JPH055875B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

発明の分野 本発明は炭化水素原料からのオレフインおよび
芳香族炭化水素の製造に関する。特に本発明は炭
化水素を触媒分解のみ、又は接触分解し、ついで
脱水素化することによるオレフインおよび芳香族
炭化水素の製造に関する。さらに本発明は３又は
それ以上の炭素原子を有するオレフインを優先的
に製造するために、および／又は芳香族炭化水
素、特にベンゼンを製造するために、熱担持固形
触媒の連行流の存在下において炭化水素を短い滞
留時間で熱分解する方法に関する。 発明の背景 天然の炭化水素は高温で分解されて、エチレン
およびプロピレンのような有益なオレフイン物質
を生成することは公知である。 エチレンベースのプラスチツク需要に比べてプ
ロビレンベースのプラスチツク需要が増大してい
ることは炭化水素をオレフインに分解する場合、
プロピレン収量を改善するのに有益に作用してい
る。さらに高級オレフイン、例えばC4オレフイ
ンは高オクタン混合成分を供給するための重要な
前駆物質である。即ち、C4オレフインはMTBE
の生産およびアルキル化のための前駆物質であ
る。 しかしながら重炭化水素原料がオレフインに非
触媒的に分解される時、需要に適合する所望の連
産品比率を達成することは事実上不可能である。
即ちエチレンに対するプロピレンの収率はほとん
ど0.55より大きくはない。 再生費用を増大させ、供給を低下させるような
低炭化水素転換においてのみ高い収率が達成可能
である。周知の非触媒分解法の一つは水蒸気の存
在下において高温度で一般的に生ずる熱分解であ
る。オレフインを熱分解によつて得るための機構
は遊離基の点から説明される。高温度において、
ラジカルの開始は炭素−炭素結合のホモリシスに
よつて起こる。いつたん開始すると、遊離基は２
つの主要な反応を経験する。即ち第１はラジカル
のベータ位置での分断であり、第２は水素の引き
抜きによる反応の停止である。ベータ位置におけ
る分断はメチル基が90％の頻度で生成する点まで
続くであろう。メチル基は他の分子から水素原子
を抽出して、メタンおよび他の遊離基を生成する
であろう。エチレンとメタンはこのような遊離基
熱分解反応からの代表的な生成物である。長鎖ラ
ジカルは約10％の頻度で分子から水素を抽出して
C3〜C7パラフインとオレフインを生成する。し
たがつて最初の炭化水素原料中で枝分かれした炭
化水素の結果として主に生じた高級オレフインに
比べて、熱分解はエチレンを高収率で生成する。 C3およりこれより高級のオレフインの生産を
増大させるために、少なくとも１つのアルカンを
含有する軽質炭化水素が硫化水素およびシリカを
含む固体接触物質の存在下で熱分解することがお
こなわれている。［コルツ（Klolts）、米国特許No.
４，471，151］。採用される接触物質、例えばシ
リカゲル、は好ましくは大表面積、即ち、少なく
とも50m²／gmを有している。アルカン原料に対
して0.1〜10モル％のH2S濃度が一般的に前記方
法で採用される。クラツキングの増大はH2Sを分
解する触媒として作用する前記高表面物質に基づ
くものであることが前記米国特許中で推論されて
いる。その結果、転化レベルは向上し、所望の生
成物に対する改良された選択性が得られる。しか
しプロピレンに対する改良された選択性はｎ−ブ
タンを分解する時にのみ実証された。 前記米国特許で採用された固体接触物質は固定
床操作のためにのみ適するが、極めて機械的安定
性が低いため流動床操作には適さない。したがつ
て前記米国特許の固体触媒は固定床用に設計され
た一般的な触媒脱水素触媒の欠点を持ち続ける。
これらの脱水素触媒は大寸法の拡散が限定された
触媒であつて、循環輪システムにおける連続再生
は不可能である。流動化接触分解（FCC）装置
もC3およびそれより高級な化合物を触媒的に製
造するために採用されてもよい。FCC装置は遊
離基熱分解反応機構に比較されるカルボニウムイ
オン機構に基づいてC3〜C7化合物の生産を増大
させるために酸性分解触媒を使用する。しかしな
がら触媒の酸性分解活性は分解と異性化を増大さ
せることに加えて、急速な水素移動を促進させ、
その結果オレフインよりもパラフインの収量が増
大する。されに接触分解装置自体の性質はパラフ
インの製造に適している。接触分解操作における
滞留時間の典型的定義は供給原料が触媒自体と接
触している時間である。この定義は熱反応が感知
できる程度に生じないほど温度が低い場合に受け
入れることができる。しかしながら熱および触媒
反応は平行して進行する。触媒分離が反応の触媒
部分を終わらせる間、熱反応（熱分解）は反応速
度が微少（消失）になる水準まで温度が低下する
まで続く。この状況において、総計の運動滞留時
間は炭化水素を装置に導入する時から反応物から
固形物を分離することを含む流出物の急冷までの
時間として定義される。したがつて転化の合計は
触媒反応（触媒との接触時間）と熱反応（反応温
度における時間）の和である。 代表的なFCC反応環境は固形物分離のための
時間（通常は１秒より大きい）を含む比較的長い
滞留時間を有しており、そして急冷を含まない。
分野は上記長い滞留時間のもとで低温度で生ず
る。転化は触媒との接触が延長することに基づく
上記低い温度で達成される。熱反応は上記低温度
で最少になり、したがつて流出物を急冷する必要
性を減少させる。熱分解に比べてC3およびこれ
より高級な化合物が多く生成するが、流出物は増
大した水素移送活性のための不均衡に高濃度のパ
ラフインを有する。オレフイン製造のための好ま
しい条件、特に高温度と短滞留時間、は反応触媒
又は熱を開始させ、そして維持するために高温度
を必要とするLPGとナフサのような軽質原料を
処理する場合、特に達成が困難である。 上述の方法は全て炭化水素をオレフインに分解
することを改善する。しかしながらこれらの方法
は固定床操作と硫化水素希釈に基づく多量の資本
と操業費用を必要とするか、又は所望のオレフイ
ンの収量を低下させる。また希釈剤として使用さ
れる硫化水素はその極めて高い毒性のため環境お
よび健康上の問題を生ずる。 高次オレフイン、即ち、プロピレン、ブテン、
等は酸性分解触媒単独又は貴金属酸化物脱水素化
触媒の組合せの存在下で、短い滞留時間の流動化
固形物分解環境において炭化水素を分解すること
によつて高収率で得られることが見い出された。
この短い滞留時間は低滞留時間の反応器と、極め
て短い滞留時間の分離システムと、生成物の急冷
との組合せによつて達成される。 したがつて本発明の目的は炭化水素が接触分解
