JPH0553023B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0553023B2 JPH0553023B2 JP60100726A JP10072685A JPH0553023B2 JP H0553023 B2 JPH0553023 B2 JP H0553023B2 JP 60100726 A JP60100726 A JP 60100726A JP 10072685 A JP10072685 A JP 10072685A JP H0553023 B2 JPH0553023 B2 JP H0553023B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- substrate
- recording film
- recording
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザ光等の光を用いて情報の記録
再生を行なう光デイスクに関するものである。
再生を行なう光デイスクに関するものである。
従来の技術
近年、情報処理システムにおける処理情報量の
急速な増加に伴い、特に画像情報処理システムお
よびオフイスオートメーシヨン等の分野において
記録容量の大きい記録媒体、とりわけ光デイスク
が注目されている。光デイスクでは、記録膜上に
光ビームを照射し、光吸収による局部的な温度上
昇あるいは化学変化を誘起して記録を行なう。
急速な増加に伴い、特に画像情報処理システムお
よびオフイスオートメーシヨン等の分野において
記録容量の大きい記録媒体、とりわけ光デイスク
が注目されている。光デイスクでは、記録膜上に
光ビームを照射し、光吸収による局部的な温度上
昇あるいは化学変化を誘起して記録を行なう。
従来の光デイスクは例えば第３図に示すように
構成され、すなわち、トラツキング溝が形成され
たプラスチツク、ガラス等の透明基板３１上に、
基板の熱損傷防止あるいは記録特性の改善のため
の下地層３２を形成し、この下地層３の上に記録
膜３３として希土類−遷移金属系フエリ磁性膜、
テルル系合金膜、熱可塑性樹脂膜等を形成し、保
護被覆用基板３４を接着剤３５によつて接着した
構造になつている。
構成され、すなわち、トラツキング溝が形成され
たプラスチツク、ガラス等の透明基板３１上に、
基板の熱損傷防止あるいは記録特性の改善のため
の下地層３２を形成し、この下地層３の上に記録
膜３３として希土類−遷移金属系フエリ磁性膜、
テルル系合金膜、熱可塑性樹脂膜等を形成し、保
護被覆用基板３４を接着剤３５によつて接着した
構造になつている。
光デイスク表面のじんあいによる記録再生特性
の劣化を防止するために、記録再生は前記光デイ
スクのトラツキング溝を有する透明基板３１側よ
り矢印Ａで示すレーザ光等の光ビームを記録膜に
照射して行なう。この時、透明基板３１の光入射
端で光ビーム径を充分大きくし、じんあいによる
影響を除くために透明基板の厚さは１mm前後に設
定される。
の劣化を防止するために、記録再生は前記光デイ
スクのトラツキング溝を有する透明基板３１側よ
り矢印Ａで示すレーザ光等の光ビームを記録膜に
照射して行なう。この時、透明基板３１の光入射
端で光ビーム径を充分大きくし、じんあいによる
影響を除くために透明基板の厚さは１mm前後に設
定される。
また、透明基板上に下地層、記録膜を形成した
もの２枚を記録膜が向い合うように接着剤で貼り
合わせ、両面において記録可能な構造として用い
る場合もある。
もの２枚を記録膜が向い合うように接着剤で貼り
合わせ、両面において記録可能な構造として用い
る場合もある。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、前記のような構成の光デイスク
では、光入射用の透明基板自身にトラツキング溝
が形成されているため、透明基板は光学特性、耐
湿性、耐熱性に加えて溝成形性に優れていること
が要求され、そのような要求を充分に満たす透明
基板が得られていない。すなわち、従来の光デイ
スクの溝付透明基板として用いられているアクリ
ル樹脂の場合は溝成形性、光学特性に優れている
が耐湿性、耐熱性に劣つており、ポリカーボネイ
ト樹脂の場合は耐熱性、溝成形性に優れている
が、複屈折などの光学特性に劣つており、エポキ
シ樹脂およびガラスの場合は光学特性、耐熱性に
優れているが、溝成形性に劣つているという問題
点を有していた。
では、光入射用の透明基板自身にトラツキング溝
が形成されているため、透明基板は光学特性、耐
湿性、耐熱性に加えて溝成形性に優れていること
が要求され、そのような要求を充分に満たす透明
基板が得られていない。すなわち、従来の光デイ
スクの溝付透明基板として用いられているアクリ
ル樹脂の場合は溝成形性、光学特性に優れている
が耐湿性、耐熱性に劣つており、ポリカーボネイ
ト樹脂の場合は耐熱性、溝成形性に優れている
が、複屈折などの光学特性に劣つており、エポキ
シ樹脂およびガラスの場合は光学特性、耐熱性に
優れているが、溝成形性に劣つているという問題
点を有していた。
問題点を解決するための手段
この目的を達成するために本発明の光デイスク
は、記録膜をその上に形成するトラツキング溝付
基板と光入射用の透明板を別に設け、それぞれ機
能分担させた構成になつている。
は、記録膜をその上に形成するトラツキング溝付
