JPH0555267B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0555267B2 JPH0555267B2 JP63030486A JP3048688A JPH0555267B2 JP H0555267 B2 JPH0555267 B2 JP H0555267B2 JP 63030486 A JP63030486 A JP 63030486A JP 3048688 A JP3048688 A JP 3048688A JP H0555267 B2 JPH0555267 B2 JP H0555267B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- porous
- chuck table
- cleaning
- grinding
- cleaning fluid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q11/00—Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
- B23Q11/0042—Devices for removing chips
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、研削機械に搭載され被加工物を吸着
保持するポーラスチヤツクテーブルの洗浄方法と
洗浄装置に関するものである。
保持するポーラスチヤツクテーブルの洗浄方法と
洗浄装置に関するものである。
ウエーハ等の被加工物を研削する研削機械には
チヤツクテーブルが搭載され、そのチヤツクテー
ブルに被加工物を吸着保持して被加工物の研削が
行われている。
チヤツクテーブルが搭載され、そのチヤツクテー
ブルに被加工物を吸着保持して被加工物の研削が
行われている。
第7図にはチヤツクテーブルを搭載した研削機
械の一例が示されている。同図において、ベツド
基台1にはターンテーブル2が回転自在に配設さ
れ、そのターンテーブル2の表面には一対のチヤ
ツクテーブル3a,3bが回転自在に配設されて
いる。図中、4はベツド基台1に上下移動自在に
装着されているヘツドであり、このヘツド4には
回転自在のスピンドル5が垂設され、そのスピン
ドル5の下端部に砥石6が固定されている。7は
チヤツクテーブル3a,3bに吸着保持されてい
る被加工物としてのウエーハであり、8は矢印の
方向に往復して旋回するブラシであり、また、1
0は吸盤11によつてウエーハ7を吸着し、該ウ
エーハ7をレール12に沿つて運搬するトランス
フアアームである。
械の一例が示されている。同図において、ベツド
基台1にはターンテーブル2が回転自在に配設さ
れ、そのターンテーブル2の表面には一対のチヤ
ツクテーブル3a,3bが回転自在に配設されて
いる。図中、4はベツド基台1に上下移動自在に
装着されているヘツドであり、このヘツド4には
回転自在のスピンドル5が垂設され、そのスピン
ドル5の下端部に砥石6が固定されている。7は
チヤツクテーブル3a,3bに吸着保持されてい
る被加工物としてのウエーハであり、8は矢印の
方向に往復して旋回するブラシであり、また、1
0は吸盤11によつてウエーハ7を吸着し、該ウ
エーハ7をレール12に沿つて運搬するトランス
フアアームである。
この種の研削機械を用いてウエーハ7を研削す
る場合は、次のような手順に従つて行われる。
る場合は、次のような手順に従つて行われる。
まず、図示されていないローデイング(搬入)
手段によつて搬入されて来るウエーハ7を吸盤1
1で吸着し、トランスフアアーム10によつてチ
ヤツクテーブル3aの所定位置に運搬して定置す
る。この定置位置で、ウエーハ7はチヤツクテー
ブル3aに吸着保持される。
手段によつて搬入されて来るウエーハ7を吸盤1
1で吸着し、トランスフアアーム10によつてチ
ヤツクテーブル3aの所定位置に運搬して定置す
る。この定置位置で、ウエーハ7はチヤツクテー
ブル3aに吸着保持される。
次に、ターンテーブル2を180°回転し、ウエー
ハ7を砥石6側に移動し、該砥石6の回転駆動に
よつて研削する。この研削中にチヤツクテーブル
3bには次に加工するウエーハ7が同様に吸着保
持される。前記ウエーハ7の研削が完了すると再
びターンテーブル2が180°回転され、チヤツクテ
ーブル3b上のウエーハ7の研削が行われる一方
で、チヤツクテーブル3aから研削完了後のウエ
ーハ7がトランスフアアーム10によつて図示さ
れていないアンローデイング(搬出)手段側に搬
送される。そして、チヤツクテーブル3aからウ
エーハ7が取り除かれた後に、図示されていない
洗浄液供給手段によつてチヤツクテーブル3aの
表面に水等の洗浄液が掛けられ、ブラシ8を旋回
してチヤツクテーブル3aの表面の洗浄が行われ
る。このように、ウエーハ7をチヤツクテーブル
へ定置してから、ウエーハ7を取り除いてチヤツ
クテーブルの表面を洗浄するまでの手順を繰り返
すことにより、ウエーハ7の研削とチヤツクテー
ブルの洗浄とが次々に行われるのである。
ハ7を砥石6側に移動し、該砥石6の回転駆動に
よつて研削する。この研削中にチヤツクテーブル
3bには次に加工するウエーハ7が同様に吸着保
持される。前記ウエーハ7の研削が完了すると再
びターンテーブル2が180°回転され、チヤツクテ
ーブル3b上のウエーハ7の研削が行われる一方
で、チヤツクテーブル3aから研削完了後のウエ
ーハ7がトランスフアアーム10によつて図示さ
れていないアンローデイング(搬出)手段側に搬
送される。そして、チヤツクテーブル3aからウ
エーハ7が取り除かれた後に、図示されていない
洗浄液供給手段によつてチヤツクテーブル3aの
表面に水等の洗浄液が掛けられ、ブラシ8を旋回
