JPH0562893A - レジスト塗布装置の監視方法及びレジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置の監視方法及びレジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPH0562893A JPH0562893A JP3223232A JP22323291A JPH0562893A JP H0562893 A JPH0562893 A JP H0562893A JP 3223232 A JP3223232 A JP 3223232A JP 22323291 A JP22323291 A JP 22323291A JP H0562893 A JPH0562893 A JP H0562893A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- cup
- weight
- wafer
- coating apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエーハにレジストを塗布する回転式レジス
ト塗布装置に関し、正常な動作が維持されているか否か
の監視を行い得るようにすることを目的とする。 【構成】 回転するウエーハWの周囲を囲うカップ2の
重量を常時測定する重量測定手段7a〜7cを設け、レジス
ト塗布時の飛散レジスト付着6aによるカップ2の経時的
重量増加を重量測定手段7a〜7cにより監視するように構
成する。これにより、付着レジスト6aの除去が必要とな
る時点の把握を適正にさせることができ、また、レジス
ト6の吐出量またはカップ2内の排気量の異常発生を認
識することができ、更には、カップ2の取り付けの偏心
有無を認識することができる。
ト塗布装置に関し、正常な動作が維持されているか否か
の監視を行い得るようにすることを目的とする。 【構成】 回転するウエーハWの周囲を囲うカップ2の
重量を常時測定する重量測定手段7a〜7cを設け、レジス
ト塗布時の飛散レジスト付着6aによるカップ2の経時的
重量増加を重量測定手段7a〜7cにより監視するように構
成する。これにより、付着レジスト6aの除去が必要とな
る時点の把握を適正にさせることができ、また、レジス
ト6の吐出量またはカップ2内の排気量の異常発生を認
識することができ、更には、カップ2の取り付けの偏心
有無を認識することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレジスト塗布装置の監視
方法及びレジスト塗布装置に係り、特に、ウエーハにレ
ジストを塗布する回転式レジスト塗布装置の場合に関す
る。
方法及びレジスト塗布装置に係り、特に、ウエーハにレ
ジストを塗布する回転式レジスト塗布装置の場合に関す
る。
【0002】上記回転式レジスト塗布装置は、半導体装
置の製造に賞用されており、近年の半導体装置製造では
塗布するレジストの膜厚にナノメータオーダの精度が要
求されるため、正常な動作が維持されているか否かの監
視を行い得るようにすることが望まれる。
置の製造に賞用されており、近年の半導体装置製造では
塗布するレジストの膜厚にナノメータオーダの精度が要
求されるため、正常な動作が維持されているか否かの監
視を行い得るようにすることが望まれる。
【0003】
【従来の技術】図3は、ウエーハにレジストを塗布する
従来の回転式レジスト塗布装置を説明するための模式側
面図であり、図中、1は回転テーブル、2はカップ、3
は排気系、4はドレイン、5はレジスト供給系、Wはウ
エーハ、である。
従来の回転式レジスト塗布装置を説明するための模式側
面図であり、図中、1は回転テーブル、2はカップ、3
は排気系、4はドレイン、5はレジスト供給系、Wはウ
エーハ、である。
【0004】レジストの塗布は、ウエーハWを回転テー
ブル1上に載置固定し、レジスト供給系5からウエーハ
W表面の中心部に規定量の液状のレジスト6を吐出し、
回転テーブル1の回転によりウエーハWを回転させて行
う。またこの間、排気系3により排気量を所定に調整し
てカップ2内の排気を行う。
ブル1上に載置固定し、レジスト供給系5からウエーハ
W表面の中心部に規定量の液状のレジスト6を吐出し、
回転テーブル1の回転によりウエーハWを回転させて行
う。またこの間、排気系3により排気量を所定に調整し
てカップ2内の排気を行う。
【0005】レジスト6は、遠心力によりウエーハW表
面の中心部から周縁部に拡散してウエーハWの全面に均
一な厚さで塗布され、余分な分が周囲に飛散しウエーハ
の周囲を囲うカップ2の内面に付着して付着レジスト6a
となる。この間、レジスト6は溶剤が徐々に揮発して粘
性が高くなるがカップ2に付着した時点では未だ液状を
呈して、一部がカップ2の内面を伝ってドレイン4に流
出する。その際、上記排気は排気量が多くなると上記溶
剤の揮発を促進させる。