基板と光入射用の透明板を別に設け、それぞれ機
能分担させた構成になつている。
作 用
トラツキング溝の成形性に優れたアクリル樹
脂、ポリスチロール樹脂、アクリルスチロール樹
脂（AS樹脂）、アクリルブタジエンスチロール樹
脂（ABS樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂のいずれかを記録膜形成用溝付基板とし
て用い、複屈折などの光学特性、耐湿性、耐熱性
に優れたシリコーンゴム、エポキシ樹脂、ガラス
のいずれかを光入射用の透明板として用いること
によつて機能分担させ、成形性の良いトラツキン
グ溝を有し、光学特性、信頼性に優れた光デイス
クを実現するものである。
脂、ポリスチロール樹脂、アクリルスチロール樹
脂（AS樹脂）、アクリルブタジエンスチロール樹
脂（ABS樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂のいずれかを記録膜形成用溝付基板とし
て用い、複屈折などの光学特性、耐湿性、耐熱性
に優れたシリコーンゴム、エポキシ樹脂、ガラス
のいずれかを光入射用の透明板として用いること
によつて機能分担させ、成形性の良いトラツキン
グ溝を有し、光学特性、信頼性に優れた光デイス
クを実現するものである。
実施例
以下本発明の一実施例について、図面を参照し
ながら説明する。第１図は本発明の一実施例にお
ける光デイスクの構成図である。第１図におい
て、１１はアクリル樹脂で形成され、トラツキン
グの溝を有する溝付基板、１２は下地層および保
護被覆層を形成するSiO膜、１３は記録膜の
TbFe，GdTbFe，TbFeCoなどの希土類−遷移
金属系フエリ磁性膜、１４はシリコーンゴムから
なる光入射用透明板である。
ながら説明する。第１図は本発明の一実施例にお
ける光デイスクの構成図である。第１図におい
て、１１はアクリル樹脂で形成され、トラツキン
グの溝を有する溝付基板、１２は下地層および保
護被覆層を形成するSiO膜、１３は記録膜の
TbFe，GdTbFe，TbFeCoなどの希土類−遷移
金属系フエリ磁性膜、１４はシリコーンゴムから
なる光入射用透明板である。
アクリル樹脂の溝付基板１１上に蒸着法および
スパツタ法によりSiO膜１２（30〜100nm）、希
土類−遷移金属系フエリ磁性膜１３（100nm）、
SiO膜１２（30〜100nm）の順に形成後、透明液
状のシリコーンゴムを光入射側の厚さが1.2mmに
なるように平板状に成形固化させた構成になつて
いる。
スパツタ法によりSiO膜１２（30〜100nm）、希
土類−遷移金属系フエリ磁性膜１３（100nm）、
SiO膜１２（30〜100nm）の順に形成後、透明液
状のシリコーンゴムを光入射側の厚さが1.2mmに
なるように平板状に成形固化させた構成になつて
いる。
第１図に示した本実施例による光デイスクは、
トラツキング溝形成に成形性の良いアクリル樹脂
を用いているので、トラツキング安定性、信号品
質に優れており、一方、光投入側に複屈折が小さ
く、耐湿性、耐熱性の良いシリコーンゴムを用い
ているので信号品質、信頼性に優れている。これ
によつて、トラツキング溝付透明基板側から光を
入射して記録再生を行なう従来の光デイスクに比
較してSN比が約3dB向上した。また、温度60℃、
湿度90％の環境試験の結果、従来の比デイスクは
500時間以内にソリなどの変形や記録膜の劣化な
どによるデイフエクトの増加などが発生したが、
本実施例による比デイスクでは1000時間経過後も
不良発生はなかつた。
トラツキング溝形成に成形性の良いアクリル樹脂
を用いているので、トラツキング安定性、信号品
質に優れており、一方、光投入側に複屈折が小さ
く、耐湿性、耐熱性の良いシリコーンゴムを用い
ているので信号品質、信頼性に優れている。これ
によつて、トラツキング溝付透明基板側から光を
入射して記録再生を行なう従来の光デイスクに比
較してSN比が約3dB向上した。また、温度60℃、
湿度90％の環境試験の結果、従来の比デイスクは
500時間以内にソリなどの変形や記録膜の劣化な
どによるデイフエクトの増加などが発生したが、
本実施例による比デイスクでは1000時間経過後も
不良発生はなかつた。
なお、本実施例では記録形成用の溝付基板１１
をアクリル樹脂、下地層および保護被覆層をSiO
膜１２、記録膜を希土類−遷移金属系フエリ磁性
膜１３、光入射用透明板１４をシリコーンゴムで
形成したが、記録膜形成用の溝付基板１１はポリ
スチレン樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリカーボネート樹脂のいずれか、下地層
および保護被覆層は各種の窒化膜や酸化膜、記録
膜はテルル系合金膜または熱可塑性樹脂膜、光入
射用透明板は光入射側の厚さが0.8mm〜1.6mmの範
囲、材質がエポキシ樹脂またはガラスでもよい。
ガラスを光入射用透明板とした場合は、記録膜お
よび溝付基板を両側からガラスで挟む形にエポキ
シ系接着剤で接着するか、ハーメチツクシールな
どの方法で封着する。
をアクリル樹脂、下地層および保護被覆層をSiO
膜１２、記録膜を希土類−遷移金属系フエリ磁性
膜１３、光入射用透明板１４をシリコーンゴムで
形成したが、記録膜形成用の溝付基板１１はポリ
スチレン樹脂、AS樹脂、ABS樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリカーボネート樹脂のいずれか、下地層
