JPH0559191A - ポリビニールブチラール皮膜組成物 - Google Patents
ポリビニールブチラール皮膜組成物Info
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- JPH0559191A JPH0559191A JP14178891A JP14178891A JPH0559191A JP H0559191 A JPH0559191 A JP H0559191A JP 14178891 A JP14178891 A JP 14178891A JP 14178891 A JP14178891 A JP 14178891A JP H0559191 A JPH0559191 A JP H0559191A
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】深UV部において有効で、中深あるいは浅UV
部における場合と同様あるいはより良い性能又は特性を
有する被膜フィルムを提供する。 【構成】透明フィルムを特定ポリビニールブチラール樹
脂及びジメチルホルムアミドの混合物である成型用組成
物から製造し、その特定ポリビニールブチラール樹脂か
らなる透明フィルムで形成された皮膜からなるプロジェ
クションプリンティングに使用されるポリビニールブチ
ラール皮膜組成物である。
部における場合と同様あるいはより良い性能又は特性を
有する被膜フィルムを提供する。 【構成】透明フィルムを特定ポリビニールブチラール樹
脂及びジメチルホルムアミドの混合物である成型用組成
物から製造し、その特定ポリビニールブチラール樹脂か
らなる透明フィルムで形成された皮膜からなるプロジェ
クションプリンティングに使用されるポリビニールブチ
ラール皮膜組成物である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプロジェクションプリン
ティング(projection printing)
において使用される特定のポリビニールブチラール樹脂
から形成される皮膜に関するものであり、該皮膜は深U
V部(region)さらに中深並びに浅UV部にも適
用可能である。又、本発明は、前記被膜用フィルム製造
用の成型可能な組成物に関するものである。特に本発明
は、現在ポリビニールブチラール被膜に勝る光学的特性
及びさらに低い吸収特性を有するポリビニールブチラー
ル被膜に関するものである。又、本被膜は、優れた窒素
吹き込み成型強度とヤング係数を有する。
ティング(projection printing)
において使用される特定のポリビニールブチラール樹脂
から形成される皮膜に関するものであり、該皮膜は深U
V部(region)さらに中深並びに浅UV部にも適
用可能である。又、本発明は、前記被膜用フィルム製造
用の成型可能な組成物に関するものである。特に本発明
は、現在ポリビニールブチラール被膜に勝る光学的特性
及びさらに低い吸収特性を有するポリビニールブチラー
ル被膜に関するものである。又、本被膜は、優れた窒素
吹き込み成型強度とヤング係数を有する。
【0002】
【従来の技術】プロジェクションプリンティング業界及
び特に半導体産業並びに集積回路の製造においては、空
中の微粒子からフォトマスクを保護する被膜の使用は、
数多くの利点を備えていることからより益々その需要が
高まっている。プロジェクションプリンティングに被膜
を適用することは、例えば、1978年12月26日に
シー他に付与された米国特許第4,131,363号、
並びに、エレクトローオプチカルシステムデザインコー
プ社誌の1973年に発行されたスピバック他による
「ビームスプリッター(beam splitter)
としてのパリレンと他の被膜の評価」と題する記事中第
362頁から第370頁において記述されている。プロ
ジェクションプリンティングにおけるそのような使用
は、マスクとプリンティングの欠陥を減少し、マスクの
レクチル寿命を延ばし、調節稼働休止時間を短縮し、マ
スクの品質を向上させ、生産の効率を増加させる。先行
技術において採用されている材料及び被膜フィルムとし
て利用可能なフィルム生産に適した材料にはポリオキシ
エチレンテレフタレート、ニトロセルロース及びパリレ
ンのフィルムが含まれる。
び特に半導体産業並びに集積回路の製造においては、空
