JPH0556643A - 整流装置 - Google Patents
整流装置Info
- Publication number
- JPH0556643A JPH0556643A JP21178891A JP21178891A JPH0556643A JP H0556643 A JPH0556643 A JP H0556643A JP 21178891 A JP21178891 A JP 21178891A JP 21178891 A JP21178891 A JP 21178891A JP H0556643 A JPH0556643 A JP H0556643A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bias
- current
- winding
- voltage
- commutation groups
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ２重星形結線の整流器用変圧器を用いた整流
装置における両転流群間の電流アンバランスを解消す
る。 【構成】 整流器用変圧器２の電圧調整によるタップ間
電圧を更に連続微調整するため各ダイオード3a〜3fと直
列に可飽和リアクトル9a〜9fが挿入されており、各可飽
和リアクトル９にはその吸収電圧を制御するための制御
巻線10とバイアス巻線13とが設けられている。そして、
バイアス巻線13ａ〜13ｃに流すバイアス電流ＩB1とバイ
アス巻線13ｄ〜13ｆに流すバイアス電流ＩB2とはそれぞ
れ可変抵抗15ａと15ｂとにより独立にその大きさを調整
することができ、この調整により両転流群間の電流バラ
ンスが達成される。
装置における両転流群間の電流アンバランスを解消す
る。 【構成】 整流器用変圧器２の電圧調整によるタップ間
電圧を更に連続微調整するため各ダイオード3a〜3fと直
列に可飽和リアクトル9a〜9fが挿入されており、各可飽
和リアクトル９にはその吸収電圧を制御するための制御
巻線10とバイアス巻線13とが設けられている。そして、
バイアス巻線13ａ〜13ｃに流すバイアス電流ＩB1とバイ
アス巻線13ｄ〜13ｆに流すバイアス電流ＩB2とはそれぞ
れ可変抵抗15ａと15ｂとにより独立にその大きさを調整
することができ、この調整により両転流群間の電流バラ
ンスが達成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば電解工業等で
使用される整流装置に関するものである。
使用される整流装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は例えば三菱電機技報Vol.40，No.
7，1966，Ｐ1173〜1181に記載されたこの種従来の整流
装置の構成を示す回路図である。図において、１は交流
電源系統で、装置の出力が数十〜数百MWになることから
通常、数KV〜数十KVの高圧、特別高圧の受電となる。な
お、受電側開閉器等、交流受電側機器の詳細は説明を省
略している。２は交流電源系統１の高電圧を電解槽に必
要な数十〜数千Ｖの電圧に変換する整流器用変圧器で、
その交流側巻線は変圧比を段階的に変化させるためのタ
ップを備えた星形結線、そしてその直流側巻線は２重星
形結線となっている。3a〜3fは整流器用変圧器２の直流
側のｕ，ｖ，ｗ，ｘ，ｙ，ｚ相巻線に各々接続されたダ
イオード、４および５は直流出力の＋（Ｐ）側導体およ
び−（Ｎ）側導体、6a〜6fは各ダイオード３と直流導体
４とを接続する導体、7a，7bは整流器用変圧器２の直流
側巻線の中性点と直流導体５とを接続する導体、８は相
間リアクトルで、両転流群、即ちｕ，ｖ，ｗの相転流群
とｘ，ｙ，ｚ相の転流群との間の電圧を吸収して両転流
群間の並列運転を確保するものである。
7，1966，Ｐ1173〜1181に記載されたこの種従来の整流
装置の構成を示す回路図である。図において、１は交流
電源系統で、装置の出力が数十〜数百MWになることから
通常、数KV〜数十KVの高圧、特別高圧の受電となる。な
お、受電側開閉器等、交流受電側機器の詳細は説明を省
略している。２は交流電源系統１の高電圧を電解槽に必
要な数十〜数千Ｖの電圧に変換する整流器用変圧器で、
その交流側巻線は変圧比を段階的に変化させるためのタ
ップを備えた星形結線、そしてその直流側巻線は２重星
形結線となっている。3a〜3fは整流器用変圧器２の直流
側のｕ，ｖ，ｗ，ｘ，ｙ，ｚ相巻線に各々接続されたダ
イオード、４および５は直流出力の＋（Ｐ）側導体およ
び−（Ｎ）側導体、6a〜6fは各ダイオード３と直流導体
４とを接続する導体、7a，7bは整流器用変圧器２の直流
側巻線の中性点と直流導体５とを接続する導体、８は相
間リアクトルで、両転流群、即ちｕ，ｖ，ｗの相転流群
とｘ，ｙ，ｚ相の転流群との間の電圧を吸収して両転流
群間の並列運転を確保するものである。
【０００３】9a〜9fはそれぞれ導体6a〜6fを主巻線とし
て各ダイオード3a〜3fと直流導体４との間に挿入された
可飽和リアクトルで、制御巻線10ａ〜10ｆとバイアス巻
線13ａ〜13ｆとを備えている。ここで、制御巻線10は可
飽和リアクトル９の吸収電圧を制御するための制御電流
Ｉc を流す巻線で、主巻線が形成するＡＴ（アンペアタ
ーン）と逆向きのＡＴを形成する。また、バイアス巻線
13は制御電流のレベルを調整して所定の制御範囲を設定
するためのバイアス電流ＩB を流す巻線で、主巻線が形
成するＡＴと同向きのＡＴを形成する。11および12は、
制御電流ＩC を供給する直流電源およびその大きさを制
御するコントローラ、14および15はバイアス電流ＩB を
供給する直流電源およびその大きさを調整する可変抵抗
である。
て各ダイオード3a〜3fと直流導体４との間に挿入された
可飽和リアクトルで、制御巻線10ａ〜10ｆとバイアス巻
線13ａ〜13ｆとを備えている。ここで、制御巻線10は可
飽和リアクトル９の吸収電圧を制御するための制御電流
Ｉc を流す巻線で、主巻線が形成するＡＴ（アンペアタ
ーン）と逆向きのＡＴを形成する。また、バイアス巻線
13は制御電流のレベルを調整して所定の制御範囲を設定
するためのバイアス電流ＩB を流す巻線で、主巻線が形
成するＡＴと同向きのＡＴを形成する。11および12は、
制御電流ＩC を供給する直流電源およびその大きさを制
御するコントローラ、14および15はバイアス電流ＩB を
供給する直流電源およびその大きさを調整する可変抵抗
である。
【０００４】そして、電解槽の負荷の変化に応じて整流
装置の直流出力電圧を調整する必要があるが、大きくは
整流器用変圧器２のタップ切換で行い、このタップ電圧
間の微調整は可飽和リアクトル９の制御巻線10に流す制
御電流ＩC を連続的に調整することにより行う。
装置の直流出力電圧を調整する必要があるが、大きくは
整流器用変圧器２のタップ切換で行い、このタップ電圧
間の微調整は可飽和リアクトル９の制御巻線10に流す制
御電流ＩC を連続的に調整することにより行う。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、両転流群
ｕ，ｖ，ｗ相とｘ，ｙ，ｚ相とで、整流器用変圧器２の
巻線インピーダンスに差が存在したり、またダイオード
３や可飽和リアクトル９に特性バラツキが存在すると、
両転流群の電流に差が生じる。従来の整流装置において
は、これらの差を補償する手段がなんら設けられていな
いので、例えばこの電流不平衡を考慮してその分定格の
大きな従って高価なダイオード３を選定する必要があっ
たり、またこの電流差で相間リアクトル８が直流励磁を
受け、損失が増大したり過熱現象が発生する等の問題点
があった。この発明は以上のような問題点を解消するた
めになされたもので、簡便な構成で両転流群の電流アン
バランスを防止することができる整流装置を得ることを
目的とする。
ｕ，ｖ，ｗ相とｘ，ｙ，ｚ相とで、整流器用変圧器２の
巻線インピーダンスに差が存在したり、またダイオード
３や可飽和リアクトル９に特性バラツキが存在すると、
両転流群の電流に差が生じる。従来の整流装置において
は、これらの差を補償する手段がなんら設けられていな
いので、例えばこの電流不平衡を考慮してその分定格の
大きな従って高価なダイオード３を選定する必要があっ
たり、またこの電流差で相間リアクトル８が直流励磁を
受け、損失が増大したり過熱現象が発生する等の問題点
があった。この発明は以上のような問題点を解消するた
めになされたもので、簡便な構成で両転流群の電流アン
バランスを防止することができる整流装置を得ることを
目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係る整流装置
は、そのバイアス巻線に供給するバイアス電流を両転流
群で独立に調整可能な構成としたものである。
は、そのバイアス巻線に供給するバイアス電流を両転流
群で独立に調整可能な構成としたものである。
【０００７】
【作用】両転流群の電流に大小の差が存在する場合、電
流が大きくなる群に設けられた可飽和リアクトルの吸収
電圧を増加させる方向にそのバイアス電流を調整して両
転流群の電流が等しくなるようにする。