および保護被覆層は各種の窒化膜や酸化膜、記録
膜はテルル系合金膜または熱可塑性樹脂膜、光入
射用透明板は光入射側の厚さが0.8mm〜1.6mmの範
囲、材質がエポキシ樹脂またはガラスでもよい。
ガラスを光入射用透明板とした場合は、記録膜お
よび溝付基板を両側からガラスで挟む形にエポキ
シ系接着剤で接着するか、ハーメチツクシールな
どの方法で封着する。
尚、第２図は本発明の第２の実施例を示すもの
で、トラツキング溝付基板２１の両面に、下地層
２２ａおよび保護被覆層２２ｂを設け、下地層２
２ａと保護被覆層２２ｂの間に記録膜２３を設け
るとともに、これらに光入射用透明板２４を平板
状に成形固化させた構成とし、両面記録再生可能
な光デイスクとすることもできる。尚、材料等に
ついては第１の実施例の材料を用いて構成でき
る。
で、トラツキング溝付基板２１の両面に、下地層
２２ａおよび保護被覆層２２ｂを設け、下地層２
２ａと保護被覆層２２ｂの間に記録膜２３を設け
るとともに、これらに光入射用透明板２４を平板
状に成形固化させた構成とし、両面記録再生可能
な光デイスクとすることもできる。尚、材料等に
ついては第１の実施例の材料を用いて構成でき
る。
尚、各図において、矢印Ａはレーザ光を示す。
発明の効果
本発明は記録膜形成用のトラツキング溝付基板
と光入射用の透明板を別に設けることによつて機
能分担させ、トラツキング安定性、信号品質およ
び信頼性に優れた光デイスクを実現できるもので
ある。
と光入射用の透明板を別に設けることによつて機
能分担させ、トラツキング安定性、信号品質およ
び信頼性に優れた光デイスクを実現できるもので
ある。
第１図は本発明の一実施例における光デイスク
の断面図、第２図は本発明の他の実施例における
光デイスクの断面図、第３図は従来の光デイスク
の断面図である。 １１……溝付基板、１２……SiO膜、１３……
希土類−遷移金属系フエリ磁性膜、１４……光入
射用透明板、２１……トラツキング溝付基板、２
２ａ……下地層、２２ｂ……保護被覆層、２３…
…記録膜、２４……光入射用透明板。
の断面図、第２図は本発明の他の実施例における
光デイスクの断面図、第３図は従来の光デイスク
の断面図である。 １１……溝付基板、１２……SiO膜、１３……
希土類−遷移金属系フエリ磁性膜、１４……光入
射用透明板、２１……トラツキング溝付基板、２
２ａ……下地層、２２ｂ……保護被覆層、２３…
…記録膜、２４……光入射用透明板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 成形性に優れた材料からなり、トラツキング
溝を有する基板上に記録膜を形成し、前記記録膜
に対して前記基板の反対側、若しくは、前記基板
と前記記録膜を包囲するように光学特性、耐湿
性、耐熱性に優れた材料からなる透明板を設け、
前記記録膜に対して前記基板の反対側から光を入
射して記録再生を行なうように構成したことを特
徴とする光デイスク。 ２ 透明板としてシリコーンゴム、エポキシ樹
脂、ガラスのいずれかを用いたことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の光デイスク。 ３ 基板としてアクリル樹脂、ポリスチロール樹
脂、アクリルスチロール樹脂、アクリルブタジエ
ンスチロール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂のいずれかを用いたことを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の光デイスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60100726A JPS61258348A (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 光デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60100726A JPS61258348A (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61258348A JPS61258348A (ja) | 1986-11-15 |
| JPH0553023B2 true JPH0553023B2 (ja) | 1993-08-09 |
Family
ID=14281621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60100726A Granted JPS61258348A (ja) | 1985-05-13 | 1985-05-13 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61258348A (ja) |
-
1985
- 1985-05-13 JP JP60100726A patent/JPS61258348A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61258348A (ja) | 1986-11-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |