JPH0554681A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0554681A
JPH0554681A JP21772591A JP21772591A JPH0554681A JP H0554681 A JPH0554681 A JP H0554681A JP 21772591 A JP21772591 A JP 21772591A JP 21772591 A JP21772591 A JP 21772591A JP H0554681 A JPH0554681 A JP H0554681A
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sense amplifier
output
level
channel mos
semiconductor memory
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Tatsuo Sato
辰男 佐藤
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent outputting erroneous data even though a memory cell makes an erroneous selection by detecting an address change and controlling the output level of a sense amplifier through a P channel transistor(TR). CONSTITUTION:A sense amplifier consists of P channel TR1 and 2, which configure a current mirror circuit, N channel TR3 and 4 which are serially connected to the N channel TRs and a complementary inverter 5 and the output of the sense amplifier is outputted through an output buffer 19. When an address detecting circuit 18 detects an address change, a P channel TR16 is turned off, the TR2 is turned off through a P channel TR17, the output level of the sense amplifier is reduced and an erroneous data output is prevented during an erroneous selection of the memory cell.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体メモリ装置に関
し、特に不揮発性メモリを含む半導体メモリ装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device including a non-volatile memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、不揮発性メモリを含む半導体メ
モリ装置においては、メモリセルに流れる微小電流の有
無を感知して、電気的にハイレベルまたはロウレベルの
信号を出力する電流検知型のセンスアンプ回路が用いら
れている。
2. Description of the Related Art Generally, in a semiconductor memory device including a non-volatile memory, a current detection type sense amplifier circuit that senses the presence or absence of a minute current flowing in a memory cell and electrically outputs a high level or low level signal. Is used.

【0003】図3は、従来の電流検知型のセンスアンプ
回路を含む半導体メモリ装置を示す回路図である。図3
に示されるように、従来の半導体メモリ装置は、ディジ
ット線205、206、207および208に対応し
て、カレントミラー回路を形成するPチャネルMOSト
ランジスタ24および25と、それぞれPチャネルMO
Sトランジスタ24および25に対して直列に接続され
るNチャネルMOSトランジスタ26および27と、N
チャネルMOSトランジスタ26のソース・ゲート間に
接続される相補型インバータ28とにより形成されるセ
ンスアンプ回路と、それぞれメモリセル選択信号10
7、108、109、110および111に対応するN
チャネルMOSトランジスタ29、30、31および3
3、32および34、およびメモセル35〜38と、出
力バッファ39とを備えて構成されている。 なお、図
3において、40、41、42および43として示され
るのは、それぞれディジット線205、206、207
および208の寄生容量である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a semiconductor memory device including a conventional current detection type sense amplifier circuit. Figure 3
As shown in FIG. 3, the conventional semiconductor memory device corresponds to the digit lines 205, 206, 207 and 208, and includes P channel MOS transistors 24 and 25 forming a current mirror circuit and a P channel MO transistor, respectively.
N channel MOS transistors 26 and 27 connected in series to S transistors 24 and 25, and N
A sense amplifier circuit formed by a complementary inverter 28 connected between the source and gate of the channel MOS transistor 26 and a memory cell selection signal 10 respectively.
N corresponding to 7, 108, 109, 110 and 111
Channel MOS transistors 29, 30, 31 and 3
3, 32 and 34, memo cells 35 to 38, and an output buffer 39. It should be noted that in FIG. 3, reference numerals 40, 41, 42 and 43 denote digit lines 205, 206 and 207, respectively.
And the parasitic capacitances of 208.

【0004】図3において、PチャネルMOSトランジ
スタ24および25と、NチャネルMOSトランジスタ
26および27と、インバータ28とにより形成される
センスアンプ回路の出力は、PチャネルMOSトランジ
スタ25とNチャネルMOSトランジスタ27とのドレ
イン接続点Eから取出され、出力バッファ39を介して
出力信号112として出力される。
In FIG. 3, the output of the sense amplifier circuit formed by P channel MOS transistors 24 and 25, N channel MOS transistors 26 and 27, and inverter 28 is P channel MOS transistor 25 and N channel MOS transistor 27. It is taken out from the drain connection point E of and and outputted as an output signal 112 via the output buffer 39.