されて、オレフインと芳香族炭化水素を生成し得
る方法を提供することである。 本発明の他の目的は炭化水素を優先的に分解し
てC3〜C5オレフインおよび／又は芳香族炭化水
素を得る方法を提供することである。 本発明の他の目的は触媒システムを変えること
によつて炭化水素を所望の生成物に分解すること
のできる方法を提供することである。 本発明のその他の目的は生成物の熱劣化を回避
しながら炭化水素を優先的に分解してC3〜C5オ
レフインおよび／又は芳香族炭化水素を得る急冷
工程を含む反応システムを提供することである。 発明の概要 本発明は一般的に炭化水素を優先的に分解して
オレフイン、好ましくはC3〜C5オレフイン、お
よび芳香族炭化水素を触媒固形物の酸部位に生成
させ、場合により、生成したパラフイン異性体を
触媒的に脱水素化してオレフインを生成させるた
めの方法に関する。 炭化水素の酸性接触分解は熱分解の遊離基機構
とは違つて、カルボニウムイオン機構によつて進
行する。カルボニウムイオンは炭素−水素結合か
らヒドリドイオンを抽出することにより生成す
る。ヒドリドイオンの抽出およびカルボニウムイ
オンの生成は触媒固形物上の酸部位によつて触媒
作用を受ける。 カルボニウムイオン分解はまたベータ位置で生
じ、これによつてオレフインと第１カルボニウム
イオンを生成させる。第１カルボニウムイオンは
急速なイオンシフト（異性化）を受けて、第２又
は第３のカルボニウムイオンを生成する。これは
ベータ分解規制と組合されて多量のエチレンを同
時に生成することなく、プロピレンを高収率で生
成させる。生成物中に見られるエチレンは競合す
る遊離基分解ルートの結果である。異性化のため
のカルボニウムイオン機構の提供に加えて、触媒
上の酸部位は水素移動を促進させる。本発明が意
図する温度において、熱力学的平衡状態はパラフ
インよりもオレフインに有利であるが、増大した
水素移動活性はパラフインの収量を不均衡に大き
くする。これはイソブチレのような分岐異性体に
対して特に該当する。これらの例において、もし
特定の脱水素化触媒が酸性分解触媒と組合されて
用いられた場合、収量分布は熱力学的平衡の方向
に変動し、所望のオレフインが高濃度で得られ
る。 本発明において、運動（kinetic）滞留時間は
炭化水素が反応領域に導入される点から分解生成
物が急冷される点までの、中間の分離工程の時間
を含んだ合計時間として定義される。これは滞留
時間の測定が分離と急冷の時点の前に終了するよ
うな他の方法から本発明の方法を区別する。これ
は特に重要である。なぜなら炭化水素の接触分解
は常に熱分解と平行して進行するからである。生
成物が触媒的に又は熱的に生成する程度は触媒活
性、触媒の使用量、触媒滞留時間、反応温度分
布、および熱−触媒環境における合計運動滞留時
間の関数である。例えば、高温度における弱酸性
触媒活性は熱分解によつて得られる炭素生成物の
割合を実質的に変えることなくジオレフインの生
成をパラフインとオレフインにシフトさせるため
に使用できる。また、極めて高活性の酸性分解触
媒は熱経路を最少にするために、そして酸性触媒
生成物分布を最大にするためにかなり低温度で使
用できる。さらに接触脱水素化触媒は反応をオレ
フイン製造に適するようにシフトさせるために酸
性分解触媒と組合されて用いられることが発見さ
れた。 本発明はC4〜C7パラフイン、ナフサ、および
軽質ガス油のような炭化水素原料を３〜５の炭素
原子を有する高次オレフインおよび／又は芳香族
炭化水素に熱分解するのに特に適している。しか
しながら本発明の方法は軽質留出物から重質残油
までの広範囲の炭化水素を分解するために広く用
いられることに注目すべきである。 本発明の方法は予熱された炭化水素原料と蒸気
（スチーム）を下降流管状反応器（リアクター）
の頂部へ供給することによつて進行する。同時に
熱触媒固形形はリアクターの頂部に導入され、炭
化水素、蒸気、および触媒固形物は合流して反応
器領域、分離領域および急冷領域を通過し、その
間炭化水素は低い過酷さ、および短い滞留時間で
分解され、そして流出物は品質劣化を防ぐために
安定化される。 管状リアクターは約900〜1500〓、好ましくは
1000〜1300〓そして約10〜100pisaの圧力で操作
され、合計運動滞留時間は約0.05〜2.0秒、好ま
しくは約0.10〜0.5秒である。 分解された流出物から分解された後、触媒固形
物は残留炭化水素を取り除かれ、再生され、そし
て移送ライン内で再加熱されて前記管状リアクタ
ーに戻されて分解工程を続ける。 本発明は短滞留時間の流動化固形物分解装置お
よび短滞留時間の分離装置を使用するのに極めて
良好に適合しており、これらの装置は米国特許
No.4370303（Woebcke他）、米国特許No.4433984
（Gartside他）、および米国特許出願No.084328
（Gartside他）に記載されている。 具体的な触媒固形物および炭化水素に対する触
媒の比率は原料の性質および所望の生成物分布に
基づいて選ばれる。触媒活性および触媒充填は本
発明で採用される短滞留時間での操作温度を規定
し、したがつて接触反応と熱分解反応との間の境
い目を決定するであろう。触媒の形式、酸性分解
触媒のみ又はこれと貴金属酸化脱水素触媒の組合
せはオレフインとパラフイン間の生成物分布をさ
らに決定するであろう。 発明の詳細な記述 上述したように本発明の方法は特にC3〜C5の
オレフインおよび／又は芳香族炭化水素に対する
高選択性を有するオレフインを製造するために、
触媒的に活性な熱担持固形物の存在下で炭化水素
原料を熱分解する手段に向けられている。 原料として用いられる炭化水素は高沸点物のガ
ス油、常圧ガス油、ナフサ、およびC4〜C7パラ
フインを含む。しかしながら本発明は広範囲の炭
化水素を接触分解して所望のオレフインおよび／
又は芳香族炭化水素を製造するために一般的に用
いられる。 図面を参照して、まず、第１図に示すように、
本発明の方法は管状のリアクター２、リアクター
供給器４、分離器６、急冷手段２４、および固形
物ストリツパー８を具備する短滞留時間流動化固
形物クラツキングシステム１（以下、QCシステ
ム）内で実施される。 前記システム１はまた反応後、分解生成物から
分離された触媒固形物を再生する手段を含む。図
示された前記システムは連行床（entrained bed）
加熱器１０、輸送路１２、および流動床容器１４
を含む。加熱器において、触媒固形物は再生さ
れ、そして再加熱される。流動床容器１４におい
て、触媒固形物は燃焼ガスから除去された後、再
度リアクター２に分配される。 操作する場合、熱触媒固形物は流動床容器１４
からリアクター供給器４に入り、ライン１６を通
つて入る蒸気と混合する。炭化水素原料はライン
１８を通つて予熱器２０に入り、ついでライン２
２を通つて管状リアクター２の上部領域に入る。
予熱された炭化水素原料と触媒固形物およびリア
クター供給器４からの蒸気は管状リアクター２を
通つて移動する。熱触媒固形物、蒸気、および予
熱された炭化水素ははリアクター内で密接に接触
し、分解が急速に進行する。 管状リアクター２を出た後、分解された炭化水
素流出物および蒸気は分離器６内で触媒固形物か
らただちに分離され、そして分解された流出生成
物は頂部から急冷領域２４に移行し、ここで分解
生成物は蒸気又は急冷ライン２６を通つて急冷領
域２４に移送される軽質炭化水素によつてただち
に急冷される。これによつて混合物の温度は実質
的な熱反応が生じる温度未満に低下する。管状リ
アクター２を出て分離器６内で触媒固形物から分
離された分解生成物の混合体は触媒（脱水素）活
性を有する固形物床を通過することによつて急冷
されてもよい。脱水素反応は吸熱反応であるか
ら、通過する混合物は反応の進行と共に冷却され
るであろう。この場合、反応条件を改良するため
に蒸気が導入されてもよい。第５図に示すように
このような急冷の好ましい方法として、触媒反応
器２５を使用する方法があり、この反応器は分離
器６のすぐ下流に位置して、触媒固形物床を含有
し、ここで急冷が生ずる。急冷された生成物はサ
イクロン２８に送られ、ここで少量の触媒固形物
が除去され、そしてライン３０を通つて固形物ス
トリツパー８へ送られ、ここでライン３２を通つ
て分離器６から送られる大部分の固形物と合体す
る。固形物ストリツパー８において、触媒固形物
はライン３４を通つて固形物ストリツパー８に供
給される蒸気、窒素、又は他の不活性ガスによつ
て残余の炭化水素を除去される。 触媒固形物（これは管状リアクター２において
蓄積した炭素又はコークス沈澱物を有する）は次
に加熱器１０へ送られる。ライン３６を通つて加
熱器１０へ供給された空気が加熱器１０内の触媒
固形物と混合され、この混合物は触媒固形物を流
動床容器１４へ移送するために輸送路１２中へ供
給される。ライン３６から供給される空気の存在
下で触媒固形物上の炭素沈殿物は燃焼により除去
されて、分解反応に必要な熱を供給する。もし追
加の燃料が必要な場合には燃料源（図示せず）か
ら加熱器１０内に加えられてもよい。 本質において、本発明の方法は炭化水素の温度
が約800〜900〓に上昇される予熱器２０へ線１８
を通つて、ナフサ、常圧ガス油、又はこれらの混
合物等の炭化水素を供給することにより実施され
る。同時に、流動床容器１４からの触媒固形物は
リアクター供給器４（第２図に最も良く示されて
いる）に送られ、ここで触媒固形物はライン１６
を通つて供給された蒸気と混合され、ついでリア
クター２へ1000〜1600〓の温度で送られる。炭化
水素に対する触媒固形物の供給比は使用される触
媒の重量に基づいて１〜60：１である。水蒸気／
炭化水素の供給比は０対1.0、好ましくは0.0対0.3
である。 場合により、接触分解法はオレフインおよび遊
離基を形成するためにエタンのようなアルカンを
注入ライン１６を通つて管状リアクター２中に注
入することにより開始されてもよい。これはカル
ボニウムイオンを形成することによつて異性化を
増大させ、そして生成した遊離基と競合すること
により重質炭化水素の生成を安定化させる傾向を
示す。このようなアルカンは炭化水素原料２２の
すぐ上流に加えられる。 この発明に適切な触媒固形物は、シリカゲル、
アルミナ、粘土のような酸特性を有する一般に利
用可能な支持体の一つであり得る。触媒固形物
は、それをもつて他の触媒活性を有する物質と関
係することが可能である。代わりに、使用した触
媒系は、従来のゼオライト系FCC触媒、または
高活性ZSM−５の１種、または希土類ゼオライ
ト系触媒であり得る。また、使用した触媒は、シ
リカルアルミナのような適当な支持体上に担持さ
れた貴金属酸化物（鉄、クロム、白金の酸化物
等）からなる脱水素触媒を含むこともできる。代
わりに、特別な収率分布を達成するために、触媒
は前述の触媒の混合物であり得る。 管状リアクター２内において、混成炭化水素原
料を800ないし1100〓に、そして触媒固形物を
1200ないし1700〓に加熱する。炭化水素に対する
固型物の割合は、熱バランスおよび所望の触媒活
性によつて設定される。 管状リアクター２からの流出分解生成物および
触媒固型物流出物は、セパレーター６（第３図に
詳細に示した）に直接流入する。このセパレータ
ー６においては、気体生成物相および触媒固型物
相への分離が行なわれる。気体生成物はライン２
４を経て除去され、触媒固型物はライン３２を通
り固型物ストリツパー８に送られる。気体生成物
のインライン急冷は、急冷域２４において、急冷
ライン２６を通して準備される。冷固型物、水、
蒸気、軽炭化水素類、および回収油が、適当な急
冷材の例である。代わりに、触媒リアクター２５
（第５図参照）内において、生成物を触媒床に通
すことによつて急冷を行ない、固型物の存在なし
に追加の反応を行なう。 管状リアクター２への炭化水素の導入の時点か
ら急冷域２４（触媒リアクター２５を任意に含
む）における急冷の時点までの総滞留時間は、好
ましくは0.1ないし0.3秒である。 固型物ストリツパー８において、ライン３４を
通して送られた蒸気、窒素または不活性ガスの気
流によつて、触媒固型物から不純物ガスを追い出
す。蒸気は、ライン３０を通して固型物ストリツ
パー８から除去する。 ガスを追出した触媒固型物は、ライン３８を通
してストリツパー８から除去する。炭素が堆積し
た管状リアクター２から触媒固型物は、エントレ
インドベツドヒーター（entrained bed heater）
１０に送る。このヒーター１０では、ライン３６
を通して空気が送られ、触媒固型物の再生に必要
な雰囲気が提供される。触媒固型物はヒーター１
０内に連行され、そして輸送ライン１２を通して
流動床容器１４に戻される。輸送ライン１２で
は、引き続き触媒固型物の再生が行なわれる。加
えて、触媒固型物の再生は、触媒を流動床容器１
４に移送する前に、触媒固型物の温度を約1200な
いし1700〓に引き上げる。 反応体フイーダー４の詳細は、Gartsideらの米
国特許4338187号により充分に記述されており、
それは参考としてここに組み込まれている。
Gartsideらの反応体フイーダーは、炭化水素原料
および触媒固型物を速やかに混合する能力を有す
