JPH055845U - 高周波焼入装置 - Google Patents
高周波焼入装置Info
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- JPH055845U JPH055845U JP061691U JP6169191U JPH055845U JP H055845 U JPH055845 U JP H055845U JP 061691 U JP061691 U JP 061691U JP 6169191 U JP6169191 U JP 6169191U JP H055845 U JPH055845 U JP H055845U
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ワークの環状の周面に均一な硬化層を形成
し、しかもワークに歪みを発生させない。 【構成】 高周波焼入装置は、ローラ90の環状の周面91
を加熱する環状の高周波加熱コイル50と、加熱されたロ
ーラ90が浸漬される冷却液Lが満載された冷却液タンク
20と、冷却液L中に浸漬されたローラ90の周面91に冷却
液Lを噴射する環状のジャケット10と、ジャケット10に
冷却液Lを供給するポンプ29と、冷却液タンク20の下部
から冷却液Lを排出し、且つ排出する冷却液Lの量を制
御するバルブ24と備えている。
し、しかもワークに歪みを発生させない。 【構成】 高周波焼入装置は、ローラ90の環状の周面91
を加熱する環状の高周波加熱コイル50と、加熱されたロ
ーラ90が浸漬される冷却液Lが満載された冷却液タンク
20と、冷却液L中に浸漬されたローラ90の周面91に冷却
液Lを噴射する環状のジャケット10と、ジャケット10に
冷却液Lを供給するポンプ29と、冷却液タンク20の下部
から冷却液Lを排出し、且つ排出する冷却液Lの量を制
御するバルブ24と備えている。
Description
【0001】
本考案は、ワークを高周波加熱後、冷却液中に浸漬してワークを冷却する高周
波焼入装置に関する。
【0002】
以下、従来の高周波焼入装置の概略説明図である図2を参照し、ローラの周面
を焼入する場合を例にとって従来の技術を説明する。環状の高周波加熱コイル50
によって周面91が加熱されたローラ90は、図示しないワーク昇降回転装置によっ
て冷却液タンク20内に一杯に収容された冷却液L中に降下浸漬される。次いで、
ローラ90の周面91に対向するように冷却液L中に配設されている環状のジャケッ
ト10から冷却液Lを噴射して周面91を冷却して焼入を終了する。なお、ローラ90
は高周波加熱中および冷却中前記ワーク昇降回転装置によってローラ90の軸92を
中心として回転されている。そして、ジャケット10から冷却液Lが噴射されてい
る間は、冷却液Lが冷却液タンク20の頂部から溢れて下方へ落下する。
【0003】
ローラ90を上記のように焼入する場合、冷却液タンク20から排出される冷却液
Lは、冷却液タンク20の頂部から溢れる冷却液Lのみであるから、冷却液タンク
20内においては、冷却液Lは上方に流れることになり、従って、ジャケット10か
ら側方に噴射された冷却液Lは、若干上向きの流れとなってローラ90の周面91に
到達する。この結果、噴射された冷却液Lは、周面91の下部よりも上部により多
く到達するので、上部が下部よりも余計に冷却されることとなる。従って、周面
91がその全体にわたって均一に冷却されることにはならないから、周面91に形成
された硬化層の深さが均一でなく、また、ローラ90の歪みも発生する。
【0004】
本考案は上記事情に鑑みて創案されたものであって、ローラや歯車等の周面、
即ち、ワークの環状の周面に均一な硬化層を形成することができ且つワークの歪
みも少ない高周波焼入装置を提供することを目的としている。
【0005】
上記問題を解決するために、本考案の高周波焼入装置は、ワークの環状の周面
を焼入する高周波焼入装置において、前記周面を加熱する環状の高周波加熱コイ
ルと、加熱されたワークが浸漬される冷却液が満載された冷却液タンクと、冷却
液中に浸漬されたワークの周面に冷却液を噴射する環状のジャケットと、ジャケ
ットに冷却液を供給する手段と、冷却液タンクの下部から冷却液を排出し、且つ
排出する冷却液の量を制御する手段とを備えている。
【0006】
そして、冷却液を排出し、且つ排出する冷却液の量を制御する手段を、冷却液
タンクの下部に取り付けた冷却液排出管と、この冷却液排出管に設けたバルブと
することができる。
【0007】
以下、図面を参照して本考案の一実施例を説明する。図1は本実施例の説明図
であって、同図に示すように、本実施例の高周波焼入装置は、ワークであるロー
ラ90の周面91を加熱する環状の高周波加熱コイル50と、高周波加熱コイル50によ
って加熱されたローラ90が浸漬される冷却液Lが満載された冷却液タンク20と、
冷却液L中に浸漬されたローラ90の周面91に冷却液Lを噴射する環状のジャケッ
ト10と、ジャケット10に冷却液Lを供給するポンプ26と、冷却液タンク20の下部
