JPH0562293B2 - - Google Patents

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JPH0562293B2
JPH0562293B2 JP57209047A JP20904782A JPH0562293B2 JP H0562293 B2 JPH0562293 B2 JP H0562293B2 JP 57209047 A JP57209047 A JP 57209047A JP 20904782 A JP20904782 A JP 20904782A JP H0562293 B2 JPH0562293 B2 JP H0562293B2
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JP
Japan
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circuit
width
histogram
value
setting value
Prior art date
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JP57209047A
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Japanese (ja)
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JPS5999238A (en
Inventor
Chiaki Fukazawa
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPS5999238A publication Critical patent/JPS5999238A/en
Publication of JPH0562293B2 publication Critical patent/JPH0562293B2/ja
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Pathology (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Image Processing (AREA)
  • Image Analysis (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、例えば鋼板、アルミニウム板などの
被検査物の表面を検査する表面検査装置に係り、
特に被検査物表面の疵の種類を正確に判定する表
面検査装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a surface inspection device for inspecting the surface of an object to be inspected, such as a steel plate or an aluminum plate.
In particular, the present invention relates to a surface inspection device that accurately determines the type of flaw on the surface of an object to be inspected.

〔発明の技術的背景及びその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

従来のこの種の装置は、工業用テレビジヨンカ
メラを用いて、搬送されてくる被検査物の幅方向
一端から他端を光学的に走査することにより被検
査物の表面像を取込んだ後、その表面像のアナロ
グ信号を2値化し、さらに幅方向に分割して量子
化データを得る。そして、量子化された前回デー
タと今回データとを突合せ加算してヒストグラム
を作成した後、そのヒストグラムを分割区分ごと
に被検査物の一定長について読出し、“1”の数
が連続して最とも多いものを代表疵と判断し、そ
の代表疵の幅および面積から疵の種類を判定して
いた。
Conventional devices of this type use an industrial television camera to optically scan the transported object from one end of the object to the other in its width direction, capturing an image of the surface of the object. , the analog signal of the surface image is binarized and further divided in the width direction to obtain quantized data. After comparing and adding the quantized previous data and current data to create a histogram, the histogram is read out for a certain length of the inspected object for each division. The one with the largest number of defects was determined to be a representative flaw, and the type of flaw was determined from the width and area of the representative flaw.

しかしながら、以上のような疵判定手段は、例
えば第2図aのように多数の線状疵の集合した線
状疵パターン1の場合には第2図bに示すヒスト
グラムの矢印イを代表疵として評価するので、イ
以外の多数の線状疵は検出できない。また、第4
図aのように点状疵パターン2の中に1個の線状
疵3が含まれていると、第4図bに示すヒストグ
ラムの矢印ロを代表疵として評価するので、他の
点状疵は全く無視されてしまい、疵の種類を正確
に判別できない欠点がある。
However, in the case of a linear flaw pattern 1 in which a large number of linear flaws are gathered as shown in FIG. 2a, the flaw determination means described above uses arrow A of the histogram shown in FIG. 2b as a representative flaw. Because of the evaluation, many linear flaws other than A cannot be detected. Also, the fourth
If one linear flaw 3 is included in the dot pattern 2 as shown in figure a, the arrow mark 3 in the histogram shown in figure 4 b is evaluated as a representative flaw, so other dot flaws are It has the disadvantage that it is completely ignored, and the type of flaw cannot be accurately determined.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は被検査物の疵の種類をオンラインかつ
リアルタイムにより正確に判定する表面検査装置
を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a surface inspection device that accurately determines the type of flaw on an object to be inspected online and in real time.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は被検査物の一定長についてヒストグラ
ムを作成し、このヒストグラムを幅方向の分割区
分ごとに被検査物の搬送方向の一定長について高
さ判定を行ない、続いて幅方向の判定を行ない、
これら両判定を経て出力される信号の分布状態か
ら被検査物の疵の種類を判定する表面検査装置で
ある。
The present invention creates a histogram for a certain length of the object to be inspected, performs a height judgment on the fixed length of the object to be inspected in the conveyance direction for each divided section in the width direction, and then performs a judgment in the width direction,
This is a surface inspection device that determines the type of flaw on the object to be inspected from the distribution state of the signals outputted through both of these determinations.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