る。第２図に示すように、反応体フイーダー４
は、触媒固型物を、固型物容器または流動床容器
７０から垂直に配置された導管７２を通して管状
リアクター２に移送し、同時に炭化水素原料を、
導管７２を出た触媒固型物の進路にある角度で入
れることによつて管状リアクター２に移送する。
ドーナツ型の供給ライン７６からなる単一の通路
によつて炭化水素が供給される環状チヤンバー７
４は、角度をつけた開口７８で終わつている。ミ
キシングバツフルまたはプラグ８０もまた、炭化
水素原料および触媒固型物の迅速かつ本質的な混
合を有効に助けている。角度をつけた開口７８の
縁７９は、導管７２のリアクター側端部の縁７９
のように収束的に傾斜していることが好ましい。
このようにすると、チヤンバー７４からの気体状
炭化水素流が混合領域に角度をつけて注入され、
導管７２から流れる触媒固型物相を遮る。ガスの
投影は点線７７で示す円錐を形成し、その渦は固
型物の流路の下方にある。気体状炭化水素相を角
度をつけて導入することにより、２つの相は迅速
かつ均一に混合し、均質な反応相を形成する。 固相と気相との混合は、固型物および気相の間
のせん断面（shear surface）と流れ面積（flow
area）との関数である。流れ面積に対するせん
断面の割合（Ｓ／Ａ）が無限大である場合を完全
な混合であると定義する。これに大して、最も悪
い混合は、固型物が反応領域の壁に導入された場
合に起こる。この発明のシステムにおいて、気体
流は環状に固型物に導入され、それは大きいせん
断面を保障する。好ましい態様に記述したよう
に、環状供給手段を通して横に気体流を加えるこ
とによつても相の浸透が得られ、さらに速い混合
が結果として起こる。複数の環状ガス供給点およ
び複数の固型物供給導管を使用することにより、
さらに優れた混合がより迅速に推進される。これ
は、一定の固型物流れ面積に対する、流れ面積に
対するせん断面の割合が増加するためである。混
合はまた、混合領域の直径に対する長さの割合の
公知の関数である。グラフは、長さＬを一定に保
つたまま直径Ｄを有効に減少させる。このため、
混合が増加する。 プラグ８０は流れ面積を減少させ、分離した混
合領域を形成する。各々の固型物供給点の周囲に
加えられた環状ガスおよび制限された分離混合領
域の組合わせは、混合の条件を大きく高める。こ
の好ましい態様を使用した場合には、反応領域内
に本質的に均質な反応相を得るために必要な時間
は大変短い。したがつて、この好ましいガスおよ
び固型物の添加方法は、１秒未満の滞留時間を有
する反応系に使用することができ、100ミリ秒未
満の滞留時間を有する反応系にさえ使用すること
ができる。環状リアクター２および反応体フイー
ダー４の環境のために、壁はセラミツク材のイン
ナーコア８１で裏打ちされている。 第３図に示すように、QCシステムのセパレー
タ６は、管状反応器２から排出する生成物と触媒
の固体を迅速に及び別々に分離する際にも用いる
ことができる。セパレータ６への入口は、多量の
触媒固体９２をチヤンバー９３内に集める直角コ
ーナー９０の直上にある。直角コーナー９０の下
流にある任意に設けらるせき９４は、特に商業規
模の生産より小さい規模で運転する場合に、固体
９２の塊を堆積するのを助ける。セパレータ６の
ガス流出口２４は、セパレータ ガス−固体流入
口９６から180°の方向に設置され、固体出口ライ
ン３２は、ガス流出口２４に直接対向し、ガス流
出口ライン２４とせき９４の両者の下流にある。 操作中、遠心力は、チヤンバー９３の流入口９
６に対面した壁に触媒固体を進ませ、一方、運動
量の小さいガス部をチヤンバー９３の気体域に流
す。始めに、触媒固体が流入口９６に対面した壁
に衝突し、次に堆積して固体９２の固体床を形成
する。この固体床は円のおよそ90°の曲線弧の表
面形状を形成する。床９２に衝突した固体は、曲
線弧に沿つて固体出口９５に移動する。それは、
重力による固体の下方の流れによつて方向付けさ
れることが好ましい。弧の正確な形状は、特別な
セパレータの形及び速度、質量流量、かさ密度、
粒径のような入口流のパラメータによつて決定さ
れる。流入した固体に付与された力が、セパレー
タ６自身よりもむしろ固体床９２に対して向けら
れるので、浸蝕は僅かである。したがつて、流出
口９７を通して送り出されるガス相からの固体除
去として定義するセパレータ効率は、150ft.／
sec.までの高流入速度によつて逆に影響されず、
セパレータ６は、広範囲の稀薄相密度、好ましく
は、0.1ないし10lbs.／ft.にわたつて操作可能であ
る。この発明のセパレータ６は、約90％の効率を
達成でき、好ましい態様では、触媒固体の除去率
97％以上が得られる。 チャンバー９３に与えられた高さＨに対して、
流入口９６と流出口９７の180°U字形ベンドの間
隔が流入口９６の幅に接近するにつれて効率は増
加することが分つている。このように、与えられ
た高さＨに対してセパレータ６の効率は、流路が
減少し、従つて、滞留時間が減少することによつ
て増加する。流出口９６の内径Diとすると、流
入口９６と流出口９７の中心線間の距離CLは、
4.0（Di）をこえないことが好ましく、最も好まし
い前記中心線間の距離は、1.5ないし2.5（Di）で
ある。1.5（Di）より小さい場合は、より良い分離
ができるが、大抵製作上の困難性がこの態様の魅
力を減少させる。もし、後者の態様が望ましいな
らば、流入口９６と流出口９７が接近しすぎて互
いに溶接製造ができないので、単一の鋳型設計を
する必要があるかもしれない。 高さＨは、少なくとも1.5×Diに等しい値か又
は４インチの高さのどちらか大きい方にするべき
であることが分つた。もしＨがDi又は４インチ
より小さいならば、流入する流れが、床固体９２
を妨害し、それによつて流出口９７を通つて送り
出されるガス生成物に再び固体が入り込みがちに
なる。高さＨは、より一層大きい分離効率を得る
ためにDiの２倍であることが好ましい。特に限
定されないが、高さＨが大きすぎると、結局は実
質的に効率が増加することなく単に滞留時間が増
加するだけである。第４図に示す流路の幅Ｗは、
好ましくはDiの0.75ないし1.25倍、最も好ましく
は0.9ないし1.10（Di）である。 流出口９７は、どのような大きさの内径
（Dog）でもよい。しかしながら、75ft.／sec.よ
り大きい速度の場合ガス中に入り込む残存固体の
ために浸蝕を生ずる。流出口９７の内径Dogは、
固体出口路３２中で固体の静的高さが形成される
ように、第１図に示す固体ストリツパー８とセパ
レータ６間に圧力差が存在するような大きさにす
るべきである。固体出口路３２中の固体の静的高
さは、固体ストリツパー８にガスの入るのを防ぐ
積極的なシールを形成する。固体ストリツパー８
とセパレータ６間の圧力差の大きさは、流路３２
中の固体の高さと同様に固体流出口９５にバルク
流中の固体を動かすのに必要な力によつて決定さ
れる。その差が増加すると、固体ストリツパー８
への正味のガスの流れが減少する。重力の運動量
を有する固体は、その差に打勝ち、一方ガスは優
先的にガス流出口９７を通つて送り出される。ガ
ス流出口９７の内径Dogは、一つの流出口を使用
する場合に、流出口の速度を流入口の速度より小
さいか又は同じにするために、流入口９６の内径
と同じにすることが好ましい。 第４図は、第３図の４−４断面に沿つたセパレ
ータ６の断面図である。縦側壁１０１，１０２は
直線であるかまたは、点線１０１ａと１０２ａに
よつて示されるように僅かに弧状であることが必
要である。このように、セパレータ６を通る流路
は、実質的に第４図に示すように高さＨと幅Ｗを
有する矩形横断面である。第４図に示す態様で
は、壁１０１，１０２の被膜幅を調節することに
よつて流路の形状を規定している。若しくは、バ
ツフル、挿入板、せき、又は他の手段が使用され
得る。同様に、流路を横切る壁１０３及び１０４
の形状は、同様であつてもよいが、これは不可欠
なものではない。 セパレータのシエル及び内部通路は、もし固体
が高速で衝突するならば必要となる耐浸蝕性被膜
１０５で被覆されることが好ましい。通常に市販
されている耐浸蝕性被膜用の材料には、カーボラ
ンダム プレキヤスト カーボフラツクス
（Carborundum Precast Carbofrax）Ｄ、カー
ボランダム プレキヤスト アルフラツクス
（Alfrax）201またはそれと等価なものが含まれ
る。セパレータ６が高温で使用される場合に、熱
絶縁性被膜１０６を、シエルと被膜１０５の間、
及び内部通路とれらの各々の耐浸蝕性被膜の間に
施してもよい。 セパレータ６の詳細は、米国特許第4288235号
公報において充分に記載されているが、その内容
はここに含めておく。 この発明の実行に際して使用された装置の別の
態様は、前述の米国特許出願第084328号において
開示されているが内容はここに含めておく。 図面、特に第６図〜第９図を参照すると、そこ
には、反応器システム２０４、固体再生装置２０
８、及び固体排出システム２１０を包含するシス
テム２０２が記述されている。 第７図に示すように、反応器システム２０４
は、集中混合部２１１、細長い反応部２１２、細
長い反応部２１２の下流の広がり部２１３、セパ
レータ２０６、及び急冷システム（第８図に示
す）を包含する。混合部２１１は、弧状下部表面
２１５を有する断面で示されるプラグ部２１４で
形成される。水平に載置されたプレート２１７を
栓部２１４と間隔をあけてプラグ部２１４の上部
に配置して、混合部２１１の内部への固体流入路
２１９を形成する。固体流入路２１９は、断面が
直角の角部を有する形状であり、矩形開口部２２
５で終わつていて、そこを固体粒子が混合部２１
１に固体の幕２２６の形で通る。水平流入口２２
５は、各々の炭化水素供給口の直上にある。ベン
チユリーの形状を有する通路２０３は、固体流入
通路２１９から炭化水素供給口２２８に伸びてい
る。 スチームプレナム（図示せず）が、水平流入路
２２５の各々の縦方向の縁に沿つて配置され、ノ
ズル（図示せず）から前加速ガス（スチーム）を
水平開口部２２５を通して幕状固体２２６中に排
出する。ノズル加圧下で、通常スチーム又は軽質
炭化水素であるガスを放出するために、ガス放出
路（図示せず）が設けられている。ノズルは水平
に対して下方45°の角度で配置される。前加速ガ
スは、反応器内の圧力より３から5psi高い圧力で
プレナムに排出され、同じ相対圧力で、約150フ
イート／秒の速度でノズルを通して放出される。
前加速ガスは、水平開口部２２５を通る固体の流
れを、固体と前加速ガスの混合のためわずか３か
ら６フイート／秒から、約50フイート／秒に加速
する。より詳細な説明は、米国特許出願第084328
号の中でされている。 炭化水素供給口２２８は、幕状固体２２６に垂
直又は幕状固体２２６に対して上方30°の角度の
いずれかで設置された反応器壁に位置する。炭化
水素原料は、ライン２２４を経てマニホルド２２
３に放出される。第７図で分るように、供給口ノ
ズル２２８は、同一水平面において、互いに全く
正反対に対向している。反応器の混合域２１１
は、矩形であつて、細長い反応部２１２にいおて
管状反応器に転移させる形状を持つ。 ノズル２２８を通して混合ゾーン２１１に入つ
た原料は、直ちに固形物カーテンと衝突し、原料
と熱粒状固形物との所望の混合が生ずる。ノズル
２２８の対向するセツトにより、対向する原料ジ
エツトと固形物カーテン２２６から同伴する固形
物はプラグセクシヨン２１４の正確な輪郭によつ
て方向づけられ、混合ゾーン２１１のほぼ垂直な
中心線において互いに衝撃を与えるであろう。気
−固混合相炭化水素がノズルを通して供給される
とき、ノズル２２８は固形物カーテン２２６と90
度の角度に配列される。炭化水素原料がガスであ
るとき、ノズルは固形物カーテンに対し30度上向
きに配列される。水平入口２１９を通して反応器
システム２０４の混合ゾーン２１１に入る固形物
の量の大部分は、反応器システム２０４の混合ゾ
ーン２１１と、水平入口２１９の直ぐ上の固形物
コントロールホツパー２３１内の固形物貯槽２１
８の上のチヤンバー２３１ａとの圧力差により制
御される。圧力差を測定するために、圧力プロー
ブ２３３および２３５が、それぞれ反応器システ
ム２０４の混合ゾーン２１１とコントロールホツ
パーチヤンバー２３１ａとの中に位置する。反応
器システム２０４の混合ゾーン２１１とコントロ
ールホツパーチヤンバー２３１ａとの圧力差を制
御し、固形物コントロールホツパー２３１から混
合ゾーン２１１への流れを促進又は中断するため
に、加圧力下のガス（スチーム）がライン２３０
を通してコントロールホツパーチヤンバー２３１
ａに放出される。 第７図に示すように、セパレーター２０６は、
混合相入口２３２、水平チヤンバーセクシヨン２
３４、複数の分解ガス出口２３６及び粒状固形物
出口２３８を具備する。第１の実施態様で説明し
た相対直径（Di，Dog，Dos）、チヤンバーの高
さ（Ｈ）および長さ（Ｌ）に関する基本原理がこ
こにも適用できる。セパレーター２０６は、長く
伸びた分解ゾーン２１２および反応器システム２
０４の広がりセクシヨン２１３と連結して配置さ