してチヤツクテーブル3aの表面の洗浄が行われ
る。このように、ウエーハ7をチヤツクテーブル
へ定置してから、ウエーハ7を取り除いてチヤツ
クテーブルの表面を洗浄するまでの手順を繰り返
すことにより、ウエーハ7の研削とチヤツクテー
ブルの洗浄とが次々に行われるのである。
ところで、この種の研削機械に使用されるチヤ
ツクテーブル3a,3bとして、かつては第8図
に示すように、金属基台13に複数の真空吸引孔
14を穿設したものが用いられていた。ところ
が、このようなチヤツクテーブル3a,3bを用
いてウエーハ7を真空吸引孔14を利用して吸着
保持すると、この真空吸引孔14の部分に局部的
な吸引力が作用するため、真空吸引孔14の孔形
状がウエーハ7の表面に転写されてしまうという
不都合が生じた。近年においては、かかる不都合
を避けるため、内部に無数の孔が形成されている
ポーラス部材をチヤツクテーブルの表面側に配置
したポーラスチヤツクテーブルが使用されてい
る。このポーラスチヤツクテーブルを使用すれ
ば、ウエーハ7はポーラス部材の無数の孔を利用
して吸引されるため、吸引力がウエーハ7の表面
に均一に作用し、孔形状がウエーハ7の表面に転
写されるという前記不都合は解消されることにな
る。
ツクテーブル3a,3bとして、かつては第8図
に示すように、金属基台13に複数の真空吸引孔
14を穿設したものが用いられていた。ところ
が、このようなチヤツクテーブル3a,3bを用
いてウエーハ7を真空吸引孔14を利用して吸着
保持すると、この真空吸引孔14の部分に局部的
な吸引力が作用するため、真空吸引孔14の孔形
状がウエーハ7の表面に転写されてしまうという
不都合が生じた。近年においては、かかる不都合
を避けるため、内部に無数の孔が形成されている
ポーラス部材をチヤツクテーブルの表面側に配置
したポーラスチヤツクテーブルが使用されてい
る。このポーラスチヤツクテーブルを使用すれ
ば、ウエーハ7はポーラス部材の無数の孔を利用
して吸引されるため、吸引力がウエーハ7の表面
に均一に作用し、孔形状がウエーハ7の表面に転
写されるという前記不都合は解消されることにな
る。
しかしながら、ポーラスチヤツクテーブルは表
面に微小の孔が無数に存在するため、研削くずが
この孔の中に入り込み易く、一旦孔に入り込む
と、洗浄液を掛けながらブラシ8でポーラスチヤ
ツクテーブルの表面を擦つてもなかなか完全には
取り去ることが難しい。この結果、ポーラスチヤ
ツクテーブル(詳しくはポーラス部材)が目詰り
を起こして真空吸引力が弱められ、ウエーハ7の
保持が不完全になつたり、ポーラス部材の孔に入
り込んだ研削くずの一部がチヤツクテーブルの表
面に突出し、これがウエーハ7の表面に当たり、
その当たり部分からウエーハ7にクラツクが発生
するという新たな課題が表面化するに至つた。
面に微小の孔が無数に存在するため、研削くずが
この孔の中に入り込み易く、一旦孔に入り込む
と、洗浄液を掛けながらブラシ8でポーラスチヤ
ツクテーブルの表面を擦つてもなかなか完全には
取り去ることが難しい。この結果、ポーラスチヤ
ツクテーブル(詳しくはポーラス部材)が目詰り
を起こして真空吸引力が弱められ、ウエーハ7の
保持が不完全になつたり、ポーラス部材の孔に入
り込んだ研削くずの一部がチヤツクテーブルの表
面に突出し、これがウエーハ7の表面に当たり、
その当たり部分からウエーハ7にクラツクが発生
するという新たな課題が表面化するに至つた。
本発明は上記課題を解決するためになされたも
のであり、その目的は、たとえ研削くずがポーラ
スチヤツクテーブル(ポーラス部材)の孔に入り
込んでも、このチヤツクテーブルの表面に突出す
る研削くずを効果的に除去することができるポー
ラスチヤツクテーブルの洗浄方法とその洗浄装置
を提供することにある。
のであり、その目的は、たとえ研削くずがポーラ
スチヤツクテーブル(ポーラス部材)の孔に入り
込んでも、このチヤツクテーブルの表面に突出す
る研削くずを効果的に除去することができるポー
ラスチヤツクテーブルの洗浄方法とその洗浄装置
を提供することにある。
本発明は上記目的を達成するため次のように構
成されている。すなわち、本発明の洗浄方法は、
砥石によつて研削される被加工物を吸着保持する
ポーラスチヤツクテーブルの洗浄方法において、
研削完了後の被加工物をポーラスチヤツクテーブ
ルの表面から取り除いた後に該ポーラスチヤツク
テーブルにおけるポーラス部材の底面側から表面
側に向けて洗浄流体を供給しポーラス部材の孔に
入り込んだ研削くずを表面側に噴き出させるとと
もに、砥石部材をポーラスチヤツクテーブルの表
面に押し付けて摺擦し、ポーラス部材の孔から表
面に突出している研削くずを除去することを特徴
として構成されている。また、本発明の装置はポ
ーラスチヤツクテーブルにおけるポーラス部材の
底面側に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段
と、ポーラスチヤツクテーブルの表面側に配置さ
れた砥石部材と、この砥石部材のポーラスチヤツ
クテーブル表面への押圧駆動と押圧解除駆動を行
う砥石部材駆動機構と、を有することを特徴とし
て構成されている。
成されている。すなわち、本発明の洗浄方法は、
砥石によつて研削される被加工物を吸着保持する
ポーラスチヤツクテーブルの洗浄方法において、
研削完了後の被加工物をポーラスチヤツクテーブ
ルの表面から取り除いた後に該ポーラスチヤツク
テーブルにおけるポーラス部材の底面側から表面
側に向けて洗浄流体を供給しポーラス部材の孔に
入り込んだ研削くずを表面側に噴き出させるとと
もに、砥石部材をポーラスチヤツクテーブルの表
面に押し付けて摺擦し、ポーラス部材の孔から表
面に突出している研削くずを除去することを特徴
