JPH0557550A - 精密１段６自由度ステージ - Google Patents
精密１段６自由度ステージInfo
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- JPH0557550A JPH0557550A JP21836791A JP21836791A JPH0557550A JP H0557550 A JPH0557550 A JP H0557550A JP 21836791 A JP21836791 A JP 21836791A JP 21836791 A JP21836791 A JP 21836791A JP H0557550 A JPH0557550 A JP H0557550A
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- stage
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- magnetic
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- magnet
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
-
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- B23Q5/00—Driving or feeding mechanisms; Control arrangements therefor
- B23Q5/22—Feeding members carrying tools or work
- B23Q5/28—Electric drives
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 １段で６自由度の位置決めができ、ステージ
の小型化が図れるという優れた特性を持つ精密１段６自
由度ステージを提供することを目的とする。 【構成】 ステージベース１と、ステージベース１上に
Ｘ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネット
２Ｘと、ステージベース１上にＹ方向にＮ，Ｓを等間隔
で交互に配置されたマグネット２Ｙと、ステージベース
上で磁気力でもって浮上し、ＸＹ方向に移動可能なステ
ージ３と、ステージ３に固定された３個以上の磁気水平
フォーサ４Ｈと、ステージに固定されステージを浮上さ
せる３個以上の磁気垂直フォーサ４Ｖと、ステージのＸ
Ｙθ方向の位置を計測する手段５と、ステージと前記ス
テージベースのギャップを測定する３個以上のギャップ
センサー７より構成されており、精密な位置決めが可能
なステージが得られる。
の小型化が図れるという優れた特性を持つ精密１段６自
由度ステージを提供することを目的とする。 【構成】 ステージベース１と、ステージベース１上に
Ｘ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネット
２Ｘと、ステージベース１上にＹ方向にＮ，Ｓを等間隔
で交互に配置されたマグネット２Ｙと、ステージベース
上で磁気力でもって浮上し、ＸＹ方向に移動可能なステ
ージ３と、ステージ３に固定された３個以上の磁気水平
フォーサ４Ｈと、ステージに固定されステージを浮上さ
せる３個以上の磁気垂直フォーサ４Ｖと、ステージのＸ
Ｙθ方向の位置を計測する手段５と、ステージと前記ス
テージベースのギャップを測定する３個以上のギャップ
センサー７より構成されており、精密な位置決めが可能
なステージが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体露光装置等に用
いられる精密ステージに関する。
いられる精密ステージに関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体露光装置のステージは、ウェハを
ＸＹＺθαβの６自由度で精密に位置決めする必要があ
り、従来より、６軸のステージを段重ねにしたステージ
が使用されている。しかしながら、６軸のステージを段
重ねにしたステージではステージが大きくなり、軽量化
が困難で、ステージの高速化が難しかった。そこで近
年、ＸＹの２軸を１段で構成するプレーナモータが考案
され、一部半導体露光装置に適用され始めている。
ＸＹＺθαβの６自由度で精密に位置決めする必要があ
り、従来より、６軸のステージを段重ねにしたステージ
が使用されている。しかしながら、６軸のステージを段
重ねにしたステージではステージが大きくなり、軽量化
が困難で、ステージの高速化が難しかった。そこで近
年、ＸＹの２軸を１段で構成するプレーナモータが考案
され、一部半導体露光装置に適用され始めている。
【０００３】図３は、“白木学他：リニアサーボモータ
とシステム設計、総合電子出版社、Ｐ２０”に示される
従来のプレーナモータの一例で、自動製図機に用いられ
ているものである。図３は、前記プレーナモータのステ
ージを底部を上にしたもので、２０はステージ、２１，
２２はＸフォーサ、２３，２４はＹフォーサ、２５，２
６，２７，２８はエアーベアリングのオリフィスであ
る。ステージ２０は、エアーベアリングによって、ステ
ージベース（図示せず）から浮上し、非接触でステージ
