JPH0555924B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0555924B2 JPH0555924B2 JP57188668A JP18866882A JPH0555924B2 JP H0555924 B2 JPH0555924 B2 JP H0555924B2 JP 57188668 A JP57188668 A JP 57188668A JP 18866882 A JP18866882 A JP 18866882A JP H0555924 B2 JPH0555924 B2 JP H0555924B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- head
- film
- recording
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツドに関し、詳しくは垂直磁化
膜を記録媒体とする垂直磁気記録に用いる磁気ヘ
ツドに関する。
膜を記録媒体とする垂直磁気記録に用いる磁気ヘ
ツドに関する。
本発明の目的は実用性の高い垂直磁気記録用の
記録再生ヘツドを得ることにある。
記録再生ヘツドを得ることにある。
コバルトークロム合金垂直磁化膜を記録媒体と
した垂直磁気記録方式は高記録密度が達成できる
方式であると期待されており、研究開発が活発に
進められている。最も高性能なヘツドとして提案
されているヘツドは第１図に示す主磁極−補助磁
極タイプの垂直ヘツドである。このヘツドは軟磁
性薄膜１からなる主磁極と軟磁性体３のまわりに
巻き回されたコイル４からなる補助磁極で構成さ
れている。主磁極−補助磁極タイプのヘツドを使
用すると、主磁極の先端に発生する強い垂直磁界
により良好な垂直磁気記録が可能であり、再生効
率も低くない。しかし実用的な観点からみると、
記録媒体の両側に２つに分れた構造のヘツドは使
えない。その理由として、まず第１に２ブロツク
に分れているためコストの低下が困難であるこ
と、第２に２つのヘツドブロツクの位置調整が必
要なため組立時の調整工数が煩雑であること、第
３にリジツドデイスクメモリー装置に使用できず
使用範囲が限定されること等が挙げられる。従つ
て実用的なヘツドは一体構造でなければならない
と考えられる。従来のリングタイプの磁気ヘツド
は再生効率は高いが、垂直磁界が強くないので基
本的に垂直磁気記録には適さない。
した垂直磁気記録方式は高記録密度が達成できる
方式であると期待されており、研究開発が活発に
進められている。最も高性能なヘツドとして提案
されているヘツドは第１図に示す主磁極−補助磁
極タイプの垂直ヘツドである。このヘツドは軟磁
性薄膜１からなる主磁極と軟磁性体３のまわりに
巻き回されたコイル４からなる補助磁極で構成さ
れている。主磁極−補助磁極タイプのヘツドを使
用すると、主磁極の先端に発生する強い垂直磁界
により良好な垂直磁気記録が可能であり、再生効
率も低くない。しかし実用的な観点からみると、
記録媒体の両側に２つに分れた構造のヘツドは使
えない。その理由として、まず第１に２ブロツク
に分れているためコストの低下が困難であるこ
と、第２に２つのヘツドブロツクの位置調整が必
要なため組立時の調整工数が煩雑であること、第
３にリジツドデイスクメモリー装置に使用できず
使用範囲が限定されること等が挙げられる。従つ
て実用的なヘツドは一体構造でなければならない
と考えられる。従来のリングタイプの磁気ヘツド
は再生効率は高いが、垂直磁界が強くないので基
本的に垂直磁気記録には適さない。
本発明はこのような状況を踏まえ、実用的かつ
高性能な垂直磁気記録用ヘツドを提案するもので
ある。
高性能な垂直磁気記録用ヘツドを提案するもので
ある。
第２図及び第３図に本発明の基本となるヘツド
の構造が示してある。高透磁率薄膜からなるコア
７のまわりに導電膜９，１０により構成されるコ
イルが巻き回されており、単純なヘツド構造であ
る。記録はコイルに電流を流しコア７の先端から
強い垂直磁界を発生させてなされる。再生は記録
媒体表面からの磁束をコア７が拾い上げコイル
９，１０に生じる誘導起電力を検出してなされ
る。従つてこの構成のヘツドを使えば良好な垂直
磁気記録が基本的には可能である。この構成のヘ
ツドはコア７が厚い場合は特性を発揮するが、コ
ア７を薄くすると様々な問題が明らかとなる。ま
ず、記録時において必要記録電流が大きくなりす