面の中心部から周縁部に拡散してウエーハWの全面に均
一な厚さで塗布され、余分な分が周囲に飛散しウエーハ
の周囲を囲うカップ2の内面に付着して付着レジスト6a
となる。この間、レジスト6は溶剤が徐々に揮発して粘
性が高くなるがカップ2に付着した時点では未だ液状を
呈して、一部がカップ2の内面を伝ってドレイン4に流
出する。その際、上記排気は排気量が多くなると上記溶
剤の揮発を促進させる。
【0006】そして、付着レジスト6aは、ウエーハWの
処理枚数が多くなるに従い堆積が進みカップ2への付着
量が増加し、その付着量が或る程度以上になるとカップ
2から再び飛散してウエーハW上へ異物として付着する
ようになる。
処理枚数が多くなるに従い堆積が進みカップ2への付着
量が増加し、その付着量が或る程度以上になるとカップ
2から再び飛散してウエーハW上へ異物として付着する
ようになる。
【0007】従って、塗布するレジストの膜厚精度を確
保するためには、レジスト6の粘性、同じく吐出量、ウ
エーハWの回転、排気系3の排気量、の制御が重要であ
る。同時に、排気系3の排気によるカップ2内の気流が
一定するように、カップ2の取り付けに際して偏心のな
いようにする必要がある。
保するためには、レジスト6の粘性、同じく吐出量、ウ
エーハWの回転、排気系3の排気量、の制御が重要であ
る。同時に、排気系3の排気によるカップ2内の気流が
一定するように、カップ2の取り付けに際して偏心のな
いようにする必要がある。
【0008】また、ウエーハW上への上記異物付着を防
止するためには、付着レジスト6aのカップ2への付着量
が過大とならないように、適宜な時点にカップ2から付
着レジスト6aを除去する必要がある。この付着レジスト
6aの除去は、洗浄によって行うが、通常は予備のカップ
2を用意してそれと交換し、上記洗浄中にレジスト塗布
を中止させないようにしている。
止するためには、付着レジスト6aのカップ2への付着量
が過大とならないように、適宜な時点にカップ2から付
着レジスト6aを除去する必要がある。この付着レジスト
6aの除去は、洗浄によって行うが、通常は予備のカップ
2を用意してそれと交換し、上記洗浄中にレジスト塗布
を中止させないようにしている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、通常の場
合、レジスト6の粘性とウエーハWの回転の制御は充分
に安定させることができるが、レジスト6の吐出量はレ
ジスト供給系5の初期設定で規定するのみで使用中の監
視がなく安定性の保証が困難であり、排気系3の排気量
は一応のフィードバック機構があるとしても必ずしも安
定でない。また、カップ2取り付けの偏心有無の確認も
困難である。また、カップ2から付着レジスト6aを除去
する時点は、一定周期またはウエーハ処理枚数を目処に
定めており、付着レジスト6aの付着量が過大になるのを
防止する保証がない。
合、レジスト6の粘性とウエーハWの回転の制御は充分
に安定させることができるが、レジスト6の吐出量はレ
ジスト供給系5の初期設定で規定するのみで使用中の監
視がなく安定性の保証が困難であり、排気系3の排気量
は一応のフィードバック機構があるとしても必ずしも安
定でない。また、カップ2取り付けの偏心有無の確認も
困難である。また、カップ2から付着レジスト6aを除去
する時点は、一定周期またはウエーハ処理枚数を目処に
定めており、付着レジスト6aの付着量が過大になるのを
防止する保証がない。
【0010】これらのことは上述の回転式レジスト塗布
装置が正常な動作を維持することを保証し得なくするも
のである。そこで本発明は、ウエーハにレジストを塗布
する回転式レジスト塗布装置に関し、正常な動作が維持
されているか否かの監視を行い得るレジスト塗布装置の
監視方法及びレジスト塗布装置の提供を目的とする。
装置が正常な動作を維持することを保証し得なくするも
のである。そこで本発明は、ウエーハにレジストを塗布
する回転式レジスト塗布装置に関し、正常な動作が維持
されているか否かの監視を行い得るレジスト塗布装置の
監視方法及びレジスト塗布装置の提供を目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明によるレジスト塗布装置の監視方法は、回転
式レジスト塗布装置を用いてウエーハにレジストを塗布
するに際して、回転するウエーハの周囲を囲うカップの
重量を常時測定する重量測定手段を設け、レジスト塗布
時の飛散レジスト付着による該カップの経時的重量増加
を該重量測定手段により監視することを特徴としてい
る。
に、本発明によるレジスト塗布装置の監視方法は、回転
式レジスト塗布装置を用いてウエーハにレジストを塗布
するに際して、回転するウエーハの周囲を囲うカップの
重量を常時測定する重量測定手段を設け、レジスト塗布
時の飛散レジスト付着による該カップの経時的重量増加