【0005】メモリ領域においては、ディジット線20
5〜208のそれぞれにメモリセル35〜38が接続さ
れており、各ディジット線と接続点CおよびDとの間に
接続されている第2Yセレクタを形成するNチャネルM
OSトランジスタ31〜34により、一つのディジット
線が選択される。また、接続点CおよびDと接続点Bと
の間には、第1Yセレクタを形成するNチャネルMOS
トランジスタ29および30が接続されており、ディジ
ット線205〜208には、それぞれに寄生容量40〜
43が介在している。また、図3において、VDDおよび
EEは、それぞれ電源電圧および基準電圧を示してい
る。
In the memory area, the digit line 20
Memory cells 35-38 are connected to each of 5-208 and N-channel M forming a second Y selector connected between each digit line and connection points C and D.
One digit line is selected by the OS transistors 31 to 34. Further, an N-channel MOS forming a first Y selector is provided between the connection points C and D and the connection point B.
Transistors 29 and 30 are connected, and parasitic capacitances 40 to 40 are respectively connected to the digit lines 205 to 208.
43 is interposed. Further, in FIG. 3, V DD and V EE indicate the power supply voltage and the reference voltage, respectively.

【0006】図3に示されるセンスアンプ回路において
は、センスアンプ回路の出力レベル(接続点Eのレベ
ル)は、PチャネルMOSトランジスタ25の相互コン
ダクタンスgm25 とNチャネルMOSトランジスタ27
の相互コンダクタンスgm27 の比により決定される。即
ち、gm25>gm27 の時には、センスアンプ回路の出力
レベルはハイレベルとなり、逆に、gm25 <gm27 の時
には、センスアンプ回路の出力レベルはロウレベルとな
る。
In the sense amplifier circuit shown in FIG. 3, the output level of the sense amplifier circuit (the level of the connection point E) is the mutual conductance g m25 of the P channel MOS transistor 25 and the N channel MOS transistor 27.
Is determined by the ratio of the transconductances g m27 of That is, when g m25 > g m27 , the output level of the sense amplifier circuit becomes high level, and conversely, when g m25 <g m27 , the output level of the sense amplifier circuit becomes low level.

【0007】図4(a)、(b)、(c)、(d)、
(e)、(f)および(g)は、図3に示される従来の
半導体メモリ装置において、前記第1Yセレクタのみを
切替えて、その時の切替えられた二つのメモリセルの記
憶情報が、共にしきい値電圧を高く保持されて、常にオ
フ状態のセル(以下、オフセルと云う)となる場合の動
作波形図である。図4より明らかなように、メモリセル
選択信号110および111がハイレベルに固定され、
またメモリセル選択信号109がロウレベルに固定され
て、メモリセル選択信号107がロウレベルからハイレ
ベルに切替えられ、またメモリセル選択信号108がハ
イレべルからロウレベルに切替えられた場合(第1Yセ
レクタのみが切替えられた場合に相当する)には、メモ
リセルの選択としては、メモリセル38からメモリセル
36に切替えられ、各接続点の動作は図4(f)に示さ
れるようになる。即ち、接続点Bのレベルがディジット
線206の寄生容量41を充電するために一瞬低下し、
ディジット線206の寄生容量41に対する充電が完了
した後に、安定したレベルに復帰する。そして、接続点
Aのレベルも、接続点Bのレベルに追随して、ディジッ
ト線206の寄生容量41の充電期間中には低下するた
めに、PチャネルMOSトランジスタ25の相互コンダ
クタンスgm25 の値が増大し、このため瞬間的にgm25
>gm27 となり、センスアンプ回路の出力(接続点Eの
レベル)は一時的にロウレベルから浮上する。しかしな
がら、その浮上するレベルは、VDD/2以下のレベルで
あるため、センスアンプ回路の次段の出力バッファ39
からの出力信号112(図4(g)参照)のレベルは、
一時的に浮上はするものの反転するレベルにまでは到達
することはない。
4 (a), (b), (c), (d),
(E), (f), and (g) are the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 3, in which only the first Y selector is switched and the stored information of the two switched memory cells at the same time is shared. FIG. 9 is an operation waveform diagram in the case where a threshold voltage is kept high and a cell is always in an off state (hereinafter referred to as an off cell). As is clear from FIG. 4, the memory cell selection signals 110 and 111 are fixed to the high level,
Further, when the memory cell selection signal 109 is fixed to the low level, the memory cell selection signal 107 is switched from the low level to the high level, and the memory cell selection signal 108 is switched from the high level to the low level (only the first Y selector is (Corresponding to the case of switching), the memory cell selection is switched from the memory cell 38 to the memory cell 36, and the operation of each connection point is as shown in FIG. 4 (f). That is, the level of the connection point B is momentarily lowered to charge the parasitic capacitance 41 of the digit line 206,
After the charging of the parasitic capacitance 41 of the digit line 206 is completed, it returns to a stable level. The level of the connection point A also follows the level of the connection point B and decreases during the charging period of the parasitic capacitance 41 of the digit line 206. Therefore , the value of the mutual conductance g m25 of the P-channel MOS transistor 25 is reduced. Increased, and thus momentarily g m25
> G m27 , and the output of the sense amplifier circuit (level at the connection point E) temporarily rises from the low level. However, since the floating level is a level equal to or lower than V DD / 2, the output buffer 39 in the next stage of the sense amplifier circuit is
The level of the output signal 112 (see FIG. 4 (g)) from
Although it temporarily rises, it does not reach the level at which it reverses.