ぎる。さらには飽和記録が不可能となる。次に、
再生時においてコイル位置まで磁束を拾い上げる
ことができないため出力信号の値が極めて低い。
高記録密度を実現するためにはコア７を薄くする
ことは必須であり、避けられない点である。コア
７に要求される特性は透磁率ができるだけ高いこ
とであり、材質的な選択幅は極めて狭い。これら
の問題に対する解決策として妥当性の高い策はヘ
ツド先端以外を厚くするという方法である。膜厚
を5μｍ〜10μｍ程度に厚くすれば効果は十分に期
待できる。しかしこの場合には薄膜プロセスが極
めて困難になつてくる。膜形成、パターニング、
コア上に形成する膜のコート全てが難しい。
の構造が示してある。高透磁率薄膜からなるコア
７のまわりに導電膜９，１０により構成されるコ
イルが巻き回されており、単純なヘツド構造であ
る。記録はコイルに電流を流しコア７の先端から
強い垂直磁界を発生させてなされる。再生は記録
媒体表面からの磁束をコア７が拾い上げコイル
９，１０に生じる誘導起電力を検出してなされ
る。従つてこの構成のヘツドを使えば良好な垂直
磁気記録が基本的には可能である。この構成のヘ
ツドはコア７が厚い場合は特性を発揮するが、コ
ア７を薄くすると様々な問題が明らかとなる。ま
ず、記録時において必要記録電流が大きくなりす
ぎる。さらには飽和記録が不可能となる。次に、
再生時においてコイル位置まで磁束を拾い上げる
ことができないため出力信号の値が極めて低い。
高記録密度を実現するためにはコア７を薄くする
ことは必須であり、避けられない点である。コア
７に要求される特性は透磁率ができるだけ高いこ
とであり、材質的な選択幅は極めて狭い。これら
の問題に対する解決策として妥当性の高い策はヘ
ツド先端以外を厚くするという方法である。膜厚
を5μｍ〜10μｍ程度に厚くすれば効果は十分に期
待できる。しかしこの場合には薄膜プロセスが極
めて困難になつてくる。膜形成、パターニング、
コア上に形成する膜のコート全てが難しい。
本発明はこの点に解決するためにヘツド先端部
以外を高飽和磁化を有する軟磁性薄膜で形成した
ものである。本発明の磁気ヘツドの一例の断面図
を第４図に示す。軟磁性薄膜１３が高飽和磁化を
有する膜である。この高飽和磁化軟磁性膜に重ね
て高透磁率膜７が形成されている。９，１０は導
電膜のコイルであり、高飽和磁化軟磁性膜１３と
高透磁率膜７とを包むように巻かれている。８，
１１は電気絶縁膜であり、第４図右端は記録媒体
に面する側であり、その端部は高透磁率膜７のみ
で形成されている。
以外を高飽和磁化を有する軟磁性薄膜で形成した
ものである。本発明の磁気ヘツドの一例の断面図
を第４図に示す。軟磁性薄膜１３が高飽和磁化を
有する膜である。この高飽和磁化軟磁性膜に重ね
て高透磁率膜７が形成されている。９，１０は導
電膜のコイルであり、高飽和磁化軟磁性膜１３と
高透磁率膜７とを包むように巻かれている。８，
１１は電気絶縁膜であり、第４図右端は記録媒体
に面する側であり、その端部は高透磁率膜７のみ
で形成されている。
なお、５は基板であり、６は基板上に形成され
た保護膜、１２も保護膜である。
た保護膜、１２も保護膜である。
このような構成にしたことから、本発明の効果
を例を挙げて説明する。高い透磁率を示す膜とし
てCu−Moパーマロイ、スーパーマロイ膜がある
が、これらの膜の飽和磁化は大体6000〜7000ガウ
ス程度である。これらの膜のみをコアに使用する
と、先端以外、即ち、先端から所定の間隔をあけ
た内側部分の厚みは10μｍ以上必要である。この
時、高い飽和磁化を有する軟磁性膜としては
50Ni−50Feパーマロイ、あるいはCo系軟磁性膜
が挙げられるが、これらは10000〜15000ガウス程
度の飽和磁化を有している。これらの膜を高透磁
率膜１３に使用すると、コアの内側部分では5μ
ｍ以下の膜厚でほぼ同じ効果が得られる。
を例を挙げて説明する。高い透磁率を示す膜とし
てCu−Moパーマロイ、スーパーマロイ膜がある
が、これらの膜の飽和磁化は大体6000〜7000ガウ
ス程度である。これらの膜のみをコアに使用する
と、先端以外、即ち、先端から所定の間隔をあけ
た内側部分の厚みは10μｍ以上必要である。この
時、高い飽和磁化を有する軟磁性膜としては
50Ni−50Feパーマロイ、あるいはCo系軟磁性膜
が挙げられるが、これらは10000〜15000ガウス程
度の飽和磁化を有している。これらの膜を高透磁