を該重量測定手段により監視することを特徴としてい
る。
【0012】そこでは、第1点として、前記カップの経
時的重量増加が所定値に達した際に、該カップから付着
レジストを除去する時点の到来と認識することを特徴と
し、また、第2点として、レジスト塗布が正常に行われ
る際の前記カップの経時的重量増加を基準値として予め
求めておき、レジスト塗布時の該カップの経時的重量増
加が該基準値と異なった際に、レジストの吐出量または
該カップ内の排気量に異常があると認識することを特徴
とし、また、第3点として、前記重量測定手段は前記カ
ップを周方向3等分したそれぞれの重量を測定するよう
にし、前記カップの経時的重量増加が前記3等分の間で
均衡が外れた際に、該カップの取り付けに偏心の異常が
あると認識することを特徴としている。
時的重量増加が所定値に達した際に、該カップから付着
レジストを除去する時点の到来と認識することを特徴と
し、また、第2点として、レジスト塗布が正常に行われ
る際の前記カップの経時的重量増加を基準値として予め
求めておき、レジスト塗布時の該カップの経時的重量増
加が該基準値と異なった際に、レジストの吐出量または
該カップ内の排気量に異常があると認識することを特徴
とし、また、第3点として、前記重量測定手段は前記カ
ップを周方向3等分したそれぞれの重量を測定するよう
にし、前記カップの経時的重量増加が前記3等分の間で
均衡が外れた際に、該カップの取り付けに偏心の異常が
あると認識することを特徴としている。
【0013】そして、本発明によるレジスト塗布装置
は、ウエーハを載置固定して回転させる回転テーブル
と、該回転テーブル上のウエーハの周囲を囲うカップ
と、該カップ内の排気を行う排気系と、該ウエーハ上に
レジストを吐出するレジスト供給系とを有して、該カッ
プがその重量を測定する重量測定手段により支持されて
いることを特徴としている。
は、ウエーハを載置固定して回転させる回転テーブル
と、該回転テーブル上のウエーハの周囲を囲うカップ
と、該カップ内の排気を行う排気系と、該ウエーハ上に
レジストを吐出するレジスト供給系とを有して、該カッ
プがその重量を測定する重量測定手段により支持されて
いることを特徴としている。
【0014】その場合、前記カップは、周方向3等分し
たそれぞれの重量が測定されるように、3個の前記重量
測定手段により3点支持されていることが望ましい。
たそれぞれの重量が測定されるように、3個の前記重量
測定手段により3点支持されていることが望ましい。
【0015】
【作用】回転式レジスト塗布装置では、先に述べたよう
に、ウエーハの処理枚数が多くなるに従いカップへのレ
ジスト付着量が増加し、その付着量が過大にならない適
宜な時点に付着レジストの除去が必要である。
に、ウエーハの処理枚数が多くなるに従いカップへのレ
ジスト付着量が増加し、その付着量が過大にならない適
宜な時点に付着レジストの除去が必要である。
【0016】本発明の監視方法は、カップの重量測定を
通して上記付着量の増加を監視するので、上記第1点に
より、付着レジストの除去が必要となる時点の把握を適
正にさせることができる。
通して上記付着量の増加を監視するので、上記第1点に
より、付着レジストの除去が必要となる時点の把握を適
正にさせることができる。
【0017】また、この付着量の増加の割合は、レジス
トの吐出量の多寡,カップ内の排気量の多寡により変化
する。吐出量の方はウエーハから飛散する余分なレジス
トの量が変化するからであり、排気量の方はレジストの
溶剤揮発速度が変化することに起因する。
トの吐出量の多寡,カップ内の排気量の多寡により変化
する。吐出量の方はウエーハから飛散する余分なレジス
トの量が変化するからであり、排気量の方はレジストの
溶剤揮発速度が変化することに起因する。
【0018】このことから上記第2点により、レジスト
の吐出量及びカップ内の排気量が適正に維持されている
かを監視することができる。また、カップの取り付けが
偏心している際にはカップへのレジスト付着量が周方向
で不均一になる。
の吐出量及びカップ内の排気量が適正に維持されている
かを監視することができる。また、カップの取り付けが
偏心している際にはカップへのレジスト付着量が周方向
で不均一になる。
【0019】このことから上記第3点により、カップの
取り付けの偏心有無を監視することができる。以上のこ
とから、回転式レジスト塗布装置の先に述べた動作の安
定性に不安がある項目について、正常な動作が維持され
ているか否かの監視が可能となる。
取り付けの偏心有無を監視することができる。以上のこ
とから、回転式レジスト塗布装置の先に述べた動作の安
定性に不安がある項目について、正常な動作が維持され
ているか否かの監視が可能となる。
【0020】そして本発明のレジスト塗布装置は、その
構成により上述の監視を行い得ることが明らかである。
構成により上述の監視を行い得ることが明らかである。
【0021】
