JPH0555351A - ワークハンドリング機構 - Google Patents
ワークハンドリング機構Info
- Publication number
- JPH0555351A JPH0555351A JP21193991A JP21193991A JPH0555351A JP H0555351 A JPH0555351 A JP H0555351A JP 21193991 A JP21193991 A JP 21193991A JP 21193991 A JP21193991 A JP 21193991A JP H0555351 A JPH0555351 A JP H0555351A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- work
- handling
- collet
- handling mechanism
- posture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Die Bonding (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ハンドリング時のワークの損傷,位置ずれを
抑えたワークハンドリング機構を得る。 【構成】 ハンドリング機構1a,1bの側面にコレッ
ト固定用のストッパ5a,5bを取り付け、このストッ
パ5a,5bを電磁的または機械的に作動させることに
よりコレット3a,3bを任意の位置で簡易固定する。
抑えたワークハンドリング機構を得る。 【構成】 ハンドリング機構1a,1bの側面にコレッ
ト固定用のストッパ5a,5bを取り付け、このストッ
パ5a,5bを電磁的または機械的に作動させることに
よりコレット3a,3bを任意の位置で簡易固定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、長尺,脆弱,あるい
は柔軟なものなどの例えばCaAs半導体ウエハ、ある
いはチップなどのワークハンドリング機構に関するもの
である。
は柔軟なものなどの例えばCaAs半導体ウエハ、ある
いはチップなどのワークハンドリング機構に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図6〜図9は従来のワークハンドリング
機構の一連動作を示す各断面図である。図において、1
a,1bは連動するワークのハンドリング機構、2はワ
ーク、3a,3bはハンドリング機構1a,1bの設け
られたワーク吸着用のコレット、4a,4bはハンドリ
ング機構1a,1bの内部に設けられかつコレット3
a,3bの移動に追従する緩衝機構である圧縮バネであ
る。
機構の一連動作を示す各断面図である。図において、1
a,1bは連動するワークのハンドリング機構、2はワ
ーク、3a,3bはハンドリング機構1a,1bの設け
られたワーク吸着用のコレット、4a,4bはハンドリ
ング機構1a,1bの内部に設けられかつコレット3
a,3bの移動に追従する緩衝機構である圧縮バネであ
る。
【0003】従来のワークハンドリング機構は、ハンド
リング機構1a,1bが連動して下降してワーク2を真
空吸着するとき、ワーク2を確実にハンドリングするた
め圧縮バネ4a,4bなどによる図8に示す姿勢の追従
機能によりコレット3a,3bの高さが傾斜したワーク
2に接触し、複数個の独立したコレット3a,3bは同
時にワーク2を真空吸着することができるようになって
いる。
リング機構1a,1bが連動して下降してワーク2を真
空吸着するとき、ワーク2を確実にハンドリングするた
め圧縮バネ4a,4bなどによる図8に示す姿勢の追従
機能によりコレット3a,3bの高さが傾斜したワーク
2に接触し、複数個の独立したコレット3a,3bは同
時にワーク2を真空吸着することができるようになって
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来のワークハンドリ
ング機構は、図9に示すようにワーク2が傾斜した状態
でハンドリング機構1bのバネ緩衝が解放されると、ハ
ンドリング機構1aはワーク2から離れてしまうので吸
着ミスまたは把持ミスが発生し、しかも長尺,脆弱もの
などのハンドリングではワーク2の破損などを起こす。
また、この解決方法として図10に示すようにハンドリ
ング機構を揺動させてワーク2の傾斜に沿わせる方法が
あるが、これらは図中想像線で示すようにワーク2の位
置ずれなどの問題点があった。
ング機構は、図9に示すようにワーク2が傾斜した状態
でハンドリング機構1bのバネ緩衝が解放されると、ハ
ンドリング機構1aはワーク2から離れてしまうので吸
着ミスまたは把持ミスが発生し、しかも長尺,脆弱もの
などのハンドリングではワーク2の破損などを起こす。
また、この解決方法として図10に示すようにハンドリ
ング機構を揺動させてワーク2の傾斜に沿わせる方法が
あるが、これらは図中想像線で示すようにワーク2の位
置ずれなどの問題点があった。
【0005】この発明は前述のような問題点を解消する
ためになされたもので、バネ緩衝の解放時のワークの吸
着または把持ミス,ワークの破損,ハンドリング時の位
置ずれをなくし、しかも長尺,脆弱,柔軟もののハンド
リングを可能にするワークハンドリング機構を得ること
を目的とする。
ためになされたもので、バネ緩衝の解放時のワークの吸
着または把持ミス,ワークの破損,ハンドリング時の位
置ずれをなくし、しかも長尺,脆弱,柔軟もののハンド
リングを可能にするワークハンドリング機構を得ること
を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係るワークハ
