JPH0557839U - 基板の回転式現像処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の表面に現像液ミストが付着するのを極
力防止して、基板の品質向上を図る。 【構成】 基板1を略水平に保持して回転するスピンチ
ャック2と、スピンチャック2で保持した基板1に現像液
を供給するノズル8と、上下に分離可能な上筒カバー14
と裾拡がり状の下筒カバー15とから成り、基板1の回転処
理に際して基板1を囲うように合体する飛散防止カバー1
3と、飛散防止カバー13を囲うように設けられ、処理液を
回収する外容器20とにより回転式現像処理装置を構成す
る。外容器20の底壁20aの、 飛散防止カバー13の囲い領域
内に、 排気出口23aを開口し、 負圧排気通路23と連通す
る。上記下筒カバー15の下端部に、 下方へ向かって小径
となる排気案内板15cを形成する。この排気案内板15c
は、 飛散防止カバー13と外容器20の間に停留する、 現像
液ミストを含む空気を効果的に流下させる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、半導体ウエハ、ＬＣＤ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板 、光ディスク用の基板等（以下単に基板という）をスピンチャックで回転可能に 保持して、当該基板に塗布されているポジ・フォトレジスト、ネガ・フォトレジ スト等の感光性樹脂を現像するための、基板の回転式現像処理装置に関する。

【０００２】

【本考案の基本構造】

この回転式現像処理装置は、例えば図１及び図３に示すような基本構造を有す るものを前提とする。 即ち、この回転式現像処理装置は、基板１を略水平に保持して回転するスピン チャック２と、スピンチャック２で保持した基板１の上面に現像液を供給するノ ズル８と、上下に分離合体可能な上筒カバー１４と裾拡がり状の下筒カバー１５ とから成り、基板１の回転処理に際して基板１を囲う飛散防止カバー１３と、飛 散防止カバー１３を囲うように設けられ、処理液を回収する外容器２０と、上記 飛散防止カバー１３の囲い領域内で、外容器２０の底壁２０ａに排気出口２３ａ を開口した負圧排気通路２３とを具備して成る。 なお、上筒カバー１４と下筒カバー１５とは、分離合体に際して摩耗塵が発生 するのを回避するため、その合体状態では両者の合わせ目に若干の隙間ｄができ るように造られている。

【０００３】

【従来の技術】

上記基本構造において、従来では裾拡がり状の下筒カバー１５は、図３で示す ように、その下端部１５ｂが真っすぐ下方へ向くように形成されている。 この回転式現像処理装置は、例えば図４(イ)〜(ニ)に示す手順で、基板の現像 処理が行われる。 即ち、同図(イ)では、上筒カバー１４と下筒カバー１５とが合体した状態で、 スピンチャック２が飛散防止カバー１３の上側まで上昇して基板１を受け取り、 再びもとの位置まで下降する。 同図(ロ)では、上筒カバー１４だけが上昇して両カバー１４・１５が分離し、 分離した状態でノズル８より基板１に現像液を供給し、スピンチャック２は静止 ないし低速回転しつつ基板表面のフォトレジストを現像する。

【０００４】 同図(ハ)では、上筒カバー１４と下筒カバー１５とが合体した状態で、飛散防 止カバー１３全体が上昇し、下筒カバー１５の傾斜壁面１５ａを基板保持面の高 さに位置させ、スピンチャック２を高速回転させて現像液を振り切り、引き続き 洗浄液を基板１の表面に供給してリンス処理をする。なお、同図(ロ)〜(ハ)では 外容器２０内を強制排気しながら処理をする。 同図(ニ)では、上筒カバー１４と下筒カバー１５とが合体した状態で、飛散防 止カバー１３全体が下降し、もとの位置に復帰するとともに、スピンチャック２ が上昇して基板１を引き渡す。上記(イ)〜(ニ)の一連の動作を繰り返すことによ り、次々と基板の現像処理がなされる。

【０００５】

【考案が解決しようとする課題】

ところが上記従来例のものにあっては、例えば上記図４(ハ)の現像液の振り切 り処理において、現像液のミストが基板１の表面に付着してパーティクルを発生 させる問題点があった。 本考案はこのような事情を考慮してなされたもので、基板１の表面に現像液ミ ストが付着するのを防止して、基板の品質向上を図ることを技術課題とする。

【０００６】

【考案の経過】

かかる技術課題を解決するために本考案者らが鋭意検討した結果、問題点の原 因が以下の点にあることを突き止め、本考案に想到した。 即ち、前記図４(ロ)のカバー分離状態での現像液供給時に、現像液のミストが 外容器２０と飛散防止カバー１３との間の空間に入り込んでいた。 一方、前記図４(ハ)のカバー合体状態において、飛散防止カバー１３が上昇し た位置では、飛散防止カバー１３内を強制排気しても、外容器２０と飛散防止カ バー１３との間の空気を十分吸引排気することができず、そのうえ現像液のミス トを多量に含んだ下筒カバー１５の下端部近傍の空気が、外容器２０と飛散防止 カバー１３との間の空間に漏れ出て、そこに溜まっていた。

