JPH0560904A - 光学部品およびその製造方法 - Google Patents
光学部品およびその製造方法Info
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- JPH0560904A JPH0560904A JP24433491A JP24433491A JPH0560904A JP H0560904 A JPH0560904 A JP H0560904A JP 24433491 A JP24433491 A JP 24433491A JP 24433491 A JP24433491 A JP 24433491A JP H0560904 A JPH0560904 A JP H0560904A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学膜の剥離やクラックなどが発生しにくく
良好な耐久性を有する光学部品およびその製造方法を提
供することにある。 【構成】 本発明の光学部品は、合成樹脂製の基板と、
この基板の表面上に形成された単一の無機物質からなる
無機物質膜とよりなり、無機物質膜は、高硬度部分層と
低硬度部分層とを含む２層以上の部分層により構成さ
れ、低硬度部分層は、高硬度部分層よりも基板側に形成
されていることを特徴とする。また、合成樹脂製の基板
と、この基板の表面上に形成された２層以上の無機物質
層とよりなり、第２層目以降の無機物質層のうち少なく
とも１層は、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬
度を有することを特徴とする。本発明の製造方法は、イ
オン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に変
化させることを特徴とする。
良好な耐久性を有する光学部品およびその製造方法を提
供することにある。 【構成】 本発明の光学部品は、合成樹脂製の基板と、
この基板の表面上に形成された単一の無機物質からなる
無機物質膜とよりなり、無機物質膜は、高硬度部分層と
低硬度部分層とを含む２層以上の部分層により構成さ
れ、低硬度部分層は、高硬度部分層よりも基板側に形成
されていることを特徴とする。また、合成樹脂製の基板
と、この基板の表面上に形成された２層以上の無機物質
層とよりなり、第２層目以降の無機物質層のうち少なく
とも１層は、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬
度を有することを特徴とする。本発明の製造方法は、イ
オン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に変
化させることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学部品およびその製造
方法に関する。
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、カメラ、テレビプロジェクター、
複写機などの光学系に搭載される光学部品の材料として
アクリル樹脂などの合成樹脂が広く用いられており、例
えば、合成樹脂を基板とし、この基板の表面に無機物質
からなる光学膜が形成された光学部品が知られている。
複写機などの光学系に搭載される光学部品の材料として
アクリル樹脂などの合成樹脂が広く用いられており、例
えば、合成樹脂を基板とし、この基板の表面に無機物質
からなる光学膜が形成された光学部品が知られている。
【０００３】しかして、このような光学部品を製造する
場合、基板を構成する合成樹脂の耐熱性がガラスより低
いことから、基板の表面に光学膜を形成する手段として
真空中での加熱蒸着手段を適用することができない。
場合、基板を構成する合成樹脂の耐熱性がガラスより低
いことから、基板の表面に光学膜を形成する手段として
真空中での加熱蒸着手段を適用することができない。
【０００４】従来、合成樹脂製基板の表面に光学膜例え
ば反射防止膜を形成する場合、光学膜の膜構成および形
成方法として、以下のような技術が提案されている。 基板の表面に、酸化シリコンや酸化アルミニウムな
どよりなる中間層を形成し、更に、この中間層上に反射
防止膜を形成する技術。 シリコン樹脂などの有機材料を基板の表面に塗布し
てハードコート層を形成し、更に、このハードコート層
上に反射防止膜を形成する技術。
ば反射防止膜を形成する場合、光学膜の膜構成および形
成方法として、以下のような技術が提案されている。 基板の表面に、酸化シリコンや酸化アルミニウムな
どよりなる中間層を形成し、更に、この中間層上に反射
防止膜を形成する技術。 シリコン樹脂などの有機材料を基板の表面に塗布し
てハードコート層を形成し、更に、このハードコート層
上に反射防止膜を形成する技術。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、の技
術では、中間層の厚さを相当に大きくする必要があるた
めに、形成される光学膜が基板から剥離したり、光学膜
にクラックが発生しやすくなるなど光学部品としての耐
久性に劣る、という問題を有する。また、の技術で
は、ハードコート層を均一に塗布することが困難である
ために、カメラレンズなどの高精度レンズには適用でき
ない、という問題を有する。このように、従来の技術で
は、良好な耐久性を有するものとして、満足できる光学
部品は提供されていないのが現状である。
術では、中間層の厚さを相当に大きくする必要があるた
めに、形成される光学膜が基板から剥離したり、光学膜
にクラックが発生しやすくなるなど光学部品としての耐
久性に劣る、という問題を有する。また、の技術で
は、ハードコート層を均一に塗布することが困難である
ために、カメラレンズなどの高精度レンズには適用でき
ない、という問題を有する。このように、従来の技術で
は、良好な耐久性を有するものとして、満足できる光学
部品は提供されていないのが現状である。
【０００６】本発明は、以上のような事情に基づいてな
されたものであって、本発明の第１の目的は、光学膜の
剥離やクラックなどが発生しにくく、良好な耐久性を有
する光学部品を提供することにある。
されたものであって、本発明の第１の目的は、光学膜の
剥離やクラックなどが発生しにくく、良好な耐久性を有
する光学部品を提供することにある。
【０００７】本発明の第２の目的は、上記の光学部品を
好適に製造する方法を提供することにある。
好適に製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の光学部品は、合
成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成された単一
の無機物質からなる無機物質膜とよりなり、前記無機物
質膜は、最も高い硬度を有する高硬度部分層と、最も低
い硬度を有する低硬度部分層とを含む２層以上の部分層
により構成され、前記低硬度部分層は、前記高硬度部分
層よりも基板側に形成されていることを特徴とする。ま
た、高硬度部分層が基板から最も離間して形成されてい
ることが好ましい。また、無機物質膜の表面上に、この
無機物質膜とは異なる無機物質からなる被覆膜が少なく
とも１層以上形成されていることが好ましい。また、基
板から最も離間して形成された被覆膜が、無機物質膜の
低硬度部分層の硬度より高い硬度を有することが好まし
い。また、無機物質膜がシリコン酸化物により構成され
ていることが好ましい。
成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成された単一
の無機物質からなる無機物質膜とよりなり、前記無機物
質膜は、最も高い硬度を有する高硬度部分層と、最も低
い硬度を有する低硬度部分層とを含む２層以上の部分層
により構成され、前記低硬度部分層は、前記高硬度部分
層よりも基板側に形成されていることを特徴とする。ま
た、高硬度部分層が基板から最も離間して形成されてい
ることが好ましい。また、無機物質膜の表面上に、この
無機物質膜とは異なる無機物質からなる被覆膜が少なく
とも１層以上形成されていることが好ましい。また、基
板から最も離間して形成された被覆膜が、無機物質膜の
低硬度部分層の硬度より高い硬度を有することが好まし
い。また、無機物質膜がシリコン酸化物により構成され
ていることが好ましい。
【０００９】本発明の光学部品は、合成樹脂製の基板
と、この基板の表面上に形成された２層以上の無機物質
層とよりなり、基板側から数えて第２層目以降の無機物
質層のうち少なくとも１層は、基板から数えて第１層目
の無機物質層の硬度よりも高い硬度を有することを特徴
とする。また、基板から最も離間して形成された無機物
質層が、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬度を
有することが好ましい。また、第１層目の無機物質層が
シリコン酸化物により構成されていることが好ましい。
と、この基板の表面上に形成された２層以上の無機物質
層とよりなり、基板側から数えて第２層目以降の無機物
質層のうち少なくとも１層は、基板から数えて第１層目
の無機物質層の硬度よりも高い硬度を有することを特徴
とする。また、基板から最も離間して形成された無機物
質層が、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬度を
有することが好ましい。また、第１層目の無機物質層が
シリコン酸化物により構成されていることが好ましい。
【００１０】本発明の光学部品は、合成樹脂製の基板
と、この基板の表面上に形成された第１の無機物質層
と、この第１の無機物質層の表面上に形成された第２の
無機物質層とよりなり、第２の無機物質層は、第１の無
機物質層の硬度よりも高い硬度を有することを特徴とす
る。また、第１の無機物質層がシリコン酸化物により構
成されていることが好ましい。
と、この基板の表面上に形成された第１の無機物質層
と、この第１の無機物質層の表面上に形成された第２の
無機物質層とよりなり、第２の無機物質層は、第１の無
機物質層の硬度よりも高い硬度を有することを特徴とす
る。また、第１の無機物質層がシリコン酸化物により構
成されていることが好ましい。
【００１１】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、無機物よりなる膜を基板
上に形成する工程を含む光学部品の製造方法であって、
イオン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に
変化させることを特徴とする。
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、無機物よりなる膜を基板
上に形成する工程を含む光学部品の製造方法であって、
イオン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に
変化させることを特徴とする。
【００１２】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、単一の無機物質からなる
無機物質膜を形成する工程を含み、この工程において、
イオン発生源により発生するイオンガスの量を最小にし
て低硬度部分層を形成することを特徴とする。また、イ
オン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した高硬度部分層を形成すること
が好ましい。また、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最大にして、基板から最も離間した被覆膜を
形成することが好ましい。
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、単一の無機物質からなる
無機物質膜を形成する工程を含み、この工程において、
イオン発生源により発生するイオンガスの量を最小にし
て低硬度部分層を形成することを特徴とする。また、イ
オン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した高硬度部分層を形成すること
が好ましい。また、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最大にして、基板から最も離間した被覆膜を
形成することが好ましい。
【００１３】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、無機物質層を２層以上形
成する工程を含み、この工程において、イオン発生源に
より発生するイオンガスの量を最小にして第１層目の無
機物質層を形成することを特徴とする。また、イオン発
生源により発生するイオンガスの量を最大にして、基板
から最も離間した無機物質層を形成することが好まし
い。
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、無機物質層を２層以上形
成する工程を含み、この工程において、イオン発生源に
より発生するイオンガスの量を最小にして第１層目の無
機物質層を形成することを特徴とする。また、イオン発
生源により発生するイオンガスの量を最大にして、基板
から最も離間した無機物質層を形成することが好まし
い。
【００１４】本発明の光学部品の製造方法は、少なくと
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、それぞれ異なる無機物質
からなる第１の無機物質層および第２の無機物質層を形
成する工程を含み、この工程において、第２の無機物質
層の形成時に発生するイオンガスの量を、第１の無機物
質層の形成時に発生するイオンガスの量より多くなるよ
う設定したことを特徴とする。
も蒸発源およびイオン発生源が設けられている真空装置
内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に導入ガス
を供給し、イオン発生源により導入ガスをイオン化して
イオンガスを発生させながら、それぞれ異なる無機物質
からなる第１の無機物質層および第２の無機物質層を形
成する工程を含み、この工程において、第２の無機物質
層の形成時に発生するイオンガスの量を、第１の無機物
質層の形成時に発生するイオンガスの量より多くなるよ
う設定したことを特徴とする。
【００１５】
【作用】 基板側に形成された低硬度部分層は、無機物質の密
度が小さくて十分な柔軟性を有するので、基板と無機物
質膜との熱膨張率の差に起因する寸法変化が吸収され
る。また、低硬度部分層よりも外側に形成された無機物
質の密度の大きい高硬度部分層により表面が保護され
る。従って、無機物質膜全体としての耐久性が向上し、
光学膜の剥離やクラックが発生しにくい。 ２層以上の無機物質層とよりなり、第２層目以降の
無機物質層のうち少なくとも１層が、第１層目の無機物
質層の硬度よりも高い硬度を有するので、第１層目の無
機物質層により熱膨張率の差に起因する寸法変化が吸収
され、第２層目以降の無機物質層のうち少なくとも１層
により表面が保護される。従って、全体としての耐久性
が向上し、光学膜の剥離やクラックが発生しにくい。
度が小さくて十分な柔軟性を有するので、基板と無機物
質膜との熱膨張率の差に起因する寸法変化が吸収され
る。また、低硬度部分層よりも外側に形成された無機物
質の密度の大きい高硬度部分層により表面が保護され
る。従って、無機物質膜全体としての耐久性が向上し、
光学膜の剥離やクラックが発生しにくい。 ２層以上の無機物質層とよりなり、第２層目以降の
無機物質層のうち少なくとも１層が、第１層目の無機物
質層の硬度よりも高い硬度を有するので、第１層目の無
機物質層により熱膨張率の差に起因する寸法変化が吸収
され、第２層目以降の無機物質層のうち少なくとも１層
により表面が保護される。従って、全体としての耐久性
が向上し、光学膜の剥離やクラックが発生しにくい。
【００１６】以下、本発明について具体的に説明する。
【００１７】＜第１の発明＞本発明のうち第１の発明
は、合成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成され
た単一の無機物質からなる無機物質膜とよりなる光学部
品である。
は、合成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成され
た単一の無機物質からなる無機物質膜とよりなる光学部
品である。
【００１８】基板を構成する合成樹脂としては、例えば
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン
樹脂などを挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン
樹脂などを挙げることができるが、これらに限定される
ものではない。
【００１９】無機物質膜は、最も高い硬度を有する高硬
度部分層と、最も低い硬度を有する低硬度部分層とを含
む２層以上の部分層により構成され、低硬度部分層は高
硬度部分層よりも基板側に配置されている。これによ
り、無機物質膜としての耐久性が向上し、光学膜の剥離
やクラックが発生しにくい強度の大きい光学部品とな
る。
度部分層と、最も低い硬度を有する低硬度部分層とを含
む２層以上の部分層により構成され、低硬度部分層は高
硬度部分層よりも基板側に配置されている。これによ
り、無機物質膜としての耐久性が向上し、光学膜の剥離
やクラックが発生しにくい強度の大きい光学部品とな
る。
【００２０】第１の発明において、高硬度部分層の形成
位置は、低硬度部分層の外側（基板側とは反対側）であ
れば特に限定されないが、基板から最も離間した位置
（最上部）に高硬度部分層が形成されている光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。
位置は、低硬度部分層の外側（基板側とは反対側）であ
れば特に限定されないが、基板から最も離間した位置
（最上部）に高硬度部分層が形成されている光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。
【００２１】無機物質膜の膜厚は、例えば１００〜５０
０ｎｍである。また、低硬度部分層の膜厚は、無機物質
膜の構成および膜厚、使用目的などによって異なるが、
基板と無機物質膜との密着性、並びにクラック発生防止
の観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。
０ｎｍである。また、低硬度部分層の膜厚は、無機物質
膜の構成および膜厚、使用目的などによって異なるが、
基板と無機物質膜との密着性、並びにクラック発生防止
の観点から、５ｎｍ以上であることが好ましい。
【００２２】また、第１の発明において、２層以上の部
分層よりなる無機物質膜の表面上に、この無機物質膜と
は異なる無機物質からなる被覆膜が少なくとも１層以上
形成されていてもよく、この場合において、基板から最
も離間した位置（最上部）に形成された被覆膜の硬度
が、無機物質膜の低硬度部分層の硬度より高い光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。
分層よりなる無機物質膜の表面上に、この無機物質膜と
は異なる無機物質からなる被覆膜が少なくとも１層以上
形成されていてもよく、この場合において、基板から最
も離間した位置（最上部）に形成された被覆膜の硬度
が、無機物質膜の低硬度部分層の硬度より高い光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。
【００２３】更に、無機物質膜を構成する無機物質がシ
リコン酸化物である場合には、合成樹脂製の基板との密
着性に優れている点で好ましい。
リコン酸化物である場合には、合成樹脂製の基板との密
着性に優れている点で好ましい。
【００２４】第１の発明において、合成樹脂製の基板上
に無機物質膜を形成する手段としては、例えば真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシステッ
ド法、スパッタリング法などの公知の膜形成手段を挙げ
ることができる。この場合において、硬度の異なる部分
層を２層以上積層させることにより、厚さ方向において
硬度を変化させることが必要である。
に無機物質膜を形成する手段としては、例えば真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシステッ
ド法、スパッタリング法などの公知の膜形成手段を挙げ
ることができる。この場合において、硬度の異なる部分
層を２層以上積層させることにより、厚さ方向において
硬度を変化させることが必要である。
【００２５】以下、無機物質膜の形成方法の一例を示
す。 低硬度部分層の形成 合成樹脂製の基板に、上記のいずれかの膜形成手段によ
り、低硬度部分層を所定の膜厚まで形成する。低硬度部
分層は、例えば、蒸発源およびイオン発生源が設けられ
ている真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装
置内に導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガス
をイオン化してイオンガスを発生させながら形成する。
ここに、膜形成手段のために使用可能な蒸発源として
は、抵抗加熱蒸発源、電子銃加熱蒸発源、誘導加熱蒸発
源およびスパッタリング法においては直流スパッタ源、
高周波スパッタ源、イオンビームスパッタ源などを挙げ
ることができる。
す。 低硬度部分層の形成 合成樹脂製の基板に、上記のいずれかの膜形成手段によ
り、低硬度部分層を所定の膜厚まで形成する。低硬度部
分層は、例えば、蒸発源およびイオン発生源が設けられ
ている真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装
置内に導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガス
をイオン化してイオンガスを発生させながら形成する。
ここに、膜形成手段のために使用可能な蒸発源として
は、抵抗加熱蒸発源、電子銃加熱蒸発源、誘導加熱蒸発
源およびスパッタリング法においては直流スパッタ源、
高周波スパッタ源、イオンビームスパッタ源などを挙げ
ることができる。
【００２６】 高硬度部分層の形成 高硬度部分層は、導入ガスの種類や量、付着速度、イオ
ンエネルギー、イオン電流などに変更を加え、低硬度部
分層と同一の材料を用いて同一の膜形成手段を継続して
行うことにより形成することができる。また、膜形成手
段そのものを変更して形成してもよい。同一の膜形成手
段により高硬度部分層を形成する場合には、イオンガス
の発生量を増加させて行う必要がある。イオンガスの発
生量は、イオン電流とほぼ正比例の関係にあるので、イ
オン電流を増加させることによって高硬度部分層の形成
を行うことができる。ここに、高硬度部分層を形成する
ための蒸着処理条件の一例を示せば、イオン源としてカ
ウフマン型イオン源「ＫＩＳ−５０Ｐ」を用い、真空装
置内の真空度が０．５〜5 ×１０-4Ｔｏｒｒとなるよう
約０．５〜３０ＳＣＣＭの流量で導入ガス（例えば酸素
ガスおよび／またはアルゴンガス）を供給し、イオン電
流を０．３〜４ｍＡ／ｃｍ2 に調整する。
ンエネルギー、イオン電流などに変更を加え、低硬度部
分層と同一の材料を用いて同一の膜形成手段を継続して
行うことにより形成することができる。また、膜形成手
段そのものを変更して形成してもよい。同一の膜形成手
段により高硬度部分層を形成する場合には、イオンガス
の発生量を増加させて行う必要がある。イオンガスの発
生量は、イオン電流とほぼ正比例の関係にあるので、イ
オン電流を増加させることによって高硬度部分層の形成
を行うことができる。ここに、高硬度部分層を形成する
ための蒸着処理条件の一例を示せば、イオン源としてカ
ウフマン型イオン源「ＫＩＳ−５０Ｐ」を用い、真空装
置内の真空度が０．５〜5 ×１０-4Ｔｏｒｒとなるよう
約０．５〜３０ＳＣＣＭの流量で導入ガス（例えば酸素
ガスおよび／またはアルゴンガス）を供給し、イオン電
流を０．３〜４ｍＡ／ｃｍ2 に調整する。
【００２７】 他の部分層の形成 無機物質膜を形成する工程において、必要に応じて、硬
度の異なる部分層を、低硬度部分層と高硬度部分層との
中間に、あるいは高硬度部分層の外側に形成させること
により、３層以上の部分層よりなる無機物質膜としても
よい。
度の異なる部分層を、低硬度部分層と高硬度部分層との
中間に、あるいは高硬度部分層の外側に形成させること
により、３層以上の部分層よりなる無機物質膜としても
よい。
【００２８】高硬度部分層と低硬度部分層とを含む２層
以上の部分層を形成する場合において、各部分層の形成
は、連続的に行っても断続的に行ってもよい。すなわ
ち、各パラメーターの変更を連続的あるいは断続的に行
ってもよく、また、異なる部分層の形成操作へ移行する
際に、操作を一旦中断してもよい。
以上の部分層を形成する場合において、各部分層の形成
は、連続的に行っても断続的に行ってもよい。すなわ
ち、各パラメーターの変更を連続的あるいは断続的に行
ってもよく、また、異なる部分層の形成操作へ移行する
際に、操作を一旦中断してもよい。
【００２９】なお、異なる部分層の形成操作を連続して
行う場合、各部分層の硬度を測定することは困難であ
る。斯かる場合においては、例えば、ガラス製（例えば
「ＢＫ７」製）のモニター用基板上に、各部分層の形成
条件と同一条件で部分層を形成し、マイクロヴィッカー
ス硬度計などを用いて測定すればよい。また、断続的に
部分層の積層作業を行う場合には、所定の部分層が形成
された後、真空装置内より基板を一旦取り出して硬度を
測定してもよい。
行う場合、各部分層の硬度を測定することは困難であ
る。斯かる場合においては、例えば、ガラス製（例えば
「ＢＫ７」製）のモニター用基板上に、各部分層の形成
条件と同一条件で部分層を形成し、マイクロヴィッカー
ス硬度計などを用いて測定すればよい。また、断続的に
部分層の積層作業を行う場合には、所定の部分層が形成
された後、真空装置内より基板を一旦取り出して硬度を
測定してもよい。
【００３０】＜第２の発明＞本発明のうち第２の発明
は、合成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成され
た２層以上の無機物質層とよりなる光学部品である。す
なわち、第２の発明の光学部品は、それぞれ異なる無機
物質からなる２層の無機物質層を含む２層以上の無機物
質層を有するものである。
は、合成樹脂製の基板と、この基板の表面上に形成され
た２層以上の無機物質層とよりなる光学部品である。す
なわち、第２の発明の光学部品は、それぞれ異なる無機
物質からなる２層の無機物質層を含む２層以上の無機物
質層を有するものである。
【００３１】第２の発明において、基板を構成する合成
樹脂としては、第１の発明と同様の樹脂を挙げることが
できる。
樹脂としては、第１の発明と同様の樹脂を挙げることが
できる。
【００３２】第２の発明に斯かる光学部品を構成する２
層以上の無機物質層のうち、基板側から数えて第２層目
以降の無機物質層のうち少なくとも１層は、第１層目の
無機物質層の硬度よりも高い硬度を有する。これによ
り、第１の発明と同様に耐久性が向上し、光学膜の剥離
やクラックが発生しにくい強度の大きい光学部品とな
る。
層以上の無機物質層のうち、基板側から数えて第２層目
以降の無機物質層のうち少なくとも１層は、第１層目の
無機物質層の硬度よりも高い硬度を有する。これによ
り、第１の発明と同様に耐久性が向上し、光学膜の剥離
やクラックが発生しにくい強度の大きい光学部品とな
る。
【００３３】第２の発明において、基板から最も離間し
た位置（最上部）に形成された無機物質層が、第１層目
の無機物質層の硬度よりも高い硬度を有する光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。
た位置（最上部）に形成された無機物質層が、第１層目
の無機物質層の硬度よりも高い硬度を有する光学部品
は、表面保護の効果が十分に発現されることから好まし
い。
【００３４】また、第２の発明において、基板の直上に
形成された第１層目の無機物質層がシリコン酸化物であ
る場合には、基板との密着性に優れている点および屈折
率の再現性が高い点で好ましい。
形成された第１層目の無機物質層がシリコン酸化物であ
る場合には、基板との密着性に優れている点および屈折
率の再現性が高い点で好ましい。
【００３５】なお、第２の発明においては、２層以上の
無機物質層のうち、最も高い硬度を有する無機物質層の
形成位置は、第２層目以降であれば特に限定されず、必
ずしも最上部に形成されている必要はない。
無機物質層のうち、最も高い硬度を有する無機物質層の
形成位置は、第２層目以降であれば特に限定されず、必
ずしも最上部に形成されている必要はない。
【００３６】上記の第１の発明および第２の発明におい
て、層の硬度と、層を構成する無機物質の密度および緻
密性とは相互に関係している。例えば、電子顕微鏡で層
の断面を観察すると、同一材料からなる層において、硬
度の高い層ほど無機物質の密度（緻密性）は高いものと
なり、硬度の低い層は無機物質の密度（緻密性）が低い
ものとなる。従って、各層における無機物質の密度（緻
密性）を変更することにより、硬度を調整することがで
きる。
て、層の硬度と、層を構成する無機物質の密度および緻
密性とは相互に関係している。例えば、電子顕微鏡で層
の断面を観察すると、同一材料からなる層において、硬
度の高い層ほど無機物質の密度（緻密性）は高いものと
なり、硬度の低い層は無機物質の密度（緻密性）が低い
ものとなる。従って、各層における無機物質の密度（緻
密性）を変更することにより、硬度を調整することがで
きる。
【００３７】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
【００３８】〔実施例１〕ポリメチルメタアクリレート
樹脂（以下「ＰＭＭＡ樹脂」という）製の基板Ａを、図
１に示した真空装置１内に複数配置した。真空装置１の
内部には、電子銃７、蒸着材料（本実施例においては酸
化シリコン）の容器であるルツボ９、カウフマン型のイ
オン源２「ＫＩＳ−５０Ｐ」（真空機械社製）、水晶振
動子膜厚計８がそれぞれ配置されている。イオン源２に
は、導入ガス供給源４からガス流量調節弁５、流量計６
を通って導入ガスが供給され、導入ガスはイオン源２内
によりイオン化され、真空装置内へ引き出される。図１
において、３は基板Ａを支持するホルダーである。
樹脂（以下「ＰＭＭＡ樹脂」という）製の基板Ａを、図
１に示した真空装置１内に複数配置した。真空装置１の
内部には、電子銃７、蒸着材料（本実施例においては酸
化シリコン）の容器であるルツボ９、カウフマン型のイ
オン源２「ＫＩＳ−５０Ｐ」（真空機械社製）、水晶振
動子膜厚計８がそれぞれ配置されている。イオン源２に
は、導入ガス供給源４からガス流量調節弁５、流量計６
を通って導入ガスが供給され、導入ガスはイオン源２内
によりイオン化され、真空装置内へ引き出される。図１
において、３は基板Ａを支持するホルダーである。
【００３９】低硬度部分層の形成 基板を加熱することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒ
になるまで真空装置１内を排気した後、イオン化されて
いない酸素ガスを流量１０ＳＣＣＭで真空装置１内に供
給しながら、ルツボ９内の酸化シリコンに電子銃７のビ
ームを照射して蒸着処理を開始した。ここに蒸着速度は
０．８ｎｍ／秒とした。
になるまで真空装置１内を排気した後、イオン化されて
いない酸素ガスを流量１０ＳＣＣＭで真空装置１内に供
給しながら、ルツボ９内の酸化シリコンに電子銃７のビ
ームを照射して蒸着処理を開始した。ここに蒸着速度は
０．８ｎｍ／秒とした。
【００４０】高硬度部分層の形成 蒸着膜（低硬度部分層）の膜厚が３０ｎｍに達したとこ
ろで、イオン源２を作動させて酸素ガスをイオン化し、
そのイオンビームを基板に照射しながら蒸着処理を継続
した。ここで、酸素ガスの供給量および蒸着速度は変更
せず、また、イオン源２のイオン電流は０．５〜１．０
ｍＡ／ｃｍ2 に調整した。蒸着膜（高硬度部分層）の膜
厚が９０ｎｍ（合計の酸化シリコン膜厚１２０ｎｍ）に
達したところで、イオンビームの照射および蒸着処理を
停止し、本発明の光学部品を得た。この光学部品の断面
の概略を図２に示す。同図において、２０は基板、２０
Ｌは低硬度部分層、２０Ｈは高硬度部分層を示す。
ろで、イオン源２を作動させて酸素ガスをイオン化し、
そのイオンビームを基板に照射しながら蒸着処理を継続
した。ここで、酸素ガスの供給量および蒸着速度は変更
せず、また、イオン源２のイオン電流は０．５〜１．０
ｍＡ／ｃｍ2 に調整した。蒸着膜（高硬度部分層）の膜
厚が９０ｎｍ（合計の酸化シリコン膜厚１２０ｎｍ）に
達したところで、イオンビームの照射および蒸着処理を
停止し、本発明の光学部品を得た。この光学部品の断面
の概略を図２に示す。同図において、２０は基板、２０
Ｌは低硬度部分層、２０Ｈは高硬度部分層を示す。
【００４１】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
【００４２】なお、ガラス硝材「ＢＫ７」よりなる基板
上に各操作と同一条件により形成された膜（部分層）に
ついて、マイクロヴィッカース硬度（以下「ＨＶ」とい
