JPH0565290A - シクロヘキサジエン誘導体 - Google Patents

シクロヘキサジエン誘導体

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JPH0565290A
JPH0565290A JP4054105A JP5410592A JPH0565290A JP H0565290 A JPH0565290 A JP H0565290A JP 4054105 A JP4054105 A JP 4054105A JP 5410592 A JP5410592 A JP 5410592A JP H0565290 A JPH0565290 A JP H0565290A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 式 【化1】 式中、n=0且つX= 【化2】 又は n=1且つX=6,11‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,
6,8,10,12,14‐ヘプタエン‐2,15ジイル基 R2=トリアルキルシロキシ基又はエーテル基 の化合物。 【効果】 本化合物はアスタキサンチンの合成原料とし
て有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、シクロヘキセノン誘導体、即ち
アスタキサンチン及びアスタキサンチンの合成中間体の
新規な製造方法において有用な新規な出発原料に関す
る。
【0002】上記の新規な製造方法は、一般式
【0003】
【化7】
【0004】式中、nは数0を表わし且つXは基
【0005】
【化8】 を表わすか、或いはnは数1を表わし且つXは6,11
‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,6,8,10,12,14‐
ヘプタエン‐2,15‐ジイル基を表わし 、複数の記号
1は同一もしくは相異なる意味を有し且つアルキル基
を表わし、そして記号R2はトリアルキルシリルオキシ
基―OSi(R13またはエ ーテル基を表わす、のシ
リル‐エノールエーテルを過カルボン酸で酸化し、そし
て必要に応じて、生じる一般式
【0006】
【化9】
【0007】式中、n、XおよびR1は上記の意味を有
する、のα‐シロキシケトンを一般式
【0008】
【化10】
【0009】式中、nは数0を表わし且つYは基
【0010】
【化11】 を表わすか、或いはnは数1を表わし且つYは6,11
‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,6,8,10,12,14‐
ヘプタエン‐2,15‐ジイル基を表わし、そして記号
3はヒドロキシ基またはエーテル基を表わす、のα‐
ヒドロキシケトンに加水分解することからなる。
【0011】本明細書において用いる「アルキル基」な
る用語は特に、炭素原子1〜20個を含むアルキル基、
例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、t‐ブチル、ペンチル、デシル、オ
クタデシル等を包含する。。好ましいアルキル基は炭素
原子1〜5個を含むものである。トリアルキルシロキシ
基―OSi(R13の例はトリイソプロピルシロキシ、
オクタデシル‐ジメチルシロキシ並びに特にトリメチル
シロキシ及びt‐ブチル‐ジメチルシロキシである。
【0012】本明細書において用いる「エーテル基」な
る用語はヒドロキシ基の保護に対して通常導入されるエ
ーテル基を包含する。好ましいエーテル基は炭素原子1
〜5個を含むアルコキシ基、特にメトキシ基である。
【0013】上記の式I〜IIIにおいて、nは好まし
くは数1を表わし、そしてXまたはYは好ましくは式
【0014】
【化12】
【0015】の6,11‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,
6,8,10,12,14‐ヘプタエン‐2,15‐ジイル
基を表わす。
【0016】更に上記の式I〜IIIにおいて、nは好
ましくは数0を表わし、そしてXまたはYは好ましくは
【0017】
【化13】 を表わす。
【0018】従来、アスタキサンチンはアスタシン及び
クルスタキサンチンを経て低収率でのみカンタキサンチ
ンから製造することができた[J.Chem.Soc.
