JPH0564542B2 - - Google Patents
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- JPH0564542B2 JPH0564542B2 JP60184698A JP18469885A JPH0564542B2 JP H0564542 B2 JPH0564542 B2 JP H0564542B2 JP 60184698 A JP60184698 A JP 60184698A JP 18469885 A JP18469885 A JP 18469885A JP H0564542 B2 JPH0564542 B2 JP H0564542B2
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Superconductive Dynamoelectric Machines (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は超電導回転子に関するものである。
第５図には超電導発電機に組み込まれた超電導
回転子の従来例が示されている。同図に示されて
いるように超電導回転子は主として円筒上トルク
チユーブ１、鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂ、ヘ
リウム容器３、ダンパ４および回転軸５Ａ，５Ｂ
等から構成され、これら回転軸５Ａ，５Ｂは軸受
６Ａ，６Ｂにより夫々支承されている。そして反
駆動側軸端には液体ヘリウム導入口７、ガスヘリ
ウム排出口８が設けられており、液体ヘリウム導
入口７より供給される液体ヘリウム９により鞍形
超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂは冷却されて、約
4.2Kの極低温状態に維持される。この鞍形超電
導界磁巻線２Ａ，２Ｂの励磁は電流リード１０
Ａ，１０Ｂ、スリツプリング１１Ａ，１１Ｂを介
して直流電源１２から電流が供給されて行なわれ
る。なお同図において１３は固定子巻線、１４は
固定子鉄心、１５はフレームである。
回転子の従来例が示されている。同図に示されて
いるように超電導回転子は主として円筒上トルク
チユーブ１、鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂ、ヘ
リウム容器３、ダンパ４および回転軸５Ａ，５Ｂ
等から構成され、これら回転軸５Ａ，５Ｂは軸受
６Ａ，６Ｂにより夫々支承されている。そして反
駆動側軸端には液体ヘリウム導入口７、ガスヘリ
ウム排出口８が設けられており、液体ヘリウム導
入口７より供給される液体ヘリウム９により鞍形
超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂは冷却されて、約
4.2Kの極低温状態に維持される。この鞍形超電
導界磁巻線２Ａ，２Ｂの励磁は電流リード１０
Ａ，１０Ｂ、スリツプリング１１Ａ，１１Ｂを介
して直流電源１２から電流が供給されて行なわれ
る。なお同図において１３は固定子巻線、１４は
固定子鉄心、１５はフレームである。
このように構成された超電導回転子で、鞍形超
電導界磁巻線２Ａ，２Ｂは第６図および第７図に
も示されているように、円筒上トルクチユーブ１
の外周側に設けられた鞍形の溝に挿入され、その
挿入された鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの外周
上にはバインド線１６が巻付けられ、このバイン
ド線１６の外周上には同心円のFRP層１７が設
けられる。そしてこのFPR層１７の外周上に補
強円筒（図示せず）が焼嵌めされる。鞍形超電導
界磁巻線２Ａ，２Ｂの冷却は、トルクチユーブ１
の内周側に貯えられている液体ヘリウム９が遠心
力で鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの方へ押しや
られ、鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの内周側に
設けられたクーリングチヤンネル１８を流れて行
なわれる。
電導界磁巻線２Ａ，２Ｂは第６図および第７図に
も示されているように、円筒上トルクチユーブ１
の外周側に設けられた鞍形の溝に挿入され、その
挿入された鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの外周