【0008】なお、上記の説明においては触れていない
が、前記第2Yセレクタのみの切替えの場合において
も、各接続点の動作は、前述の第1Yセレクタのみの切
替えの場合と同様である。
Although not mentioned in the above description, in the case of switching only the second Y selector, the operation of each connection point is the same as in the case of switching only the first Y selector.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
メモリ装置においては、第1Yセレクタのみ、または第
2Yセレクタのみの、それぞれ単独にて切替えが行われ
る場合においては、出力レベルの反転という問題は起き
ないが、第1Yセレクタと第2Yセレクタを一緒に切替
えた場合には、実際には第1Yセレクタと第2Yセレク
タは同時には切替えられず、何れか一方のセレクタの切
替えに多少の遅延があるために、その遅延により、ディ
ジット線が切替えられる時には、一時的に選択すべきデ
ィジット線と異なるディジット線が選択されるという事
態が生ずる。
In the above-described conventional semiconductor memory device, in the case where only the first Y selector or only the second Y selector is independently switched, the problem of the output level inversion occurs. Although it does not happen, when the first Y selector and the second Y selector are switched together, the first Y selector and the second Y selector are not actually switched at the same time, and there is some delay in switching one of the selectors. Therefore, due to the delay, when a digit line is switched, a digit line different from the digit line to be temporarily selected is selected.

【0010】図5(a)、(b)、(c)、(d)、
(e)、(f)および(g)に示されるのは、第1Yセ
レクタおよび第2Yセレクタを同時に切替えた場合の動
作を示す波形図であり、図5(a)、(b)、(c)お
よび(d)には、両Yセレクタの同時切替えに応じて、
メモリセル選択信号107および109がロウレベルか
らハイレベルに、そしてメモリセル選択信号108およ
び110がハイレベルからロウレベルに切替えられた場
合に、メモリセル選択信号107に対してメモリセル選
択信号109が遅れてレベル転移し、またメモリセル選
択信号108に対してメモリセル選択信号110が遅れ
てレベル転移する状況における各部の出力波形が示され
ている。
5 (a), (b), (c), (d),
(E), (f) and (g) are waveform charts showing the operation when the first Y selector and the second Y selector are switched at the same time, and FIGS. ) And (d), depending on the simultaneous switching of both Y selectors,
When the memory cell selection signals 107 and 109 are switched from low level to high level and the memory cell selection signals 108 and 110 are switched from high level to low level, the memory cell selection signal 109 is delayed with respect to the memory cell selection signal 107. The output waveforms of the respective parts in the situation where the level transition occurs and the memory cell selection signal 110 delays with respect to the memory cell selection signal 108 and the level transitions are shown.