Chem.Commun.49(1967)].前記の
新規な製造方法はカンタキサンチンから或いはカンタキ
サンチンの合成における中間体からアスタキサンチンを
簡単に得る方法である。
【0019】式Iの化合物の酸化は過カルボン酸を用い
て、エポキシド化において通常用いられる条件下で行う
ことができる。本件の場合、シリル化されたエノール基
のエポキシド化及びシリル基の1,4‐移動によってエ
ポキシド環の開環が起ることが推定される。適当な過カ
ルボン酸の例はモノ過フタル酸、過酢酸、過安息香酸、
m‐クロロ過安息香酸、p‐ニトロ‐過安息香酸、過マ
レイン酸等である。過酢酸、過安息香酸及び特にモノ過
フタル酸が好ましい過カルボン酸である。
【0020】多量の水または無機酸が存在する場合、反
応混合物の部分的加水分解が酸化中に起き得る。したが
って、好ましくは本質的に水または無機酸を含まない過
カルボン酸を用いる。しかしながら、またこの酸化は
「工業用」過カルボン酸(例えば40%過酢酸)を用い
て行うこともできる。加水分解の確立を小さくするため
に、この場合有利には緩衝剤塩、好ましくはpH値約5
〜9を有する緩衝剤例えば酢酸塩緩衝剤、炭酸塩緩衝
剤、リン酸塩緩衝剤等(pH値6)等を加えることがで
きる。
【0021】できるだけ完全に転化させるために、この
酸化は過剰量の過カルボン酸を用いて有利に行われる。
好ましくはシリル化されたエノール基当り約1.2〜5
当量、特に約1.6〜3.0当量の過カルボン酸を用い
る。この酸化は不活性有機溶媒、例えば、エーテルまた
は塩素化された炭化水素もしくは芳香族炭化水素、例え
ばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、トルエン等中で有利に行われる。エーテル、特にジ
エチルエーテルが好ましい溶媒である。高い選択率を達
成するために、酸化を好ましくは希釈溶液(例えば式I
の化合物の0.02〜0.1M溶液)中で行い、過カルボ
ン酸との接触時間を短時間(例えば約10〜60分間)
に保持する。この酸化の際の圧力及び温度は臨界的では
ない;しかしながら、好ましくは大気圧及び約−20℃
乃至約+30℃の温度で酸化を行うことができる。
【0022】式II中の化合物の加水分解はシリルエー
テルの加水分解に対するそれ自体既知の方法に従って、
例えば希釈無機酸、水性有機酸、トリアルキルアンモニ
ウム等との反応によって、或いはメタノール中で、必要
に応じて酸(例えばp‐トルエンスルホン酸)の添加し
て沸騰させることにより行うことができる。
【0023】上記式Iの化合物は新規なものであり、本
発明の目的をなすものである。
【0024】式Iの化合物は一般式
【0025】
【化14】
【0026】式中、n及びYは上記の意味を有する、の
化合物をシリル化してIのシリルエーテルにすることに
よって製造することができる。
【0027】この方法は新規であり、同様に本発明の目
的をなすものである。この方法はそれ自体既知の方法
[例えば、Liebigs Ann.Chem.198
1,1643;Tetrahedron Letter
22,3455(1981);Synthesis
1979,35]に従って行うことができる。
【0028】式Vの化合物のシリル化のための好ましい
方法は、アルカリ金属ジアルキルアミド(例えばリチウ
ムジイソプロピルアミド)の存在下において、式Vの化
合物とトリアルキルハロシラン(例えばトリメチルクロ
ロシランまたはトリメチルヨードシラン)とを反応させ
ることである。この反応は好ましくはエーテル(例えば
テトラヒドルフラン)中で行われる。式Vの化合物にお
けるカルボニル及びヒドロキシ基当り、シラン約1.2
〜3.0当量及びジアルキルアミド約1.05〜1.3当
量、好ましくはシラン約2.0〜2.4当量及びジアルキ
スアミド約1.2当量を用いることが有利である。更に
多くの場合、シラン及び溶媒を準備し、次いでこれにジ
アルキルアミンを加えることが有利であることがわかっ
た。この反応を行う際の温度及び圧力は臨界的ではな
い。しかしながら、一般にこの反応は大気圧及び約−4
0℃乃至約+30℃、好ましくは約−15℃で行われ