れている。広がりセクシヨン２１３は、水平セク
シヨン２３４の頂部に中央に設けられたパレータ
ー混合相入口２３２で終わつている。セパレータ
ー２０６を含む複合反応システムの構成の結果と
して、固相２４２は水平セクシヨン２３４の床２
４０に広がり、相２４２の断面輪郭２４３は、混
合相の気体および固形物が移動する曲線を形成す
る。広がりセクシヨン２１３における固形物およ
び分解ガスの膨張はセパレーター２０６に入る固
体−ガス混合物の熱移動および速度を促進する。 固形物は水平セクシヨンの側端部２４６に送ら
れ、固形物出口２３８を通して下方に排出され
る。分解ガスは180度の通路を通り、固形物との
分離後、側端部２４６を介して水平セクシヨン２
３４の頂部に位置するガス出口２３６を通して排
出される。複数の固形物出口２３８およびガス出
口２３６は、分離ゾーンにおける最少時間および
最大固−気分離の双方を同時に準備する。 分離又は急冷システム２０７はまた、第８図に
示すように、それぞれのガス出口２５４の直ぐ下
流に通常のサイクロンセパレーターを具備する。
それぞれのサイクロンセパレーター２５０への入
口ライン２５４は、ガス出口２３６に対し90度の
角度に配列されており、サイクロンセパレーター
２５０は、このシステムに垂直に配置されてい
る。サイクロンセパレーター２５０は、セパレー
ター２０６から排出された同伴固体粒子を回収す
るのに役立つ。デイツプレツグライン３４９は固
形物粒子を再生アセンブリー２０８に戻し、分解
ガスをガス出口２５１を通して下流に送る。 分解ガス出口２３６からサイクロン２５０へと
伸びるそれぞれのサイクロン入口ライン２５４に
は、直接急冷ライン２５２が設けられている。下
流蒸溜塔からの、通常100−400〓留分である急冷
オイルは、分解ガスの反応を終了させるため、直
接急冷ライン２５２を通してサイクロン２５０に
導入させる。 第９図に示すように、再生アセンブリー２０８
は、ストリツパー２５３、リフトライン２５５、
および再生固形物容器２６０とを具備している。 ストリツパー２５３は、セパレーター２０６か
らの固形物粒子が、セパレーター２３８から、お
よびサイクロンデイツプレツグ２４９から伸びる
固形物出口レツグを通してその中に放出される管
状容器である。ノズル口２６４を有するチング２
６２は、ストリツパー２５３の底部に設けられて
いる。ストリツピングガス、典型的にはスチーム
は、ノズル２６４を通して排出されるためのリン
グ２６２に放出される。ストリツピングスチーム
は、固形物粒子の表面から不純物を除去するため
に、固形物粒子の層を通して上昇する。ストリツ
ピングスチームおよび同伴不純物は、ストリツパ
ー５２３内の固形物粒子を通して上昇し、（図示
しない）ベントラインを通して分解ガスラインに
排出される。 ストリツプされた固形物は、同伴層ヒーター２
５８に放出されるためのコントロールホツパー２
５５内に蓄積される。コントロールホツパー２５
５は、固形物が立ちパイプ２６６を通してそこに
入り、そこから出口ライン２７３が固形物を同伴
層ヒーター２５８に放出するために伸びる回収容
器である。コントロールホツパー２５５および立
ちパイプ２６６の組合せは、落下層固形物移動シ
ステムを準備する。コントロールホツパー内の落
下層表面２６８と出口ライン２７３の出口との間
の圧力差は、コントロールホツパー２５５と同伴
層ヒーター２５８との間の固形物流量を決定す
る。加える圧力下のスチームをコントロールホツ
パー２５５に選択的に導入して圧力差を調整する
ために、ライン２７２が設けられている。圧力差
をモニターし、スチームライン２７２にあるバル
ブ２６５を調整するために、プローブ２６７およ
び２６９が、それぞれコントロールホツパー２５
５および同伴層ヒーター２５８に置かれている。 同伴層ヒーター２５８は、基本的には管状の構
成である。燃料ライン２６３により供給されたそ
れぞれ独立の燃料ノズル２６１の列は、同伴層ヒ
ーター２５８の下部傾斜面２７５にほぼ対称に配
置されている。加圧空気は、空気を同伴層ヒータ
ー２５８を通して軸方向に上昇させるように配置
されたノズル２７７を通して、同伴層ヒーター２
５８に入る。空気ジエツトは、固形物粒子を同伴
層ヒーター２５８を通して再生固形物容器２６０
に上昇させるための駆動力、および燃焼に必要な
空気を提供する。燃料は、空気の存在下での固形
物との接触により発火する。 リフトライン２５７を通して上昇する燃焼ガ
ス／固形物混合物は、燃焼ガスを固形物から分離
するため、接線方向に、好ましくはリフトライン
と90度の角度で再生固形物容器２６０に入る。第
６図に示すように、システムの分離効率を改善す
るサイクロン運動をもたらすように、ガス出口ノ
ズル２８６内にデイスチユーブ２８５を有してい
る。 再生固形物容器２６０は、第７図に示すよう
に、反応器ホツパー２３１に伸びる立ちパイプ２
７１を具備してい。第９図に示すように、再生固
形物容器２６０の構造は、落下層２６０の蓄積を
もたらし、その落下層２６０の上では、圧力は再
生固形物粒子の反応器ホツパー２３１への制御さ
れた放出を可能とする。 第６，７，９図に示す上部回収容器２６０は、
ストリツピングリング２７９を有する下部として
のストリツピングセクシヨンを含み、固形物放出
システム２１０を形成する。リング２７１の上で
は、固形物は流動化し、リング２７１の下では、
固形物は落下し、第７図に示す立ちパイプ２７１
に供給される。立ちパイプ２７１は第７図に示す
ように、コントロールホツパー２３１内の落下層
に供給する。固形物は、立ちパイプ２７１を通し
て反応器ホツパー２３１へ流れ、反応器２０４に
流れていた固形物を置換する。いつたんホツパー
２３１への入口が覆われると、エアレートされて
いない固形物（落下した固形物）は反応器ホツパ
ー２３１に流れ続けないであろう。このように、
入口２３１の位置はホツパー２３１内の固形物の
レベルを定義している。固形物が、層２１８上の
チヤンバー２３１ａ内の上記スペースと混合ゾー
ン２１１との間の圧力差によりホツパーから流れ
るに従つて、入口２８２は覆われず、ホツパー２
３１への追加の固形物の流れを許容する。 第１図に示す本発明の１実施態様は、以下の比
較実施例（表）によつて説明される。この例で
は、軽質FCCナフサが、通常の管式熱分解によ
り、通常の活性触媒を用いた１秒以上のFCC滞
留時間での通常の接触分解により、（0.9秒）の
FCC滞留時間で高い活性触媒による接触分解に
より、および同様の高い活性触媒による非常に短
い滞留時間の分解プラス急冷（QCシステム）に
より分解された。高い活性の触媒を用いた２つの
ケースが、オレフインの収率に対する滞留時間の
効果を示すために表されている。

【表】 表において、実施例Ａは、典型的な熱分解温
度および滞留時間で操作した通常の熱分解を用い
て得た収率を示す。実施例Ｂは、実施例Ａの熱分
解よりも長い滞留時間および低い温度を用いた通
常の接触立上がり反応器を示す。表に示すよう
に、通常の触媒による転化率は、実施例Ａの熱分
解分解において用いたものより実質的に低い。こ
の低い転化率は、この比較的軽質の原料に対する
不充分な触媒活性によるより低い温度操作（816
℃に対する516℃）の結果である。しかし、この
ような低い転化率においてさえ、トータルのC3
およびC4化合物は、カルボニウムイオン機構の
結果として、熱分解の場合よりも高い。更に、
C3オレフインに対するC4オレフインの比は、酸
性分解触媒の水素移動活性により、実質的に増加
する。 実施例Ｃは、急冷なしに、低いFCC滞留時間
または高いQC滞留時間で高い活性の酸性触媒を
用いることにより得られるであろう生成物の収率
を示す。実施例Ｃの選択された操作条件は、実施
例Ａに比較してメタンおよびエチレンの収率の低
下をもたらすであろう。転化率は、増加した活性
のために、より低温（565℃に対し510℃）におい
てすら実施例Ｂに比較して増加している。酸性分
解触媒の結果としてのトータルのC3生成物の実
質的な増加があるが、しかしC4の収率は増加し
た転化率のために減少する。更に、より長い滞留
時間のため、実施例ＡまたはＢのいずれかに比較
して受入れがたい高いC3パラフイン／オレフイ
ンにより証拠づけられる実質的な量の水素移動が
ある。 実施例Ｄは、非常に短い滞留時間のQCシステ
ムにおける本発明の方法を採用することによるオ
レフイン収率の顕著な改良を示している。表に
示すように、反応器の温度が約30℃増加し、トー
タルの運動滞留時間即ち分解反応プラス分離プラ
ス急冷がやあく0.15秒に減少するとき、、C3オレ
フイン収率の約100％の増加がある。加えて、パ
ラフイン／オレフイン比は、実施例Ｃのより長い
滞留時間において得られたものの半分より低く減
少する。この場合のパラフイン／オレフイン比
は、触媒の水素移動活性の結果として、同様の滞
留時間で熱分解の場合よりも高い。しかし、メタ
ン収率は実施例Ｃのより低いレベルより低く、か
つC4の収率は約100％改善され、このことは、急
冷および短い滞留時間の反応により、より少ない
二次分解を示している。 本発明の他の態様において、QCシステムは、
芳香族特にベンゼンの製造を促進するために用い
られる。表は、70％の固定された転化率におい
てｎ−ヘキサンの分解から芳香族の製造を促進す
るためにQCシステムを使用することを示してい
る。QCシステムの二つの例は、即ち一つは高活
性触媒を用いる例であり他は失活ゼオライト触媒
を用いる例であるが、通常の熱分解に匹敵し得
る。

【表】 表の実施例１において、730℃の反応器出口
温度と0.2秒の滞留時間において、70％の炭化水
素原料の転化率が得られることがわかる。表に
示すように、熱分解は実質量のオレフインを生成
するが、パラフインと芳香族の量は僅かである。
QC分解条件において、純アルミナのような完全
に不活性な固体を用いたときにも同様な結果が得
られる。 高い活性の酸性分解触媒を用いたQCシステム
にいおては、550℃の低い温度および0.2秒の滞留
時間（実施例２）において、70％の炭化水素転化
率が得られる。エチレンの生成は押えられるが、
C3オレフインとパラフインの収率は促進される。
更に、極少量の芳香族が生成される。 もし、高い活性の触媒の代わりに失活ゼオライ
ト触媒を用いるならば、全く異なつた収率スペク
トルが得られる（実施例３）。ゼオライト触媒の
失活は、通常、セオライトのマトリツクスを崩壊
させる高温とスチームに長期間さらした結果であ
る。このことは、触媒表面積従つて触媒活性の実
質的減少をもたらす。ゼオライト触媒を用いる
FCCユニツトにおいては、触媒固形物が除かれ、
活性を維持するため新しい触媒が加えられる。そ
のような使用済みの固形物は、失活触媒として好
適に用いられる。 必要な反応温度は、低い活性により、熱分解転
化を達成するに必要な温度と同様である。しか
し、全く予想外のことに、芳香族（特にベンゼ
ン）生成の実質的増加と、C3およびC4オレフイ
ン生成の減少がある。エチレンの収率は、これら
の温度におけるフリーラジカルクラツキング反応
が支配的な熱分解により得たものと同様である。
しかし、失活触媒はこれらのより高い温度におけ
る促進された芳香族化活性をもたらし、C3およ
びC4オレフインおよびパラフインの消費のもと
で芳香族が形成される。 これらの予想外の結果は、所望の生成物、入手
出来る原料および触媒の選択に応じて、本発明に
従つて、高いC3−C5オレフイン生成または高い
芳香族生成のいずれかを選択するように、オペレ
ーターがQCシステムの操作条件を変化すること
を可能とする。 本発明の他の態様では、脱水素触媒が酸性分解
触媒と組合わされる。 下記表に示す実施例は、ミナスナフサ原料を
用いており、接触分解と熱分解とを比較してい
る。接触分解の場合は、与えられた転化率を達成
するため、より低い温度を必要とし、この場合、
熱分解生成物（C1およびC2化合物）のわずか75
％である。カルボニウムイオン分解は、収率スペ
クトルをC3およびC4化合物を好むようにシフト
させるであろう。 下記表に示すように、酸性触媒のみの使用
は、分解のイオン性により、トータルのイソC4
（パラフイン＋オレフイン）の実質的増加をもた
らす。しかし、イソ化合物の多くは、イソパラフ
インであり、熱力学的平衡は、パラフインではな
くオレフインの生成を好んでいる。コイル熱分解
の場合には、イソおよびノルマルのC4は87％の
オレフイン性であり、平衡への接近を示してい
る。しかし、ノルマル化合物は70％のオレフイン
性であり、イソ化合物は29％のオレフイン性であ
る。

【表】

【表】 このことは、触媒の水素移動活性が熱力学より
も反応速度論に基づく新しい平衡関係をもたらす
ためである。イソ化合物は、ノムマル化合物より
も酸性触媒の存在下における水素移動を行なう大
きな傾向を示している。 流れる酸性分解触媒に貴金属酸化物触媒が加え
られるとき、酸性部位において生成されたパラフ
インは、脱水素化されてオレフインとされる。こ
の反応が生ずる程度は、脱水素触媒の濃度と活性
に依存する。表では、スズおよびクロムの酸化
物が酸性分解触媒と混合されて、イソ化合物につ
いては平衡への80％の接近を達成し、ノルマル化
合物については平衡への87％の接近を達成する。
表に示すように、ノルマルおよびイソの価値あ
るC4オレフインの生成が実質的に増加する。同
じ原料からのイソブチレンの生成は、フアクター
３以上増加し、ノルマルブチレンの生成は、フア
クター２以上増加する。混合触媒系の使用は、触
媒プロセスに対し、追加の生成物分布の柔軟性を
もたらす。脱水素触媒と酸性分解触媒とを混合
し、例えばスチームを用いて急冷して混合反応を
行なわせることよりも、むしろセパレーター６に
おける主分離の下流に位置する接触反応器２５内
の充填層に、脱水素触媒を位置させることが出来
る。酸性触媒との接触により形成されたパラフイ
ンは、オレフインに脱水素されるであろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のプロセスの模式図、第２図は
本発明の装置に用いられる反応器フイーダーの縦
断面図、第３図は本発明で採用されるセパレータ
ーの縦断面図、第４図は第３図の４−４断面図、
第５図は本発明の急冷プロセスの模式図、第６図
は本発明の１実施態様の全体のシステムの正面
図、第７図は本発明で採用される反応器および気
−固セパレーターの縦断面図、第８図は第７図の
８−８断面図、および第９図は本発明で採用され
る固形物再生アセンブリーの正面図である。 １……クラツキングシステム、２……反応器、
４……反応器フイーダー、６……セパレーター、
８……ストリツパー、１０……ヒーター、１２…
…輸送ライン、１４……流動層容器、２０……プ
レヒーター。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 炭化水素原料を接触分解してオフレイン、芳
   香族化合物又はそれらの組合せを製造する方法で
   あつて、 (a) 前記炭化水素原料を分解リアクターに導入
   し、 (b) 同時に熱酸性分解触媒固形物を前記リアクタ
   ーに移送し、 (c) 前記炭化水素原料を前記熱触媒固形物から供
   給される熱によつて接触分解して分解生成物を
   生成し、 (d) 前記分解生成物を前記熱触媒固形物から分離
   し、および (e) 前記分離された分解生成物を急冷する 各工程を含み、前記工程(a)から工程(e)までの前
   記炭化水素原料の滞留時間は約0.1〜2.0秒の範
   囲内にあることを特徴とする方法。 ２ 前記滞留時間は約0.05秒〜0.5秒である請求
   項１に記載の方法。 ３(f) 前記分離された触媒固形物をストリツパー
   に移送して残留分解ガス生成物を除去し、 (g) 前記分離された触媒固形物を燃焼させ、これ
   によつて炭素堆積物を除去すると共に前記スト
   リツピングされた触媒固形物を加熱して再生触
   媒固形物を生成し、および (h) 前記再生された触媒固形物を前記分解リアク
   ターに移送する各工程をさらに含む請求項１に
   記載の方法。 ４ 前記触媒固形物の一部は脱水素触媒を含む請
   求項１に記載の方法。 ５ 前記脱水素触媒は不活性担体上の貴金属酸化
   物から選ばれる請求項４に記載の方法。 ６ 前記触媒分解反応の温度は約900〜1500〓で
   あり、炭化水素原料に対する触媒固形物の重量比
   は１〜60である請求項１に記載の方法。 ７ 前記触媒分解反応の温度は約1000〓〜1300〓
   であり、滞留時間は0.1〜0.3秒である請求項６に
   記載の方法。 ８ 前記オレフインは３〜５の炭素原子を有し、
   前記芳香族化合物は６〜８の炭素原子を有してい
   る請求項１に記載の方法。 ９ 前記炭化水素原料はC4〜C7パラフイン、ナ
   フサ、および軽質軽油から選ばれる請求項１に記
   載の方法。 １０ 前記活性酸性触媒固形物はゼオライト系触
   媒である請求項１に記載の方法。 １１ 前記不活性担体はシリカゲル、シリカーア
   ルミナ、粘度、およびこれらのいずれかの混合物
   から成る群から選ばれる請求項１０に記載の方
   法。 １２ 前記分解生成物は主にモノー芳香族化合物
   であり、前記酸性触媒固形物は熱的に失活されて
   いる請求項１１に記載の方法。 １３ 前記炭化水素原料流および熱触媒固形物を
   管状の熱再生分解リアクターに供給器を通して移
   送し、前記供給器は前記分解リアクターおよび熱
   固形物容器内の熱固形物に連通する縦通路を有し
   てあり、前記縦通路の上方で前記熱触媒固形物を
   局部的に流動化させ、前記炭化水素原料を前記熱
   再生リアクターに前記熱再生リアクターに入る前
   記触媒固形物の通路に対し角度をもつて供給する
   工程を含む請求項１に記載の方法。 １４ 前記熱触媒固形物および分解生成ガスを分
   離器内で分離する工程を含み、前記触媒固形物お
   よび分解生成ガスは分離器入口を通つて分離器内
   に入り、そして90度方向を変えた後、前記生成ガ
   スはさらに90度方向を変えて、その結果、生成ガ
   スは前記入口から180度方向を変え、一方前記触
   媒固形物は前記入口から90度方向を変えられた通
   路内に滞在し、その後、この触媒固形物の通路は
   下方に向けられ、前記分離された生成ガスは急冷
   されることを特徴とする請求項１に記載の方法。 １５ 前記触媒固形物および分解されたガスを分
   離器内から分離する工程を含み、前記分離器は前
   記固形物とガスとの混合物から前記固形物を約80
   ％急速に分離するための室を含み、この室は直線
   で囲まれた縦側壁を有し、この側壁は断面がほぼ
   長方形で高さＨおよび巾Ｗの流路を形成し、前記
   室または前記混合物のための内径Diの入口、ガ
   ス出口、および固形物出口を有し、前記入口は前
   記室の一端において前記高さＨの流路に垂直に配
   置され、この高さＨは少なくとも前記内径Diに
   等しいかこれよりも４インチ大きく、前記巾Ｗは
   0.75Di〜1.25Diであり、前記固形物出口は前記室
   の対向端に位置して重力により固形物を下方に排
   出させるように配置されており、前記ガス出口は
   各中心線から測定して前記入口から4Dより少な
   い距離に位置し、そしてガス流の方向を180度変
   えるように配置され、その結果生じる遠心力は流
   入する前記触媒固形物の流れを前記入口と反対方
   向の側壁の方向に向け、そして固形物の実質的な
   静止床を維持し、前記静止床の表面は前記固形物
   出口へ固形物を流出させるために、円の約90度の
   アークの曲線路を形成することを特徴とする請求
   項１に記載の方法。