【０００７】 そして、外容器２０と飛散防止カバー１３との間に溜った現像液のミストを多 量に含んだ空気は、図５で示すように、上筒カバー１４と下筒カバー１５との合 わせ目の隙間ｄから、排気により低圧となっている飛散防止カバー１３内に向か って吸引されて飛散防止カバー１３内に入り込み、現像液ミストが基板１の表面 に付着していたことが判明した。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

本考案は前記課題を解決するために、本考案者らが鋭意検討した結果なされた もので、例えば図１〜図２に示すように構成する。 即ち、前記基本構造を有する基板の回転式現像処理装置において、 上記下筒カバー１５の下端部に、下方へ向かって小径となる排気案内板１５ｃ を形成したことを特徴とするものである。

【０００９】

【作 用】

本考案では、下筒カバー１５の下端部に、下方へ向かって小径となる排気案内 板１５ｃを形成したので以下のように作用する。 上筒カバー１４と下筒カバー１５とを合体させ、両者を上昇させた位置で飛散 防止カバー１３内を強制排気すると、飛散防止カバー１３内の空気は下筒カバー １５の下端部に形成された排気案内板１５ｃの内面に沿って、下方へ向かって小 径となる方向に流下して排気される。従って、現像液のミストを多量に含んだ空 気が外側へ漏れ出て溜まってしまうことはない。 他方、排気案内板１５ｃの外面では、上記排気案内板１５ｃの内面に沿って流 下する空気に引っぱられ、アスピレートの原理により外側の空気の排気が促進さ れる。 これにより、外容器２０と飛散防止カバー１３との間の現像液のミストを多量 に含んだ空気は、下方へ吸引排気され、上筒カバー１４と下筒カバー１５との合 わせ目の隙間ｄから飛散防止カバー１３内に入り込むことはなくなる。

【００１０】

【実施例】

以下本考案の実施例を図面に基づいてさらに詳しく説明する。図１は本考案の 実施例に係る回転式現像処理装置の縦断面図、図２はその現像液の振り切り処理 における飛散防止カバーの作用を示す縦断面図である。 この回転式現像処理装置は、前記基本構成を具備して成る。 即ち、基板１を略水平に保持して回転するスピンチャック２と、スピンチャッ ク２で保持した基板１の上面に現像液を供給するノズル８と、基板１の回転処理 に際して基板１を囲う略円筒形の飛散防止カバー１３と、飛散防止カバー１３を 囲うように設けられ、処理液を回収する平面視略矩形の外容器２０と、上記飛散 防止カバー１３の囲い領域内で、外容器２０の底壁２０ａに排気出口２３ａを開 口した負圧排気通路２３とを具備して成る。また、上筒カバー１４と下筒カバー １５とは、その合体状態では両者の合わせ目に若干の隙間ｄができるように造ら れている。

【００１１】 上記スピンチャック２は、図１で示すように、その回転軸３を介して回転可能 に枢支され、基板１を受け渡しする移載位置と基板１に処理液を供給する処理位 置とに昇降切換可能に支持されている。なお、同図中の符号４は回転軸３の外筒 カバー、５は回転軸３を回転する駆動モータ、６は昇降用ガイドである。

【００１２】 上記飛散防止カバー１３は、上下に分離可能な上筒カバー１４と裾拡がり状の 下筒カバー１５とから成り、処理液を回収するための外容器２０内に設けられて いる。そして上筒カバー１４と下筒カバー１５は、それぞれ固定金具１６ａ・１ ６ｂ、支持アーム１７ａ・１７ｂ、支柱１８ａ・１８ｂ、エアシリンダ１９ａ・ １９ｂ、によって別々に昇降可能に支持されており、基板１に現像液を供給する 際には、両者は分離した状態で支持され、この分離した状態では上筒カバー１４ は所定の高さに位置し、下筒カバー１５はその上端がスピンチャック２の基板保 持面よりも下方に位置する。

【００１３】 上記下筒カバー１５には、その下端部に下方へ向かって小径となる排気案内板 １５ｃが形成されている。 この排気案内板１５ｃは、そのすぼまり角度θが水平面に対して約３６゜に設定 され、すぼまり部分の長さｈは約１０mmになるように設定されている。 これにより、この排気案内板１５ｃは、図２で示すように、例えば現像液の振 り切り処理工程において、以下のように作用する。