第1図は本発明装置の一実施例を示す図であ
る。この装置は、矢印A方向に搬送される被検査
物11の幅方向一端から他端を光学的に走査して
被検査物11の表面像を得る撮像装置12と、こ
の撮像装置12から出力される表面像を適当なメ
ツシユで区分することにより得られる各画素毎に
代表する“1”、“0”の代表値に対応させる2値
化データを得る2値化−量子化回路13と、この
2値化−量子化回路13によつて得られた2価化
データをヒストグラム化するヒストグラム作成回
路14と、この回路14から読出された2値化デ
ータの高さおよび幅を判定する高さ判定回路15
およひ幅判定回路16と、両回路15,16をパ
スした信号を計数するピーク数検出回路17と、
この回路17の出力から疵の種類を判定する計算
機18とを備えている。前記2値化−量子化回路
13は、撮像装置12から出力される表面像のア
ナログ信号を予め定めたレベルに基づいて波高弁
別することにより2値化データを得るとともに、
搬送ラインに設置されたローラ19に連結されて
いるパルス発生器20からのパルスを受けて被検
査物11の幅方向に適当な画素に分割して量子化
するものである。次に、ヒストグラム作成回路1
4は、加算回路141、メインメモリ142、バ
ツフアメモリ143、パルス発生器20からのパ
ルスをカウントするカウンタ144および制御回
路145よりなつている。この加算回路141は
被検査物11の幅方向に分割した前回走査の2値
化データと今回走査の2値化データとを分割区分
ごとに突合せ比較して2値化データの積算を行な
うものであり、メインメモリ142は被検査物1
1の幅方向分割数に相応するクロツクCPの入力
によつて一巡しながら前記加算回路141で得た
積算データを順次記憶し被検査物11の搬送方向
の一定長について積算した疵のヒストグラムを作
成して記憶する。バツフアメモリ143は、メイ
ンメモリ142のヒストグラムを一時記憶すると
ともに、制御回路145からの読出し指令に基づ
いて幅方向の分割区分ごとに被検査物11の搬送
方向の一定長についてヒストグラムデータを出力
する機能をもつている。カウンタ144は、被検
査物11の搬送方向の一定長に相応する数だけパ
ルス発生器20からパルスを受けると、制御回路
145に信号を与えるものである。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the apparatus of the present invention. This device includes an imaging device 12 that optically scans from one end of the object 11 in the width direction to the other end of the object 11 in the width direction to obtain a surface image of the object 11 to be inspected, which is conveyed in the direction of arrow A; a binarization-quantization circuit 13 that obtains binarized data corresponding to representative values of "1" and "0" for each pixel obtained by dividing the surface image obtained by dividing the surface image into a suitable mesh; A histogram creation circuit 14 that creates a histogram from the binary data obtained by the binarization-quantization circuit 13, and a height determination circuit that determines the height and width of the binarized data read from this circuit 14. circuit 15
a width determination circuit 16; a peak number detection circuit 17 that counts signals that have passed through both circuits 15 and 16;
A computer 18 for determining the type of flaw from the output of this circuit 17 is provided. The binarization-quantization circuit 13 obtains binarized data by discriminating the wave height of the analog signal of the surface image output from the imaging device 12 based on a predetermined level, and
It receives pulses from a pulse generator 20 connected to a roller 19 installed on a conveyance line, divides the object 11 to be inspected into appropriate pixels in the width direction, and quantizes the divided pixels. Next, histogram creation circuit 1
4 consists of an adder circuit 141, a main memory 142, a buffer memory 143, a counter 144 for counting pulses from the pulse generator 20, and a control circuit 145. This adder circuit 141 integrates the binarized data by comparing the binarized data of the previous scan and the binarized data of the current scan, which are divided in the width direction of the object 11 to be inspected, for each division. Yes, the main memory 142 is
By inputting the clock CP corresponding to the number of widthwise divisions of 1, the integrated data obtained by the adding circuit 141 is sequentially stored, and a histogram of flaws integrated over a fixed length of the inspection object 11 in the transport direction is created. and memorize it. The buffer memory 143 has a function of temporarily storing the histogram in the main memory 142 and outputting histogram data for a fixed length in the transport direction of the object 11 for each division in the width direction based on a read command from the control circuit 145. I have it too. The counter 144 provides a signal to the control circuit 145 when it receives pulses from the pulse generator 20 in a number corresponding to a fixed length of the object 11 in the transport direction.