上にはバインド線１６が巻付けられ、このバイン
ド線１６の外周上には同心円のFRP層１７が設
けられる。そしてこのFPR層１７の外周上に補
強円筒（図示せず）が焼嵌めされる。鞍形超電導
界磁巻線２Ａ，２Ｂの冷却は、トルクチユーブ１
の内周側に貯えられている液体ヘリウム９が遠心
力で鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの方へ押しや
られ、鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの内周側に
設けられたクーリングチヤンネル１８を流れて行
なわれる。
すなわちトルクチユーブ１の中央部にはトルク
チユーブ内側と外側とを径方向に貫通する液体ヘ
リウム流入口１９が設けてあり、端部には同様な
液体ヘリウム流出口２０が設けられている。トル
クチユーブ１の内周側に貯えられている液体ヘリ
ウム９は遠心力で液体ヘリウム流入口１９を通つ
て両端部に向つてクーリングチヤンネル１８を流
れ、超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂを極低温に冷却し
て温度上昇した液体ヘリウム９は、液体ヘリウム
流出口２０を通つてトルクチユーブ１の内周側に
戻る。
チユーブ内側と外側とを径方向に貫通する液体ヘ
リウム流入口１９が設けてあり、端部には同様な
液体ヘリウム流出口２０が設けられている。トル
クチユーブ１の内周側に貯えられている液体ヘリ
ウム９は遠心力で液体ヘリウム流入口１９を通つ
て両端部に向つてクーリングチヤンネル１８を流
れ、超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂを極低温に冷却し
て温度上昇した液体ヘリウム９は、液体ヘリウム
流出口２０を通つてトルクチユーブ１の内周側に
戻る。
ところでこのクーリングチヤンネル１８は絶縁
スペーサ２１を円筒上トルクチユーブ１の外周側
に設けた鞍形溝２２内に取り付けて形成され、従
来は鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの冷却に重点
をおいて形成されていたため、特公昭54−35646
号公報にも示されているように絶縁スペーサ２１
の寸法および配置は同一寸法で等間隔に取り付け
られていた。鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂはこ
の絶縁スペーサ２１上に乗置され、バインド線１
６に張力をかけてトルクチユーブ１に締付けられ
る。このようにしてトルクチユーブ１に支持され
た鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂには圧縮応力が
加わるが、その応力は支点となる絶縁スペーサ２
１近傍に集中する。発電機運転中は超電導界磁巻
線２Ａ，２Ｂの発生する電磁力が更に加わるの
で、電磁力が軸心方向に作用する部分の絶縁スペ
ーサ２１近傍では圧縮応力の集中が増大し、電磁
力が軸心方向と反対方向に作用する部分にある絶
縁スペーサ２１近傍では圧縮応力の集中は減少す
る。大容量機になると超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂ
の発生する電磁力は強大であるので、軸心方向に
電磁力が作用する部分にある絶縁スペーサ２１近
傍では超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂに含浸したエポ
キシ樹脂が圧縮応力に耐えられず、クラツクを発
生することがある。クラツク発生時は含浸してあ
るエポキシ樹脂の歪エネルギーが開放されるので
熱の発生を伴い、この発生熱が巻線導体に伝導し
て超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂはクエンチを起こし
てしまう。
スペーサ２１を円筒上トルクチユーブ１の外周側
に設けた鞍形溝２２内に取り付けて形成され、従
来は鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの冷却に重点
をおいて形成されていたため、特公昭54−35646
号公報にも示されているように絶縁スペーサ２１
の寸法および配置は同一寸法で等間隔に取り付け
られていた。鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂはこ
の絶縁スペーサ２１上に乗置され、バインド線１
６に張力をかけてトルクチユーブ１に締付けられ
る。このようにしてトルクチユーブ１に支持され
た鞍形超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂには圧縮応力が
加わるが、その応力は支点となる絶縁スペーサ２
１近傍に集中する。発電機運転中は超電導界磁巻
線２Ａ，２Ｂの発生する電磁力が更に加わるの
で、電磁力が軸心方向に作用する部分の絶縁スペ
ーサ２１近傍では圧縮応力の集中が増大し、電磁
力が軸心方向と反対方向に作用する部分にある絶
縁スペーサ２１近傍では圧縮応力の集中は減少す
る。大容量機になると超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂ
の発生する電磁力は強大であるので、軸心方向に
電磁力が作用する部分にある絶縁スペーサ２１近
傍では超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂに含浸したエポ
キシ樹脂が圧縮応力に耐えられず、クラツクを発
生することがある。クラツク発生時は含浸してあ
るエポキシ樹脂の歪エネルギーが開放されるので
熱の発生を伴い、この発生熱が巻線導体に伝導し
て超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂはクエンチを起こし
てしまう。
本発明は以上の点に鑑みなされたものであり、
超電導界磁巻線に加わる圧縮応力の集中が小さく
なることを可能とした超電導回転子を提供するこ
とを目的とするものである。
超電導界磁巻線に加わる圧縮応力の集中が小さく
なることを可能とした超電導回転子を提供するこ
とを目的とするものである。
すなわち本発明は円筒状トルクチユーブと、こ
の円筒状トルクチユーブの外周上に取り付けら
れ、かつその上にエポキシ樹脂が含浸された鞍形
超電導界磁巻線を乗置する絶縁スペーサとを備
え、前記巻線はバインド線で前記トルクチユーブ
の外周上に支持され、このトルクチユーブの外周
面と前記巻線の内周面との間には巻線を冷却する
冷媒の流通するクーリングチヤンネルが設けられ
ている超電導回転子において、前記絶縁スペーサ
が、前記巻線の発生する電磁力が巻線を押圧する
方向に作用する部分には巻線を拡張する方向に作
用する部分よりもその表面積および取付個数が大
きくされたものであることを特徴とするものであ
り、これによつて超電導界磁巻線はその電磁力が
巻線を押圧する方向に作用する部分は、巻線を拡
張する方向に作用する部分よりも表面積および取
付個数を大きくした絶縁スペーサで支持されるよ
うになる。
の円筒状トルクチユーブの外周上に取り付けら
れ、かつその上にエポキシ樹脂が含浸された鞍形
超電導界磁巻線を乗置する絶縁スペーサとを備
え、前記巻線はバインド線で前記トルクチユーブ
の外周上に支持され、このトルクチユーブの外周
面と前記巻線の内周面との間には巻線を冷却する
冷媒の流通するクーリングチヤンネルが設けられ
ている超電導回転子において、前記絶縁スペーサ
が、前記巻線の発生する電磁力が巻線を押圧する
方向に作用する部分には巻線を拡張する方向に作
用する部分よりもその表面積および取付個数が大
きくされたものであることを特徴とするものであ
り、これによつて超電導界磁巻線はその電磁力が
巻線を押圧する方向に作用する部分は、巻線を拡
張する方向に作用する部分よりも表面積および取
付個数を大きくした絶縁スペーサで支持されるよ
うになる。
以下、図示した実施例に基づいて本発明を説明
する。第１図から第４図には本発明の一実施例が
示されている。なお従来と同じ部品には同じ符号
を付したので説明を省略する。本実施例では絶縁
スペーサ２１ａ，２１ｂ，２１ｃを、巻線の発生
する電磁力を巻線を押圧する方向に作用する部分
には巻線を拡張する方向に作用する部分よりもそ
の表面積および取付個数を大きくした。このよう
にすることにより巻線の発生する電磁力が巻線を
押圧する方向に作用する部分の絶縁スペーサ２１
ａ，２１ｃは、巻線を拡張する方向に作用する部
分の絶縁スペーサ２１ｂよりも表面積および取付
個数が大きくなつて、超電導界磁巻線はその電磁
力が巻線を押圧する方向に作用する部分は、巻線
を拡張する方向に作用する部分よりも表面積およ
び取付個数を大きくした絶縁スペーサ２１ａ，２
１ｃで支持されるようになり、超電導界磁巻線に
加わる圧縮応力が小さくなることを可能とした超
電導回転子を得ることができる。