【実施例】以下本発明の実施例について図1及び図2を
用いて説明する。図1は実施例を説明するための模式側
面図と模式平面図である。図2はカップの経時的重量増
加特性図で、(a) は付着レジスト除去時点の認識、(b)
はレジスト吐出量またはカップ排気量の異常、(c) はカ
ップ取り付けの偏心異常、の場合を示す。
用いて説明する。図1は実施例を説明するための模式側
面図と模式平面図である。図2はカップの経時的重量増
加特性図で、(a) は付着レジスト除去時点の認識、(b)
はレジスト吐出量またはカップ排気量の異常、(c) はカ
ップ取り付けの偏心異常、の場合を示す。
【0022】図1において、ここでは、先に図3で説明
した従来の回転式レジスト塗布装置に、本発明による重
量測定手段となる3個のロードセル7a〜7cを設けてあ
る。ロードセル7a〜7cは、カップ2の周方向3等分した
それぞれの重量を常時測定するように3点支持で配置し
てある。個々の測定値の合計がカップ2に付着レジスト
6aを加えた重量となり、付着レジスト6aの付着がカップ
2の周方向で均一である場合に個々の測定値が等しい値
になる。
した従来の回転式レジスト塗布装置に、本発明による重
量測定手段となる3個のロードセル7a〜7cを設けてあ
る。ロードセル7a〜7cは、カップ2の周方向3等分した
それぞれの重量を常時測定するように3点支持で配置し
てある。個々の測定値の合計がカップ2に付着レジスト
6aを加えた重量となり、付着レジスト6aの付着がカップ
2の周方向で均一である場合に個々の測定値が等しい値
になる。
【0023】そこで図2を参照して、図2(a) は、縦軸
がロードセル7a〜7cによる測定値の合計G、横軸がウエ
ーハWの処理枚数Nであり、レジスト塗布が正常に行わ
れる際の付着レジスト6aによるカップ2の経時的重量増
加の線Aを示す。ウエーハWの処理枚数がnに至るまで
の付着レジスト6aの付着量は、横軸0からnに至るまで
の間の縦軸の増分gで求められる。従って、その付着量
が過大とならないようにP点を定めれば、付着レジスト
6aの除去が必要となる時点の把握を適正にさせることが
できる。
がロードセル7a〜7cによる測定値の合計G、横軸がウエ
ーハWの処理枚数Nであり、レジスト塗布が正常に行わ
れる際の付着レジスト6aによるカップ2の経時的重量増
加の線Aを示す。ウエーハWの処理枚数がnに至るまで
の付着レジスト6aの付着量は、横軸0からnに至るまで
の間の縦軸の増分gで求められる。従って、その付着量
が過大とならないようにP点を定めれば、付着レジスト
6aの除去が必要となる時点の把握を適正にさせることが
できる。
【0024】図2(b) は、レジスト6の吐出量または排
気系3によるカップ2内の排気量が変化した場合のカッ
プ2の経時的重量増加の線B,Cを示す。線Bは先に述
べた線Aの上方にあり、レジスト6の吐出量が規定量よ
り多いか、またはカップ2内の排気量が規定量より多い
場合である。また、線Cは線Aの下方にあり、レジスト
6の吐出量が規定量より少ないか、またはカップ2内の
排気量が規定量より少ない場合である。レジスト塗布装
置が正常に動作すれば線Aとなることから、レジスト塗
布時に線BまたはCのようになった際には上記の異常を
起こしたことが判る。
気系3によるカップ2内の排気量が変化した場合のカッ
プ2の経時的重量増加の線B,Cを示す。線Bは先に述
べた線Aの上方にあり、レジスト6の吐出量が規定量よ
り多いか、またはカップ2内の排気量が規定量より多い
場合である。また、線Cは線Aの下方にあり、レジスト
6の吐出量が規定量より少ないか、またはカップ2内の
排気量が規定量より少ない場合である。レジスト塗布装
置が正常に動作すれば線Aとなることから、レジスト塗
布時に線BまたはCのようになった際には上記の異常を
起こしたことが判る。
【0025】図2(c) は、縦軸がロードセル7a〜7cによ
る個々の測定値Gi、横軸がウエーハWの処理枚数Nであ
り、カップ2の取り付けが偏心した場合のカップ2の経
時的重量増加の線Da〜Dcを示す。線Da〜Dcは、それぞれ
ロードセル7a〜7cによるものであり、線Daが線Db,Dc の
上方にある。これは、カップ2のロードセル7a側がウエ
ーハWの回転中心に最も近づいた偏心のためである。カ
ップ2が偏心なく正常に取り付けられていれば付着レジ
スト6aの付着がカップ2の周方向で均一になって線Da〜
Dcが重なることから、線Da〜Dcの相互間にずれが生じた
際にはカップ2の取り付けに偏心異常のあることが判
る。
る個々の測定値Gi、横軸がウエーハWの処理枚数Nであ
り、カップ2の取り付けが偏心した場合のカップ2の経
時的重量増加の線Da〜Dcを示す。線Da〜Dcは、それぞれ
ロードセル7a〜7cによるものであり、線Daが線Db,Dc の
上方にある。これは、カップ2のロードセル7a側がウエ
ーハWの回転中心に最も近づいた偏心のためである。カ