前記高さ判定回路15は、バツフアメモリ14
3から読出されたヒストグラムデータと予め定め
られた高さ設定値Hとを比較し、高さ設定値Hを
越えたヒストグラムデータを出力する比較回路1
51と、この比較回路151の出力データを前記
クロツクCPが入力されるごとに出力するアンド
ゲート152とを備えている。さらに、幅判定回
路16はカウンタ161と比較回路162とを有
し、アンドゲート152から出力される信号をカ
ウンタ161でカウントして被検査物表面の疵の
幅値を得るとともに、この幅値が例えば幅設定値
W以内のときに比較回路162より信号を出力す
る。ピーク数検出回路17は、比較回路162か
ら出力される信号の数をカウントするカウンタ1
71と、このカウンタ171のカウント値が設定
値N以上であるか否かを判断する比較回路172
とからなつている。
The height determination circuit 15 includes a buffer memory 14
Comparison circuit 1 compares the histogram data read from 3 with a predetermined height setting value H, and outputs histogram data exceeding the height setting value H.
51, and an AND gate 152 which outputs the output data of the comparison circuit 151 every time the clock CP is input. Furthermore, the width determination circuit 16 has a counter 161 and a comparison circuit 162, and the counter 161 counts the signal output from the AND gate 152 to obtain the width value of the flaw on the surface of the object to be inspected. For example, when the width is within the width setting value W, the comparison circuit 162 outputs a signal. The peak number detection circuit 17 includes a counter 1 that counts the number of signals output from the comparison circuit 162.
71, and a comparison circuit 172 that determines whether the count value of this counter 171 is equal to or greater than the set value N.
It is made up of.

次に、以上のように構成された装置の作用を説
明する。被検査物11は搬送ライン上において矢
印A方向に搬送されているが、このとき搬送ライ
ン上に設置されている撮像装置12は被検査物1
1の表面幅方向一端から他端を光学的に走査して
その被検査物11の表面像を一走査ごとに取り込
んでアナログ信号とし、これを2値化−量子化回
路13へ送出する。この2値化−量子化回路13
は、撮像装置12から入力される表面像のアナロ
グ信号を予め定められた設定レベルで比較して2
値化するとともに、パルス発生器20から出力さ
れるパルスを受けて被検査物11の幅方向に適当
な画素に分割して量子化し、この量子化された2
値化データを加算回路141へ順次供給する。加
算回路141ではメインメモリ142から一巡し
て入力される前回の一走査分の2値化データと2
値化−量子化回路13から入力される今回の一走
査分の2値化データとを突合せ加算し、その加算
値を後続のメインメモリ142に格納する。
Next, the operation of the device configured as above will be explained. The object to be inspected 11 is being conveyed in the direction of arrow A on the conveyance line, and at this time, the imaging device 12 installed on the conveyance line detects the object to be inspected 1.
The surface image of the object 11 to be inspected is optically scanned from one end in the width direction to the other end, and a surface image of the object 11 to be inspected is captured for each scan and converted into an analog signal, which is sent to the binarization-quantization circuit 13. This binarization-quantization circuit 13
compares the analog signal of the surface image inputted from the imaging device 12 at a predetermined setting level.
At the same time, the pulse outputted from the pulse generator 20 is divided into appropriate pixels in the width direction of the object to be inspected 11 and quantized.
The digitized data is sequentially supplied to the addition circuit 141. In the adder circuit 141, the binary data for one scan from the previous time input from the main memory 142 and the 2
The binary data for one scan of the current time inputted from the digitization-quantization circuit 13 is compared and added, and the added value is stored in the subsequent main memory 142.

以上のような信号処理は、被検査物11の搬送
方向の一定長について行ない、第2図bないし第
4図bのようなヒストグラムを作成した後、バツ
フアメモリ143に移される。この場合、被検査
物11の表面に第2図a、第3図a、第4図aの
ような線状疵パターン1、汚れパターン4、点状
疵パターン2が生じていると、バツフアメモリ1
43には第2図b、第3図b、第4図bのように
ヒストグラム化されたデータが格納されることに
なる。
The above-described signal processing is performed for a fixed length of the object 11 in the transport direction, and after creating histograms as shown in FIGS. 2b to 4b, the histograms are transferred to the buffer memory 143. In this case, if a linear flaw pattern 1, a dirt pattern 4, and a dotted flaw pattern 2 as shown in FIGS. 2a, 3a, and 4a occur on the surface of the inspection object 11, the buffer memory 1
43 stores histogram data as shown in FIG. 2b, FIG. 3b, and FIG. 4b.

しかして、被検査物11の搬送方向の一定長に
相応する数のパルスがパルス発生器20から出力
されるとそれをカウンタ144がカウントして制
御回路145に動作指令を与える。ここで制御回
路145はバツフアメモリ143のヒストグラム
データを読出し始める。この場合、被検査物11
の幅方向の分割区分ごとに被検査物11の搬送方
向の一定長について一定の時間ごとに読み出され
る。バツフアメモリ143から読み出されたデー
タは高さ判定回路15の比較回路151で高さ設
定値Hと比較され、設定値H以上のときだけ比較
回路151の出力端に信号を出力する。このと
き、高さ設定値Hとして、第2図ないし第4図の
ようにH1又はH2の何れか1つ又は連続可変、さ
らにはH1を持つた高さ判定回路とH2を持つた高
さ判定回路の両方をヒストグラム作成回路14に
接続してもよいものである。
When the pulse generator 20 outputs a number of pulses corresponding to the fixed length of the object 11 in the transport direction, the counter 144 counts the pulses and gives an operation command to the control circuit 145. At this point, the control circuit 145 starts reading the histogram data from the buffer memory 143. In this case, the object to be inspected 11
A fixed length of the inspection object 11 in the conveying direction is read out at fixed time intervals for each divided section in the width direction. The data read from the buffer memory 143 is compared with the height setting value H in the comparison circuit 151 of the height determination circuit 15, and a signal is outputted to the output terminal of the comparison circuit 151 only when it is equal to or greater than the setting value H. At this time, as the height setting value H, either one of H 1 or H 2 or continuously variable as shown in Figures 2 to 4, and furthermore, a height judgment circuit with H 1 and a height judgment circuit with H 2 Both height determination circuits may be connected to the histogram creation circuit 14.

次に以上のように構成された実施例の作用効果
について説明するが、はじめに概略について第2
図〜第4図を参照して説明する。
Next, the effects of the embodiment configured as described above will be explained.
This will be explained with reference to FIGS.

以上述べた実施例によれば、疵の種類の判定お
よび、代表疵の抽出が可能になる。例えば第2図
の線状疵の場合は、従来技術では最も長い(プロ
フイルの高い)イがこの面の代表となつてしま
い、他の種類の線状疵があることがわからない。
According to the embodiments described above, it is possible to determine the type of flaw and to extract a representative flaw. For example, in the case of the linear flaw shown in FIG. 2, in the prior art, A, which is the longest (high profile), becomes the representative of this surface, and it is not known that there are other types of linear flaws.

これに対して本実施例では低いレベルH1を越
え、かつ高いレベルH2を越え、さらに幅設定値
W以内の信号が多数検出されることから、第2図
は多数の線状疵であることを判定できる。
On the other hand, in this example, many signals exceeding the low level H1 , exceeding the high level H2 , and within the width setting value W are detected, so FIG. 2 shows a large number of linear flaws. can determine that.

また、第3図の場合、低いレベルH1を越える
信号が、幅が広い連続した信号であつて、高いレ
ベルH2を越える信号は幅が広い連続した信号で
あり、さらに幅設定値W以内の信号が検出されな
いことから、第3図は面状の汚れのパターンであ
ることを判定できる。
In addition, in the case of Figure 3, the signal exceeding the low level H 1 is a wide continuous signal, and the signal exceeding the high level H 2 is a wide continuous signal, which is further within the width setting value W. Since no signal is detected, it can be determined that FIG. 3 is a planar dirt pattern.