う）を測定したところ、低硬度部分層と同一条件で形成
された層でＨＶ５５０、高硬度部分層と同一条件で形成
された層でＨＶ６７０であった。
上に各操作と同一条件により形成された膜（部分層）に
ついて、マイクロヴィッカース硬度（以下「ＨＶ」とい
う）を測定したところ、低硬度部分層と同一条件で形成
された層でＨＶ５５０、高硬度部分層と同一条件で形成
された層でＨＶ６７０であった。
【００４３】〔実施例２〕図３に示すように、ＲＦイオ
ンプレーティング処理が可能な真空装置１１内にＰＭＭ
Ａ樹脂製の基板Ａを複数配置した。真空装置１１の内部
には、電子銃７、蒸着材料の容器であるルツボ９、ＲＦ
アンテナ１２、水晶振動子膜厚計８がそれぞれ配置され
ている。
ンプレーティング処理が可能な真空装置１１内にＰＭＭ
Ａ樹脂製の基板Ａを複数配置した。真空装置１１の内部
には、電子銃７、蒸着材料の容器であるルツボ９、ＲＦ
アンテナ１２、水晶振動子膜厚計８がそれぞれ配置され
ている。
【００４４】第１層（低硬度層）の形成 基板を加熱することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒ
になるまで真空装置１１内を排気した後、真空装置１１
内の真空度が２×１０-4Ｔｏｒｒになるよう酸素ガスを
導入し、１００ＷのＲＦ放電を行いながら、酸化シリコ
ンを蒸着材料として蒸着処理を行った。ここに蒸着速度
は０．８ｎｍ／秒とした。膜厚が５０ｎｍに達したとこ
ろでＲＦ放電および蒸着処理を一旦停止し、酸化シリコ
ンよりなる第１層を形成した。
になるまで真空装置１１内を排気した後、真空装置１１
内の真空度が２×１０-4Ｔｏｒｒになるよう酸素ガスを
導入し、１００ＷのＲＦ放電を行いながら、酸化シリコ
ンを蒸着材料として蒸着処理を行った。ここに蒸着速度
は０．８ｎｍ／秒とした。膜厚が５０ｎｍに達したとこ
ろでＲＦ放電および蒸着処理を一旦停止し、酸化シリコ
ンよりなる第１層を形成した。
【００４５】第２層（高硬度層）の形成 １００ＷのＲＦ放電を行いながら、酸化インジウムと酸
化スズの混合物（以下「ＩＴＯ」という）を蒸着材料と
して蒸着処理を行った。ここに蒸着速度は 0．４ｎｍ／
秒とした。ＩＴＯよりなる蒸着層の膜厚が５０ｎｍ（合
計の膜厚１００ｎｍ）に達したところでＲＦ放電および
蒸着処理を停止し、本発明の光学部品を得た。この光学
部品の断面の概略を図４に示す。同図において、４０は
基板、４０Ｌは低硬度の第１層（酸化シリコン層）、４
０Ｈは高硬度の第２層（ＩＴＯ層）を示す。
化スズの混合物（以下「ＩＴＯ」という）を蒸着材料と
して蒸着処理を行った。ここに蒸着速度は 0．４ｎｍ／
秒とした。ＩＴＯよりなる蒸着層の膜厚が５０ｎｍ（合
計の膜厚１００ｎｍ）に達したところでＲＦ放電および
蒸着処理を停止し、本発明の光学部品を得た。この光学
部品の断面の概略を図４に示す。同図において、４０は
基板、４０Ｌは低硬度の第１層（酸化シリコン層）、４
０Ｈは高硬度の第２層（ＩＴＯ層）を示す。
【００４６】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
【００４７】なお、ガラス硝材「ＢＫ７」よりなる基板
上に各操作と同一条件により形成された膜について、Ｈ
Ｖを測定したところ、第１層と同一条件で形成された層
でＨＶ５５０、第２層と同一条件で形成された層でＨＶ
７７０であった。
上に各操作と同一条件により形成された膜について、Ｈ
Ｖを測定したところ、第１層と同一条件で形成された層
でＨＶ５５０、第２層と同一条件で形成された層でＨＶ
７７０であった。
【００４８】〔実施例３〕 第１層の形成 実施例１と同様の操作を行って、ＰＭＭＡ樹脂製の基板
上に、低硬度部分層と高硬度部分層とよりなる無機物質
膜（１２０ｎｍ）を形成し、この無機物質膜を第１層と
した。
上に、低硬度部分層と高硬度部分層とよりなる無機物質
膜（１２０ｎｍ）を形成し、この無機物質膜を第１層と
した。
【００４９】第２層（低硬度層）の形成 蒸着材料として酸化セリウムを用い、１．５×１０-4Ｔ
ｏｒｒの真空度になるまで酸素ガスを導入しながら、蒸
着速度０．３ｎｍ／秒で電子ビーム蒸着を行って、酸化
セリウムよりなる膜厚１０ｎｍの第２層を形成した。
ｏｒｒの真空度になるまで酸素ガスを導入しながら、蒸
着速度０．３ｎｍ／秒で電子ビーム蒸着を行って、酸化
セリウムよりなる膜厚１０ｎｍの第２層を形成した。
【００５０】第３層（高硬度層）の形成 実施例１の高硬度部分層の形成と同様の条件によりイオ
ンビームを基板に照射しながら蒸着処理を行って、酸化
シリコンよりなる膜厚１２５ｎｍの第３層を形成した。
以上の操作によって得られた光学部品の断面の概略を図
５に示す。同図において、５０は基板、５０Ｍは第１層
（酸化シリコン層）、５０Ｌは第２層（酸化セリウム
層）、５０Ｈは第３層（酸化シリコン層）を示す。
ンビームを基板に照射しながら蒸着処理を行って、酸化
シリコンよりなる膜厚１２５ｎｍの第３層を形成した。
以上の操作によって得られた光学部品の断面の概略を図
５に示す。同図において、５０は基板、５０Ｍは第１層
（酸化シリコン層）、５０Ｌは第２層（酸化セリウム
層）、５０Ｈは第３層（酸化シリコン層）を示す。
【００５１】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
【００５２】なお、ガラス硝材「ＢＫ７」よりなる基板
上に各操作と同一条件により形成された膜について、Ｈ
Ｖを測定したところ、第２層と同一条件で形成された層
でＨＶ４００、第３層と同一条件で形成された層でＨＶ
７２０であった。
上に各操作と同一条件により形成された膜について、Ｈ
Ｖを測定したところ、第２層と同一条件で形成された層
でＨＶ４００、第３層と同一条件で形成された層でＨＶ
７２０であった。
【００５３】〔比較例〕実施例２で用いた真空装置１１
内にＰＭＭＡ樹脂製の基板を複数配置した。基板を加熱
することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒになるまで
真空装置１１内を排気した後、真空装置１１内の真空度
が２×１０-4Ｔｏｒｒになるよう酸素ガスを導入し、１
００ＷのＲＦ放電を行いながら酸化シリコンを蒸着材料
として蒸着処理を行った。ここに蒸着速度は０．８ｎｍ
／秒とした。膜厚が１５０ｎｍに達したところでＲＦ放
電および蒸着処理を停止し、基板上に酸化シリコンより
なる光学膜を形成して光学部品を得た。
内にＰＭＭＡ樹脂製の基板を複数配置した。基板を加熱
することなく、真空度が１×１０-5Ｔｏｒｒになるまで
真空装置１１内を排気した後、真空装置１１内の真空度
が２×１０-4Ｔｏｒｒになるよう酸素ガスを導入し、１
００ＷのＲＦ放電を行いながら酸化シリコンを蒸着材料
として蒸着処理を行った。ここに蒸着速度は０．８ｎｍ
／秒とした。膜厚が１５０ｎｍに達したところでＲＦ放
電および蒸着処理を停止し、基板上に酸化シリコンより
なる光学膜を形成して光学部品を得た。
【００５４】この光学部品を取り出し、５０℃の恒温槽
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
内に１時間放置した後、外観（クラック発生の有無）を
評価した。また、恒温槽内の温度を７０℃に変更したこ
と以外は同様にして外観を評価した。結果を表１に示
す。
【００５５】各実施例および比較例における性能比較を
表１に示す。なお表１中の「付着力」はテープテストに
より調べた結果である。
表１に示す。なお表１中の「付着力」はテープテストに
より調べた結果である。
【００５６】
【表１】
【００５７】
【発明の効果】本発明の光学部品は、光学膜の剥離やク
ラックなどが発生しにくく、良好な耐久性を有するもの
である。また、本発明の光学部品の製造方法によれば、
上記の光学部品を好適に製造することができる。
ラックなどが発生しにくく、良好な耐久性を有するもの
である。また、本発明の光学部品の製造方法によれば、
上記の光学部品を好適に製造することができる。
【図１】実施例１で用いた真空装置を含む処理装置の概
略を示す説明図である。
略を示す説明図である。
【図２】実施例１で得られた光学部品の概略を示す説明
用断面図である。
用断面図である。
【図３】実施例２で用いた真空装置を含む処理装置の概
略を示す説明図である。
略を示す説明図である。
【図４】実施例２で得られた光学部品の概略を示す説明
用断面図である。
用断面図である。
【図５】実施例３で得られた光学部品の概略を示す説明
用断面図である。
用断面図である。
１ 真空装置 ２ イオン源 ３ ホルダー ４ 導入ガス供
給源 ５ ガス流量調節弁 ６ 流量計 ７ 電子銃 ８ 水晶振動子
膜厚計 ９ ルツボ １１ 真空装置 １２ ＲＦアンテナ ２０ 基板 ２０Ｌ 低硬度部分層 ２０Ｈ 高硬度部分
層 ４０ 基板 ４０Ｌ 第１層 ４０Ｈ 第２層 ５０ 基板 ５０Ｍ 第１層 ５０Ｌ 第２層 ５０Ｈ 第３層
給源 ５ ガス流量調節弁 ６ 流量計 ７ 電子銃 ８ 水晶振動子
膜厚計 ９ ルツボ １１ 真空装置 １２ ＲＦアンテナ ２０ 基板 ２０Ｌ 低硬度部分層 ２０Ｈ 高硬度部分
層 ４０ 基板 ４０Ｌ 第１層 ４０Ｈ 第２層 ５０ 基板 ５０Ｍ 第１層 ５０Ｌ 第２層 ５０Ｈ 第３層
Claims (17)
- 【請求項１】 合成樹脂製の基板と、この基板の表面上
に形成された単一の無機物質からなる無機物質膜とより
なり、 前記無機物質膜は、最も高い硬度を有する高硬度部分層
と、最も低い硬度を有する低硬度部分層とを含む２層以
上の部分層により構成され、 前記低硬度部分層は、前記高硬度部分層よりも基板側に
形成されていることを特徴とする光学部品。 - 【請求項２】 高硬度部分層が基板から最も離間して形
成されていることを特徴とする請求項１に記載の光学部
品。 - 【請求項３】 無機物質膜の表面上に、この無機物質膜
とは異なる無機物質からなる被覆膜が少なくとも１層以
上形成されていることを特徴とする請求項１または請求
項２に記載の光学部品。 - 【請求項４】 基板から最も離間して形成された被覆膜
が、無機物質膜の低硬度部分層の硬度より高い硬度を有
することを特徴とする請求項３に記載の光学部品。 - 【請求項５】 無機物質膜がシリコン酸化物により構成
されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに
記載の光学部品。 - 【請求項６】 合成樹脂製の基板と、この基板の表面上
に形成された２層以上の無機物質層とよりなり、 基板側から数えて第２層目以降の無機物質層のうち少な
くとも１層は、基板から数えて第１層目の無機物質層の
硬度よりも高い硬度を有することを特徴とする光学部
品。 - 【請求項７】 基板から最も離間して形成された無機物
質層が、第１層目の無機物質層の硬度よりも高い硬度を
有することを特徴とする請求項６に記載の光学部品。 - 【請求項８】 第１層目の無機物質層がシリコン酸化物
により構成されていることを特徴とする請求項６または
請求項７に記載の光学部品。 - 【請求項９】 合成樹脂製の基板と、この基板の表面上
に形成された第１の無機物質層と、この第１の無機物質
層の表面上に形成された第２の無機物質層とよりなり、 第２の無機物質層は、第１の無機物質層の硬度よりも高
い硬度を有することを特徴とする光学部品。 - 【請求項１０】 第１の無機物質層がシリコン酸化物に
より構成されていることを特徴とする請求項９に記載の
光学部品。 - 【請求項１１】 少なくとも蒸発源およびイオン発生源
が設けられている真空装置内に合成樹脂製の基板を配置
し、真空装置内に導入ガスを供給し、イオン発生源によ
り導入ガスをイオン化してイオンガスを発生させなが
ら、無機物よりなる膜を基板上に形成する工程を含む光
学部品の製造方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を経時的に
変化させることを特徴とする光学部品の製造方法。 - 【請求項１２】 請求項１または請求項３に記載の光学
部品を製造する方法であって、 少なくとも蒸発源およびイオン発生源が設けられている
真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に
導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガスをイオ
ン化してイオンガスを発生させながら、単一の無機物質
からなる無機物質膜を形成する工程を含み、 この工程において、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最小にして低硬度部分層を形成することを特
徴とする光学部品の製造方法。 - 【請求項１３】 請求項２に記載の光学部品を製造する
方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した高硬度部分層を形成すること
を特徴とする請求項１２に記載の光学部品の製造方法。 - 【請求項１４】 請求項４に記載の光学部品を製造する
方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した被覆膜を形成することを特徴
とする請求項１２に記載の光学部品の製造方法。 - 【請求項１５】 請求項６に記載の光学部品を製造する
方法であって、 少なくとも蒸発源およびイオン発生源が設けられている
真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に