ップ2が偏心なく正常に取り付けられていれば付着レジ
スト6aの付着がカップ2の周方向で均一になって線Da〜
Dcが重なることから、線Da〜Dcの相互間にずれが生じた
際にはカップ2の取り付けに偏心異常のあることが判
る。
【0026】なお、図2(a),(b) の場合は、ロードセル
7a〜7cを一つのロードセルに置き換えても良い。
7a〜7cを一つのロードセルに置き換えても良い。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ウ
エーハにレジストを塗布する回転式レジスト塗布装置に
関し、動作の安定性に不安がある項目について、正常な
動作が維持されているか否かの監視を可能させる効果が
あり、延いてはレジスト塗布の安定化を可能にさせて半
導体装置の製造における品質向上に寄与するところが大
である。
エーハにレジストを塗布する回転式レジスト塗布装置に
関し、動作の安定性に不安がある項目について、正常な
動作が維持されているか否かの監視を可能させる効果が
あり、延いてはレジスト塗布の安定化を可能にさせて半
導体装置の製造における品質向上に寄与するところが大
である。
【図1】 実施例を説明するための模式側面図と模式平
面図である。
面図である。
【図2】 カップの経時的重量増加特性図で、(a) は付
着レジスト除去時点の認識、(b)はレジスト吐出量また
はカップ排気量の異常、(c)はカップ取り付けの偏心異
常、の場合を示す。
着レジスト除去時点の認識、(b)はレジスト吐出量また
はカップ排気量の異常、(c)はカップ取り付けの偏心異
常、の場合を示す。
【図3】 従来の回転式レジスト塗布装置を説明するた
めの模式側面図である。
めの模式側面図である。
1 回転テーブル 2 カップ 3 排気系 4 ドレイン 5 レジスト供給系 6 レジスト 6a 付着レジスト 7a〜7c ロードセル(重量測定手段) W ウエーハ G ロードセル(3個)の測定値の合計 Gi ロードセル個々の測定値 N ウエーハの処理枚数 A レジスト塗布が正常に行われる際のカップの経時的
重量増加の線 B,C レジスト吐出量またはカップ排気量が異常の際
のカップの経時的重量増加の線 Da〜Dc カップの経時的重量増加のロードセル毎による
線 P 付着レジストの付着量が過大とならないように定め
た点
重量増加の線 B,C レジスト吐出量またはカップ排気量が異常の際
のカップの経時的重量増加の線 Da〜Dc カップの経時的重量増加のロードセル毎による
線 P 付着レジストの付着量が過大とならないように定め
た点
Claims (6)
- 【請求項1】 回転式レジスト塗布装置を用いてウエー
ハにレジストを塗布するに際して、 回転するウエーハの周囲を囲うカップの重量を常時測定
する重量測定手段を設け、 レジスト塗布時の飛散レジスト付着による該カップの経
時的重量増加を該重量測定手段により監視することを特
徴とするレジスト塗布装置の監視方法。 - 【請求項2】 前記カップの経時的重量増加が所定値に
達した際に、該カップから付着レジストを除去する時点
の到来と認識することを特徴とする請求項1記載のレジ
スト塗布装置の監視方法。 - 【請求項3】 レジスト塗布が正常に行われる際の前記
カップの経時的重量増加を基準値として予め求めてお
き、 レジスト塗布時の該カップの経時的重量増加が該基準値
と異なった際に、レジストの吐出量または該カップ内の
排気量に異常があると認識することを特徴とする請求項
1記載のレジスト塗布装置の監視方法。 - 【請求項4】 前記重量測定手段は前記カップを周方向
3等分したそれぞれの重量を測定するようにし、 前記カップの経時的重量増加が前記3等分の間で均衡が
外れた際に、該カップの取り付けに偏心の異常があると
認識することを特徴とする請求項1 記載のレジスト塗布
装置の監視方法。 - 【請求項5】 ウエーハを載置固定して回転させる回転
テーブルと、該回転テーブル上のウエーハの周囲を囲う
カップと、該カップ内の排気を行う排気系と、該ウエー
ハ上にレジストを吐出するレジスト供給系とを有して、 該カップがその重量を測定する重量測定手段により支持
されていることを特徴とするレジスト塗布装置。 - 【請求項6】 前記カップは、周方向3等分したそれぞ
れの重量が測定されるように、3個の前記重量測定手段
により3点支持されていることを特徴とする請求項5記
載のレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3223232A JPH0562893A (ja) | 1991-09-04 | 1991-09-04 | レジスト塗布装置の監視方法及びレジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3223232A JPH0562893A (ja) | 1991-09-04 | 1991-09-04 | レジスト塗布装置の監視方法及びレジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0562893A true JPH0562893A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16794870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3223232A Withdrawn JPH0562893A (ja) | 1991-09-04 | 1991-09-04 | レジスト塗布装置の監視方法及びレジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0562893A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8557444B2 (en) | 2009-12-15 | 2013-10-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Multi-layer article comprising polyimide nanoweb |
-
1991
- 1991-09-04 JP JP3223232A patent/JPH0562893A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8557444B2 (en) | 2009-12-15 | 2013-10-15 | E I Du Pont De Nemours And Company | Multi-layer article comprising polyimide nanoweb |
| US8852808B2 (en) | 2009-12-15 | 2014-10-07 | E I du Ponte de Nemours and Company | Multi-layer article comprising polyimide nanoweb |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2633106B2 (ja) | レジスト塗布装置 | |
| JPH04300673A (ja) | 回転式塗布装置及び回転式塗布方法 | |
| JPH10208992A (ja) | フォトレジストの塗布装置及び塗布方法 | |
| JPH0562893A (ja) | レジスト塗布装置の監視方法及びレジスト塗布装置 | |
| JP2010042325A (ja) | 塗布方法および塗布装置 | |
| JPH01207164A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JP2764069B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JPH04164314A (ja) | レジスト塗布装置 | |
| JP2004361165A (ja) | 液体検出方法及び液体塗布方法、並びに、液体塗布装置 | |
| JPH05234869A (ja) | 塗布装置 | |
| JPH04158510A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH0474412A (ja) | レジスト塗布装置 | |
| JP2000084468A (ja) | レジスト吐出量監視方法及びレジスト塗布装置 | |
| KR100551434B1 (ko) | 감광막 형성 장치 및 방법 | |
| JP3118858B2 (ja) | レジスト塗布装置とその洗浄方法 | |
| JPS62190838A (ja) | レジスト塗布方法 | |
| JPH02133916A (ja) | レジスト塗布装置 | |
| JP2953479B2 (ja) | レジスト塗布装置および方法 | |
| JPH0555134A (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
| JP2755151B2 (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH09162108A (ja) | 回転塗布装置 | |
| KR100272521B1 (ko) | 반도체 소자의 포토레지스트 도포 방법 | |
| JPS61207019A (ja) | 回転塗布装置 | |
| JPS60109229A (ja) | 回転処理装置 | |
| KR20060100548A (ko) | 반도체 코팅설비의 포토레지스트 두께를 감지하는 장치 및그 스핀척 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |