に少量の過結合を実現しうる可能性もあり、それによっ
て、マイクロ波結合構造体144あるいは144′中に存在する範囲のガス体4
4中に前期電離を起こしうる「漏洩電界(electric leakage
field) Jを得ることができるという可能性がある。そして、スイッチ1
52あるいは184がオンにされた後、マイクロ波蓄積構造体120あるいは1
20′に蓄えられる全エネルギーがマイクロ波結合構造体144あるいは144
′中へ結合され、そこで、気体放電がその結合されたマイクロ波エネルギーによ
り維持されることとなる。
Fig、 2
Fig、 8
要約書
気体放電を点弧することのできるレーザガスで充たされた共振器およびガス体と
、そのガス体を包囲し、少なくとも部分的に気体放電を維持するためのマイクロ
波紋tII造体と、マイクロ波パルスを発生するためのマイクロ波発生源と、そ
のマイクロ波発生源からマイクロ波数!構造体へ導くマイクロ波伝送路とを有し
、レーザパルスパワーがボンピングパワーに過剰に比例するようになされた気体
放電パルスレーザシステム、特にエキシマパルスレーザシステムを得るために、
共振性のマイクロ波蓄積構造体が結合部材によりマイクロ波伝送路に結合されて
おり、かつ、ガス体に導いて、少なくともその一部分がマイクロ波放電構造体お
よびマイクロ波伝送路の間に延在しており、および、マイクロ波蓄積構造体が気
体放電の点弧までの間にマイクロ波発生源より放出されたマイクロ波パルスから
エネルギーを蓄積し、かつ、気体放電の点弧後には蓄積されたエネルギーにより
気体放電を維持するように、設計され、かつ、結合部材によってマイクロ波伝送
路に結合されることが提案されている。
Claims (19)
- 1.気体放電を点弧することのできるレーザガスで充たされた共振器およびガス 体と、 上記ガス体を包囲し、少なくとも部分的に気体放電を維持するためのマイクロ波 放電構造体と、 マイクロ波パルスを発生するためのマイクロ波発生源と、上記マイクロ波発生源 から上記マイクロ波放電構造体へ導くマイクロ波伝送路と を備えた特にエキシマパルスレーザシステムである気体放電パルスレーザシステ ムにおいて、 共振性のマイクロ波蓄積構造体(16,120)が、結合部材(14,122) により上記マイクロ波伝送路(12)に結合されており、かつ、上記ガス体(4 4)に導き、そして、少なくともその一部分が上記マイクロ波放電構造体(20 ,144)および上記マイクロ波伝送路(12)の間に延在しており、および、 上記マイクロ波放電構造体(16,120)が、気体放電の点弧までの間に上記 マイクロ波発生源(10)により放出されたマイクロ波パルスからエネルギーを 蓄積し、かつ、気体放電の点弧後には蓄積されたエネルギーにより気体放電を維 持するように、設計され、かつ、上記結合部材(14,122)によって上記マ イクロ波伝送路(12)に結合されていることを特徴とするシステム。
- 2.第1項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、マイクロ波蓄積構造 体(16,120)が、気体放電の点弧後は、最大でマイクロ波パルスのマイク ロ波パワーの2倍のマイクロ波パワーをマイクロ波伝送路(12)中に帰還結合 するように、設計され、かつ、結合部材(14,122)によってマイクロ波伝 送路(12)に結合されていることを特徴とするシステム。
- 3.第1項あるいは第2項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、 マイクロ波放電構造体(20,144)内のマイクロ波の電界ベクトル(E)が 共振器の光軸(50)に垂直に向いていることを特徴とするシステム。
- 4.第1項乃至第3項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 マイクロ波放電構造体(20,144)内における電界(E)により透過される ガス体(44)の区域が、共振器の光軸(50)の方向に該マイクロ波放電構造 体(20,144)のカットオフ波長の少なくとも1.5倍の長さを有している ことを特徴とするシステム。
- 5.第1項乃至第4項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 マイクロ波蓄積構造体(16,120)が、レーザパルスの継続期間中にマイク ロ波が進行する行路の約半分の長さを有していることを特徴とするシステム。
- 6.第1項乃至第5項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 マイクロ波蓄積構造体(16,120)が非誘電性の設計であることを特徴とす るシステム。
- 7.第1項乃至第6項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 マイクロ波蓄積構造体(16)が、蓄積伝送路(18)およびマイクロ波放電構 造体(20)を有することを特徴とするシステム。
- 8.第1項乃至第7項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 マイクロ波蓄積構造体(16,120)が細長い共振構造体であることを特徴と するシステム。
- 9.第1項乃至第7項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 マイクロ波蓄積構造体(16′)が閉じられたリング形状の共振構造体であるこ とを特徴とするシステム。
- 10.第1項乃至第9項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおい て、 気体放電がガス体(44)中に自己点弧により点弧されることを特徴とするシス テム。
- 11.第1項乃至第9項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムにおい て、 気体放電が前期電離により点弧されることを特徴とするシステム。
- 12.第11項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、前期電離が電界 (EV)により生成されることを特徴とするシステム。
- 13.第12項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、前期電離が電気 的高周波電界により生成されることを特徴とするシステム。
- 14.第11項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、前期電離が電磁 気放射により生成されることを特徴とするシステム。
- 15.第14項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、前期電離が光学 的に生成されることを特徴とするシステム。
- 16.第1項乃至第6項および第8項乃至第15項のいずれかに記載された気体 放電レーザシステムにおいて、マイクロ波蓄積構造体(120)が、マイクロ波 伝送路(12)に結合され、かつ、マイクロ波放電構造体(144)がスイッチ 部材(128,139)を介して結合されるようになっている蓄積導波管(12 6)を有していることを特徴とするシステム。
- 17.第16項に記載された気体放電レーザシステムにおいて、蓄積導波管(1 26)およびマイクロ波結合構造体が、スイッチ部材(128,130)がオン にされた時に、該蓄積導波管(126)が最大でマイクロ波パルスのマイクロ波 パワーの2倍であるマイクロ波パワーをマイクロ波伝送路(12)中に帰還結合 するような態様で、相互に調整されていることを特徴とするシステム。
- 18.第16項あるいは第17項に記載された気体放電レーザシステムにおいて 、 スイッチ部材がH−T部材(128)を有することを特徴とするシステム。
- 19.第16項乃至第18項のいずれかに記載された気体放電レーザシステムに おいて、 マイクロ波放電構造体(144)がガス体(44)中に本質的に一定の電界(E )を発生する形状を有していることを特徴とするシステム。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4112946A DE4112946A1 (de) | 1991-04-20 | 1991-04-20 | Gepulstes gasentladungslasersystem |
| DE4112946.6 | 1991-04-20 | ||
| PCT/EP1992/000808 WO1992019028A1 (de) | 1991-04-20 | 1992-04-09 | Gepulstes gasentladungslasersystem |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05507181A true JPH05507181A (ja) | 1993-10-14 |
| JPH0728064B2 JPH0728064B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=6430003
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4507494A Expired - Lifetime JPH0728064B2 (ja) | 1991-04-20 | 1992-04-09 | 気体放電パルスレーザシステム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5347530A (ja) |
| JP (1) | JPH0728064B2 (ja) |
| DE (1) | DE4112946A1 (ja) |
| WO (1) | WO1992019028A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5684821A (en) * | 1995-05-24 | 1997-11-04 | Lite Jet, Inc. | Microwave excited laser with uniform gas discharge |
| US6331994B1 (en) | 1996-07-19 | 2001-12-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Excimer laser oscillation apparatus and method, excimer laser exposure apparatus, and laser tube |
| US6819687B1 (en) * | 1997-12-10 | 2004-11-16 | Nellcor Puritan Bennett Incorporated | Non-imaging optical corner turner |
| US6804285B2 (en) | 1998-10-29 | 2004-10-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Gas supply path structure for a gas laser |
| JP4256520B2 (ja) * | 1999-02-26 | 2009-04-22 | 忠弘 大見 | レーザ発振装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
| RU2164048C1 (ru) * | 1999-07-20 | 2001-03-10 | Корчагин Юрий Владимирович | Устройство для свч возбуждения и поддержания генерации газоразрядного лазера при помощи создания плазменной коаксиальной линии |
| JP3404521B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2003-05-12 | 宇都宮大学長 | 短パルスマイクロ波の生成方法及び生成装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4802183A (en) * | 1982-04-07 | 1989-01-31 | Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Microwave excited excimer laser and method |
| US4513424A (en) * | 1982-09-21 | 1985-04-23 | Waynant Ronald W | Laser pumped by X-band microwaves |
| US4710939A (en) * | 1983-07-23 | 1987-12-01 | Quantum Diagnostics Ltd. | X-ray frequency down converter |
| US4862886A (en) * | 1985-05-08 | 1989-09-05 | Summit Technology Inc. | Laser angioplasty |
| DE3708314A1 (de) * | 1987-03-14 | 1988-09-22 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Mikrowellengepumpter hochdruckgasentladungslaser |
| US4796271A (en) * | 1987-07-02 | 1989-01-03 | Potomac Photonics, Inc. | High duty factor rare gas halide laser |
| JPH01262682A (ja) * | 1988-04-14 | 1989-10-19 | Toshiba Corp | マイクロ波レーザ装置 |
| JPH0240978A (ja) * | 1988-07-30 | 1990-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ発振装置 |
| DE4008195A1 (de) * | 1990-03-15 | 1991-09-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung zur anregung des gases einer gasentladungsstrecke mit mikrowellenenergie |
-
1991
- 1991-04-20 DE DE4112946A patent/DE4112946A1/de active Granted
-
1992
- 1992-04-09 JP JP4507494A patent/JPH0728064B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-04-09 WO PCT/EP1992/000808 patent/WO1992019028A1/de not_active Ceased
- 1992-04-09 US US07/958,336 patent/US5347530A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4112946A1 (de) | 1992-10-22 |
| US5347530A (en) | 1994-09-13 |
| DE4112946C2 (ja) | 1993-02-04 |
| WO1992019028A1 (de) | 1992-10-29 |
| JPH0728064B2 (ja) | 1995-03-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Hubert et al. | A new microwave plasma at atmospheric pressure | |
| Buczek et al. | Laser injection locking | |
| US7649328B2 (en) | Compact high-power pulsed terahertz source | |
| US5008894A (en) | Drive system for RF-excited gas lasers | |
| US4513424A (en) | Laser pumped by X-band microwaves | |
| US4891819A (en) | RF excited laser with internally folded resonator | |
| US3602837A (en) | Method and apparatus for exciting an ion laser at microwave frequencies | |
| Oparina et al. | Electron RF oscillator based on self-excitation of a Talbot-type supermode in an oversized cavity | |
| JPH05507181A (ja) | 気体放電パルスレーザシステム | |
| US4004249A (en) | Optical waveguide laser pumped by guided electromagnetic wave | |
| Miyake et al. | Laser system for the resonant ionization of hydrogen-like atoms produced by nuclear reactions | |
| Danly et al. | Long‐pulse millimeter‐wave free‐electron laser and cyclotron autoresonance maser experiments | |
| US6768266B2 (en) | Microwave pulse generator incorporating a pulse compressor | |
| US10582603B2 (en) | Optical resonators that utilize plasma confinement of a laser gain media | |
| Verhoeven et al. | First mm-wave generation in the FOM free electron maser | |
| US3729689A (en) | Traveling wave excited gas laser | |
| JP2794534B2 (ja) | アンジュレータおよび自由電子レーザー装置 | |
| JP4017235B2 (ja) | 自由電子レーザ共振器 | |
| Van Amersfoort et al. | Update on FELIX | |
| Samsonov et al. | Design and Experiment on One-octave Bandwidth Gyro-BWO with a Microwave Circuit in the Form of Zigzag Quasi-optical Transmission Line | |
| Landahl et al. | Phase noise reduction and photoelectron acceleration in a high-Q RF gun | |
| Vaulin et al. | Nitrogen laser excited by microwave pulses | |
| Arzhannikov et al. | Powerful multichannel schemes of spatially-extended planar FEMs operated with two-dimensional distributed feedback | |
| RU2054734C1 (ru) | Электронно - вакуумное устройство для генерации электромагнитных колебаний | |
| Elzhov et al. | Recent experiments on free-electron maser for two-beam accelerators |