流が大きくなる群に設けられた可飽和リアクトルの吸収
電圧を増加させる方向にそのバイアス電流を調整して両
転流群の電流が等しくなるようにする。
【０００８】
【実施例】図１はこの発明の一実施例による整流装置の
構成を示す回路図である。従来の図２と異なるのはバイ
アス巻線13の回路である。即ち、可変抵抗15は２個の可
変抵抗15ａおよび15ｂから構成されており、可変抵抗15
ａはｕ，ｖ，ｗ相に挿入された可飽和リアクトル9a〜9c
のバイアス巻線13ａ〜13ｃに供給するバイアス電流ＩB1
の大きさを調整する。また、可変抵抗15ｂはｘ，ｙ，ｚ
相に挿入された可飽和リアクトル9d〜9fのバイアス巻線
13ｄ〜13ｆに供給するバイアス電流ＩB2の大きさを調整
する。
構成を示す回路図である。従来の図２と異なるのはバイ
アス巻線13の回路である。即ち、可変抵抗15は２個の可
変抵抗15ａおよび15ｂから構成されており、可変抵抗15
ａはｕ，ｖ，ｗ相に挿入された可飽和リアクトル9a〜9c
のバイアス巻線13ａ〜13ｃに供給するバイアス電流ＩB1
の大きさを調整する。また、可変抵抗15ｂはｘ，ｙ，ｚ
相に挿入された可飽和リアクトル9d〜9fのバイアス巻線
13ｄ〜13ｆに供給するバイアス電流ＩB2の大きさを調整
する。
【０００９】当初、バイアス電流ＩB1とＩB2とを同一の
値に設定した状態で、例えば、定格の50％程度の直流電
流を流し、両転流群間の電流アンバランスを測定する。
ここで、例えば、ｕ，ｖ，ｗ相側の電流がｘ，ｙ，ｚ相
側の電流より大きいとすると、バイアス電流ＩB1を減少
させ（またがバイアス電流ＩB2を増大させ）ることによ
り、ｕ，ｖ，ｗ相側の可飽和リアクトル9a〜9cの吸収電
圧を増大させ（またはｘ，ｙ，ｚ相側の可飽和リアクト
ル9c〜9fの吸収電圧を減少させ) 両転流群の直流電流を
一致させる。更に、直流電流を最大出力レベルにまで増
大させた後、上述したと同じ要領でバイアス電流ＩB1と
ＩB2との再調整を行い、可変抵抗15ａと15ｂとはこの時
点のセット状態を保持するようにする。
値に設定した状態で、例えば、定格の50％程度の直流電
流を流し、両転流群間の電流アンバランスを測定する。
ここで、例えば、ｕ，ｖ，ｗ相側の電流がｘ，ｙ，ｚ相
側の電流より大きいとすると、バイアス電流ＩB1を減少
させ（またがバイアス電流ＩB2を増大させ）ることによ
り、ｕ，ｖ，ｗ相側の可飽和リアクトル9a〜9cの吸収電
圧を増大させ（またはｘ，ｙ，ｚ相側の可飽和リアクト
ル9c〜9fの吸収電圧を減少させ) 両転流群の直流電流を
一致させる。更に、直流電流を最大出力レベルにまで増
大させた後、上述したと同じ要領でバイアス電流ＩB1と
ＩB2との再調整を行い、可変抵抗15ａと15ｂとはこの時
点のセット状態を保持するようにする。
【００１０】以上のように、負荷条件として最も厳しい
最大出力レベルで両転流群の電流をバランスさせること
ができるので、ダイオード３の選定も群間の電流アンバ
ランス分を考慮する必要がなくなりその分安価な素子の
適用が可能となり装置のコストダウンが実現する。ま
た、相間リアクトル８も直流励磁がなくなるので、損失
が低減し温度上昇も低下する。
最大出力レベルで両転流群の電流をバランスさせること
ができるので、ダイオード３の選定も群間の電流アンバ
ランス分を考慮する必要がなくなりその分安価な素子の
適用が可能となり装置のコストダウンが実現する。ま
た、相間リアクトル８も直流励磁がなくなるので、損失
が低減し温度上昇も低下する。
【００１１】
【発明の効果】この発明は以上のように、バイアス電流
を両転流群で独立に調整可能な構成としたので、両群の
直流電流のアンバランスを確実に解消することができ
る。
を両転流群で独立に調整可能な構成としたので、両群の
直流電流のアンバランスを確実に解消することができ
る。
【図１】この発明の一実施例による整流装置の構成を示
す回路図である。
す回路図である。
【図２】従来の整流装置の構成を示す回路図である。
２ 整流器用変圧器 3a〜3f ダイオード ８ 相間リアクトル 9a〜9f 可飽和リアクトル 10ａ〜10ｆ 制御巻線 13ａ〜13ｆ バイアス巻線 15ａ，15ｂ 可変抵抗 ＩC 制御電流 ＩB1，ＩB2 バイアス電流
Claims (1)
- 【請求項１】 ２重星形結線の整流器用変圧器、この整
流器用変圧器の各直流側巻線に接続されたダイオード、
主巻線が上記各ダイオードと直列に接続され吸収電圧を
制御するための制御電流を流す制御巻線と上記制御電流
のレベルを調整して所定の制御範囲を設定するためのバ
イアス電流を流すバイアス巻線とを備えた可飽和リアク
トル、および直流側の両転流群間の電圧を吸収して両転
流群間の並列運転を確保するための相間リアクトルを備
えた整流装置において、 上記バイアス巻線に供給するバイアス電流を上記両転流
群で独立に調整可能な構成としたことを特徴とする整流
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21178891A JPH0556643A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 整流装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21178891A JPH0556643A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 整流装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0556643A true JPH0556643A (ja) | 1993-03-05 |
Family
ID=16611621
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21178891A Pending JPH0556643A (ja) | 1991-08-23 | 1991-08-23 | 整流装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0556643A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU686190B2 (en) * | 1993-08-31 | 1998-02-05 | Canterbury University | An electroplating system |
| CN104979088A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-10-14 | 许婷 | 整流变压器 |
| US20230145101A1 (en) * | 2021-11-08 | 2023-05-11 | Hamilton Sundstrand Corporation | Dual saturable reactor power supply |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5610077A (en) * | 1979-07-04 | 1981-02-02 | Fuji Electric Co Ltd | Current unbalance suppressing circuit for transformer-rectifier |
-
1991
- 1991-08-23 JP JP21178891A patent/JPH0556643A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5610077A (en) * | 1979-07-04 | 1981-02-02 | Fuji Electric Co Ltd | Current unbalance suppressing circuit for transformer-rectifier |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU686190B2 (en) * | 1993-08-31 | 1998-02-05 | Canterbury University | An electroplating system |
| CN104979088A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-10-14 | 许婷 | 整流变压器 |
| US20230145101A1 (en) * | 2021-11-08 | 2023-05-11 | Hamilton Sundstrand Corporation | Dual saturable reactor power supply |
| US11855559B2 (en) * | 2021-11-08 | 2023-12-26 | Hamilton Sundstrand Corporation | Dual saturable reactor power supply |
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