る。
【0029】nが数0を表わす式Vの化合物のシリル化
に特に適する他の方法は、トリアルキルアミン(例えば
トリエチルアミン)の存在下において、トリアルキルハ
ロシラン(例えばトリメチルクロロシラン)と反応させ
ることである。この反応は好ましくはジメチルホルムア
ミド中で還流下にて行われる。
【0030】更に好ましい方法は、トリアルキルアミン
(例えばトリエチルアミンの存在下において、式Vの化
合物とトリフルオロメタンスルホン酸トリアルキルシリ
ルエステル(例えばt‐ブチル‐ジメチルシリルエステ
ル)との反応である。塩化メチレンが好ましい溶媒であ
る。圧力及び温度は臨界的ではなく、一般にこの反応は
大気圧及び約−40℃乃至室温間、好ましくは約0〜1
0℃の温度で行われる。
【0031】式V中に存在し得る遊離ヒドロキシ基がこ
の反応において同様にシリル化されるが、一方保護され
たヒドロキシ基はシリル化されない。従ってエーテル基
の使用により、シリル化剤の消費を減じることができ
る。保護基の導入はヒドロキシ基のエーテル化に対する
それ自体既知の方法に従って行うことができる。その後
保護基の開裂は一般には必要ではない。その理由は、後
記反応式2に従い、式IIIBの化合物の続いての反応
において除去されるからである。
【0032】前記の新規な製造方法により、アスタキサ
ンチンがカンタキサンチンまたはカンタキサンチンの合
成において公知の中間体から少ない工程で得られる。反
応式1及び2[ここで、R1、R2及びR3上記の意味を
有し、そしてXは塩素または臭素を表わす]は簡単な合
成経路を説明するものであり、n=0または1に対する
合成レイアウトの相関関係を明らかに示すものである。
【0033】
【化15】
【0034】
【化16】
【0035】R3がエーテル基を表わす式VCの化合物
及び式IIIBの化合物は新規なものであり、同様に本
発明の目的をなすものである。
【0036】以下の実施例は本発明をさらに具体的に説
明するものである:
【0037】
【実施例】
実施例 1 (a) 撹拌機、温度計、滴下ロート及びアルゴンガス
導入口を備えた乾燥したスルホン化用フラスコにテトラ
ヒドロフラン14ml及びイソプロピルアミン1.64
mlを入れ、アセトン/ドライアイス浴で−15℃に冷
却した。次いでこの混合物に滴下ロートからヘキサン中
のブチルリチウム溶液9.5ml[ブチルリチウム含量
1.90M(18.1ミリモル)]を温度が−15℃に保
持されるようにしながら滴下し、混合物をこの温度で1
5分間撹拌した。
【0038】(b) 撹拌機、温度計、及びアルゴンガ
ス導入口及びカニューレ留め具を備えた乾燥したスルホ
ン化用フラスコにテトラヒドロフラン100ml中の新
たに再結晶したカンタキサンチン2.83g(5ミリモ
ル)およびトリメチルクロロシラン3ml(23.7ミ
リモル)を入れ、アセトン/ドライアイス浴によって−
15℃〜−20℃に冷却した。節(a)に従って製造し
たリチウムジイソプロピルアミドの溶液をガスもれのな
い注射器に完全に移し、適量ポンプ(dosage p
ump)によって−15℃で30分以内に混合物に加え
た。5分間撹拌した後、このバッチをジエチルエーテル
200mlですすいで分液ロートに入れ、氷の添加によ
って各々の場合200mlのリン酸塩緩衝溶液(溶液1
l当り、リン酸二水素カリウム6.8g及び1N水酸化
ナトリウム溶液5.6mlを含有;pH値6)で2回抽
出し、次に氷水各200mlで2回抽出した。各洗浄操
作において、水相に溶解するテトラヒドロフランの量を
再び加えた。水相をジエチルエーテル50mlで逆洗浄
した。有機相を合流し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾
過し、浴温50℃で回転蒸発器にて完全に蒸発させた。
かくして式
【0039】
【化17】
【0040】で示される粗製のカンタキサンチンビス
(トリメチルシリル)‐エノールエーテル4.1gが得
られた。
【0041】実施例 2 (a) 撹拌機、温度計、滴下ロート及びアルゴン導入
口を備えたスルホン化用フラスコ中に、実施例1に従っ