として構成されている。また、本発明の装置はポ
ーラスチヤツクテーブルにおけるポーラス部材の
底面側に洗浄流体を供給する洗浄流体供給手段
と、ポーラスチヤツクテーブルの表面側に配置さ
れた砥石部材と、この砥石部材のポーラスチヤツ
クテーブル表面への押圧駆動と押圧解除駆動を行
う砥石部材駆動機構と、を有することを特徴とし
て構成されている。
上記のように構成されている本発明において、
洗浄流体供給手段を駆動して洗浄流体をポーラス
チヤツクテーブルにおけるポーラス部材の底面側
から供給することにより、該洗浄流体はポーラス
部材内の無数の孔(ポーラス孔)を通つて表面側
に噴き出す。この噴き出しによつて、ポーラス部
材の孔に入つた研削くずがそのポーラス孔から排
出され、その洗浄流体とともに流出される。
洗浄流体供給手段を駆動して洗浄流体をポーラス
チヤツクテーブルにおけるポーラス部材の底面側
から供給することにより、該洗浄流体はポーラス
部材内の無数の孔(ポーラス孔)を通つて表面側
に噴き出す。この噴き出しによつて、ポーラス部
材の孔に入つた研削くずがそのポーラス孔から排
出され、その洗浄流体とともに流出される。
また、ポーラス孔から表面に突出している研削
くずがたとえ残存しても、この研削くずの突出部
分は、砥石部材駆動機構を駆動して砥石部材をポ
ーラスチヤツクテーブルの表面に押し付け、摺擦
することで、除去される。このように、本発明で
は、洗浄流体の供給作用と、砥石部材による除去
作用との協同によつて、ポーラスチヤツクテーブ
ル表面の洗浄が達成されるのである。
くずがたとえ残存しても、この研削くずの突出部
分は、砥石部材駆動機構を駆動して砥石部材をポ
ーラスチヤツクテーブルの表面に押し付け、摺擦
することで、除去される。このように、本発明で
は、洗浄流体の供給作用と、砥石部材による除去
作用との協同によつて、ポーラスチヤツクテーブ
ル表面の洗浄が達成されるのである。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
第1図には本発明に係る洗浄装置の一実施例が
示されている。同図において、ポーラスチヤツク
テーブル3は前記第7図に示す研削機械のターン
テーブル2上に回転自在に装着される。このポー
ラスチヤツクテーブル3は通路形成基台15とポ
ーラス収容基台16とを一体的に連結したもので
あり、通路形成基台15にはその内部に真空吸引
用の通路と洗浄流体供給通路17とが形成されて
いる。この真空吸引用の通路と洗浄流体供給通路
17は別系統の通路としてそれぞれ独立に形成し
てもよく、あるいは一系統の通路を形成し、これ
を真空吸引用と洗浄流体供給用とに適宜兼用する
ようにしてもよい。前記洗浄流体供給通路17は
入口側17aにおいて、複数の通路に分岐され、
その各分岐通路の出口側はポーラス収容基台16
の底面側に臨んでいる。また、同通路17の入口
側17aは洗浄流体供給用のポンプ18に通じて
いる。
示されている。同図において、ポーラスチヤツク
テーブル3は前記第7図に示す研削機械のターン
テーブル2上に回転自在に装着される。このポー
ラスチヤツクテーブル3は通路形成基台15とポ
ーラス収容基台16とを一体的に連結したもので
あり、通路形成基台15にはその内部に真空吸引
用の通路と洗浄流体供給通路17とが形成されて
いる。この真空吸引用の通路と洗浄流体供給通路
17は別系統の通路としてそれぞれ独立に形成し
てもよく、あるいは一系統の通路を形成し、これ
を真空吸引用と洗浄流体供給用とに適宜兼用する
ようにしてもよい。前記洗浄流体供給通路17は
入口側17aにおいて、複数の通路に分岐され、
その各分岐通路の出口側はポーラス収容基台16
の底面側に臨んでいる。また、同通路17の入口
側17aは洗浄流体供給用のポンプ18に通じて
いる。
ポーラス収容基台16は表面側の中央部に座ぐ
り状の凹部を形成したものであり、この凹部にポ
ーラス部材20が収容されている。このポーラス
部材20は例えばビトリフアイド等の部材によつ
て構成され、表面および内部にスポンジのように
無数の孔(ポーラス孔)が形成されたものであ
る。同基台16の底壁には前記洗浄流体供給通路
17(具体的にはその各分岐通路)に通じる複数
の貫通孔21が形成され、ポンプ18から供給さ
れる洗浄流体を通路17および貫通孔21を通じ
てポーラス部材20の底面側に導くようにしてい
る。これら、貫通孔21と、洗浄流体供給通路1
7と、ポンプ18と、このポンプ18の動作を制
御する制御装置22と、は第1の洗浄流体供給手
段を構成する。なお、洗浄流体は空気等の気体で
もよく、水等の液体でもよく、さらには、これら
気体と液体の混合体であつてもよく、この洗浄流
体の種類は仕様に応じ任意に設定される。
り状の凹部を形成したものであり、この凹部にポ
ーラス部材20が収容されている。このポーラス
部材20は例えばビトリフアイド等の部材によつ
て構成され、表面および内部にスポンジのように
無数の孔(ポーラス孔)が形成されたものであ
る。同基台16の底壁には前記洗浄流体供給通路
17(具体的にはその各分岐通路)に通じる複数
の貫通孔21が形成され、ポンプ18から供給さ
れる洗浄流体を通路17および貫通孔21を通じ
てポーラス部材20の底面側に導くようにしてい
る。これら、貫通孔21と、洗浄流体供給通路1
7と、ポンプ18と、このポンプ18の動作を制
御する制御装置22と、は第1の洗浄流体供給手
段を構成する。なお、洗浄流体は空気等の気体で
もよく、水等の液体でもよく、さらには、これら
気体と液体の混合体であつてもよく、この洗浄流
体の種類は仕様に応じ任意に設定される。
一方、ポーラスチヤツクテーブル3の表面側近
傍には洗浄流体として水等の洗浄液を噴射する噴
射ノズル23がその噴出面を同チヤツクテーブル
3の表面に向けて配置されている。この噴射ノズ
ル23の流路はポンプ24の吐出口に通じてお
り、同ポンプ24を駆動することにより、洗浄水
がポーラスチヤツクテーブル3の表面に掛かるよ
うになつている。ポンプ24の動作は前記制御装
置22によつて制御されており、これら、噴射ノ
ズル23と、ポンプ24と、制御装置22とは、
第2の洗浄流体供給手段を構成する。
傍には洗浄流体として水等の洗浄液を噴射する噴
射ノズル23がその噴出面を同チヤツクテーブル
3の表面に向けて配置されている。この噴射ノズ
ル23の流路はポンプ24の吐出口に通じてお
り、同ポンプ24を駆動することにより、洗浄水
がポーラスチヤツクテーブル3の表面に掛かるよ
うになつている。ポンプ24の動作は前記制御装
置22によつて制御されており、これら、噴射ノ
ズル23と、ポンプ24と、制御装置22とは、
第2の洗浄流体供給手段を構成する。
また、ポーラスチヤツクテーブル3の表面側近
傍にはテーブル摺擦装置としてのオイルストーン
装置25が配置されている。このオイルストーン
装置25は砥石部材としてのオイルストーン26
と、このオイルストーン26を収容している枠体
27と、この枠体27を遊嵌している保持枠28
とを有しており、枠体27の基端側はピン30に
よつて保持枠28に回転自在に軸支されている。
そして、枠体27の先端側と保持枠28との間に
は常時オイルストーン26を前方(ポーラスチヤ
ツクテーブルの方向)へ付勢するばね31が介設
されている。
傍にはテーブル摺擦装置としてのオイルストーン
装置25が配置されている。このオイルストーン
装置25は砥石部材としてのオイルストーン26
と、このオイルストーン26を収容している枠体
27と、この枠体27を遊嵌している保持枠28
とを有しており、枠体27の基端側はピン30に
よつて保持枠28に回転自在に軸支されている。
そして、枠体27の先端側と保持枠28との間に
は常時オイルストーン26を前方(ポーラスチヤ
ツクテーブルの方向)へ付勢するばね31が介設
されている。
このオイルストーン装置25はオイルストーン
26をポーラスチヤツクテーブル3の表面に押圧
駆動する砥石部材駆動機構としてのオイルストー
ン駆動機構32に保持されている。
26をポーラスチヤツクテーブル3の表面に押圧
駆動する砥石部材駆動機構としてのオイルストー
ン駆動機構32に保持されている。
このオイルストーン駆動機構32の構成として
は他に様々な態様のものが考えられるが、本実施
例ではシリンダ装置33を用いて駆動機構32を
構成している。
は他に様々な態様のものが考えられるが、本実施
例ではシリンダ装置33を用いて駆動機構32を
構成している。
すなわち、第1図で、オイルストーン駆動機構
32は、シリンダ装置33と、作動ロツド34
と、保持アーム35と、筒軸部36と、シリンダ
装置33の動作を制御する制御装置22と、を主
要要素として構成されている。前記シリンダ装置
33は研削機械のベツド基台1にアーム37等を
介して固定されており、シリンダロツド38と作
動ロツド34の先端部はカツプリング40によつ
て連結されている。また、作動ロツド34の基端
部には伝達アーム44の一端側がピンによつて結
合され、この伝達アーム44の他端側と保持アー
ム35の基端部は筒軸部36に固定されている。
この筒軸部36は軸41に嵌合され、該軸41を
支点として回転自在となつている。そして、保持
アーム35の先端部にはオイルストーン装置25
の保持枠28が固定されている。
32は、シリンダ装置33と、作動ロツド34
と、保持アーム35と、筒軸部36と、シリンダ
装置33の動作を制御する制御装置22と、を主
要要素として構成されている。前記シリンダ装置
33は研削機械のベツド基台1にアーム37等を
介して固定されており、シリンダロツド38と作
動ロツド34の先端部はカツプリング40によつ
て連結されている。また、作動ロツド34の基端
部には伝達アーム44の一端側がピンによつて結
合され、この伝達アーム44の他端側と保持アー
ム35の基端部は筒軸部36に固定されている。
この筒軸部36は軸41に嵌合され、該軸41を
支点として回転自在となつている。そして、保持
アーム35の先端部にはオイルストーン装置25
の保持枠28が固定されている。
本実施例の洗浄装置は上記のように構成されて
おり、以下、同装置を用いたポーラスチヤツクテ
ーブルの洗浄方法を同装置の作用とともに説明す
る。
おり、以下、同装置を用いたポーラスチヤツクテ
ーブルの洗浄方法を同装置の作用とともに説明す
る。
まず、ポーラスチヤツクテーブル3の表面の洗
浄に際しては、前記第7図で説明したように、ト
ランスフアアーム10によつて、研削完了のウエ
ーハ7はポーラスチヤツクテーブル3から取り除
かれる。このウエーハ7の除去後、ポーラスチヤ
ツクテーブル3を回転させながらポンプ24を起
動して洗浄液を噴射ノズル23からテーブル3の
表面に向けて噴射する。
浄に際しては、前記第7図で説明したように、ト
ランスフアアーム10によつて、研削完了のウエ
ーハ7はポーラスチヤツクテーブル3から取り除
かれる。このウエーハ7の除去後、ポーラスチヤ
ツクテーブル3を回転させながらポンプ24を起
動して洗浄液を噴射ノズル23からテーブル3の
表面に向けて噴射する。
その一方で、シリンダ装置33を駆動し、第1
図の状態で、シリンダロツド38を上昇させる。
このロツド38の上昇によつて筒軸部36は軸4
1を支点として反時計方向に回転する。したがつ
て、筒軸部36に基端部が固定されている保持ア
ーム35も反時計方向に回転し、オイルストーン
26はポーラスチヤツクテーブル3の表面に当接
する。
図の状態で、シリンダロツド38を上昇させる。