に取り付けた冷却液排出管23とを備えている。
【0008】
冷却液タンク20の底面22の下方には、底面42と囲壁41とを備えた機械室40が設
けられており、囲壁41は、冷却液タンク20の囲壁21が下方に延設されたものとな
っている。そして、機械室40の底面42の上にはワーク昇降回転装置44が設置され
ている。このワーク昇降回転装置44には上方にワーク支持杆43が突設されており
、ワーク昇降回転装置44はワーク支持杆43を昇降および例えば矢印Pの方向に回
転することができる。ワーク支持杆43の先端には、ローラ90が載置される。
【0009】
機械室40および冷却液タンク20を取り囲むように冷却液タンク30が設けられて
いる。冷却液タンク30の底面32は、機械室40の底面42とほぼ同じ平面上に設置さ
れており、冷却液タンク30の囲壁31の頂部は、冷却液タンク20の頂部より若干高
めに形成されている。
【0010】
ジャケット10と冷却液タンク30の底面32とは、配管25で接続されており、この
配管25に電磁弁28、バルブ27および前記ポンプ26が設けられている。冷却液タン
ク20の囲壁21の下部には、冷却液排出管23が冷却液タンク30内に突出するように
取り付けられており、この冷却液排出管23には、バルブ24および電磁弁24a が設
けられている。
【0011】
次に、本実施例の動作について説明する。まず、電磁弁24a と28を開き、冷却
液タンク20に冷却液Lを満載し、且つ冷却液タンク30に適宜の深さまで冷却液L
を入れる。そして、バルブ24、27を開くと共に、ポンプ26を起動するとジャケッ
ト10からの冷却液Lの噴射が開始され、冷却液排出管23から冷却液Lが冷却液タ
ンク30内に落下し始める。バルブ24の開度は予め適宜にして、冷却液排出管23か
ら排出される冷却液量が、ポンプ26がジャケット10に供給する冷却液量の約半分
になるようにしておく。
【0012】
ワーク昇降回転装置44によってワーク支持杆43を最も上昇させ、ワーク支持杆
43の先端にローラ90を載置する。次いで、ワーク支持杆43を降下させてローラ90
の周面91を高周波加熱コイル50に対向させた後、ワーク昇降回転装置44によって
ローラ90を軸92を中心として回転させながら、高周波加熱コイル50に高周波電流
を所定時間通電する。この後、ローラ90の回転を低速にするか、または停止して
から、ワーク支持杆43を降下してローラ90を冷却液L中に浸漬してローラ90の周
面91をジャケット10に対向させると、ジャケット10から噴射された冷却液Lは、
冷却液排出管23から冷却液タンク30内に排出されるのみではなく、冷却液タンク
20の頂部から溢れて同じく冷却液タンク30内に排出される。冷却液タンク30内に
排出された冷却液Lは再びポンプ26によってジャケット10に供給される。
【0013】
ジャケット10から噴射された冷却液Lは、ローラ90の周面91に当たって周面91
を冷却する。この際、ジャケット10から噴射された冷却液Lの冷却液タンク20外
への排出は、前記のように冷却液タンク20の頂部から溢れる冷却液Lと、冷却液
タンク20の下部に設けた冷却液排出管23から排出される冷却液Lとにほぼ2分さ
れるから、ジャケット10から噴射された冷却液Lは、ローラ90の周面91に至る間
では、殆ど噴射された方向に進出して周面91に当たる。即ち、周面91は全体にわ
たって均一な冷却液Lの噴射を受けるので、周面91には均一な硬化層が形成され
る。しかも、ローラ90には歪みが発生しない。
【0014】
次に、他の実施例を図2を参照して説明する。図1で説明したものと同等のも
には同一の符号を付している。この実施例が図1に示す実施例と異なっている点
のみを説明する。図2に示す高周波焼入装置では、冷却液タンク30の底面32の高
さを冷却液タンク20の底面22と同一のレベルとしてあり、冷却液タンク20の下部
には冷却液排出孔20a が設けられている。
【0015】
そして、冷却液タンク30の下部に、冷却液排出管23の一端が接続されており、
冷却液排出管23の他端と、配管25のジャケット10の反対側の端部との間には、冷
却液貯蔵タンク29が設けられている。従って、冷却液タンク20から排出される冷
却液Lは、上部から冷却液タンク30へ溢れ落ちる冷却液Lと、下部の冷却液排出
孔20a から冷却液タンク30に排出される冷却液Lとに別れる。従って、このよう
な高周波焼入装置においても、ジャケット10から噴射された冷却液Lは、ローラ
の周面の全体にわたって均一に当たるので、図1の高周波焼入装置と同様な効果
がえられる。
【0016】
以上説明したように本考案の高周波焼入装置は、ワークの環状の周面を焼入す
る高周波焼入装置において、前記周面を加熱する環状の高周波加熱コイルと、加
熱されたワークが浸漬される冷却液が満載された冷却液タンクと、冷却液中に浸
漬されたワークの周面に冷却液を噴射する環状のジャケットと、ジャケットに冷
却液を供給する手段と、冷却液タンクの下部から冷却液を排出し、且つ排出する
冷却液の量を制御する手段とを備えている。
【0017】
従って、本考案の高周波焼入装置によれば、冷却液中に浸漬されたワークの環
状の周面にジャケットから噴射される冷却液は、上方にも下方にも変位すること
なくワークの周面に当たるから、ワークの周面が均一に冷却される。従って、ワ
ークの周面に均一の硬化層を形成することができ、しかも、ワークに歪みが発生
しない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例の説明図である。
【図2】本考案の他の実施例の説明図である。
【図3】従来の高周波焼入装置の概略説明図である。
10 ジャケット
20 冷却液タンク
23 冷却液排出管
24 バルブ
26 ポンプ
50 高周波加熱コイル
90 ローラ
91 周面
L 冷却液
Claims (2)
- 【請求項1】 ワークの環状の周面を焼入する高周波焼
入装置において、前記周面を加熱する環状の高周波加熱
コイルと、加熱されたワークが浸漬される冷却液が満載
された冷却液タンクと、冷却液中に浸漬されたワークの
周面に冷却液を噴射する環状のジャケットと、ジャケッ
トに冷却液を供給する手段と、冷却液タンクの下部から
冷却液を排出し、且つ排出する冷却液の量を制御する手
段とを備えたことを特徴とする高周波焼入装置。 - 【請求項2】 冷却液を排出し、且つ排出する冷却液の
量を制御する手段が、冷却液タンクの下部に取り付けた
冷却液排出管と、この冷却液排出管に設けたバルブであ
る請求項1記載の高周波焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991061691U JPH0721565Y2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 高周波焼入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991061691U JPH0721565Y2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 高周波焼入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH055845U true JPH055845U (ja) | 1993-01-26 |
| JPH0721565Y2 JPH0721565Y2 (ja) | 1995-05-17 |
Family
ID=13178534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991061691U Expired - Lifetime JPH0721565Y2 (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 高周波焼入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721565Y2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010024516A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Fuji Electronics Industry Co Ltd | 高周波焼入装置の浸漬冷却装置 |
| CN114807569A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-07-29 | 重庆钢铁集团三峰工业有限公司 | 一种热处理装置 |
| CN116219126A (zh) * | 2023-01-10 | 2023-06-06 | 如皋市伟业机械配件有限公司 | 一种机械配件热处理生产用淬火装置 |
-
1991
- 1991-07-09 JP JP1991061691U patent/JPH0721565Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010024516A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Fuji Electronics Industry Co Ltd | 高周波焼入装置の浸漬冷却装置 |
| CN114807569A (zh) * | 2022-05-30 | 2022-07-29 | 重庆钢铁集团三峰工业有限公司 | 一种热处理装置 |
| CN116219126A (zh) * | 2023-01-10 | 2023-06-06 | 如皋市伟业机械配件有限公司 | 一种机械配件热处理生产用淬火装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0721565Y2 (ja) | 1995-05-17 |
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