【0011】図5において、メモリセル選択信号107
および108が切替えられた後に、一瞬遅れてメモリセ
ル選択信号109および110が切替えられる場合に
は、選択される対象のメモリセル38がメモリセル35
に切替えられるまでの間において、一旦メモリセル36
が選択されることになる。従って、先ずメモリセル36
が選択されるために、ディジット線206の寄生容量4
1が充電され、接続点Bのレベルが一瞬ロウレベルに向
って低下する。続いて、ディジット線206の寄生容量
に対する充電が完了するかしないかの内に、メモリセル
35が選択されるために、更にディジット線205の寄
生容量40を充電することになり、接続点Bのレベルは
更に低下する。そして、ディジット線205の寄生容量
に対する充電が完了した後に、接続点Bのレベルは元の
安定したレベルに戻る。この場合においても、接続点A
のレベルは接続点Bのレベルに追随して変化し、ディジ
ット線206の寄生容量41およびディジット線205
の寄生容量40に対する充電期間中に、前述の第1Yセ
レクタのみの切替えの場合よりも更にレベルが低下し、
このために、センスアンプ回路の出力(接続点Eのレベ
ル)は、一時的にVDD/2のレベルを越える状態とな
る。このために、接続点Eの出力レベルに追随して、一
時的に出力信号112(図5(g)参照)が反転して、
所謂「出力データのひげ」と云われる誤データが発生さ
れる。
In FIG. 5, the memory cell selection signal 107
When the memory cell selection signals 109 and 110 are switched with a momentary delay after the switching of the memory cells 35 and 108, the target memory cell 38 to be selected is the memory cell 35.
Until the memory cell 36
Will be selected. Therefore, first, the memory cell 36
Is selected, the parasitic capacitance 4 of the digit line 206 is
1 is charged, and the level at the connection point B momentarily decreases toward the low level. Subsequently, whether or not the charging of the parasitic capacitance of the digit line 206 is completed or not, the parasitic capacitance 40 of the digit line 205 is further charged because the memory cell 35 is selected. The level will drop further. Then, after the charging of the parasitic capacitance of the digit line 205 is completed, the level at the connection point B returns to the original stable level. Even in this case, the connection point A
Changes in accordance with the level of the connection point B, and the parasitic capacitance 41 of the digit line 206 and the digit line 205.
During the charging period for the parasitic capacitance 40 of, the level is further reduced as compared with the case of switching only the first Y selector described above,
Therefore, the output of the sense amplifier circuit (the level at the connection point E) temporarily exceeds the level of V DD / 2. Therefore, following the output level of the connection point E, the output signal 112 (see FIG. 5 (g)) is temporarily inverted,
False data called "whisker of output data" is generated.

【0012】即ち、第1Yセレクタと第2Yセレクタを
一緒に切替えた場合には、ディジット線が切替えられる
時に一時的に選択すべきディジット線と異なるディジッ
ト線が選択される事態が生じ、その結果として誤データ
が出力されるという欠点がある。
That is, when the first Y selector and the second Y selector are switched together, a situation occurs in which a digit line different from the digit line to be temporarily selected is selected when the digit line is switched. As a result, There is a drawback that erroneous data is output.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ装
置は、電流検知型のセンスアンプ回路を備え、不揮発性
半導体メモリにより形成される半導体メモリ装置におい
て、アドレス切替えに伴なうアドレス変化を検出して、
所定レベルのアドレス検知信号を出力する手段と、前記
アドレス検知信号を受けて、前記センスアンプ回路の出
力レベルを抑制するように制御調整するセンスアンプ出
力制御手段とを、少なくとも備えて構成される。
A semiconductor memory device of the present invention includes a current detection type sense amplifier circuit and detects an address change accompanying address switching in a semiconductor memory device formed of a non-volatile semiconductor memory. do it,
At least a means for outputting an address detection signal of a predetermined level and a sense amplifier output control means for receiving the address detection signal and controlling and adjusting the output level of the sense amplifier circuit are controlled.

