JPH0561421B2 - - Google Patents
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- JPH0561421B2 JPH0561421B2 JP19006684A JP19006684A JPH0561421B2 JP H0561421 B2 JPH0561421 B2 JP H0561421B2 JP 19006684 A JP19006684 A JP 19006684A JP 19006684 A JP19006684 A JP 19006684A JP H0561421 B2 JPH0561421 B2 JP H0561421B2
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- JP
- Japan
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- truss
- frame
- space
- floor
- free access
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- Expired - Lifetime
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- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Floor Finish (AREA)
- Buildings Adapted To Withstand Abnormal External Influences (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明はフリーアクセスフロアーを支持する
防振床構造に関する。
防振床構造に関する。
「従来の技術」
ICおよび超LSI製造工場のクリーンルームは高
度のクリーン度および厳しい床振動制限値が要求
される。
度のクリーン度および厳しい床振動制限値が要求
される。
又、LSI関連の生産施設は、先端技術の急激な
進歩に対応するため常に新しい設備を投入してい
るが、これらの設備変更に対応するため、ローコ
スト、短工期で大空間（充分な高さの作業有効ス
ペースが確保される）で空間又は平面計画上の融
通性に豊み、振動条件も満足する建物を造る必要
がある。
進歩に対応するため常に新しい設備を投入してい
るが、これらの設備変更に対応するため、ローコ
スト、短工期で大空間（充分な高さの作業有効ス
ペースが確保される）で空間又は平面計画上の融
通性に豊み、振動条件も満足する建物を造る必要
がある。
従来は、特に床振動制限値に対応するため、平
屋建あるいは重層でも比較的小さい柱間スパン
（例えば8.0M×8.0M）のRC造又はSRC造で構成
するのが一般的である。
屋建あるいは重層でも比較的小さい柱間スパン
（例えば8.0M×8.0M）のRC造又はSRC造で構成
するのが一般的である。
これを第２図ａ，ｂで説明する。
すなわち、鉄骨柱１，１間に架設されたトラス
梁（大梁）２には小梁（トラス）３が直交取合
し、当該梁架構面上に躯体床面４が敷設されてい
る。
梁（大梁）２には小梁（トラス）３が直交取合
し、当該梁架構面上に躯体床面４が敷設されてい
る。
当該躯体床面４上には角パイプよりなる架台
５，……がケミカルアンカーによる対RCスラブ
固定でもつて多点設され、当該架台５，……はフ
リーアクセスフロアー６を支持している。
５，……がケミカルアンカーによる対RCスラブ
固定でもつて多点設され、当該架台５，……はフ
リーアクセスフロアー６を支持している。
該躯体床面４とフリーアクセスフロアー６間の
空間はダクトスペース７となる。
空間はダクトスペース７となる。
尚、天井面８の上部にもダクトスペース９は確
保される。
保される。
該天井面８とフリーアクセスフロアー６間の空
間が前述の作業有効スペース１０である。
間が前述の作業有効スペース１０である。
「発明が解決しようとする問題点」
叙上の従来の構造では、最近の傾向として、工
場用地の高騰や取得難により建物を重層にし、延
床面積を確保する必要があるが、重層建物におい
ては空間又は平面計画上の融通性がなく、コスト
が割高で工期の短縮が難しいという問題がある。
すなわち、従来構造において、大きな作業有効ス
ペースを確保するためには、階高を上げるか、柱
間に柱を入れてトラス成を小さくするかのいずれ
によらねばならない。
場用地の高騰や取得難により建物を重層にし、延
床面積を確保する必要があるが、重層建物におい
ては空間又は平面計画上の融通性がなく、コスト
が割高で工期の短縮が難しいという問題がある。
すなわち、従来構造において、大きな作業有効ス
ペースを確保するためには、階高を上げるか、柱
間に柱を入れてトラス成を小さくするかのいずれ
によらねばならない。
しかし、階高を上げると建物全体が大きくなり
建設費が高くなり、又、中間に柱を入れるとクリ
ーンルームのレイアウトが規制され空間又は平面
計画上の融通性が損なわれるという難点がある。
建設費が高くなり、又、中間に柱を入れるとクリ
ーンルームのレイアウトが規制され空間又は平面
計画上の融通性が損なわれるという難点がある。
本発明は、トラス架構の鉄骨重量を低減し、か
つ、剛性を高めると共にトラス架構内空間の有効
利用を図ることによつて、中間に柱を入れること
なく梁架構と躯体床面とフリーアクセスフロアー
とで構成されるスラブ成の大幅減少を達成して、
大なる作業有効スペースを構成することのできる
フリーアクセスフロアーを支持する防振床構造を
提供することを目的としている。
つ、剛性を高めると共にトラス架構内空間の有効
利用を図ることによつて、中間に柱を入れること
なく梁架構と躯体床面とフリーアクセスフロアー
とで構成されるスラブ成の大幅減少を達成して、
大なる作業有効スペースを構成することのできる
フリーアクセスフロアーを支持する防振床構造を
提供することを目的としている。
「問題点を解決するための手段」
上記目的を達成するために、本発明のフリーア
クセスフロアーを支持する防振床構造において
は、柱間に架設のトラス梁の下弦材の下フランジ
をSRC造でもつて構成すると共に当該トラス梁
に直交取合の小梁トラスを設け、トラス梁からス
テイを持ち出して、小梁トラスを支持し、これ等
トラスを支持した梁架構を逆梁としてその下弦材
上に躯体床面を敷設し、かつ、当該梁架構上面に
フリーアクセスフロアー面を敷設し、梁架構内空
間をダクトスペースとしたものである。
クセスフロアーを支持する防振床構造において
は、柱間に架設のトラス梁の下弦材の下フランジ
をSRC造でもつて構成すると共に当該トラス梁
に直交取合の小梁トラスを設け、トラス梁からス
テイを持ち出して、小梁トラスを支持し、これ等
トラスを支持した梁架構を逆梁としてその下弦材
上に躯体床面を敷設し、かつ、当該梁架構上面に
フリーアクセスフロアー面を敷設し、梁架構内空
間をダクトスペースとしたものである。
「作用」
上記のように構成された防振床構造にあつて
は、大梁となるトラス梁は下弦材の下フランジが
SRC造で構成されるためにトラスとして鉄骨重
量の低減と高剛性となり、又、大梁側からステイ
を持ち出しされて支持される小梁トラスは高剛性
となると共に鉄骨重量が低減される。
は、大梁となるトラス梁は下弦材の下フランジが
SRC造で構成されるためにトラスとして鉄骨重
量の低減と高剛性となり、又、大梁側からステイ
を持ち出しされて支持される小梁トラスは高剛性
となると共に鉄骨重量が低減される。
さらには、叙上のステイ持ち出しは大梁のトラ
ス梁にとつては座屈補剛となる。
ス梁にとつては座屈補剛となる。
しかして、トラス架構としては重量増大化を伴
なうことなくして著しく剛性を高められる。
なうことなくして著しく剛性を高められる。
さらに、いままで利用せずにデツドスペースで
あつたトラス架構内の空間をダクトスペースに活
用するとしたために梁架構、躯体床面、フリーア
クセスフロアーとで構成のスラブの成は著しく小
さくなり、大なる作業有効スペースを確保でき
る。
あつたトラス架構内の空間をダクトスペースに活
用するとしたために梁架構、躯体床面、フリーア
クセスフロアーとで構成のスラブの成は著しく小
さくなり、大なる作業有効スペースを確保でき
る。
「実施例」
以下これを実施例図にもとづいて詳細に説明す
る。
る。
図中１１は鉄骨柱、１２はトラス梁（大梁）を
夫々示し、当該トラス梁１２の上に接してアクセ
スフロアー面１３を敷設する。トラス梁１２に取
り合う小梁トラス１４に対してはｂ図に示される
如く、トラス梁１２の上弦材１２ａよりステイ１
５が出されて支持される。躯体床面１６はトラス
梁１２の下弦材１２ｂ上にデツキプレート１７を
敷設し、スラブコンクリート１８の打設によつて
構成される。つまり、トラス梁１２は逆梁であ
る。又、該トラス梁１２の下弦材１２ｂの下フラ
ンジはコンクリート１９が捲かれて、SRCに構
成される。
夫々示し、当該トラス梁１２の上に接してアクセ
スフロアー面１３を敷設する。トラス梁１２に取
り合う小梁トラス１４に対してはｂ図に示される
如く、トラス梁１２の上弦材１２ａよりステイ１
５が出されて支持される。躯体床面１６はトラス
梁１２の下弦材１２ｂ上にデツキプレート１７を
敷設し、スラブコンクリート１８の打設によつて
構成される。つまり、トラス梁１２は逆梁であ
る。又、該トラス梁１２の下弦材１２ｂの下フラ
ンジはコンクリート１９が捲かれて、SRCに構
成される。
しかして、本発明床構造にあつては上記の如く
トラス梁１２はその下弦材１２ｂの下フランジを
SRCとしたため、下弦材の中立軸が下がりトラ
ス全体の剛性を大きくできて防振効果が大きく、
且つSRC部分の断面を変更することにより簡単
に剛性を変更することができ固有振動数の制御が
やりやすく、鉄骨重量の低減とトラスの剛性の向
上をなしつつ大スパンの耐震架構となる。
トラス梁１２はその下弦材１２ｂの下フランジを
SRCとしたため、下弦材の中立軸が下がりトラ
ス全体の剛性を大きくできて防振効果が大きく、
且つSRC部分の断面を変更することにより簡単
に剛性を変更することができ固有振動数の制御が
やりやすく、鉄骨重量の低減とトラスの剛性の向
上をなしつつ大スパンの耐震架構となる。
又、小梁１４は引張材となるステイ１５で支持
されるので、剛性が高められると共に鉄骨重量の
低減を計られる。又、躯体床面１６より上にある
ため部材が小さくなり、天井ふところを自由にす
ることとなる。他面、当該ステイ１５はトラス梁
１２の座屈補剛の効果を達成している。
されるので、剛性が高められると共に鉄骨重量の
低減を計られる。又、躯体床面１６より上にある
ため部材が小さくなり、天井ふところを自由にす
ることとなる。他面、当該ステイ１５はトラス梁
１２の座屈補剛の効果を達成している。
本発明ではトラス梁１２の上弦材１２ａをフリ
ーアクセスフロアー面１３まで上げたために、建
物の階高を高くすることなく、既述の大スパン耐
震架構でもつて大空間が構成できるが、その他地
震時のフリーアクセスフロアー面１３の水平力を
トラス梁１２で処理でき、耐震性を向上させるこ
とが出来ること、吊り構造で構成されることとな
る天井面２０内には全く梁がないこととなるの
で、ダクトのふりまわしが自由である等の設備機
能上フレキシブルに豊んだ空間を構成できるこ
と、フリーアクセスフロアー面１３の下もトラス
の斜材の間で自由に出入が可能である等の利点を
有する。
ーアクセスフロアー面１３まで上げたために、建
物の階高を高くすることなく、既述の大スパン耐
震架構でもつて大空間が構成できるが、その他地
震時のフリーアクセスフロアー面１３の水平力を
トラス梁１２で処理でき、耐震性を向上させるこ
とが出来ること、吊り構造で構成されることとな
る天井面２０内には全く梁がないこととなるの
で、ダクトのふりまわしが自由である等の設備機
能上フレキシブルに豊んだ空間を構成できるこ
と、フリーアクセスフロアー面１３の下もトラス
の斜材の間で自由に出入が可能である等の利点を
有する。
しかして、本発明によれば図中明らかな如く、
作業有効スペース２１は従来よりはるかに大きく