中の微粒子からフォトマスクを保護する被膜の使用は、
数多くの利点を備えていることからより益々その需要が
高まっている。プロジェクションプリンティングに被膜
を適用することは、例えば、1978年12月26日に
シー他に付与された米国特許第4,131,363号、
並びに、エレクトローオプチカルシステムデザインコー
プ社誌の1973年に発行されたスピバック他による
「ビームスプリッター(beam splitter)
としてのパリレンと他の被膜の評価」と題する記事中第
362頁から第370頁において記述されている。プロ
ジェクションプリンティングにおけるそのような使用
は、マスクとプリンティングの欠陥を減少し、マスクの
レクチル寿命を延ばし、調節稼働休止時間を短縮し、マ
スクの品質を向上させ、生産の効率を増加させる。先行
技術において採用されている材料及び被膜フィルムとし
て利用可能なフィルム生産に適した材料にはポリオキシ
エチレンテレフタレート、ニトロセルロース及びパリレ
ンのフィルムが含まれる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】被膜フィルムのごとく
プロジェクションプリンティングシステムにおける利用
法を発見する過程でのポリビニールブチラール以外の先
行技術のポリマーフィルムは、その利用法において大き
な制限を受けてきた。例えば、そのようなポリマーフィ
ルムの被膜は浅UV部(波長:340から436nm)
において有効であり、中深のUV部(波長:280から
340nm)においていくらか有効であったが、どれも
深UV部(波長:200から280nm)において全く
効果がなかった。先行技術の被膜フィルムは、浅UV部
及び中深UV部においてかなり有効であるが、深UV部
においては有効な光透過性を示さず、よって、深UV部
においては利用は不可能であった。
プロジェクションプリンティングシステムにおける利用
法を発見する過程でのポリビニールブチラール以外の先
行技術のポリマーフィルムは、その利用法において大き
な制限を受けてきた。例えば、そのようなポリマーフィ
ルムの被膜は浅UV部(波長:340から436nm)
において有効であり、中深のUV部(波長:280から
340nm)においていくらか有効であったが、どれも
深UV部(波長:200から280nm)において全く
効果がなかった。先行技術の被膜フィルムは、浅UV部
及び中深UV部においてかなり有効であるが、深UV部
においては有効な光透過性を示さず、よって、深UV部
においては利用は不可能であった。
【0004】又、先行技術の被膜フィルムは、浅UV部
及び中深UV部において有効性を有することが発見され
ているが、その有効度は必ずしも満足できるものではな
かった。これらのUV部において効果の減少をもたらす
多くの要素の中には、それらの光透過性がプリンティン
グ波長において実質的に100%にはならず、通常では
99%以下となる事実が挙げられる。又、被膜フィルム
のフィルム張力は、通常3000から5000psi
(210kgf・cm-2から350kgf・cm -2)の
範囲であり、被膜フィルムの寿命を延ばすために高張力
フィルムが嘱望されている。さらに、前記先行技術の被
膜フィルムにおける不都合な光拡散の割合は、通常では
365nm(ナノメーター)において0.3%前後の範
囲であった。現在、より少ない光拡散率を有するフィル
ムが嘱望されている。又、先行技術の被膜フィルムにお
いて、パーセントエタロニング、即ち、最大及び最小透
過間における相違、は約18%に過ぎず、被膜の平均光
透過率を増加させるためには、できる限りそのようなエ
タロニングを減少させることが大変有利となる。
及び中深UV部において有効性を有することが発見され
ているが、その有効度は必ずしも満足できるものではな
かった。これらのUV部において効果の減少をもたらす
多くの要素の中には、それらの光透過性がプリンティン
グ波長において実質的に100%にはならず、通常では
99%以下となる事実が挙げられる。又、被膜フィルム
のフィルム張力は、通常3000から5000psi
(210kgf・cm-2から350kgf・cm -2)の
範囲であり、被膜フィルムの寿命を延ばすために高張力
フィルムが嘱望されている。さらに、前記先行技術の被
膜フィルムにおける不都合な光拡散の割合は、通常では
365nm(ナノメーター)において0.3%前後の範
囲であった。現在、より少ない光拡散率を有するフィル
ムが嘱望されている。又、先行技術の被膜フィルムにお
いて、パーセントエタロニング、即ち、最大及び最小透
過間における相違、は約18%に過ぎず、被膜の平均光
透過率を増加させるためには、できる限りそのようなエ
タロニングを減少させることが大変有利となる。
【0005】従って、深UV部において有効で、中深あ
るいは浅UV部における場合と同様あるいはより良い性
能及び(又は)特性を有する被膜フィルムが大いに嘱望
されている。さらに、全てのUV部において有効であ
り、中深あるいは浅UV部においての先行技術の被膜フ
ィルムに使用される材料の性能及び(又は)特性と比較
して、全体的、あるいは部分的に勝る被膜フィルムが嘱
望されている。
るいは浅UV部における場合と同様あるいはより良い性
能及び(又は)特性を有する被膜フィルムが大いに嘱望
されている。さらに、全てのUV部において有効であ
り、中深あるいは浅UV部においての先行技術の被膜フ
ィルムに使用される材料の性能及び(又は)特性と比較
して、全体的、あるいは部分的に勝る被膜フィルムが嘱
望されている。
【0006】全てのポリビニールブチラール樹脂フィル
ムがプロジェクションプリンティング用の被膜として必
要な光学的特性を有しているのではないことを周知であ
る。ポリビニールブチラール被膜が光の透過を妨げる不
純物を含有しないことが望まれる。通常、ポリビニール
ブチラール被膜に特有の問題は、予備材料に見い出され
るビニールアセテートから得られると考えられているカ
ルボニル基の存在にある。さらに、被膜を形成するた
め、以前からポリビニールブチラール樹脂と共に使用さ
れている溶剤システムは、不純物を最小限度に抑える最
も効果的な溶剤システムとなってはいなかった。驚くべ
きことに、本出願人は、カルボニル基を含有するジエチ
ルフォルムアミドが効果的な溶剤であることを発見し
た。
ムがプロジェクションプリンティング用の被膜として必
要な光学的特性を有しているのではないことを周知であ
る。ポリビニールブチラール被膜が光の透過を妨げる不
純物を含有しないことが望まれる。通常、ポリビニール
ブチラール被膜に特有の問題は、予備材料に見い出され
るビニールアセテートから得られると考えられているカ
ルボニル基の存在にある。さらに、被膜を形成するた
め、以前からポリビニールブチラール樹脂と共に使用さ
れている溶剤システムは、不純物を最小限度に抑える最
も効果的な溶剤システムとなってはいなかった。驚くべ
きことに、本出願人は、カルボニル基を含有するジエチ
ルフォルムアミドが効果的な溶剤であることを発見し
た。
【0007】被膜は、成型形、フロート成型法あるいは
回転スピニング法のどの通常手段においても製造可能で
ある。通常、ポリマーと溶剤の混合物は、重量比約5%
から30%のポリマーからなる。シリコン液等の均衡剤
(leveling agent)を加えることも可能
である。
回転スピニング法のどの通常手段においても製造可能で
ある。通常、ポリマーと溶剤の混合物は、重量比約5%
から30%のポリマーからなる。シリコン液等の均衡剤
(leveling agent)を加えることも可能
である。
【0008】本発明のポリビニールブチラールの成型可
能な溶液は、被膜製造方法によって製造することができ
る。通常、固形重量比10%から15%の成型溶液は、
約1.2から2.0ミクロンの2000から3000r
pmにおける回転スピニング法により形成されるフィル
ムを製造する。
能な溶液は、被膜製造方法によって製造することができ
る。通常、固形重量比10%から15%の成型溶液は、
約1.2から2.0ミクロンの2000から3000r
pmにおける回転スピニング法により形成されるフィル
ムを製造する。
【0009】イアル イー ワードに付与された米国特
許第4,482,591号は、それぞれ13%未満、2
%未満、88%より多い特定のヒドロキシ、アセテート
及びブチラールを含有した特定のポリビニールブチラー
ル樹脂から成形されるポリビニールブチラール被膜に係
わるものである。該特許は、特に2−エトキシエタノー
ル及びテトラヒドロフルフリルアルコールあるいはメチ
ルエチルケトンからなる溶剤システムから得られるポリ
ビニールブチラールの利用法について開示している。
許第4,482,591号は、それぞれ13%未満、2
%未満、88%より多い特定のヒドロキシ、アセテート
及びブチラールを含有した特定のポリビニールブチラー
ル樹脂から成形されるポリビニールブチラール被膜に係
わるものである。該特許は、特に2−エトキシエタノー
ル及びテトラヒドロフルフリルアルコールあるいはメチ
ルエチルケトンからなる溶剤システムから得られるポリ
ビニールブチラールの利用法について開示している。
【0010】そこで、本発明の目的は、深UV部におい
て有効で、中深あるいは浅UV部における場合と同様あ
るいはより良い性能及び(又は)特性を有する被膜フィ
ルムを提供することにある。さらに、本発明の目的は、
全てのUV部において有効であり、中深あるいは浅UV
部においての先行技術の被膜フィルムに使用される材料
の性能及び(又は)特性と比較して、全体的あるいは部
分的に勝る被膜フィルムを提供することにある。
て有効で、中深あるいは浅UV部における場合と同様あ
るいはより良い性能及び(又は)特性を有する被膜フィ
ルムを提供することにある。さらに、本発明の目的は、
全てのUV部において有効であり、中深あるいは浅UV
部においての先行技術の被膜フィルムに使用される材料
の性能及び(又は)特性と比較して、全体的あるいは部
分的に勝る被膜フィルムを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】被膜フィルムとして使用
するのに適していないと考えられていた特定のポリビニ
ールブチラールポリマーフィルムは、特定の溶剤システ
ムにおいて、前記米国特許第4,482,591号で開
示されているごとくの従来のポリビニールブチラール被
膜より優れた特性を示す。これらの被膜はあらゆる形態
のUV部においてプロジェクションプリンティングに使
用可能であり、これまで入手できた従来のポリビニール
に匹敵、優る高い光透過率、性能及び(又は)特性を有
する。さらには、ジメチルホルムアミドあるいはジエチ
レングリコールジメチルエーテル(ジグライム:dig
lyme)における特定のポリビニールブチラール樹脂
の成型可能溶液から成型された被膜フィルムは、深UV
部においてさらに優れた光透過率を示すフィルムとな
る。
するのに適していないと考えられていた特定のポリビニ
ールブチラールポリマーフィルムは、特定の溶剤システ
ムにおいて、前記米国特許第4,482,591号で開
示されているごとくの従来のポリビニールブチラール被
膜より優れた特性を示す。これらの被膜はあらゆる形態
のUV部においてプロジェクションプリンティングに使
用可能であり、これまで入手できた従来のポリビニール
に匹敵、優る高い光透過率、性能及び(又は)特性を有
する。さらには、ジメチルホルムアミドあるいはジエチ
レングリコールジメチルエーテル(ジグライム:dig
lyme)における特定のポリビニールブチラール樹脂
の成型可能溶液から成型された被膜フィルムは、深UV
部においてさらに優れた光透過率を示すフィルムとな
る。
【0012】具体的には、請求項1に記載の本発明は、
「プロジェクションプリンティングにおいて使用する皮
膜フィルムであって、
「プロジェクションプリンティングにおいて使用する皮
膜フィルムであって、
【化3】 からなるポリビニールブチラールから成形されるフィル
ムであり、xは0.18以上、yは0.0から2.5、
zは0.80以下であることを特徴とする皮膜フィル
ム」である。請求項2に記載の本発明は、「前記xは、
約0.18から約0.22、yは約0.01から約2.
5、zは約0.80であることを特徴とする請求項1記
載の皮膜フィルム」である。請求項3に記載の本発明
は、「前記xは約0.19、yは約0.3から約1.
0、zは約0.80であることを特徴とする請求項1記
載の皮膜フィルム」である。
ムであり、xは0.18以上、yは0.0から2.5、
zは0.80以下であることを特徴とする皮膜フィル
ム」である。請求項2に記載の本発明は、「前記xは、
約0.18から約0.22、yは約0.01から約2.
5、zは約0.80であることを特徴とする請求項1記
載の皮膜フィルム」である。請求項3に記載の本発明
は、「前記xは約0.19、yは約0.3から約1.
0、zは約0.80であることを特徴とする請求項1記
載の皮膜フィルム」である。
【0013】請求項4に記載の本発明は、「前記ポリビ
ニールブチラール樹脂は、少なくとも1.100の比重
を有することを特徴とする請求項1記載の皮膜フィル
ム」である。請求項5に記載の本発明は、「ジメチルホ
ルムアミドあるいはジグライムからなる溶剤中におい
て、成形可能な溶液であって、
ニールブチラール樹脂は、少なくとも1.100の比重
を有することを特徴とする請求項1記載の皮膜フィル
ム」である。請求項5に記載の本発明は、「ジメチルホ
ルムアミドあるいはジグライムからなる溶剤中におい
て、成形可能な溶液であって、
【化4】 からなるポリビニールブチラール溶液からなり、xは
0.18以上、yは0.0から2.5、zは0.80以
下であることを特徴とする溶液」である。請求項6に記
載の本発明は、「前記溶液は重量比約5%から約30%
のポリビニールブチラールを含むものであることを特徴
とする請求項5記載の溶液」である。
0.18以上、yは0.0から2.5、zは0.80以
下であることを特徴とする溶液」である。請求項6に記
載の本発明は、「前記溶液は重量比約5%から約30%
のポリビニールブチラールを含むものであることを特徴
とする請求項5記載の溶液」である。
【0014】請求項7に記載の本発明は、「前記溶液は
重量比約10%から約15%のポリビニールブチラール
を含むものであることを特徴とする請求項5記載の溶
液」である。請求項8に記載の本発明は、「前記溶液
は、ジメチルホルムアミドであることを特徴とする請求
項5記載の溶液」である。請求項9に記載の本発明は、
「前記溶液は、ジグライムであることを特徴とする請求
項5記載の溶液」である。
重量比約10%から約15%のポリビニールブチラール
を含むものであることを特徴とする請求項5記載の溶
液」である。請求項8に記載の本発明は、「前記溶液
は、ジメチルホルムアミドであることを特徴とする請求
項5記載の溶液」である。請求項9に記載の本発明は、
「前記溶液は、ジグライムであることを特徴とする請求
項5記載の溶液」である。
【0015】
【作用】上記構成により、これらの被膜はあらゆる形態
のUV部においてプロジェクションプリンティングに使
用可能であり、これまで入手できた従来のポリビニール
に匹敵、あるいは優る高い光透過率、性能及び(又は)
特性を有する。さらには、ジメチルホルムアミドあるい
はジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライ
ム:diglyme)における特定のポリビニールブチ
ラール樹脂の成型可能溶液から成型された被膜フィルム
は、深UV部においてさらに優れた光透過率を示すフィ
ルムとなる。
のUV部においてプロジェクションプリンティングに使
用可能であり、これまで入手できた従来のポリビニール
に匹敵、あるいは優る高い光透過率、性能及び(又は)
特性を有する。さらには、ジメチルホルムアミドあるい
はジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライ
ム:diglyme)における特定のポリビニールブチ
ラール樹脂の成型可能溶液から成型された被膜フィルム
は、深UV部においてさらに優れた光透過率を示すフィ
ルムとなる。
【0016】
【実施例】本発明による被膜は、以下の一般式を持つポ
リビニールブチラール樹脂とジメチルホルムアミドある
いはジグライムの溶剤システムにおいてさらに優れた性
能特性を有するように形成される。
リビニールブチラール樹脂とジメチルホルムアミドある
いはジグライムの溶剤システムにおいてさらに優れた性
能特性を有するように形成される。
【0017】
【化5】 上記一般式において、xは0.18以上、yは0.0か
ら2.5、zは0.80以下である。前記ポリビニール
ブチラールにおいて、パーセントポリビニールアルコー
ルとして表わされるポリマーのヒドロキシル含有物は、
18%以上であり、通常は18%から22%の範囲にあ
り、パーセントポリビニールブチラールとして表わされ
るアセテートの含有物は少なくとも80%である。即
ち、上記のx、y,zは、好ましくはxが0.18から
0.22、yが0.00から2.5、zが0.80以下
である。xが約0.19、yが約0.3から1.0、z
が約0.80のポリマーが好適であることが発見されて
いる。前記の基準を満たす適当なポリビニールブチラー
ルは、ニューヨーク州オンタリオ市のサイエンチフィッ
クポリマープロダクツ社発行「テクニカル ブレチン」
1987年版8月号のカタログ第381番ポリビニール
ブチラール樹脂である。本発明の好適なポリビニールブ
チラールは、少なくとも1.100の比重及び平均モル
重量50,000から150,000を有する。
ら2.5、zは0.80以下である。前記ポリビニール
ブチラールにおいて、パーセントポリビニールアルコー
ルとして表わされるポリマーのヒドロキシル含有物は、
18%以上であり、通常は18%から22%の範囲にあ
り、パーセントポリビニールブチラールとして表わされ
るアセテートの含有物は少なくとも80%である。即
ち、上記のx、y,zは、好ましくはxが0.18から
0.22、yが0.00から2.5、zが0.80以下
である。xが約0.19、yが約0.3から1.0、z
が約0.80のポリマーが好適であることが発見されて
いる。前記の基準を満たす適当なポリビニールブチラー
ルは、ニューヨーク州オンタリオ市のサイエンチフィッ
クポリマープロダクツ社発行「テクニカル ブレチン」
1987年版8月号のカタログ第381番ポリビニール
ブチラール樹脂である。本発明の好適なポリビニールブ
チラールは、少なくとも1.100の比重及び平均モル
重量50,000から150,000を有する。
【0018】有利なことに、本発明に利用されるポリビ
ニールブチラール樹脂は、実質的にカルボニル基を含有
する不純物を含まない。試用されるポリビニールブチラ
ール樹脂が確実に不純物を含まないようにするには、好
適な非溶剤で樹脂を洗浄するとよい。
ニールブチラール樹脂は、実質的にカルボニル基を含有
する不純物を含まない。試用されるポリビニールブチラ
ール樹脂が確実に不純物を含まないようにするには、好
適な非溶剤で樹脂を洗浄するとよい。
【0019】本発明においては、成型用溶液を成形する
ためにジメチルホルムアミドかジグライムを利用するこ
とがさらに重要である。該ジメチルホルムアミドかジグ
ライムは、ミズリー州セントルイス市のモンサント株式
会社の製品カタログ(テクニカル ブチレン)第607
0Dのポリビニールブチラール樹脂であるBUTVAR
B−90及びB−98を利用する際に、優れたスペク
トル特性、均一な厚さ及び表面均一性を有する被膜を提
供するが、それらは適した被膜を製造することができな
いと考えられてきたものである。好適な溶剤はジメチル
ホルムアミドである。
ためにジメチルホルムアミドかジグライムを利用するこ
とがさらに重要である。該ジメチルホルムアミドかジグ
ライムは、ミズリー州セントルイス市のモンサント株式
会社の製品カタログ(テクニカル ブチレン)第607
0Dのポリビニールブチラール樹脂であるBUTVAR
B−90及びB−98を利用する際に、優れたスペク
トル特性、均一な厚さ及び表面均一性を有する被膜を提
供するが、それらは適した被膜を製造することができな
いと考えられてきたものである。好適な溶剤はジメチル
ホルムアミドである。
【0020】以下記載の例は本発明の実施例を示す。し
かしながら、これらの例は本発明を説明するためにのみ
列挙するものであって、本発明の条件及び範囲を限定す
るものではない。特に記載がない場合には、全ての数値
は重量パーセントで表示されている。
かしながら、これらの例は本発明を説明するためにのみ
列挙するものであって、本発明の条件及び範囲を限定す
るものではない。特に記載がない場合には、全ての数値
は重量パーセントで表示されている。
【0021】実施例1 A. 成型用溶液は、100mlのジメチルホルムアミ
ド内で純化したポリビニールブチラール樹脂12.25
gを溶解することで作成された。 B. 皮膜の作成 米国特許第4,449,231号記載の方法に従い、上
記Aにおける成型用溶液を例として5インチ(13c
m)の清浄乾燥シリコンウエハーのごとき研磨された平
坦基板上に注ぎ、回転開始前に該基板を約10から40
mlの溶液で満たす。均一なフィルムとするため、前記
基板を毎分2000から3000回転で1分間ヘッドウ
エーEC101シリーズのスピナーにて回転させる。溶
剤を揮発させるために該基板を温室にて一晩寝かせる。
ポリマーのyは0.01であった。硬化したフィルムを
剥離する。
ド内で純化したポリビニールブチラール樹脂12.25
gを溶解することで作成された。 B. 皮膜の作成 米国特許第4,449,231号記載の方法に従い、上
記Aにおける成型用溶液を例として5インチ(13c
m)の清浄乾燥シリコンウエハーのごとき研磨された平
坦基板上に注ぎ、回転開始前に該基板を約10から40
mlの溶液で満たす。均一なフィルムとするため、前記
基板を毎分2000から3000回転で1分間ヘッドウ
エーEC101シリーズのスピナーにて回転させる。溶
剤を揮発させるために該基板を温室にて一晩寝かせる。
ポリマーのyは0.01であった。硬化したフィルムを
剥離する。
【0022】C. ジグライムでも同様な結果が得られ
よう。スピナーにより回転速度毎分2800回転にて5
度処理した。その結果、以下のような厚さ(ミクロン)
を有するフィルムが得られた。 1. 1.800 2. 1.790 3. 1.806 4. 1.804 5. 1.796
よう。スピナーにより回転速度毎分2800回転にて5
度処理した。その結果、以下のような厚さ(ミクロン)
を有するフィルムが得られた。 1. 1.800 2. 1.790 3. 1.806 4. 1.804 5. 1.796
【0023】実施例2 実施例1の手順にて、(A)セロソルブ(cellos
olve)、(B)60%のセロソルブと40%のジメ
チルホルムアミド(DMF)及び(C)100%のジメ
チルホルムアミド内における11.25%の清浄ポリビ
ニールブチラール樹脂での10.75%の純化ポリビニ
ールブチラール樹脂でフィルムが製造された。
olve)、(B)60%のセロソルブと40%のジメ
チルホルムアミド(DMF)及び(C)100%のジメ
チルホルムアミド内における11.25%の清浄ポリビ
ニールブチラール樹脂での10.75%の純化ポリビニ
ールブチラール樹脂でフィルムが製造された。
【0024】利用される全ポリビニールブチラール樹脂
は、サイエンティフィックポリマープロダクツ社のカタ
ログ番号381の製品であった。UV/VIS P.
E.ラムダ(Lambda) 6 スペクトロメータの
光透過試験の結果は、以下の通りであった。 λ(ラムダ) サンプル 300 270 250 240 230 210 (A)100% %/t 99.0 98.1 97.5 − 96.1 94.0 セロソルブ (1.96ミクロン) (B)60/40 %/t 99.3 98.5 98.3 97.4 96.4 93.9 (C)100% DMF %/t 99.4 99.0 98.5 98.2 97.3 95.2 (1.36ミクロン)
は、サイエンティフィックポリマープロダクツ社のカタ
ログ番号381の製品であった。UV/VIS P.
E.ラムダ(Lambda) 6 スペクトロメータの
光透過試験の結果は、以下の通りであった。 λ(ラムダ) サンプル 300 270 250 240 230 210 (A)100% %/t 99.0 98.1 97.5 − 96.1 94.0 セロソルブ (1.96ミクロン) (B)60/40 %/t 99.3 98.5 98.3 97.4 96.4 93.9 (C)100% DMF %/t 99.4 99.0 98.5 98.2 97.3 95.2 (1.36ミクロン)
【0025】実施例3 (A)実施例1の皮膜と(B)実施例2の米国特許第
4,482,591号のBUTVAR B−79から製
造された皮膜との間でボシュ アンド ロム(Baus
ch & Lomb)スペクトロニック2000を使用
して比較研究が実施された。溶剤としてアルドリッチ
(Aldrich)からスペクトラルグレードのセロソ
ルブが使用され、SiO2 1cmのキュベット(cu
vettes)が各ポリマーの5%w/w溶液保持に使
用された。基線(baseline)は約265nmに
設定された。実験により以下の結果が得られた。 サンプル Abs.(λ=265) λ−cut−off A 0.18 au なし(ピーク−221) (Abs.−0.58) B 0.38 auまで 236(Abs.約1.0の ラムダまで) au=吸収ユニット
4,482,591号のBUTVAR B−79から製
造された皮膜との間でボシュ アンド ロム(Baus
ch & Lomb)スペクトロニック2000を使用
して比較研究が実施された。溶剤としてアルドリッチ
(Aldrich)からスペクトラルグレードのセロソ
ルブが使用され、SiO2 1cmのキュベット(cu
vettes)が各ポリマーの5%w/w溶液保持に使
用された。基線(baseline)は約265nmに
設定された。実験により以下の結果が得られた。 サンプル Abs.(λ=265) λ−cut−off A 0.18 au なし(ピーク−221) (Abs.−0.58) B 0.38 auまで 236(Abs.約1.0の ラムダまで) au=吸収ユニット
【0026】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明において
は、深UV部において有効で、中深あるいは浅UV部に
おける場合と同様あるいはより高い光透過率、良い性能
及び(又は)特性を有する被膜フィルムを提供すること
ができる。さらに、全てのUV部において有効であり、
中深あるいは浅UV部においての先行技術の被膜フィル
ムに使用される材料の性能及び(又は)特性と比較し
て、全体的あるいは部分的に勝る被膜フィルムを提供す
ることができるという優れた効果を奏する。
は、深UV部において有効で、中深あるいは浅UV部に
おける場合と同様あるいはより高い光透過率、良い性能
及び(又は)特性を有する被膜フィルムを提供すること
ができる。さらに、全てのUV部において有効であり、
中深あるいは浅UV部においての先行技術の被膜フィル
ムに使用される材料の性能及び(又は)特性と比較し
て、全体的あるいは部分的に勝る被膜フィルムを提供す
ることができるという優れた効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C08L 29:14
Claims (9)
- 【請求項1】プロジェクションプリンティングにおいて
使用する皮膜フィルムであって、 【化1】 からなるポリビニールブチラールから成形されるフィル
ムであり、xは0.18以上、yは0.0から2.5、
zは0.80以下であることを特徴とする皮膜フィル
ム。 - 【請求項2】前記xは約0.18から約0.22、yは
約0.01から約2.5、zは約0.80であることを
特徴とする請求項1記載の皮膜フィルム。 - 【請求項3】前記xは約0.19、yは約0.3から約
1.0、zは約0.80であることを特徴とする請求項
1記載の皮膜フィルム。 - 【請求項4】前記ポリビニールブチラール樹脂は、少な
くとも1.100の比重を有することを特徴とする請求
項1記載の皮膜フィルム。 - 【請求項5】ジメチルホルムアミドあるいはジグライム
からなる溶剤中において、成形可能な溶液であって、 【化2】 からなるポリビニールブチラール溶液からなり、xは
0.18以上、yは0.0から2.5、zは0.80以
下であることを特徴とする溶液。 - 【請求項6】前記溶液は、重量比約5%から約30%の
ポリビニールブチラールを含むものであることを特徴と
する請求項5記載の溶液。 - 【請求項7】前記溶液は、重量比約10%から約15%
のポリビニールブチラールを含むものであることを特徴
とする請求項5記載の溶液。 - 【請求項8】前記溶液は、ジメチルホルムアミドである
ことを特徴とする請求項5記載の溶液。 - 【請求項9】前記溶液は、ジグライムであることを特徴
とする請求項5記載の溶液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14178891A JP3101346B2 (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | ポリビニルブチラール薄膜組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14178891A JP3101346B2 (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | ポリビニルブチラール薄膜組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0559191A true JPH0559191A (ja) | 1993-03-09 |
| JP3101346B2 JP3101346B2 (ja) | 2000-10-23 |
Family
ID=15300172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14178891A Expired - Fee Related JP3101346B2 (ja) | 1991-06-13 | 1991-06-13 | ポリビニルブチラール薄膜組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3101346B2 (ja) |
-
1991
- 1991-06-13 JP JP14178891A patent/JP3101346B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3101346B2 (ja) | 2000-10-23 |
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