する。第１図から第４図には本発明の一実施例が
示されている。なお従来と同じ部品には同じ符号
を付したので説明を省略する。本実施例では絶縁
スペーサ２１ａ，２１ｂ，２１ｃを、巻線の発生
する電磁力を巻線を押圧する方向に作用する部分
には巻線を拡張する方向に作用する部分よりもそ
の表面積および取付個数を大きくした。このよう
にすることにより巻線の発生する電磁力が巻線を
押圧する方向に作用する部分の絶縁スペーサ２１
ａ，２１ｃは、巻線を拡張する方向に作用する部
分の絶縁スペーサ２１ｂよりも表面積および取付
個数が大きくなつて、超電導界磁巻線はその電磁
力が巻線を押圧する方向に作用する部分は、巻線
を拡張する方向に作用する部分よりも表面積およ
び取付個数を大きくした絶縁スペーサ２１ａ，２
１ｃで支持されるようになり、超電導界磁巻線に
加わる圧縮応力が小さくなることを可能とした超
電導回転子を得ることができる。
すなわち超電導界磁巻線のエンド部では発生す
る電磁力が軸心方向に作用するので、巻線に加わ
る圧縮応力が増大する。これに対応するため巻線
エンド部に取り付ける絶縁スペーサ２１ａの表面
積を大きくすると共に、取付個数を増やして絶縁
スペーサ２１ａ近傍の界磁巻線に加わる圧縮応力
の集中を緩和した。巻線直線部の磁極面２３付近
では巻線の発生する電磁力は巻線を広げようとす
る方向に作用するので、絶縁スペーサ２１ｂ近傍
では巻線に加わる圧縮応力の集中は小さい。従つ
て絶縁スペーサ２１ｂはその表面積を増大させる
必要がない。磁極間２４付近では巻線の発生する
電磁力は巻線をトルクチユーブ１に押し付ける方
向に作用するので、絶縁スペーサ２１ｃ近傍では
巻線に加わる圧縮応力の集中が増大する。このた
め絶縁スペーサ２１ｃは表面積を大きくして、絶
縁スペーサ２１ｃ近傍の巻線に加わる圧縮応力の
集中を緩和した。絶縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，
２１ｃの表面積が大きいと巻線の液体ヘリウムに
接する面積が減少して巻線の冷却が悪くなるの
で、絶縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，２１ｃは第４
図にも示されているように、繊維強化プラスチツ
ク（FRP）２５の上側に熱伝導性のよい例えば
銅板２６を貼付け、その上側にエポキシ樹脂より
軟かい金属２７、例えばインジユウム半田を肉盛
りする。このようにすることにより絶縁スペーサ
２１ａ，２１ｂ，２１ｃの熱伝導性がよくなつて
巻線の冷却性がよくなると共に、巻線内周面と絶
縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，２１ｃ外周面との接
触がよくなり、絶縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，２
１ｃ近傍では巻線に加わる圧縮応力の集中が緩和
できるようになる。このような本実施例によれば
超電導界磁巻線に加わる圧縮応力が大きい部分は
表面積および取付個数の大きい絶縁スペーサ２１
ａ，２１ｃで支持されるようになつて、超電導界
磁巻線に加わる集中応力が緩和できるようにな
り、超電導界磁巻線に加わる圧縮応力の集中を小
さくすることができる。
る電磁力が軸心方向に作用するので、巻線に加わ
る圧縮応力が増大する。これに対応するため巻線
エンド部に取り付ける絶縁スペーサ２１ａの表面
積を大きくすると共に、取付個数を増やして絶縁
スペーサ２１ａ近傍の界磁巻線に加わる圧縮応力
の集中を緩和した。巻線直線部の磁極面２３付近
では巻線の発生する電磁力は巻線を広げようとす
る方向に作用するので、絶縁スペーサ２１ｂ近傍
では巻線に加わる圧縮応力の集中は小さい。従つ
て絶縁スペーサ２１ｂはその表面積を増大させる
必要がない。磁極間２４付近では巻線の発生する
電磁力は巻線をトルクチユーブ１に押し付ける方
向に作用するので、絶縁スペーサ２１ｃ近傍では
巻線に加わる圧縮応力の集中が増大する。このた
め絶縁スペーサ２１ｃは表面積を大きくして、絶
縁スペーサ２１ｃ近傍の巻線に加わる圧縮応力の
集中を緩和した。絶縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，
２１ｃの表面積が大きいと巻線の液体ヘリウムに
接する面積が減少して巻線の冷却が悪くなるの
で、絶縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，２１ｃは第４
図にも示されているように、繊維強化プラスチツ
ク（FRP）２５の上側に熱伝導性のよい例えば
銅板２６を貼付け、その上側にエポキシ樹脂より
軟かい金属２７、例えばインジユウム半田を肉盛
りする。このようにすることにより絶縁スペーサ
２１ａ，２１ｂ，２１ｃの熱伝導性がよくなつて
巻線の冷却性がよくなると共に、巻線内周面と絶
縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，２１ｃ外周面との接
触がよくなり、絶縁スペーサ２１ａ，２１ｂ，２
１ｃ近傍では巻線に加わる圧縮応力の集中が緩和
できるようになる。このような本実施例によれば
超電導界磁巻線に加わる圧縮応力が大きい部分は
表面積および取付個数の大きい絶縁スペーサ２１
ａ，２１ｃで支持されるようになつて、超電導界
磁巻線に加わる集中応力が緩和できるようにな
り、超電導界磁巻線に加わる圧縮応力の集中を小
さくすることができる。
このように圧縮応力の集中が小さくなつたの
で、巻線に含浸したエポキシ樹脂にクラツクが発
生し難く、超電導性能の安定した超電導回転子を
得ることができる。
で、巻線に含浸したエポキシ樹脂にクラツクが発
生し難く、超電導性能の安定した超電導回転子を
得ることができる。
第８図および第９図には本発明の他の実施例が
示されている。本実施例では絶縁スペーサ２１ｄ
を一体物で形成した。このようにすることにより
超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの内周面との接触面積
を前述の場合よりも大幅に大きくすることができ
るようになつて、前述の場合よりも超電導界磁巻
線２Ａ，２Ｂに加わる圧縮応力の集中を小さくす
ることができる。
示されている。本実施例では絶縁スペーサ２１ｄ
を一体物で形成した。このようにすることにより
超電導界磁巻線２Ａ，２Ｂの内周面との接触面積
を前述の場合よりも大幅に大きくすることができ
るようになつて、前述の場合よりも超電導界磁巻
線２Ａ，２Ｂに加わる圧縮応力の集中を小さくす
ることができる。
すなわち絶縁スペーサ２１ｄを一体物で形成し
たが、これは熱伝導性および絶縁性がえ良好な新
素材が開発された場合に有効である。この絶縁ス
ペーサ２１ｄの内周側および外周側には液体ヘリ
ウムの通るクーリングチヤンネル１８を軸方向お
よび周方向にクロスして設け、クロス部には径方
向に貫通した貫通孔２８を設けて液体ヘリウムの
流通とガス抜きとを行なうようにした。そしてこ
の新素材を使用した絶縁スペーサ２１ｄの外周面
には前述の場合と同様にエポキシ樹脂より軟かい
金属２７、例えばインジユウム半田を肉盛りし
た。このようにすることにより巻線内周面との接
触および冷却がよくなつて、上述の効果を奏する
ことができる。
たが、これは熱伝導性および絶縁性がえ良好な新
素材が開発された場合に有効である。この絶縁ス
ペーサ２１ｄの内周側および外周側には液体ヘリ
ウムの通るクーリングチヤンネル１８を軸方向お
よび周方向にクロスして設け、クロス部には径方
向に貫通した貫通孔２８を設けて液体ヘリウムの
流通とガス抜きとを行なうようにした。そしてこ
の新素材を使用した絶縁スペーサ２１ｄの外周面
には前述の場合と同様にエポキシ樹脂より軟かい
金属２７、例えばインジユウム半田を肉盛りし
た。このようにすることにより巻線内周面との接
触および冷却がよくなつて、上述の効果を奏する
ことができる。
上述のように本発明は超電導界磁巻線に加わる
圧縮応力の集中が小さくなつて、超電導界磁巻線
に加わる圧縮応力の集中が小さくなることを可能
とした超電導回転子を得ることができる。
圧縮応力の集中が小さくなつて、超電導界磁巻線
に加わる圧縮応力の集中が小さくなることを可能
とした超電導回転子を得ることができる。
第１図は本発明の超電導回転子の一実施例の円
筒状トルクチユーブの斜視図、第２図は第１図の
Ｐ−Ｐ線に沿う断面図、第３図は第１図のＲ−Ｒ
線に沿う断面図、第４図は同じく一実施例の絶縁
スペーサの断面図、第５図は従来の超電導回転子
による超電導発電機の縦断側面図、第６図は第５
図のＭ枠部の斜視図、第７図は第６図のＳ−Ｓ線
に沿う断面図、第８図は本発明の超電導回転子の
他の実施例の断面図、第９図は同じく他の実施例
の絶縁スペーサの斜視図である。 １……円筒状トルクチユーブ、２Ａ，２Ｂ……
鞍形超電導界磁巻線、９……液体ヘリウム（冷
媒）、１６……バインド線、１８……クーリング