【００１４】 即ち、上筒カバー１４と下筒カバー１５とを合体させ、両者を上昇させた位置 で飛散防止カバー１３内を強制排気すると、飛散防止カバー１３内の空気は下筒 カバー１５の下端部に形成された排気案内板１５ｃの内面に沿って、下方へ向か って小径となる方向に流下して排気される。従って、現像液のミストを多量に含 んだ空気が外側、つまり飛散防止カバー１３と外容器２０との間側へ漏れ出て溜 まってしまうことはなくなる。 他方、排気案内板１５ｃの外面側では、上記排気案内板１５ｃの内面に沿って 流下する空気に引っぱられ、アスピレートの原理により外側の空気の排気が促進 される。 これにより、外容器２０と飛散防止カバー１３との間の現像液のミストを多量 に含んだ空気は、下方へ吸引排気され、上筒カバー１４と下筒カバー１５との合 わせ目の隙間ｄから飛散防止カバー１３内に入り込むことはなくなる。

【００１５】 上記現像液を供給するノズル８は、支持アーム１０に固定され、支軸１１を介 して水平揺動可能に支持され、ノズル掃引用モータ１２によって水平揺動されな がら基板１の上面に現像液を供給するように構成されている。 上記ノズル８には、現像液を供給するパイプと純水を供給するパイプとが接続 され、両液のうちいずれか一方を選択して単一の吐出ノズル８より供給するよう に構成されている。なお、このノズル８の他に、図示しないプリウエットノズル 、リンス液供給ノズル、Ｎ₂ガス供給ノズル等が適宜付設配置されている。

【００１６】 なお、上記ノズル８は、上筒カバー１４と下筒カバー１５との離間高さ内に位 置するように設けられており、両者を分離した状態で駆動モータ１２を正転させ ることにより、基板１上でノズル８の支持アーム１０を掃引させながら、ノズル ８より現像液を吐出するように構成されている。なお、このノズル８は、現像液 を平面視で扇形に散布する。

【００１７】 上記外容器２０は飛散防止カバー１３を囲うように設けられ、その底壁２０ａ には処理液を回収する排液出口２２ａと排気出口２３ａとが開口されている。 上記排気出口２３ａは、飛散防止カバー１３の囲い領域よりも内側、つまり底 壁２０ａのスピンチャック１寄りの傾斜部に位置するように開口され、それぞれ 排液出口２２ａには排液ドレン２２が、排気出口２３ａには負圧排気通路２３が 連通連結され、上記負圧排気通路２３には、図示しない強制排気手段が接続され ている。なお、符号２１は外容器２０の支持具である。

【００１８】 上記実施例装置は、前記図４(イ)〜(ニ)と同様の一連の動作を繰り返すことに より、次々と基板の現像処理をするように構成されている。 なお、本考案は上記実施例に限るものではなく、上記排気出口２３ａは、飛散 防止カバー１３の囲い領域よりも内側であれば良く、外容器２０の側壁や底壁の 形状についても、適宜変更を加えて実施し得ることは多言を要しない。

【００１９】

【考案の効果】

本考案は上記のように、下筒カバーの下端部に下方へ向かって小径となる排気 案内板を形成したので、外容器と飛散防止カバーとの空間に存在する現像液のミ ストを多量に含んだ空気は、アスピレートの原理により下方へ吸引排気され、上 筒カバーと下筒カバーとの合わせ目の隙間から飛散防止カバー内に入り込むこと はなくなる。 これにより、基板の表面に現像液ミストが付着するのを防止することができ、 基板の品質向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の実施例に係る回転式現像処理装置の縦
断面図である。

【図２】本実施例の現像液の振り切り処理における飛散
防止カバーの作用を示す縦断面図である。

【図３】従来例に係る回転式現像処理装置の縦断面図で
ある。

【図４】回転式現像処理装置の一般的な動作説明図であ
る。

【図５】従来例の現像液の振り切り処理における飛散防
止カバーの作用を示す縦断面図である。

【符号の説明】

１…基板、 ２…スピンチャック、８
…現像液供給ノズル、 １３…飛散防止カバー、１４
…上筒カバー、 １５…下筒カバー、１５ｃ…
排気案内板、 ２０…外容器、２３…負圧排気通
路、 ２３ａ…排気出口。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を略水平に保持して回転するスピン
   チャックと、 スピンチャックで保持した基板の上面に現像液を供給す
   るノズルと、 上下に分離可能な上筒カバーと裾拡がり状の下筒カバー
   とから成り、基板の回転処理に際して基板を囲うように
   合体する飛散防止カバーと、 飛散防止カバーを囲うように設けられ、処理液を回収す
   る外容器と、 上記飛散防止カバーの囲い領域内で、外容器の底壁に排
   気出口を開口した負圧排気通路とを備えて成る基板の回
   転式現像処理装置において、 上記下筒カバーの下端部に、下方へ向かって小径となる
   排気案内板を形成したことを特徴とする基板の回転式現
   像処理装置。