ベース上を移動することができる。Ｘ方向に移動は、Ｘ
フォーサ２１，２２の励磁を順次切り替えることにより
行われる。Ｙ方向の移動は、同様にＹフォーサ２３，２
４の励磁を順次切り替えることにより行われる。
とシステム設計、総合電子出版社、Ｐ２０”に示される
従来のプレーナモータの一例で、自動製図機に用いられ
ているものである。図３は、前記プレーナモータのステ
ージを底部を上にしたもので、２０はステージ、２１，
２２はＸフォーサ、２３，２４はＹフォーサ、２５，２
６，２７，２８はエアーベアリングのオリフィスであ
る。ステージ２０は、エアーベアリングによって、ステ
ージベース（図示せず）から浮上し、非接触でステージ
ベース上を移動することができる。Ｘ方向に移動は、Ｘ
フォーサ２１，２２の励磁を順次切り替えることにより
行われる。Ｙ方向の移動は、同様にＹフォーサ２３，２
４の励磁を順次切り替えることにより行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
例では、ステージの浮上にエアーベアリングを用いてい
るためＺαβ方向の制御ができず、Ｚαβのステージを
別に設けなければならない。また、エアーベアリングか
ら出るエアーがゴミを舞い上げ、半導体の歩留まりを悪
化させるという欠点を有していた。
例では、ステージの浮上にエアーベアリングを用いてい
るためＺαβ方向の制御ができず、Ｚαβのステージを
別に設けなければならない。また、エアーベアリングか
ら出るエアーがゴミを舞い上げ、半導体の歩留まりを悪
化させるという欠点を有していた。
【０００５】そこで、本発明はＺαβ方向の制御がで
き、エアーがゴミを舞い上げない半導体露光装置用精密
１段６自由度ステージを提供するものである。
き、エアーがゴミを舞い上げない半導体露光装置用精密
１段６自由度ステージを提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記欠点に鑑
み、ステージベースと、ステージベース上にＸ方向に
Ｎ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネットと、ステ
ージベース上にＹ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置さ
れたマグネットと、ステージベース上で磁気力でもって
浮上し、ＸＹ方向に移動可能なステージと、ステージに
固定された３個以上の磁気水平フォーサと、ステージに
固定されステージを浮上させる３個以上の磁気垂直フォ
ーサと、ステージのＸＹθ方向の位置を計測する手段
と、ステージと前記ステージベースのギャップを測定す
る３個以上のギャップセンサーより構成される。
み、ステージベースと、ステージベース上にＸ方向に
Ｎ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネットと、ステ
ージベース上にＹ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置さ
れたマグネットと、ステージベース上で磁気力でもって
浮上し、ＸＹ方向に移動可能なステージと、ステージに
固定された３個以上の磁気水平フォーサと、ステージに
固定されステージを浮上させる３個以上の磁気垂直フォ
ーサと、ステージのＸＹθ方向の位置を計測する手段
と、ステージと前記ステージベースのギャップを測定す
る３個以上のギャップセンサーより構成される。
【０００７】
【作用】本発明によれば、ステージの浮上が磁気垂直フ
ォーサとギャップセンサーによって制御されているた
め、Ｚαβの制御が可能で、また、前記従来例のように
ゴミをエアーによって舞い上げることもなく、半導体の
歩留まりを悪化させることもない。またＸＹθ方向につ
いてもステージに摩擦力が発生しないため、従来例と同
様に精密な位置決めが可能である。
ォーサとギャップセンサーによって制御されているた
め、Ｚαβの制御が可能で、また、前記従来例のように
ゴミをエアーによって舞い上げることもなく、半導体の
歩留まりを悪化させることもない。またＸＹθ方向につ
いてもステージに摩擦力が発生しないため、従来例と同
様に精密な位置決めが可能である。
【０００８】
【実施例】以下本発明の一実施例に付いて図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【０００９】図１において、１はステージベース、２Ｘ
はステージベース１上にＸ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互
に配置されたマグネット、２Ｙはステージベース１上に
Ｙ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネッ
ト、３はステージベース１上で磁気力でもって浮上し、
ＸＹ方向に移動可能なステージ、４ａ，４ｂ，４ｃはス
テージに固定された３個の磁気フォーサでそれぞれ水平
磁気フォーサと磁気垂直フォーサよりなる。５はステー
ジ３のＸＹθ方向の位置を計測するレーザー測長器、６
はＬ型ミラー、７はステージ３とステージベース１のギ
ャップを測定する３個のギャップセンサーである。
はステージベース１上にＸ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互
に配置されたマグネット、２Ｙはステージベース１上に
Ｙ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネッ
ト、３はステージベース１上で磁気力でもって浮上し、
ＸＹ方向に移動可能なステージ、４ａ，４ｂ，４ｃはス
テージに固定された３個の磁気フォーサでそれぞれ水平
磁気フォーサと磁気垂直フォーサよりなる。５はステー
ジ３のＸＹθ方向の位置を計測するレーザー測長器、６
はＬ型ミラー、７はステージ３とステージベース１のギ
ャップを測定する３個のギャップセンサーである。
【００１０】図２は、磁気フォーサ４ａ，４ｂ，４ｃの
一部を拡大したもので、２は前述したマグネット、４Ｈ
は磁気水平フォーサ、４Ｖは磁気垂直フォーサ、８はマ
グネット２との間でローレンツ力を発生する磁気水平フ
ォーサのコイル、９はマグネット２の磁界を検出し、コ
イル８が最適なローレンツ力を発生するようコイル８の
電流を切り替えるためのホール素子、１０はマグネット
２との間で斥力を発生する磁気垂直フォーサのコイル、
１１はマグネット２の磁界を検出し、コイル１０が最適
な斥力を発生するようコイル１０の電流を切り替えるた
めのホール素子である。次に前記実施例の動作について
説明する。ステージ３の浮上は、コイル１１に電流を流
すことにより行われる。コイル１１の電流の向きは、ホ
ール素子１１がマグネット２の磁界を検出することによ
り、マグネット２との間に斥力が生じるように制御され
る。また、浮上量は３つのギャップセンサー７からの信
号を基に、コイル１１の電流量を制御し、所望の浮上量
（Ｚ）及び傾き（αβ）が得られるようになっている。
一部を拡大したもので、２は前述したマグネット、４Ｈ
は磁気水平フォーサ、４Ｖは磁気垂直フォーサ、８はマ
グネット２との間でローレンツ力を発生する磁気水平フ
ォーサのコイル、９はマグネット２の磁界を検出し、コ
イル８が最適なローレンツ力を発生するようコイル８の
電流を切り替えるためのホール素子、１０はマグネット
２との間で斥力を発生する磁気垂直フォーサのコイル、
１１はマグネット２の磁界を検出し、コイル１０が最適
な斥力を発生するようコイル１０の電流を切り替えるた
めのホール素子である。次に前記実施例の動作について
説明する。ステージ３の浮上は、コイル１１に電流を流
すことにより行われる。コイル１１の電流の向きは、ホ
ール素子１１がマグネット２の磁界を検出することによ
り、マグネット２との間に斥力が生じるように制御され
る。また、浮上量は３つのギャップセンサー７からの信
号を基に、コイル１１の電流量を制御し、所望の浮上量
（Ｚ）及び傾き（αβ）が得られるようになっている。
【００１１】水平方向の動きに関しては、コイル８に電
流を流して行われる。コイル８の電流の向きは、ホール
素子９がマグネット２の磁界を検出してマグネット２と
の間にローレンツ力が発生するように制御される。ロー
レンツ力の大きさの制御は、レーザー測長器およびＬ型
ミラーから得られるステージ３のＸＹθの位置情報と所
望の位置との偏差を基に、コイル８の電流量を制御して
行われ、ステージ３の所望のＸＹθの位置が得られるよ
うになっている。
流を流して行われる。コイル８の電流の向きは、ホール
素子９がマグネット２の磁界を検出してマグネット２と
の間にローレンツ力が発生するように制御される。ロー
レンツ力の大きさの制御は、レーザー測長器およびＬ型
ミラーから得られるステージ３のＸＹθの位置情報と所
望の位置との偏差を基に、コイル８の電流量を制御して
行われ、ステージ３の所望のＸＹθの位置が得られるよ
うになっている。
【００１２】なお前記ステージは、ＸＹθＺαβの６自
由度のうち、ＸＹの２自由度については大ストローク
が、その他の４自由度については微小ストロークが得ら
れるようになっている。
由度のうち、ＸＹの２自由度については大ストローク
が、その他の４自由度については微小ストロークが得ら
れるようになっている。
【００１３】このように本実施例によれば、ステージの
浮上が磁気垂直フォーサとギャップセンサーによって制
御されているため、Ｚαβの制御が可能で、また、前記
従来例のようにゴミをエアーによって舞い上げることも
なく、半導体の歩留まりを悪化させることもない。また
ＸＹθ方向についてもステージに摩擦力が発生しないた
め、従来例と同様に精密な位置決めが可能である。
浮上が磁気垂直フォーサとギャップセンサーによって制
御されているため、Ｚαβの制御が可能で、また、前記
従来例のようにゴミをエアーによって舞い上げることも
なく、半導体の歩留まりを悪化させることもない。また
ＸＹθ方向についてもステージに摩擦力が発生しないた
め、従来例と同様に精密な位置決めが可能である。
【００１４】なお、前記実施例では、コイル８及びコイ
ル１０の電流方向の切り替えをホール素子９及び１１を
用いて行っているが、これは例えばレーザー測長器５か
ら得られる位置情報を基にマイクロコンピュータ等で切
り替えてもよい。
ル１０の電流方向の切り替えをホール素子９及び１１を
用いて行っているが、これは例えばレーザー測長器５か
ら得られる位置情報を基にマイクロコンピュータ等で切
り替えてもよい。
【００１５】
【発明の効果】このように本発明によれば、ステージベ
ースと、ステージベース上にＸ方向にＮ，Ｓを等間隔で
交互に配置されたマグネットと、ステージベース上にＹ
方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネット
と、ステージベース上で磁気力でもって浮上し、ＸＹ方
向に移動可能なステージと、ステージに固定された３個
以上の磁気水平フォーサと、ステージに固定されステー
ジを浮上させる３個以上の磁気垂直フォーサと、ステー
ジのＸＹθ方向の位置を計測する手段と、ステージと前
記ステージベースのギャップを測定する３個以上のギャ
ップセンサーより構成されており、ステージの浮上が磁
気垂直フォーサとギャップセンサーによって制御されて
いるため、Ｚαβの制御が可能で、また、前記従来例の
ようにゴミをエアーによって舞い上げることもなく、半
導体の歩留まりを悪化させることもない。またＸ，Ｙ，
θ方向についてもステージに摩擦力が発生しないため、
従来例と同様に精密な位置決めが可能であり。その工業
的価値には大なるものがある。
ースと、ステージベース上にＸ方向にＮ，Ｓを等間隔で
交互に配置されたマグネットと、ステージベース上にＹ
方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネット
と、ステージベース上で磁気力でもって浮上し、ＸＹ方
向に移動可能なステージと、ステージに固定された３個
以上の磁気水平フォーサと、ステージに固定されステー
ジを浮上させる３個以上の磁気垂直フォーサと、ステー
ジのＸＹθ方向の位置を計測する手段と、ステージと前
記ステージベースのギャップを測定する３個以上のギャ
ップセンサーより構成されており、ステージの浮上が磁
気垂直フォーサとギャップセンサーによって制御されて
いるため、Ｚαβの制御が可能で、また、前記従来例の
ようにゴミをエアーによって舞い上げることもなく、半
導体の歩留まりを悪化させることもない。またＸ，Ｙ，
θ方向についてもステージに摩擦力が発生しないため、
従来例と同様に精密な位置決めが可能であり。その工業
的価値には大なるものがある。
【図１】本発明の一実施例である精密１段６自由度ステ
ージの斜視図
ージの斜視図
【図２】同磁気フォーサの拡大図
【図３】従来のプレーナモータの斜視図
１ ステージベース ２ マグネット ３ ステージ ４ 磁気フォーサ ５ レーザー測長器 ６ Ｌ型ミラー ７ ギャップセンサー ８ コイル ９ ホール素子 １０ コイル １１ ホール素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｋ 8418−4Ｍ
Claims (2)
- 【請求項１】 ステージベースと、前記ステージベース
上にＸ方向にＮ，Ｓを等間隔で交互に配置されたマグネ
ットと、前記ステージベース上に、Ｙ方向にＮ，Ｓを等
間隔で交互に配置されたマグネットと、前記ステージベ
ース上で磁気力でもって浮上し、ＸＹ方向に移動可能な
ステージと、前記ステージに固定された３個以上の磁気
水平フォーサーと、前記ステージに固定され前記ステー
ジを浮上させる３個以上の磁気垂直フォーサと、前記ス
テージのＸＹθ方向の位置を計測する手段と、前記ステ
ージと前記ステージベースのギャップを測定する３個以
上のギャップセンサーよりなる精密１段６自由度ステー
ジ。 - 【請求項２】 前記水平フォーサー及び前記垂直フォー
サーの電流切り替えがホール素子によって行われる請求
項１記載の精密１段６自由度ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21836791A JP3216157B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 精密１段６自由度ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21836791A JP3216157B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 精密１段６自由度ステージ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0557550A true JPH0557550A (ja) | 1993-03-09 |
| JP3216157B2 JP3216157B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=16718785
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21836791A Expired - Fee Related JP3216157B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 精密１段６自由度ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3216157B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5925956A (en) * | 1995-06-30 | 1999-07-20 | Nikon Corporation | Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage |
| WO2000007765A3 (de) * | 1998-08-07 | 2000-05-11 | W I T Wiemers Innovative Techn | Verfahren und vorrichtung zur mechanischen bearbeitung von werkstücken und zur montage/demontage von baugruppen |
| WO2001081040A1 (de) * | 2000-04-20 | 2001-11-01 | Index-Werke Gmbh & Co. Kg Hahn & Tessky | Werkzeugmaschine |
| US6879063B2 (en) | 1999-09-02 | 2005-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Displacement device |
| US7602091B2 (en) | 2004-02-25 | 2009-10-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and exposure apparatus |
| WO2010078120A3 (en) * | 2008-12-31 | 2010-10-07 | Electro Scientific Industries, Inc. | Monolithic stage positioning system and method |
| CN103481255A (zh) * | 2013-09-27 | 2014-01-01 | 苏州凯欧机械科技有限公司 | 一种新型交叉磁体驱动式工作台 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102681349B (zh) * | 2011-03-15 | 2015-01-21 | 上海微电子装备有限公司 | 工件台 |
| CN102758875B (zh) * | 2012-07-09 | 2014-04-09 | 哈尔滨工业大学 | 磁悬浮平衡质量框架 |
-
1991
- 1991-08-29 JP JP21836791A patent/JP3216157B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5925956A (en) * | 1995-06-30 | 1999-07-20 | Nikon Corporation | Stage construction incorporating magnetically levitated movable stage |
| WO2000007765A3 (de) * | 1998-08-07 | 2000-05-11 | W I T Wiemers Innovative Techn | Verfahren und vorrichtung zur mechanischen bearbeitung von werkstücken und zur montage/demontage von baugruppen |
| US6879063B2 (en) | 1999-09-02 | 2005-04-12 | Asml Netherlands B.V. | Displacement device |
| WO2001081040A1 (de) * | 2000-04-20 | 2001-11-01 | Index-Werke Gmbh & Co. Kg Hahn & Tessky | Werkzeugmaschine |
| US7602091B2 (en) | 2004-02-25 | 2009-10-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning apparatus and exposure apparatus |
| WO2010078120A3 (en) * | 2008-12-31 | 2010-10-07 | Electro Scientific Industries, Inc. | Monolithic stage positioning system and method |
| US8084896B2 (en) | 2008-12-31 | 2011-12-27 | Electro Scientific Industries, Inc. | Monolithic stage positioning system and method |
| JP2012514336A (ja) * | 2008-12-31 | 2012-06-21 | エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド | 一体式ステージ位置決めシステム及び方法 |
| TWI498187B (zh) * | 2008-12-31 | 2015-09-01 | 伊雷克托科學工業股份有限公司 | 整體平台定位系統和方法 |
| CN103481255A (zh) * | 2013-09-27 | 2014-01-01 | 苏州凯欧机械科技有限公司 | 一种新型交叉磁体驱动式工作台 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3216157B2 (ja) | 2001-10-09 |
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