導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガスをイオ
ン化してイオンガスを発生させながら、無機物質層を２
層以上形成する工程を含み、 この工程において、イオン発生源により発生するイオン
ガスの量を最小にして第１層目の無機物質層を形成する
ことを特徴とする光学部品の製造方法。 - 【請求項１６】 請求項７に記載の光学部品を製造する
方法であって、 イオン発生源により発生するイオンガスの量を最大にし
て、基板から最も離間した無機物質層を形成することを
特徴とする請求項１５に記載の光学部品の製造方法。 - 【請求項１７】 請求項９に記載の光学部品を製造する
方法であって、 少なくとも蒸発源およびイオン発生源が設けられている
真空装置内に合成樹脂製の基板を配置し、真空装置内に
導入ガスを供給し、イオン発生源により導入ガスをイオ
ン化してイオンガスを発生させながら、それぞれ異なる
無機物質からなる第１の無機物質層および第２の無機物
質層を形成する工程を含み、 この工程において、第２の無機物質層の形成時に発生す
るイオンガスの量を、第１の無機物質層の形成時に発生
するイオンガスの量より多くなるよう設定したことを特
徴とする光学部品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24433491A JPH0560904A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 光学部品およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24433491A JPH0560904A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 光学部品およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0560904A true JPH0560904A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=17117166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24433491A Withdrawn JPH0560904A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 光学部品およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0560904A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006299373A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性フィルムの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス用樹脂基材の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
| JP2007296691A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性材料、ガスバリア性材料の製造方法、透明導電膜付ガスバリア性材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2008056967A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性樹脂基材および有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
| JP2012088700A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-05-10 | Carl Zeiss Vision Gmbh | 耐擦傷性反射防止層付き光学レンズ |
| JP2020052352A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ | 眼鏡レンズ |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP24433491A patent/JPH0560904A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006299373A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性フィルムの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス用樹脂基材の製造方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法 |
| JP2007296691A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性材料、ガスバリア性材料の製造方法、透明導電膜付ガスバリア性材料及び有機エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2008056967A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性樹脂基材および有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
| JP2012088700A (ja) * | 2010-10-01 | 2012-05-10 | Carl Zeiss Vision Gmbh | 耐擦傷性反射防止層付き光学レンズ |
| US9817155B2 (en) | 2010-10-01 | 2017-11-14 | Carl Zeiss Vision International Gmbh | Optical lens with scratch-resistant anti-reflective layer |
| JP2020052352A (ja) * | 2018-09-28 | 2020-04-02 | ホヤ レンズ タイランド リミテッドＨＯＹＡ Ｌｅｎｓ Ｔｈａｉｌａｎｄ Ｌｔｄ | 眼鏡レンズ |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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