【0014】なお、前記センスアンプ出力制御手段によ
る出力レベル制御調整作用は、直列接続されて前記セン
スアンプ回路の出力段を形成する2個のトランジスタの
相互コンダンクタンス比を制御調整することにより行わ
れてもよく、また前記センスアンプ回路の出力段は、ソ
ースが高電位側の電源に接続され、ドレインが出力端に
接続されて、ゲートに所定の入力信号が入力されるPチ
ャネルMOSトランジスタと、ドレインが前記出力端に
接続され、ソースが低電位側の電源に接続されて、ゲー
トに所定の基準電位が供給されるNチャネルMOSトラ
ンジスタと、により形成し、前記センスアンプ出力制御
手段は、ソースが前記高電位側の電源に接続され、ゲー
トに前記アドレス検知信号が入力される第1のPチャネ
ルMOSトランジスタと、ソースが前記第1のPチャネ
ルMOSトランジスタのドレインに接続され、ドレイン
が前記出力端に接続されて、ゲートに前記所定の入力信
号が入力される第2のPチャネルMOSトランジスタ
と、により形成してもよい。
The output level control adjusting operation by the sense amplifier output control means is performed by controlling and adjusting the mutual conductance ratio of two transistors connected in series to form the output stage of the sense amplifier circuit. In the output stage of the sense amplifier circuit, a source is connected to a power supply on the high potential side, a drain is connected to an output end, and a P-channel MOS transistor whose gate receives a predetermined input signal is provided. An N-channel MOS transistor having a drain connected to the output end, a source connected to a low-potential-side power supply, and a gate supplied with a predetermined reference potential, the sense amplifier output control means comprising: A first P-channel MOS transistor whose source is connected to the power source on the high potential side and whose gate receives the address detection signal. And a second P-channel MOS transistor having a source connected to the drain of the first P-channel MOS transistor, a drain connected to the output end, and a gate to which the predetermined input signal is input. It may be formed.

【0015】[0015]

【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

【0016】図1は本発明の一実施例を示すブロック図
である。図1に示されるように、本実施例は、ディジッ
ト線201、202、203および204に対応して、
カレントミラー回路を形成するPチャネルMOSトラン
ジスタ1および2と、それぞれPチャネルMOSトラン
ジスタ1および2に対して直列に接続されるNチャネル
MOSトランジスタ3および4と、NチャネルMOSト
ランジスタ3のソース・ゲート間に接続される相補型イ
ンバータ5とにより形成されるセンスアンプ回路と、ア
ドレス変化の検出出力を受けて、前記センスアンプ回路
の出力レベルを制御するPチャネルMOSトランジスタ
16および17と、それぞれメモリセル選択信号10
1、102、103、104および105に対応するN
チャネルMOSトランジスタ6、7、8および10、9
および11、およびメモセル12〜15と、アドレス変
化検知回路18と、出力バッファ19とを備えて構成さ
れている。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, this embodiment corresponds to the digit lines 201, 202, 203 and 204.
Between P-channel MOS transistors 1 and 2 forming a current mirror circuit, N-channel MOS transistors 3 and 4 connected in series to P-channel MOS transistors 1 and 2, respectively, and between the source and gate of N-channel MOS transistor 3. Sense amplifier circuit formed by the complementary inverter 5 connected to the P-channel MOS transistors 16 and 17 for controlling the output level of the sense amplifier circuit by receiving the detection output of the address change, and memory cell selection respectively. Signal 10
N corresponding to 1, 102, 103, 104 and 105
Channel MOS transistors 6, 7, 8 and 10, 9
11 and 11, memory cells 12 to 15, an address change detection circuit 18, and an output buffer 19.

【0017】なお、図1において、20、21、22お
よび23として示されるのは、それぞれディジット線2
01、202、203および204の寄生容量である。
In FIG. 1, reference numerals 20, 21, 22 and 23 denote digit lines 2 respectively.
The parasitic capacitances of 01, 202, 203 and 204.