ンドリング機構は、バネ緩衝によりワークの姿勢に追従
したのちコレットをストッパにより電磁的あるいは機械
的に簡易固定することにより、ワークの姿勢を保持した
ままハンドリングするものである。
ンドリング機構は、バネ緩衝によりワークの姿勢に追従
したのちコレットをストッパにより電磁的あるいは機械
的に簡易固定することにより、ワークの姿勢を保持した
ままハンドリングするものである。
【0007】
【作用】この発明におけるワークハンドリング機構は、
ハンドリング時のワークの姿勢(反り、傾斜など)に沿
う姿勢追従機能によりワークのダメージを極力低減せし
めると共に、姿勢に追従した位置で電磁的あるいは機械
的に簡易固定することにより、ワークの姿勢にあった位
置での保持を行いハンドリング時のワークの破損,ハン
ドリングミス,ならびに位置ずれを抑える。
ハンドリング時のワークの姿勢(反り、傾斜など)に沿
う姿勢追従機能によりワークのダメージを極力低減せし
めると共に、姿勢に追従した位置で電磁的あるいは機械
的に簡易固定することにより、ワークの姿勢にあった位
置での保持を行いハンドリング時のワークの破損,ハン
ドリングミス,ならびに位置ずれを抑える。
【0008】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1〜図5につ
いて説明する。図1は断面図、図2は図1の部分拡大
図、図3〜図5は一連の動作を示す断面図であり、前記
従来のものと同一または相当部分には同一符号を付して
説明を省略する。図において、5a,5bはコレット3
a,3bおよび圧縮バネ4a,4bを固定,解除するス
トッパで、図2に示すように電磁石6に通電せしめるこ
とにより板バネ7を介して磁性体8を吸着せしめてコレ
ット3aおよび圧縮バネ4aを簡易固定する。
いて説明する。図1は断面図、図2は図1の部分拡大
図、図3〜図5は一連の動作を示す断面図であり、前記
従来のものと同一または相当部分には同一符号を付して
説明を省略する。図において、5a,5bはコレット3
a,3bおよび圧縮バネ4a,4bを固定,解除するス
トッパで、図2に示すように電磁石6に通電せしめるこ
とにより板バネ7を介して磁性体8を吸着せしめてコレ
ット3aおよび圧縮バネ4aを簡易固定する。
【0009】次に動作について説明する。図1に示すよ
うにワーク2上に移動した複数個の独立してなるハンド
リング機構1a,1bは、図2,図3に示すように連動
してワーク2を確実に吸着または把持できる位置まで降
下する。このとき、先にワーク2に接触したハンドリン
グ機構1bのコレット3bは、姿勢追従機能の圧縮バネ
4bのたわみによりワーク2の姿勢に追従する。このと
きハンドリング機構1a,1bはコレット3aがワーク
2に接触した位置より少し下がって降下を完了する。降
下が完了した時点で、ストッパ5a,5bの各電磁石6
に通電せしめて電磁的に各板バネ7を介した各磁性体8
を作動させ、各電磁石6と各磁性体8とを吸着保持する
ことにより各板バネ7を介してコレット3a,3bをそ
れぞれ固定する(図4の状態)。
うにワーク2上に移動した複数個の独立してなるハンド
リング機構1a,1bは、図2,図3に示すように連動
してワーク2を確実に吸着または把持できる位置まで降
下する。このとき、先にワーク2に接触したハンドリン
グ機構1bのコレット3bは、姿勢追従機能の圧縮バネ
4bのたわみによりワーク2の姿勢に追従する。このと
きハンドリング機構1a,1bはコレット3aがワーク
2に接触した位置より少し下がって降下を完了する。降
下が完了した時点で、ストッパ5a,5bの各電磁石6
に通電せしめて電磁的に各板バネ7を介した各磁性体8
を作動させ、各電磁石6と各磁性体8とを吸着保持する
ことにより各板バネ7を介してコレット3a,3bをそ
れぞれ固定する(図4の状態)。
【0010】そして、図5に示すように複数個の独立し
てなるハンドリング機構1a,1bが連動して上昇する
とき、ワーク2の姿勢を保持したまま上昇する。上昇
後、ストッパ5a,5bを解除することによりワーク2
のプレース時に正しい姿勢にしてプレースする。このと
き10μm程度の位置ずれを問題にしなければ、ストッ
パ5a,5bの作動を機械的に行っても良い。また、ス
トッパ5a,5bの解除動作を緩やかに減衰させ、ワー
ク2にかかる緩衝などによる位置ずれなどを減少させる
こともできる。なお、ハンドリング機構1a,1bの配
置は任意の位置に自由に移動させることも可能である。
てなるハンドリング機構1a,1bが連動して上昇する
とき、ワーク2の姿勢を保持したまま上昇する。上昇
後、ストッパ5a,5bを解除することによりワーク2
のプレース時に正しい姿勢にしてプレースする。このと
き10μm程度の位置ずれを問題にしなければ、ストッ
パ5a,5bの作動を機械的に行っても良い。また、ス
トッパ5a,5bの解除動作を緩やかに減衰させ、ワー
ク2にかかる緩衝などによる位置ずれなどを減少させる
こともできる。なお、ハンドリング機構1a,1bの配
置は任意の位置に自由に移動させることも可能である。
【0011】また、ワーク2に接触したことが解る検出
スイッチを設けて、ハンドリング機構1a,1bの降下
位置を制御しても良い。前述では主にピックアップ動作
時について述べたが、プレース動作時にも同様のシーケ
ンス応用は可能であり、リリース時のワークの位置ずれ
を小さくすることができる。
スイッチを設けて、ハンドリング機構1a,1bの降下
位置を制御しても良い。前述では主にピックアップ動作
時について述べたが、プレース動作時にも同様のシーケ
ンス応用は可能であり、リリース時のワークの位置ずれ
を小さくすることができる。
【0012】
【発明の効果】以上のように、この発明によればワーク
の姿勢に追従した位置での姿勢保持機能によりワークの
位置ずれを最小限に抑えることができ、しかもハンドリ
ングミスをなくすることができ、またワークの破損を回
避することができるので、生産性,信頼性,位置決め精
度の向上が得られるという効果がある。
の姿勢に追従した位置での姿勢保持機能によりワークの
位置ずれを最小限に抑えることができ、しかもハンドリ
ングミスをなくすることができ、またワークの破損を回
避することができるので、生産性,信頼性,位置決め精
度の向上が得られるという効果がある。
【図1】この発明の一実施例を示す断面図である。
【図2】図1の部分拡大図である。
【図3】図1からの一連の動作を示す断面図である。
【図4】図1からの一連の動作を示す断面図である。
【図5】図1からの一連の動作を示す断面図である。
【図6】従来のものを示す断面図である。
【図7】図6からの一連の動作を示す断面図である。
【図8】図6からの一連の動作を示す断面図である。
【図9】図6からの一連の動作を示す断面図である。
【図10】従来の異なる機構を示す断面図である。
1a,1b ハンドリング機構 2 ワーク 3a,3b コレット 4a,4b 圧縮バネ 5a,5b ストッパ 6 電磁石 7 板バネ 8 磁性体
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年1月17日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
Claims (2)
- 【請求項1】 ワークを吸着または把持するコレット、
このコレットをワークの傾斜または反り姿勢に追従させ
る緩衝機構、および前記コレットおよび緩衝機構を固
定,解除するストッパを備えたことを特徴とするワーク
ハンドリング機構。 - 【請求項2】 ストッパを、緩衝方向に対して直交する
方向に働く電磁石と、この電磁石に対して磁性体を介し
て配される板バネとで構成し、前記電磁石を通電および
停電せしめることにより前記磁性体を介して板バネによ
りコレットおよび緩衝機構を自由に固定,解除する請求
項1のワークハンドリング機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21193991A JPH0555351A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | ワークハンドリング機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21193991A JPH0555351A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | ワークハンドリング機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0555351A true JPH0555351A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=16614192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21193991A Pending JPH0555351A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | ワークハンドリング機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0555351A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009182364A (ja) * | 2009-05-21 | 2009-08-13 | Canon Inc | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
| US7834982B2 (en) | 2003-10-31 | 2010-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holder and exposure apparatus having the same |
| JP2013055360A (ja) * | 2012-12-17 | 2013-03-21 | Lintec Corp | 支持装置及び支持方法 |
-
1991
- 1991-08-23 JP JP21193991A patent/JPH0555351A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7834982B2 (en) | 2003-10-31 | 2010-11-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate holder and exposure apparatus having the same |
| JP2009182364A (ja) * | 2009-05-21 | 2009-08-13 | Canon Inc | 基板保持機構およびそれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
| JP2013055360A (ja) * | 2012-12-17 | 2013-03-21 | Lintec Corp | 支持装置及び支持方法 |
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