て得られたカンタキサンチンビス(トリメチルシリル)
‐エノールエーテルをジエチルエーテル[式IA′]1
00mlですすぎ入れた。次に酢酸ナトリウム1g及び
セクエストレンのスパチュラ先端一杯分を加え、この懸
濁液をアセトン/ドライアイス浴によって15℃に冷却
した。次にこの混合物にジエチルエーテル約43ml中
のモノ過フタル酸2.9(16ミリモル)の溶液(後記
の如きモノ過フタル酸溶液をジエチルエーテルで希釈し
て製造したもの)を−15℃で15分以内に滴下ロート
から滴下し、次に温度を25℃に上昇させ、この混合物
を45分間撹拌した。次に混合物をテトラヒドロフラン
200mlによって分液ロートにすすぎ入れ、0.5M
ピロ亜硫酸ナトリウム溶液50mlで1回、半飽和重炭
酸ナトリウム溶液50mlで1回、半飽和塩化ナトリウ
ム溶液50mlで1回抽出した。水相をジエチルエーテ
ル50mlで1回逆洗浄した。有機相を合流し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、濾過し浴温50℃で回転蒸発機に
より完全に蒸発させた。かくして式
【0042】
【化18】
【0043】で示される粗製のアスタキサンチンビス
(トリメチルシリル)エーテル4.3gが得られた。
【0044】(b) 得られたアスタキサンチンビス
(トリメチルシリル)エーテル[式IIA′]を、還流
冷却器を備えた丸底フラスコにメタノール80mlによ
って移し、p‐トルエンスルホン酸のスパチュラ先端一
杯分で処理し、そして還流下で30分間加熱し、次にメ
タノールを浴温50℃で回転蒸発器によって完全に蒸発
させた。粗製の生成物全体を塩化メチレンに溶解し、高
速液体クロマトグラフィーによって分析した。かくして
【0045】
【化19】
【0046】で示されるアスタキサンチンが得られた。
用いたカンタキサンチンに基づく収率はアスタキサンチ
ン67.5%及びアドニルビン2.5%であった。加え
て、未反応のカンタキサンチン5%が見出された。
【0047】上で用いたモノ過フタル溶液は次の如くし
て製造した。
【0048】撹拌機、温度計及び滴下ロートを備えたス
ルホン化用フラスコ中に、脱イオン水300ml、硫酸
マグネシウム2.5g及び水酸化ナトリウム30gを入
れ、氷浴で5℃に冷却した。この混合物に30%過酸化
水素75mlを約2分以内に滴下し、温度が10℃に上
昇し、次にテトラヒドロフラン230ml中のフタル無
水物37.0gの溶液を5〜10℃で15分以内に滴下
した。10分間撹拌した後、このバッチを20%硫酸6
00mlに注ぎ、温度が0℃から10℃に上昇した。こ
の混合物をジエチルエーテル各250mlで3回抽出し
た。合流したエーテル相を40%硫酸アンモニウム溶液
200mlで2回逆洗浄した(最後の洗浄水はpH値4
を示した)。この2相をジエチルエーテル100mlで
逆洗浄し、合流したエーテル相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、濾過し、真空を用いずに室温で回転蒸発機により
約40mlの容量に濃縮した。約10%モノ過フタル酸
溶液を四つ口フラスコに注ぎ、撹拌しながら窒素中に吹
き込むことによって約130mlの容量に濃縮した。得
られた溶液は約30%であった(ヨードメトリー的に決
定した)。モノ過フタル酸の化学的収率はフタル無水物
を基準にして88%であった。
【0049】実施例 3 滴下ロート、温度計、隔壁及びアルゴンガラス導入口を
備えた乾燥したスルホン化用フラスコ中のテトラヒドロ
フラン30ml中のジイソプロピルアミン3.5mlの
溶液を−15℃で5分間以内にヘキサン中のブチルリチ
ウムの約2M溶液12mlで滴下処理した(注射器によ
る)。この混合物を−15℃で更に15分間撹拌した。
次にテトラヒドロフラン400ml中の96%カンタキ
サンチン5.65gの溶液を−15℃乃至20℃で20
分以内に滴下し、褐‐紫色の懸濁液を10分間撹拌し
た。次にこの混合物に−15℃でテトラヒドロフラン4
ml中のトリメチルクロロシラン4mlの溶液を滴下し
冷却浴を除去し、赤色の溶液を更に30分間撹拌した。