【0018】上記のセンスアンプ回路の出力は、Pチャ
ネルMOSトランジスタ2とNチャネルMOSトランジ
スタ4とのドレイン接続点Eから取出され、出力バッフ
ァ19をを介して出力信号106として出力される。ま
た、PチャネルMOSトランジスタ17は、Pチャネル
MOSトランジスタ16がオンしている状態において
は、PチャネルMOSトランジスタ2と並列接続されて
動作する形になり、センスアンプ回路の出力レベルはよ
りハイレベルとなるが、アドレス変化検知回路18にお
いてアドレスの変化が検出され、正方向に立上るパルス
信号が出力されると、PチャネルMOSトランジスタ1
6がオフするために、センスアンプ回路の出力レベルは
低下する。
The output of the above sense amplifier circuit is taken out from the drain connection point E between the P-channel MOS transistor 2 and the N-channel MOS transistor 4, and is output as the output signal 106 via the output buffer 19. Further, the P-channel MOS transistor 17 is operated in parallel with the P-channel MOS transistor 2 when the P-channel MOS transistor 16 is on, and the output level of the sense amplifier circuit becomes higher. However, when the address change detection circuit 18 detects an address change and outputs a pulse signal rising in the positive direction, the P-channel MOS transistor 1
Since 6 is turned off, the output level of the sense amplifier circuit decreases.

【0019】メモリ領域においては、前述の従来例の場
合と同様に、ディジット線201〜204のそれぞれに
メモリセル12〜15が接続されており、各ディジット
線と接続点CおよびDとの間に接続されている第2Yセ
レクタを形成するNチャネルMOSトランジスタ8〜1
1により、一つのディジット線が選択される。また、接
続点CおよびDと接続点Bとの間には、第1Yセレクタ
を形成するNチャネルMOSトランジスタ6および7が
接続されており、ディジット線201〜204には、そ
れぞれに寄生容量20〜23が介在している。なお、こ
のメモリ領域における第1Yセレクタおよび第2Yセレ
クタの切替え動作については、前述の従来例の場合と同
様であり、その説明は省略する。
In the memory area, memory cells 12 to 15 are connected to the digit lines 201 to 204, respectively, as in the case of the above-mentioned conventional example, and between each digit line and the connection points C and D. N-channel MOS transistors 8 to 1 forming a connected second Y selector
By 1, one digit line is selected. Further, N-channel MOS transistors 6 and 7 forming a first Y selector are connected between the connection points C and D and the connection point B, and the digit lines 201 to 204 have parasitic capacitances 20 to 20 respectively. 23 intervenes. The switching operation of the first Y selector and the second Y selector in this memory area is the same as in the case of the above-mentioned conventional example, and the description thereof will be omitted.

【0020】また、図2(a)、(b)、(c)、
(d)、(e)、(f)、(g)および(h)は、第1
Yセレクタおよび第2Yセレクタを一緒に切替えて、そ
の時点において切替えられたメモリセルの情報が、共に
オフセルである場合の各メモリセル選択信号101、1
02、103、104および105と、各接続点におけ
るレベル状態とを示す動作波形図である。図2(a)、
(b)、(c)、(d)、(e)、(f)、(g)およ
び(h)に示されるように、アドレス変化検知回路18
の出力信号(接続点Fのレベル)は常時はロウレベルで
あるが、アドレスが変化した時には、所定の時間の間ハ
イレベルの信号として出力される(図2(f)を参
照)。また、本実施例におけるセンスアンプ回路におい
ては、PチャネルMOSトランジスタ2とPチャネルM
OSトランジスタ17の相互コンダクタンスの和g
m2・17 と、NチャネルMOSトランジスタ4の相互コン
ダクタンスgm4との比により、センスアンプ回路の出力
レベル(接続点Eのレベル)が決定されるが、上述した
ように、PチャネルMOSトランジスタ16のオン・オ
フに関連して、アドレス変化検知回路18の出力レベル
(接続点Fのレベル)がハイレベルの時間帯において
は、PチャネルMOSトランジスタ16はオフとなり、
PチャネルMOSトランジスタ17には電源電圧VDD
供給されない。従って、この時間帯におけるセンスアン
プ回路の出力は、PチャネルMOSトランジスタ2単独
の相互コダンダクタンスgm2と、NチャネルMOSトラ
ンジスタ4の相互コンダクタンスgm4の比により決定さ
れる。上述のPチャネルMOSトランジスタ2とPチャ
ネルMOSトランジスタ17の相互コンダクタンスの和
gm2・17と、NチャネルMOSトランジスタ4の相互コン
ダクタンスgm4との間には、ggm2・17>gm4という関係
があり、従って、アドレス変化検知回路18の出力レベ
ル(接続点Fのレベル)がロウレベルの時間帯において
は、センスアンプ回路の出力レベル(接続点Eのレベ
ル)はハイレベルとなるが、逆に、アドレス変化検知回
路18の出力レベル(接続点Fのレベル)がハイレベル
の時間帯においては、センスアンプ回路の出力レベル
(接続点Eのレベル)はロウレベルとなる。
Further, FIGS. 2 (a), 2 (b), 2 (c),
(D), (e), (f), (g) and (h) are the first
The Y-selector and the second Y-selector are switched together, and the memory cell selection signals 101, 1 when the information of the memory cells switched at that time are both OFF cells
FIG. 10 is an operation waveform diagram showing 02, 103, 104 and 105 and the level state at each connection point. 2 (a),
As shown in (b), (c), (d), (e), (f), (g) and (h), the address change detection circuit 18
The output signal (level of the connection point F) is normally low level, but when the address changes, it is output as a high level signal for a predetermined time (see FIG. 2 (f)). Further, in the sense amplifier circuit of this embodiment, the P-channel MOS transistor 2 and the P-channel M
Sum of mutual conductance of OS transistor 17 g
The output level of the sense amplifier circuit (the level at the connection point E) is determined by the ratio of m2 · 17 and the mutual conductance g m4 of the N-channel MOS transistor 4, but as described above, In connection with turning on / off, the P-channel MOS transistor 16 is turned off in the time zone when the output level of the address change detection circuit 18 (level of the connection point F) is high level,
The power supply voltage V DD is not supplied to the P-channel MOS transistor 17. Therefore, the output of the sense amplifier circuit in this time zone is determined by the ratio of the mutual conductance g m2 of the P channel MOS transistor 2 alone and the mutual conductance g m4 of the N channel MOS transistor 4. Sum of mutual conductances of the P-channel MOS transistor 2 and the P-channel MOS transistor 17 described above.
There is a relation of gg m2 · 17 > g m4 between g m2 · 17 and the mutual conductance g m4 of the N-channel MOS transistor 4, and therefore the output level of the address change detection circuit 18 (the level at the connection point F). ) Is low level, the output level of the sense amplifier circuit (level of connection point E) is high level, but conversely, the output level of the address transition detection circuit 18 (level of connection point F) is high level. In the time zone of, the output level of the sense amplifier circuit (level of the connection point E) is low level.

【0021】この場合においては、図2(g)に示され
るように、そのレベルとしてはVDD/2の電位を越える
ことはない。これにより、アドレスの切替え時に、仮に
誤ったメモリセルが一時的に選択されることがあって
も、センスアンプ回路の出力レベルがVDD/2を越える
ことがなく、出力信号106にレベル反転が生じる事態
が回避されて、誤りデータの出力が抑制される。
In this case, as shown in FIG. 2 (g), the level does not exceed the potential of V DD / 2. As a result, even if an erroneous memory cell is temporarily selected at the time of address switching, the output level of the sense amplifier circuit does not exceed V DD / 2, and the level of the output signal 106 is inverted. The situation that occurs is avoided, and the output of erroneous data is suppressed.

【発明の効果】以上説明したように、本発明は、電源と
センスアンプ回路の出力点との間に、アドレスの変化に
対応する一定時間の間オフ状態に設定されるトランジス
タを設け、アドレス切替え時に当該センスアンプ回路の
出力レベルを低減させることにより、メモリセルの誤選
択が発生する事態においても、誤りデータの出力を抑制
することができるという効果がある。
As described above, according to the present invention, between the power supply and the output point of the sense amplifier circuit, the transistor which is set to the off state for a fixed time corresponding to the change of the address is provided to switch the address. Sometimes, by reducing the output level of the sense amplifier circuit, it is possible to suppress the output of erroneous data even when a memory cell is erroneously selected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】本実施例における動作波形図である。FIG. 2 is an operation waveform diagram in the present embodiment.

【図3】従来例を示す回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional example.

【図4】従来例における動作波形図である。FIG. 4 is an operation waveform diagram in a conventional example.

【図5】従来例における動作波形図である。FIG. 5 is an operation waveform diagram in a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2、16、17、24、25 PチャネルMOS
トランジスタ 3、4、6〜11、26、27、29〜34 Nチャ
ネルMOSトランジスタ 5、28 相補型インバータ 12〜15、35〜38 メモリセル 20〜23、40〜43 寄生容量
1, 2, 16, 17, 24, 25 P-channel MOS
Transistors 3, 4, 6-11, 26, 27, 29-34 N-channel MOS transistors 5, 28 Complementary inverters 12-15, 35-38 Memory cells 20-23, 40-43 Parasitic capacitance

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電流検知型のセンスアンプ回路を備え、
不揮発性半導体メモリにより形成される半導体メモリ装
置において、 アドレス切替えに伴なうアドレス変化を検出して、所定
レベルのアドレス検知信号を出力する手段と、 前記アドレス検知信号を受けて、前記センスアンプ回路
の出力レベルを抑制するように制御調整するセンスアン
プ出力制御手段と、 を、少なくとも備えることを特徴とする半導体メモリ装
置。
1. A current detection type sense amplifier circuit is provided,
In a semiconductor memory device formed by a non-volatile semiconductor memory, means for detecting an address change accompanying address switching and outputting an address detection signal of a predetermined level, and the sense amplifier circuit for receiving the address detection signal. And a sense amplifier output control means for controlling and adjusting so as to suppress the output level of the semiconductor memory device.
【請求項2】 前記センスアンプ出力制御手段による出
力レベル制御調整作用が、直列接続されて前記センスア
ンプ回路の出力段を形成する2個のトランジスタの相互
コンダンクタンス比を制御調整することにより行われる
ことを特徴とする請求項1記載の半導体メモリ装置。
2. The output level control adjusting action by the sense amplifier output control means is performed by controlling and adjusting a mutual conductance ratio of two transistors connected in series to form an output stage of the sense amplifier circuit. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device comprises:
【請求項3】 前記センスアンプ回路の出力段が、 ソースが高電位側の電源に接続され、ドレインが出力端
に接続されて、ゲートに所定の入力信号が入力されるP
チャネルMOSトランジスタと、 ドレインが前記出力端に接続され、ソースが低電位側の
電源に接続されて、ゲートに所定の基準電位が供給され
るNチャネルMOSトランジスタと、 により形成され、 前記センスアンプ出力制御手段が、 ソースが前記高電位側の電源に接続され、ゲートに前記
アドレス検知信号が入力される第1のPチャネルMOS
トランジスタと、 ソースが前記第1のPチャネルMOSトランジスタのド
レインに接続され、ドレインが前記出力端に接続され
て、ゲートに前記所定の入力信号が入力される第2のP
チャネルMOSトランジスタと、 により形成される請求項1および2記載の半導体メモリ
装置。
3. The output stage of the sense amplifier circuit has a source connected to a high-potential-side power supply, a drain connected to an output terminal, and a gate to which a predetermined input signal is input.
A channel MOS transistor, a drain of which is connected to the output terminal, a source of which is connected to a low-potential-side power supply, and a gate of which is supplied with a predetermined reference potential. A control means is a first P-channel MOS whose source is connected to the power supply on the high potential side and whose gate receives the address detection signal.
A transistor and a second P-channel transistor having a source connected to the drain of the first P-channel MOS transistor, a drain connected to the output terminal, and a gate to which the predetermined input signal is input.
3. The semiconductor memory device according to claim 1, which is formed by a channel MOS transistor.
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