確保し得る。
作業有効スペース２１は従来よりはるかに大きく
確保し得る。
フリーアクセスフロアー１３直下のトラス梁１
２と小梁トラス１４との梁架構内の空間２２はダ
クトスペースに供される。また、天井面２０内は
従来のものと同様にダクトスペース２３に供され
る。
２と小梁トラス１４との梁架構内の空間２２はダ
クトスペースに供される。また、天井面２０内は
従来のものと同様にダクトスペース２３に供され
る。
尚、本発明構造では上述実施例で明らかな如
く、既存のＳ造に適用することは容易である。
く、既存のＳ造に適用することは容易である。
「発明の効果」
以上の如く、本発明によるならば、梁架構の高
剛性化と梁架構内空間の合理的活用化とによつ
て、中間柱の投入によることなくして、大なる作
業有効スペースの確保が可能である。
剛性化と梁架構内空間の合理的活用化とによつ
て、中間柱の投入によることなくして、大なる作
業有効スペースの確保が可能である。
第１図ａ，ｂは本発明をＳ造架構に於いて実施
した場合の正面図、ａ図中ｂ−ｂ矢視図、第２図
ａ，ｂは従来技術を説明の正面図、ａ図中ｂ−ｂ
矢視図である。 符号の説明、１……鉄骨柱、２……トラス梁
（大梁）、３……小梁（トラス）、４……躯体床面、
５……架台、６……フリーアクセスフロアー、７
……ダクトスペース、８……天井面、９……ダク
トスペース、１０……作業有効スペース、１１…
…鉄骨柱、１２……トラス梁（大梁）、１２ａ…
…上弦材、１２ｂ……下弦材、１３……アクセス
フロアー面、１４……小梁トラス、１５……ステ
イ、１６……躯体床面、１７……デツキプレー
ト、１８……スラブコンクリート、１９……コン
クリート、２０……天井面、２１……作業有効ス
ペース、２２……空間、２３……ダクトスペー
ス。
した場合の正面図、ａ図中ｂ−ｂ矢視図、第２図
ａ，ｂは従来技術を説明の正面図、ａ図中ｂ−ｂ
矢視図である。 符号の説明、１……鉄骨柱、２……トラス梁
（大梁）、３……小梁（トラス）、４……躯体床面、
５……架台、６……フリーアクセスフロアー、７
……ダクトスペース、８……天井面、９……ダク
トスペース、１０……作業有効スペース、１１…
…鉄骨柱、１２……トラス梁（大梁）、１２ａ…
…上弦材、１２ｂ……下弦材、１３……アクセス
フロアー面、１４……小梁トラス、１５……ステ
イ、１６……躯体床面、１７……デツキプレー
ト、１８……スラブコンクリート、１９……コン
クリート、２０……天井面、２１……作業有効ス
ペース、２２……空間、２３……ダクトスペー
ス。
Claims (1)
- １ 柱間に架設のトラス梁の下弦材の下フランジ
をSRC造でもつて構成すると共に当該トラス梁
に直交取合の小梁トラスを設け、トラス梁からス
テイを持ち出して、小梁トラスを支持し、これ等
トラスを支持した梁架構を逆梁としてその下弦材
上に躯体床面を敷設し、かつ、当該梁架構上面に
フリーアクセスフロアー面を敷設し、梁架構内空
間をダクトスペースとしたことを特徴とするフリ
ーアクセスフロアーを支持する防振床構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19006684A JPS6168970A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 大空間を構成し得る防振床構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19006684A JPS6168970A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 大空間を構成し得る防振床構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6168970A JPS6168970A (ja) | 1986-04-09 |
| JPH0561421B2 true JPH0561421B2 (ja) | 1993-09-06 |
Family
ID=16251777
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19006684A Granted JPS6168970A (ja) | 1984-09-11 | 1984-09-11 | 大空間を構成し得る防振床構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6168970A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6839158B2 (en) | 1997-08-28 | 2005-01-04 | E Ink Corporation | Encapsulated electrophoretic displays having a monolayer of capsules and materials and methods for making the same |
| US6842657B1 (en) | 1999-04-09 | 2005-01-11 | E Ink Corporation | Reactive formation of dielectric layers and protection of organic layers in organic semiconductor device fabrication |
| US6864875B2 (en) | 1998-04-10 | 2005-03-08 | E Ink Corporation | Full color reflective display with multichromatic sub-pixels |
| US6865010B2 (en) | 2001-12-13 | 2005-03-08 | E Ink Corporation | Electrophoretic electronic displays with low-index films |
| US6900851B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-05-31 | E Ink Corporation | Electro-optic displays and optical systems for addressing such displays |
| US6967640B2 (en) | 2001-07-27 | 2005-11-22 | E Ink Corporation | Microencapsulated electrophoretic display with integrated driver |
| US7030412B1 (en) | 1999-05-05 | 2006-04-18 | E Ink Corporation | Minimally-patterned semiconductor devices for display applications |
| US7038655B2 (en) | 1999-05-03 | 2006-05-02 | E Ink Corporation | Electrophoretic ink composed of particles with field dependent mobilities |
| US7071913B2 (en) | 1995-07-20 | 2006-07-04 | E Ink Corporation | Retroreflective electrophoretic displays and materials for making the same |
| US7109968B2 (en) | 1995-07-20 | 2006-09-19 | E Ink Corporation | Non-spherical cavity electrophoretic displays and methods and materials for making the same |
-
1984
- 1984-09-11 JP JP19006684A patent/JPS6168970A/ja active Granted
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7071913B2 (en) | 1995-07-20 | 2006-07-04 | E Ink Corporation | Retroreflective electrophoretic displays and materials for making the same |
| US7109968B2 (en) | 1995-07-20 | 2006-09-19 | E Ink Corporation | Non-spherical cavity electrophoretic displays and methods and materials for making the same |
| US6839158B2 (en) | 1997-08-28 | 2005-01-04 | E Ink Corporation | Encapsulated electrophoretic displays having a monolayer of capsules and materials and methods for making the same |
| US6864875B2 (en) | 1998-04-10 | 2005-03-08 | E Ink Corporation | Full color reflective display with multichromatic sub-pixels |
| US7075502B1 (en) | 1998-04-10 | 2006-07-11 | E Ink Corporation | Full color reflective display with multichromatic sub-pixels |
| US6842657B1 (en) | 1999-04-09 | 2005-01-11 | E Ink Corporation | Reactive formation of dielectric layers and protection of organic layers in organic semiconductor device fabrication |
| US7038655B2 (en) | 1999-05-03 | 2006-05-02 | E Ink Corporation | Electrophoretic ink composed of particles with field dependent mobilities |
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| US6967640B2 (en) | 2001-07-27 | 2005-11-22 | E Ink Corporation | Microencapsulated electrophoretic display with integrated driver |
| US6865010B2 (en) | 2001-12-13 | 2005-03-08 | E Ink Corporation | Electrophoretic electronic displays with low-index films |
| US6900851B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-05-31 | E Ink Corporation | Electro-optic displays and optical systems for addressing such displays |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6168970A (ja) | 1986-04-09 |
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