チヤンネル、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ…
…絶縁スペーサ、２５……繊維強化プラスチツク
（絶縁物）、２６……銅板（金属）、２７……エポ
キシ樹脂より軟かい金属。
筒状トルクチユーブの斜視図、第２図は第１図の
Ｐ−Ｐ線に沿う断面図、第３図は第１図のＲ−Ｒ
線に沿う断面図、第４図は同じく一実施例の絶縁
スペーサの断面図、第５図は従来の超電導回転子
による超電導発電機の縦断側面図、第６図は第５
図のＭ枠部の斜視図、第７図は第６図のＳ−Ｓ線
に沿う断面図、第８図は本発明の超電導回転子の
他の実施例の断面図、第９図は同じく他の実施例
の絶縁スペーサの斜視図である。 １……円筒状トルクチユーブ、２Ａ，２Ｂ……
鞍形超電導界磁巻線、９……液体ヘリウム（冷
媒）、１６……バインド線、１８……クーリング
チヤンネル、２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ…
…絶縁スペーサ、２５……繊維強化プラスチツク
（絶縁物）、２６……銅板（金属）、２７……エポ
キシ樹脂より軟かい金属。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 円筒状トルクチユーブと、この円筒状トルク
チユーブの外周上に取り付けられ、かつその上に
エポキシ樹脂が含浸された鞍形超電導界磁巻線を
乗置する絶縁スペーサとを備え、前記巻線はバイ
ンド線で前記トルクチユーブの外周上に支持さ
れ、このトルクチユーブの外周面と前記巻線の内
周面との間には巻線を冷却する冷媒の流通するク
ーリングチヤンネルが設けられている超電導回転
子において、前記絶縁スペーサが、前記巻線の発
生する電磁力が巻線を押圧する方向に作用する部
分には巻線を拡張する方向に作用する部分よりも
その表面積および取付個数が大きくされたもので
あることを特徴とする超電導回転子。 ２ 前記絶縁スペーサが、絶縁物と、この絶縁物
に貼合わされた金属と、この金属の表面に肉盛り
された前記エポキシ樹脂より軟かい金属とで形成
されたものである特許請求の範囲第１項記載の超
電導回転子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60184698A JPS6244062A (ja) | 1985-08-22 | 1985-08-22 | 超電導回転子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60184698A JPS6244062A (ja) | 1985-08-22 | 1985-08-22 | 超電導回転子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6244062A JPS6244062A (ja) | 1987-02-26 |
| JPH0564542B2 true JPH0564542B2 (ja) | 1993-09-14 |
Family
ID=16157813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60184698A Granted JPS6244062A (ja) | 1985-08-22 | 1985-08-22 | 超電導回転子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6244062A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3821857A1 (de) * | 1988-06-29 | 1990-01-04 | Hans Raab | Verfahren zur herstellung eines plueschartigen reinigungstuches und nach dem verfahren hergestelltes reinigungstuch oder hergestellter reinigungshandschuh |
-
1985
- 1985-08-22 JP JP60184698A patent/JPS6244062A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6244062A (ja) | 1987-02-26 |
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