第4図の場合、低いレベルH1を越える信号が
多数あつて高いレベルH2を越える個数が、第4
図ロに示すように1個となり、しかも幅設定値W
以内の信号が複数検出されることから、第4図は
点状の疵と線状の疵3が複合された疵であること
を判定できる。
In the case of Figure 4, there are many signals exceeding the low level H1 , and the number exceeding the high level H2 is the fourth signal.
As shown in Figure B, there is only one piece, and the width setting value W
Since a plurality of signals within the range of 1 to 3 are detected, it can be determined that the flaw in FIG. 4 is a combination of dot-like flaws and linear flaws 3.

次に、以上述べた作用効果について詳細に説明
する。以下、説明の便宜上、高さ設定値として高
いレベルをH2を用いた場合について説明する。
この場合には第2図の線状疵パターン1のときに
は比較回路151からは多数の信号が生じ、第3
図の油の汚れパターン4のときは幅の広い連続し
た信号が生ずる。第4図の点状疵パターン2の場
合には1個しか信号が生じない。このようにして
比較回路151から出力された信号は高速クロツ
クCPでゲートオンされるアンドゲート152を
通つて幅判定回路16のカウンタ161でカウン
トされる。このカウンタ161は例えば比較回路
151の出力端が立下つたときにリセツトされる
ようになつている。カウンタ161のカウント値
は比較回路162に送られ、ここで幅設定値Wと
比較され、カウント値が幅設定値W以内のときに
信号が出力される。従つて、幅判定回路16から
は、第4図のような線状疵パターン3と点状疵パ
ターンが複合された疵パターン2の場合には信号
を生じ、また第3図のような油等の汚れパターン
4のときには信号が出力されない。このようにし
て幅判定回路16から出力された信号は後続のピ
ーク数検出回路17のカウンタ171でカウント
されるが、更にこのカウント値は設定値Nと比較
され、N以上のときには計算機18で線状疵パタ
ーン1であると判定する。仮に、高さ設定値H1
の高さ判定回路15と、幅設定値W以内の信号を
出力する幅判定回路16と、設定値Nの信号を出
力するピーク数検出回路17とを第1図に付加す
れば、これらの回路から出力される信号をもつて
点状疵パターン2と判定することができる。更
に、幅設定値Wを大きくし、このW以内のときに
幅判定回路16から信号が出力されないようにす
れば、ピーク検出回路17の出力をもつて面状の
汚れパターンと判定することができる。
Next, the effects described above will be explained in detail. Hereinafter, for convenience of explanation, a case will be described in which a high level H2 is used as the height setting value.
In this case, in the case of linear flaw pattern 1 in FIG. 2, many signals are generated from the comparison circuit 151, and
In oil stain pattern 4 shown in the figure, a wide continuous signal is generated. In the case of point-like flaw pattern 2 in FIG. 4, only one signal is generated. The signal outputted from the comparison circuit 151 in this manner is counted by the counter 161 of the width determination circuit 16 through an AND gate 152 which is gated on by the high speed clock CP. This counter 161 is reset, for example, when the output terminal of the comparison circuit 151 falls. The count value of the counter 161 is sent to a comparison circuit 162, where it is compared with the width setting value W, and when the count value is within the width setting value W, a signal is output. Therefore, the width determination circuit 16 generates a signal in the case of a flaw pattern 2 that is a combination of a linear flaw pattern 3 and a dotted flaw pattern as shown in FIG. No signal is output when the stain pattern is 4. The signal outputted from the width determination circuit 16 in this way is counted by the counter 171 of the subsequent peak number detection circuit 17, but this count value is further compared with a set value N, and when it is greater than or equal to N, a line is sent to the computer 18. It is determined that the pattern is defect pattern 1. If the height setting value H 1
If the height judgment circuit 15 of , the width judgment circuit 16 that outputs a signal within the width setting value W, and the peak number detection circuit 17 that outputs a signal of the setting value N are added to FIG. It can be determined that the spot flaw pattern 2 is based on the signal output from the point flaw pattern 2. Furthermore, by increasing the width setting value W and preventing the width determination circuit 16 from outputting a signal when it is within this W, it is possible to determine that it is a planar dirt pattern based on the output of the peak detection circuit 17. .

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳記したように本発明によれば、被検査物
の幅方向表面像を2値化および量子化しかつ被検
査物の搬送方向の一定長についてヒストグラム化
したデータを、量子化の際の分割区分ごとに高さ
判定を行ない、さらに幅方向に生ずるヒストグラ
ムデータの幅判定を行ない、高さおよび幅判定の
結果得られる信号を計数して疵の分布状態を知る
ようにしたので、疵の種類を正解にかつオンライ
ン、リアルタイムに判定でき、また線状および点
状の度合を正確に判定できる。また、ピーク数検
出回路でピーク数を計数して直ちに判定の用に供
しえるので、高速処理が可能となる表面検査装置
を提供できる。
As described in detail above, according to the present invention, the data obtained by binarizing and quantizing the surface image in the width direction of the object to be inspected, and converting it into a histogram for a certain length in the transport direction of the object to be inspected, is divided during quantization. The height is determined for each section, the width of the histogram data generated in the width direction is determined, and the signals obtained as a result of the height and width determination are counted to know the distribution state of the flaw, so the type of flaw can be determined. It is possible to determine the correct answer online and in real time, and it is also possible to accurately determine the degree of linearity and dot-likeness. Furthermore, since the peak number can be counted by the peak number detection circuit and immediately used for determination, a surface inspection apparatus that can perform high-speed processing can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る表面検査装置の一実施例
を示す構成図、第2図ないし第4図は被検査物表
面の疵パターンおよびそのヒストグラムを示す図
である。 11……被検査物、12……撮像装置、13…
…2値化−量子化回路、14……ヒストグラム作
成回路、15……高さ判定回路、16……幅判定
回路、17……ピーク数検出回路。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a surface inspection apparatus according to the present invention, and FIGS. 2 to 4 are diagrams showing a flaw pattern on the surface of an object to be inspected and its histogram. 11...Object to be inspected, 12...Imaging device, 13...
... Binarization-quantization circuit, 14... Histogram creation circuit, 15... Height judgment circuit, 16... Width judgment circuit, 17... Peak number detection circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 搬送ラインから搬送されてくる被検査物の幅
方向一端から他端を光学的に走査して被検査物の
表面像を得る撮像装置と、 この撮像装置で得た表面像を適当なメツシユで
区分して得られる画素毎に代表値を対応させた2
値化データを得る2値化−量子化回路と、 この2値化−量子化回路からの前回走査の2値
化データと今回走査の2値化データとを突合せ加
算しながら前記被検査物の搬送方向の一定長につ
いてヒストグラムを作成するヒストグラム作成回
路と、 前記ヒストグラムを幅方向の分割区分ごとの搬
送方向の一定長について読出して予め定められた
高さ設定値と比較し、高さ設定値を越えたとき、
信号を出力する高さ判定回路と、 この高さ判定回路から出力されたクロツクパル
スを積算して得た疵の幅に相当する幅値と予め定
められた幅設定値とを比較し、幅設定値以内のと
きに信号を出力する幅判定回路と、 この幅判定回路からの信号を計数し、この計数
値が設定値を越えたかどうかを検出するピーク値
検出回路とを具備した表面検査装置。
[Scope of Claims] 1. An imaging device that optically scans from one end to the other end in the width direction of an object to be inspected, which is conveyed from a conveyance line, to obtain a surface image of the object, and a surface obtained by this imaging device. A typical value is associated with each pixel obtained by dividing the image into a suitable mesh.
A binarization-quantization circuit that obtains digitized data compares and adds the binarized data of the previous scan and the binarized data of the current scan from this binarization-quantization circuit to the object to be inspected. a histogram creation circuit that creates a histogram for a constant length in the conveyance direction; and a histogram creation circuit that reads out the histogram for a constant length in the conveyance direction for each divided section in the width direction, compares it with a predetermined height setting value, and determines the height setting value. When you cross the
A height judgment circuit that outputs a signal compares the width value corresponding to the width of the flaw obtained by integrating the clock pulses output from this height judgment circuit with a predetermined width setting value, and determines the width setting value. A surface inspection device comprising: a width determination circuit that outputs a signal when the width is within a set value; and a peak value detection circuit that counts signals from the width determination circuit and detects whether the counted value exceeds a set value.
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