このロツド38の上昇によつて筒軸部36は軸4
1を支点として反時計方向に回転する。したがつ
て、筒軸部36に基端部が固定されている保持ア
ーム35も反時計方向に回転し、オイルストーン
26はポーラスチヤツクテーブル3の表面に当接
する。
この場合、オイルストーン26はばね31の付
勢力を受け、ピン30を支点として反時計方向の
回転力を受けているから、基端側26bよりも先
端側26aの方が前方に傾斜して突出している。
したがつて、オイルストーン26は、まず、先端
側26aがポーラスチヤツクテーブル3の表面に
当接し、ひき続いてシリンダロツド38が上昇す
るにつれて基端側26bに向けて徐々に当接し、
最後には第2図に示すように、オイルストーン2
6の研削面が均一に前記テーブル3の表面に当接
する。
勢力を受け、ピン30を支点として反時計方向の
回転力を受けているから、基端側26bよりも先
端側26aの方が前方に傾斜して突出している。
したがつて、オイルストーン26は、まず、先端
側26aがポーラスチヤツクテーブル3の表面に
当接し、ひき続いてシリンダロツド38が上昇す
るにつれて基端側26bに向けて徐々に当接し、
最後には第2図に示すように、オイルストーン2
6の研削面が均一に前記テーブル3の表面に当接
する。
この当接状態でポーラスチヤツクテーブル3を
回転駆動すれば、第3図に示すように、ポーラス
孔42に研削くず43が突出状態で入り込んでい
ても、この突出部分はオイルストーン26によつ
て削り取られ、その削りかすは洗浄液によつて外
部へ流出される。
回転駆動すれば、第3図に示すように、ポーラス
孔42に研削くず43が突出状態で入り込んでい
ても、この突出部分はオイルストーン26によつ
て削り取られ、その削りかすは洗浄液によつて外
部へ流出される。
このポーラスチヤツクテーブル3の洗浄に際
し、本実施例では、さらに、ポンプ18が起動さ
れ、洗浄流体が洗浄流体供給通路17および貫通
孔21を通つてポーラス部材20の下面(底面)
側に供給される。この洗浄流体はポーラス部材2
0の内部のポーラス孔42を伝わつて表面側に噴
出する。この洗浄流体の噴出によつてポーラス孔
42内に入り込んでいる微小な研削くずは洗浄流
体の噴流によつて表面側に噴き出され、この噴き
出された研削くずは洗浄液によつて外部へ流出さ
れる。
し、本実施例では、さらに、ポンプ18が起動さ
れ、洗浄流体が洗浄流体供給通路17および貫通
孔21を通つてポーラス部材20の下面(底面)
側に供給される。この洗浄流体はポーラス部材2
0の内部のポーラス孔42を伝わつて表面側に噴
出する。この洗浄流体の噴出によつてポーラス孔
42内に入り込んでいる微小な研削くずは洗浄流
体の噴流によつて表面側に噴き出され、この噴き
出された研削くずは洗浄液によつて外部へ流出さ
れる。
このように本実施例においては、洗浄流体の噴
き出し作用と、オイルストーン26による研削く
ずの削り取り作用と、洗浄液の流出作用とが協同
し、効果的な研削くずの除去作用が行われる。な
お、洗浄流体に噴き出しは、オイルストーン26
の研削前に行つてもよく、オイルストーン26の
研削と同時に行つてもよく、オイルストーン26
の研削の前後にかけて連続的に行つてもよい。前
記ポーラスチヤツクテーブル3の洗浄完了時に
は、シリンダ装置33の進出駆動が行われ、シリ
ンダロツド38は下方へ移動する。したがつて、
保持アーム35は時計方向に回転し、オイルスト
ーン26の押し付け動作が解除される。そして、
オイルストーン26は元の定位置(第1図の状
態)に復帰し、次の洗浄に備えられる。
き出し作用と、オイルストーン26による研削く
ずの削り取り作用と、洗浄液の流出作用とが協同
し、効果的な研削くずの除去作用が行われる。な
お、洗浄流体に噴き出しは、オイルストーン26
の研削前に行つてもよく、オイルストーン26の
研削と同時に行つてもよく、オイルストーン26
の研削の前後にかけて連続的に行つてもよい。前
記ポーラスチヤツクテーブル3の洗浄完了時に
は、シリンダ装置33の進出駆動が行われ、シリ
ンダロツド38は下方へ移動する。したがつて、
保持アーム35は時計方向に回転し、オイルスト
ーン26の押し付け動作が解除される。そして、
オイルストーン26は元の定位置(第1図の状
態)に復帰し、次の洗浄に備えられる。
第4図および第5図にはオイルストーン駆動機
構の他の構成例が示されている。なお、第4図お
よび第5図の構成例の説明において、前記第1図
の構成部分と同一の部分には同一符号を付し、そ
の重複説明は省略する。
構の他の構成例が示されている。なお、第4図お
よび第5図の構成例の説明において、前記第1図
の構成部分と同一の部分には同一符号を付し、そ
の重複説明は省略する。
この第4図および第5図に示す装置は、前記第
1図に示す装置と同様にピン30を支点とした枠
体27の回動によつてオイルストーン26を前後
方向に回動可能に構成しているが、前記第1図の
装置と異なる特徴的なところは、オイルストーン
26の左右方向の回動と前後方向の移動が可能に
構成されていることである。
1図に示す装置と同様にピン30を支点とした枠
体27の回動によつてオイルストーン26を前後
方向に回動可能に構成しているが、前記第1図の
装置と異なる特徴的なところは、オイルストーン
26の左右方向の回動と前後方向の移動が可能に
構成されていることである。
すなわち、保持アーム35の下面に箱状のシリ
ンダ45が固定され、このシリンダ45内にピス
トン46が摺動自在に収容されており、そして、
このピストン46の軸部はシリンダ45の前後両
端面壁を気密にかつ摺動自在に貫通して外に突出
し、その突出先端部は保持枠28に軸支されてい
る。したがつて、ピストン46は保持枠28が左
右方向に回動するための回動軸として機能するこ
ととなり、シリンダロツド38の上昇によつて保
持アーム35が反時計方向に回転してオイルスト
ーン26の先端部26aがポーラスチヤツクテー
ブル3に接触したとき、オイルストーン26はピ
ン30を支点として前後方向に回転し(詳しくは
時計方向に回転し)、さらに、ピストン46を支
点として左右方向(図のA方向)に回転しながら
ポーラスチヤツクテーブル3の表面に接触して行
く。このようにオイルストーン26の左右方向の
回転を加えることにより、オイルストーン26の
底面(研削面)はよりなじんだ状態でポーラスチ
ヤツクテーブル3の表面に接触することとなり、
同テーブル3の摺擦作用をより効果的に行うこと
ができる。
ンダ45が固定され、このシリンダ45内にピス
トン46が摺動自在に収容されており、そして、
このピストン46の軸部はシリンダ45の前後両
端面壁を気密にかつ摺動自在に貫通して外に突出
し、その突出先端部は保持枠28に軸支されてい
る。したがつて、ピストン46は保持枠28が左
右方向に回動するための回動軸として機能するこ
ととなり、シリンダロツド38の上昇によつて保
持アーム35が反時計方向に回転してオイルスト
ーン26の先端部26aがポーラスチヤツクテー
ブル3に接触したとき、オイルストーン26はピ
ン30を支点として前後方向に回転し(詳しくは
時計方向に回転し)、さらに、ピストン46を支
点として左右方向(図のA方向)に回転しながら
ポーラスチヤツクテーブル3の表面に接触して行
く。このようにオイルストーン26の左右方向の
回転を加えることにより、オイルストーン26の
底面(研削面)はよりなじんだ状態でポーラスチ
ヤツクテーブル3の表面に接触することとなり、
同テーブル3の摺擦作用をより効果的に行うこと
ができる。
また、ピストン46にオイルストーン26が枠
体27と保持枠28とを介して固定されるもので
あるから、例えば、作動孔47から作動流体をシ
リンダ45内に供給すれば、その流体圧力によつ
てピストン46は前方に摺動し、その逆に、反対
側の作動孔48から作動流体をシリンダ45内に
供給すれば、ピストン46は後方へ摺動する。す
なわち、シリンダ45内に供給する作動流体の流
路を順次切り換えることにより、ピストン46は
前後方向に摺動し、このピストン46に連動して
オイルストーン26も前後方向に移動する。
体27と保持枠28とを介して固定されるもので
あるから、例えば、作動孔47から作動流体をシ
リンダ45内に供給すれば、その流体圧力によつ
てピストン46は前方に摺動し、その逆に、反対
側の作動孔48から作動流体をシリンダ45内に
供給すれば、ピストン46は後方へ摺動する。す
なわち、シリンダ45内に供給する作動流体の流
路を順次切り換えることにより、ピストン46は
前後方向に摺動し、このピストン46に連動して
オイルストーン26も前後方向に移動する。
このオイルストーン26の前後移動をポーラス
チヤツクテーブル3との摺擦時に行えば、その摺
擦作用をより効果的に行うことができ、同テーブ
ル3の洗浄効果は大幅に高められる。
チヤツクテーブル3との摺擦時に行えば、その摺
擦作用をより効果的に行うことができ、同テーブ
ル3の洗浄効果は大幅に高められる。
なお、本発明は上記実施例に限定されることは
なく、様々な実施の態様を採り得る。例えば、本
実施例では作動ロツド34の上下移動を保持アー
ム35の回転運動に変換してオイルストーン26
をポーラスチヤツクテーブル3へ押圧している
が、これと異なり、作動ロツド34の上下移動に
よつて直接オイルストーンを同テーブル3の表面
へばね等を介して押し付けるようにしてもよい。
なく、様々な実施の態様を採り得る。例えば、本
実施例では作動ロツド34の上下移動を保持アー
ム35の回転運動に変換してオイルストーン26
をポーラスチヤツクテーブル3へ押圧している
が、これと異なり、作動ロツド34の上下移動に
よつて直接オイルストーンを同テーブル3の表面
へばね等を介して押し付けるようにしてもよい。
また、第1図では、ポーラス収容基台16の凹
部空間の全域に渡つてポーラス部材20を嵌め込
んでいるが、例えば、第6図に示すように、ポー
ラス収容基台16の凹部空間に同心状のセラミツ
クス等からなる隔壁リング44を複数収容し、こ
の各隔壁リング44の間の空間部にポーラス部材
20を収容するようにしてもよい。このテーブル
は隔壁リング44によつて形成される吸着領域が
それぞれ独立しており、この各吸引領域に対応し
た吸引通路の切り換えによつて吸着領域を任意に
切り換えることができるように構成されており、
径の異なるウエーハを確実に吸着保持することが
できる。
部空間の全域に渡つてポーラス部材20を嵌め込
んでいるが、例えば、第6図に示すように、ポー
ラス収容基台16の凹部空間に同心状のセラミツ
クス等からなる隔壁リング44を複数収容し、こ
の各隔壁リング44の間の空間部にポーラス部材
20を収容するようにしてもよい。このテーブル
は隔壁リング44によつて形成される吸着領域が
それぞれ独立しており、この各吸引領域に対応し
た吸引通路の切り換えによつて吸着領域を任意に
切り換えることができるように構成されており、
径の異なるウエーハを確実に吸着保持することが
できる。
さらに、本実施例では第7図に示されているブ
ラシ8が省略されているが、このブラシ8をポー
ラスチヤツクテーブル3の表面側に配設し、オイ
ルストーン26とこのブラシ8を併用して同テー
ブル3の表面洗浄を行うようにしてもよい。
ラシ8が省略されているが、このブラシ8をポー
ラスチヤツクテーブル3の表面側に配設し、オイ
ルストーン26とこのブラシ8を併用して同テー
ブル3の表面洗浄を行うようにしてもよい。
さらにまた、本実施例では、砥石部材としてオ
イルストーンを使用しているが、これに限らず、
例えば、CBN等の砥粒をレジンボンド等の適宜
のボンド剤で形成した砥石を使用してもよい。
イルストーンを使用しているが、これに限らず、
例えば、CBN等の砥粒をレジンボンド等の適宜
のボンド剤で形成した砥石を使用してもよい。
本発明は以上説明したように、ポーラスチヤツ
クテーブルのポーラス孔に入り込んだ微小な研削
くずを底面側から加圧する洗浄流体によつて表面
に噴き出させ、かつ、ポーラス孔から突出してい
る研削くずをオイルストーンで削り取り、これ
ら、表面に噴き出した研削くずやオイルストーン
で削り取つた削りかすを流出除去するように構成
したものであるから、ポーラスチヤツクテーブル
の表面に研削くずが突出することなくチヤツクテ
ーブルの面を平坦に洗浄できる。したがつて、洗
浄後にウエーハを吸着させたとき、研削くずがウ
エーハ表面に局部的に当たつてウエーハにクラツ
クを発生させることもない。
クテーブルのポーラス孔に入り込んだ微小な研削
くずを底面側から加圧する洗浄流体によつて表面
に噴き出させ、かつ、ポーラス孔から突出してい
る研削くずをオイルストーンで削り取り、これ
ら、表面に噴き出した研削くずやオイルストーン
で削り取つた削りかすを流出除去するように構成
したものであるから、ポーラスチヤツクテーブル
の表面に研削くずが突出することなくチヤツクテ
ーブルの面を平坦に洗浄できる。したがつて、洗
浄後にウエーハを吸着させたとき、研削くずがウ
エーハ表面に局部的に当たつてウエーハにクラツ
クを発生させることもない。
また、加圧流体によつてポーラス孔に入り込む
微小な研削くずは表面側に噴き出し排除されるか
ら、ポーラス孔が目詰りすることもなく、ウエー
ハの吸着時に好適な吸引力をウエーハに与えるこ
とができる。
微小な研削くずは表面側に噴き出し排除されるか
ら、ポーラス孔が目詰りすることもなく、ウエー
ハの吸着時に好適な吸引力をウエーハに与えるこ
とができる。
第1図は本発明の一実施例を示す構成図、第2
図は同実施例の作用説明図、第3図はポーラス孔
に研削くずが突出状態で入り込んでいる状態を示
す説明図、第4図はオイルストーン駆動機構の他
の構成例を示す斜視図、第5図は第4図のオイル
ストーン装置部分の断面図、第6図はポーラスチ
ヤツクテーブルの他の態様図、第7図はブラシ洗
浄装置を搭載した研削機械の一例を示す平面図、
第8図はかつてのチヤツクテーブルの構成を示す
断面図である。 1……ベツド基台、2……ターンテーブル、3
……ポーラスチヤツクテーブル、3a,3b……
チヤツクテーブル、4……ヘツド、5……スピン
ドル、6……砥石、7……ウエーハ、8……ブラ
シ、10……トランスフアアーム、11……吸
盤、12……レール、13……金属基台、14…
…真空吸引孔、15……通路形成基台、16……
ポーラス収容基台、17……洗浄流体供給通路、
17a……入口側、18……ポンプ、20……ポ
ーラス部材、21……貫通孔、22……制御装
置、23……噴射ノズル、24……ポンプ、25
……オイルストーン装置、26……オイルストー
ン、27……枠体、28……保持枠、30……ピ
ン、31……ばね、32……オイルストーン駆動
機構、33……シリンダ装置、34……作動ロツ
ド、35……保持アーム、36……筒軸部、37
……アーム、38……シリンダロツド、40……
カツプリング、41……軸、42……ポーラス
孔、43……研削くず、44……伝達アーム、4
5……シリンダ、46……ピストン、47,48
……作動孔。
図は同実施例の作用説明図、第3図はポーラス孔
に研削くずが突出状態で入り込んでいる状態を示
す説明図、第4図はオイルストーン駆動機構の他
の構成例を示す斜視図、第5図は第4図のオイル
ストーン装置部分の断面図、第6図はポーラスチ
ヤツクテーブルの他の態様図、第7図はブラシ洗
浄装置を搭載した研削機械の一例を示す平面図、
第8図はかつてのチヤツクテーブルの構成を示す
断面図である。 1……ベツド基台、2……ターンテーブル、3
……ポーラスチヤツクテーブル、3a,3b……
チヤツクテーブル、4……ヘツド、5……スピン
ドル、6……砥石、7……ウエーハ、8……ブラ
シ、10……トランスフアアーム、11……吸
盤、12……レール、13……金属基台、14…
…真空吸引孔、15……通路形成基台、16……
ポーラス収容基台、17……洗浄流体供給通路、
17a……入口側、18……ポンプ、20……ポ
ーラス部材、21……貫通孔、22……制御装
置、23……噴射ノズル、24……ポンプ、25
……オイルストーン装置、26……オイルストー
ン、27……枠体、28……保持枠、30……ピ
ン、31……ばね、32……オイルストーン駆動
機構、33……シリンダ装置、34……作動ロツ
ド、35……保持アーム、36……筒軸部、37
……アーム、38……シリンダロツド、40……
カツプリング、41……軸、42……ポーラス
孔、43……研削くず、44……伝達アーム、4
5……シリンダ、46……ピストン、47,48
……作動孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 砥石によつて研削される被加工物を吸着保持
するポーラスチヤツクテーブルの洗浄方法におい
て、研削完了後の被加工物をポーラスチヤツクテ
ーブルの表面から取り除いた後に該ポーラスチヤ
ツクテーブルにおけるポーラス部材の底面側から
表面側に向けて洗浄流体を供給しポーラス部材の
孔に入り込んだ研削くずを表面側に噴き出させる
とともに、砥石部材をポーラスチヤツクテーブル
の表面に押し付けて摺擦し、ポーラス部材の孔か
ら表面に突出している研削くずを除去することを
特徴とするポーラスチヤツクテーブルの洗浄方
法。 2 ポーラスチヤツクテーブルにおけるポーラス
部材の底面側に洗浄流体を供給する洗浄流体供給
手段と、ポーラスチヤツクテーブルの表面側に配
置された砥石部材と、この砥石部材のポーラスチ
ヤツクテーブル表面への押圧駆動と押圧解除駆動
を行う砥石部材駆動機構と、を有することを特徴
とするポーラスチヤツクテーブルの洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63030486A JPH01205950A (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | ポーラスチャックテーブルの洗浄方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63030486A JPH01205950A (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | ポーラスチャックテーブルの洗浄方法およびその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01205950A JPH01205950A (ja) | 1989-08-18 |
| JPH0555267B2 true JPH0555267B2 (ja) | 1993-08-16 |
Family
ID=12305164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63030486A Granted JPH01205950A (ja) | 1988-02-12 | 1988-02-12 | ポーラスチャックテーブルの洗浄方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01205950A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4672924B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2011-04-20 | 株式会社ディスコ | 吸着パッド洗浄装置及び該装置を用いた吸着パッド洗浄方法 |
| JP4617028B2 (ja) * | 2001-08-17 | 2011-01-19 | 株式会社ディスコ | 加工歪除去装置 |
| JP4766678B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2011-09-07 | Sumco Techxiv株式会社 | 研削装置のチャックテーブルの洗浄装置 |
| JP5085273B2 (ja) * | 2007-10-29 | 2012-11-28 | コマツNtc株式会社 | チャックテーブル洗浄装置 |
| JP2009160700A (ja) * | 2008-01-08 | 2009-07-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研磨装置 |
| JP6141153B2 (ja) * | 2013-09-10 | 2017-06-07 | 株式会社ディスコ | 異物除去工具及び異物除去方法 |
| JP6622610B2 (ja) * | 2016-02-09 | 2019-12-18 | 株式会社ディスコ | 研削装置 |
| JP6812070B2 (ja) * | 2016-11-10 | 2021-01-13 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
| JP6750582B2 (ja) * | 2017-08-23 | 2020-09-02 | 株式会社Sumco | チャックテーブルの洗浄装置および該洗浄装置を備える研削装置 |
| JP7394531B2 (ja) * | 2019-03-12 | 2023-12-08 | 株式会社東京精密 | ウェハチャックの洗浄方法及び装置 |
| JP7650590B2 (ja) * | 2021-03-29 | 2025-03-25 | 株式会社ディスコ | 研磨装置 |
| JP2023028360A (ja) * | 2021-08-19 | 2023-03-03 | 株式会社ディスコ | 加工装置、及びチャックテーブルの保持面の洗浄方法 |
| KR20260056234A (ko) * | 2023-08-23 | 2026-04-24 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 척 세정 장치, 기판 가공 장치, 및 기판 가공 방법 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56152562A (en) * | 1980-04-24 | 1981-11-26 | Fujitsu Ltd | Grinder |
| JPS59196163A (ja) * | 1983-04-05 | 1984-11-07 | Kanetsuu Kogyo Kk | チヤツク自動クリ−ナ− |
| JPH01171762A (ja) * | 1987-12-28 | 1989-07-06 | Shibayama Kikai Kk | 半導体のウエハ研削盤の吸着チャック洗浄装置 |
-
1988
- 1988-02-12 JP JP63030486A patent/JPH01205950A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01205950A (ja) | 1989-08-18 |
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