率膜１３に使用すると、コアの内側部分では5μ
ｍ以下の膜厚でほぼ同じ効果が得られる。
以上述べたように本発明によれば、ヘツドコア
の先端部を高透磁率薄膜とし、それ以外を高透磁
率薄膜および高飽和磁化軟磁性薄膜の二層構造と
したことにより、ヘツドコアの膜厚を5μｍ以下
に形成できるので、ヘツドの薄型化に極めて有効
である。さらに本発明では、そのヘツドコアのま
わりにコイルを螺旋状に形成する工程での負担を
低減して生産性を著しく向上できる。
の先端部を高透磁率薄膜とし、それ以外を高透磁
率薄膜および高飽和磁化軟磁性薄膜の二層構造と
したことにより、ヘツドコアの膜厚を5μｍ以下
に形成できるので、ヘツドの薄型化に極めて有効
である。さらに本発明では、そのヘツドコアのま
わりにコイルを螺旋状に形成する工程での負担を
低減して生産性を著しく向上できる。
第１図は従来の主磁極−補助磁極タイプのヘツ
ドの概略図である。第２図、第３図は各々本発明
の基本となるヘツドの断面図及び正面図である。
第４図は本発明による磁気ヘツドの一例の断面図
である。 １……高透磁率膜、２……記録媒体、３……高
透磁率材、４……コイル、５……基板、６……保
護膜、７……高透磁率膜、８，１１……電気絶縁
膜、９，１０……コイルパターン、１２……保護
膜、１３……高飽和磁化軟磁性膜。
ドの概略図である。第２図、第３図は各々本発明
の基本となるヘツドの断面図及び正面図である。
第４図は本発明による磁気ヘツドの一例の断面図
である。 １……高透磁率膜、２……記録媒体、３……高
透磁率材、４……コイル、５……基板、６……保
護膜、７……高透磁率膜、８，１１……電気絶縁
膜、９，１０……コイルパターン、１２……保護
膜、１３……高飽和磁化軟磁性膜。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁気ヘツドコアのまわりに導電膜よりなるコ
イルを螺旋状に配して記録媒体に垂直磁気記録を
行う磁気ヘツドにおいて、 前記磁気ヘツドコアの前記記録媒体と接する先
端部は高透磁率薄膜からなり、前記磁気ヘツドコ
アの前記先端部から所定の間隔をあけた内側部分
は前記高透磁率薄膜および高飽和磁化軟磁性薄膜
の二層構造からなることを特徴とする磁気ヘツ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18866882A JPS5979413A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18866882A JPS5979413A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5979413A JPS5979413A (ja) | 1984-05-08 |
| JPH0555924B2 true JPH0555924B2 (ja) | 1993-08-18 |
Family
ID=16227758
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18866882A Granted JPS5979413A (ja) | 1982-10-27 | 1982-10-27 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5979413A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5320218B2 (ja) * | 1972-11-20 | 1978-06-26 | ||
| JPS5284722A (en) * | 1975-12-31 | 1977-07-14 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head and its production |
| JPS52128117A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
-
1982
- 1982-10-27 JP JP18866882A patent/JPS5979413A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5979413A (ja) | 1984-05-08 |
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