この混合物の分液ロート中のジエチルエーテル200m
l及びリン酸塩緩衝剤溶液、pH値6(実施例1におけ
る如く)、200mlに注ぎ、そしてと振盪した。有機
相をリン酸塩緩衝剤溶液pH値6、200mlで抽出
し、次に水浴200mlで3回洗浄し、硫酸ナトリウム
上で、乾燥し、回転蒸発機により30℃で100mlの
容量に濃縮した。カンタキサンチンビス(トリメチルシ
リル)‐エノールエーテルのこの溶液を続いての反応に
直接用いた。試料をジエチルエーテル/ペンタン/メタ
ノール混合物から再結晶し、紫色の針状晶としてカンタ
キサンチンビス(トリメチルシリル)‐エノールエーテ
ル[式IA′]が得られた:融点168〜169℃;R
f置[ジエチルエーテル/ヘキサン、(2:1)]カン
タキサンチンビス(トリメチルシリル)‐エノールエー
テル約0.75、カンタキサンチントリメチルシリル‐
エノールエーテル約0.54、カンタキサンチン約0.0
3。
【0050】実施例 4 (a) 実施例3において得られたカンタキサンチンビ
ス(トリメチルシリル)‐エノールエーテル[式I
A′]の溶液を撹拌しながら、分液ロート、温度計及び
アルゴンガス導入口を備えたスルホン化用フラスコ中に
て、酢酸ナトリウム2g及び硫酸ナトリウム4gで処理
し、そして−15℃に冷却した。この混合物にジエチル
エーテル34ml中の約40%過酢酸(ヨードメトリー
滴定によれば濃度7.15M)3.4mlの溶液を約5分
以内に滴下し、次に冷却浴を除去し、混合物を約2時間
撹拌した。この混合物を分液ロート中にて氷冷した0.
5Mピロ亜硫酸ナトリウム水溶液100mlで1回、半
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液各100mlで2回、そ
して半飽和塩化ナトリウム水溶液100mlで1回抽出
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸発させ、アス
タキサンチンビス(トリメチルシリル)エーテル[式I
IA′]の暗赤色固体の粗製の生成物約8gが得られ
た;Rf値約0.67[ジエチルエーテル/ヘキサン
(2:1)]。試料を塩化メチレン/アセトンから結晶
化させ、紫色の板状晶としてアスタキサンチンジシリル
エーテルが得られた;融点196〜197℃。
【0051】(b) アスタキサンチンビス(トリメチ
ルシリル)エーテル[式IIA′]の粗製の生成物をメ
タノール20mlに採り入れ、アルゴン下にて還流下で
4時間沸騰させた。この混合物を放置して室温に冷却
し、次に−20℃に冷却し、粗製のアスタキサンチン
4.5gの赤紫色の沈殿物が得られた。母液を濃縮し、
固体の赤色残渣約3gが得られ、このものから、シリカ
ゲル上で溶離剤として塩化メチレン/ジエチルエーテル
(9:1)によってアルゴン圧0.2〜0.4バール下で
クロマトグラフィーにかけ粗製のアスタキサンチン0.
4gが得られた。生じた粗製のアスタキサンチン(4.
9g)を塩化メチレン10mlに溶解し、シリカゲル上
で溶離剤として塩化メチレン/ジエチルエーテル(9:
1)によりアルゴン圧0.2〜0.4バール下でクロマト
グラフィーにかけた。均一フラクションを捕集し、塩化
メチレン/メタノールから再結晶し、全トランスアスタ
キサンチン(式IIIA;純度約90%)2.87gが
得られた;融点216〜219℃;カンタキサンチンに
基づく収率48%。
【0052】実施例 5 塩化メチレン20ml中のカンタキサンチン565mg
の溶液をトリメチルアミン0.56mlで処理し、氷浴
によって約3℃に冷却した。次にt‐ブチル‐ジメチル
シリルトリフルオロメタンスルホネート0.57mlを
滴下し、この混合物を冷却せずに更に30分間撹拌し
た。次にこの混合物を氷及び飽和塩化ナトリウム溶液の
混合物に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出した。エーテル
相を水で3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そし
て濃縮した。得られた粗製のカンタキサンチンビス(t
‐ブチル‐ジメチルシリル)‐エノールエーテルを更に
精製せずに実施例2または4と同様の方法で直接処理す
ることができた。粗製のエノールエーテルを完全に蒸発
させて、暗赤色の残渣が得られ、このものをジエチルエ
ーテル/メタノールから再結晶後、細かい紫色の針状晶
として70%の収率で式
【0053】
【化20】
【0054】カンタキサンビス(t‐ブチル‐ジメチル
シリル)‐エノールエーテルを得た; 融点166〜168℃。
【0055】実施例 6
【0056】
【化21】
【0057】撹拌機及び還流冷却器を備えた四つ口フラ
スコ中で、ジメチルホルムアミド85ml中の96.5
%1‐(3‐オキソ‐2,6,6‐トリメチル‐1‐シク
ロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メチル‐1,4‐ペンタ
ジエン‐3‐オール[式VB]23.1gの溶液をトリ
エチルアミン80ml及びトリメチルクロロシラン73
mlで処理した。この混合物を撹拌しながら且つ弱いア
ルゴン気流下で2時間還流で加熱した(加熱浴温120
℃)。次に混合物を氷浴により約0℃に冷却し、撹拌し
ながらヘキサン400ml及び半飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液200mlで処理した。相を分離し、水相をヘ
キサン200mlで抽出した。合液した有機相を飽和塩
化ナトリウム溶液100mlで1回洗浄し、硫酸ナトリ
ウム上で乾燥し、回転蒸発機にて40℃で濃縮した。生
じた褐色油(39.5g)を102〜107℃/0.1T
orrで蒸留し、淡い帯黄色油としてトリメチル[[1
‐メチル‐3‐[2,6,6‐トリメチル‐3‐(トリメ
チルシロキシ)‐1,3‐シクロヘキサジエン‐1‐イ
ル]‐1‐ビニルアリル]オキシ]シラン[式IB′]
35.0gを得た;純度約77%。
【0058】実施例 7(a)
【0059】
【化22】
【0060】約40%過酢酸18.3g、無水塩化メチ
レン190ml、無水硫酸マグネシウム3.8g及び無
水酢酸ナトリウム2.2gを、撹拌機を備えた四つ口フ
ラスコ中にアルゴン下で入れ、撹拌しながら−15℃に
冷却した。この懸濁液に塩化メチレン70ml中の77
%トリメチル[[1‐メチル‐3‐[2,6,6‐トリメ
チル‐3‐(トリメチルシロキサシ)‐1,3‐シクロ
ヘキサジエン‐1‐イル]‐1‐ビニルアリル]オキ
シ]シラン(式IB′;実施例6に従って製造)35g
の溶液を10分以内に滴下した。氷浴を除去し、混合物
を更に15分間撹拌し、温度が17℃に上昇した。この
混合物を撹拌しながら無水炭酸ナトリウム38g及び炭
酸水素ナトリウム38gで処理し、更に20分間撹拌
し、そして濾過した(塩化メチレン150mlですすい
だ)。トリメチル[[1‐メチル‐3‐[2,6,6‐ト
リメチル‐3‐オキソ‐4‐(トリメチルシロキシ)‐
1‐シクロヘキセン‐1‐イル]‐1‐ビニルアリル]
オキシ]シラン[式IIB′]を含む濾液(約400m
l)を直接処理した。
【0061】(b)
【0062】
【化23】
【0063】得られた濾液を室温ではげしく撹拌しなが
らトリエチルアンモニウムフルオライド40mlで処理
し、次に更に20時間撹拌した。この溶液を順次半飽和
塩化ナトリウム溶液100ml、半飽和ピロ亜硫酸ナト
リウム溶液100ml及び半飽和塩化ナトリウム溶液1
00mlで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、40℃
(浴温)で回転蒸発機にて濃縮した。かくして帯黄色油
として1‐(4‐ヒドロキシ‐3‐オキソ‐2,6,6‐
トリメチル‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メ
チル‐1,4‐ペンタジエン‐3‐オール[式III
B′]25.3gが得られた;ガスクロマトグラフィー
による純度79.8%。
【0064】(c)
【0065】
【化24】
【0066】得られた1‐(4‐ヒドロキシ‐3‐オキ
ソ‐2,6,6‐トリメチル‐1‐シクロヘキセン‐1‐
イル)‐3‐メチル‐1,4‐ペンタジエン‐3‐オー
ル[式IIIB′]を塩化メチレン250ml中にて6
3%臭化水素溶液30mlでブロマイドに転化し、次に
このブロマイドをトリフェニルホスフィン26.2gに
よってホスホニウムブロマイドに転化した。かくして粗
製の[(4F)‐5‐(4‐ヒドロキシ‐2,6,6‐ト
リメチル‐3‐オキソ‐1‐シクロヘキセン‐1‐イ
ル)‐3‐メチル‐2,4‐ペンタジエニル]‐トリフ
ェニルホスホニウムブロマイド[式VII′]45.3
gが得られた;融点157〜163℃。酢酸エチル/塩
化メチレン2:1から0℃で再結晶後、89.9%トラ
ンス生成物32.4gが得られた;融点181〜182
℃。酢酸エチル/塩化メチレンから更に2回再結晶後、
純度は96%であった;融点186〜187℃。
【0067】実施例 8 撹拌機を備えた四つ口フラスコ中にて、ジイソプロピル
アミン22.2gを無水テトラヒドロフラン330ml
に溶解し、アルゴン下で−15℃に冷却した。この溶液
に撹拌しながら、ヘキサン中のブチルリチウムの約2M
溶液106mlそして10分後、無水テトラヒドロフラ
ン40ml中の97%1‐(3‐オキソ‐2,6,6‐ト
リメチル‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メチ
ル‐1,4‐ペンタジエン‐3‐オール[前記式VB]
23.2gの溶液を滴下した。次いでこれにトリメチル
クロロシラン48mlを温度が−15℃に保持され得る
ようにして滴下した。混合物は再び均一になった。添加
後、冷却浴を除去し、混合物を室温に加温した。混合物
を容量2lのフラスコ中に移し(ペンタンですすぎなが
ら)、溶媒を真空下にて約40℃で(浴温)回転蒸発機
上で除去した。残渣をペンタン約250mlに採り入
れ、得られた懸濁液を濾過し、濾過残渣をペンタンで数
回(合計250ml)すすいだ。濾液を回転蒸発機中で
蒸発させ、粗製の生成物(43.3g)を110℃/0.
01Torrで蒸留した。かくして淡い帯黄色油として
純度98%で、トリメチル[[1‐メチル‐3‐[2,
6,6‐トリメチル‐3‐(トリメチルシロキシ)‐1,
3‐シクロヘキサジエン‐1‐イル]‐1‐ビニルアリ
ル]オキシ]シラン[前記式IB′]37.2gが得ら
れた。
【0068】実施例 9 (a) トリメチル[[1‐メチル‐3‐[2,6,6‐
トリメチル‐3‐(トリメチルシロキシ)‐1,3‐シ
クロヘキサジエン‐1‐イル]‐1‐ビニルアリル]オ
キシ]シラン(前記式IB′;純度98%)37.2g
を無水ジエチルエーテル250mlに溶解し、アルゴン
下で且つ十分に撹拌しながら炭酸水素ナトリウム24.
7g、炭酸ナトリウム31.2g及び酢酸ナトリウム2
4.7gで処理した。この混合物を−5℃で十分間撹拌
し、次にジエチルエーテル中のモノ過フタル酸の0.9
N溶液326mlで20分以内に処理した。混合物を飽
和炭酸水素ナトリウム溶液100mlに注ぎ、水500
ml及びジエチルエーテル500mlの混合物で抽出し
た。有機相を半飽和ピロ亜硫酸ナトリウム溶液200m
lで1回、塩化ナトリウム溶液各100mlで2回洗浄
し、そして蒸発させた。トリメチル[[1‐メチル‐3
‐[2,6,6‐トリメチル‐3‐オキソ‐4‐(トリメ
チルシロキシ)‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル]‐1
‐ビニルアリル]オキシ]シラン[前記式IIB′]の
蒸発残渣(41.2g)を処理に直接用いた。
【0069】(b) この蒸発残渣を塩化メチレン20
0mlに溶解し、次にトリエチルアンモニウムフルオラ
イド溶液40mlで処理し、室温で4時間撹拌した。こ
の混合物を半飽和炭酸水素ナトリウム溶液100mlに
注ぎ、次に有機相を分離し、そして蒸発させた。かくし
て油として1‐(4‐ヒドロキシ‐3‐オキソ‐2,6,
6‐トリメチル‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3
‐メチル‐1,4‐ペンタジエン‐3‐オール[前記式
IIIB′]の蒸発残渣28.0gが得られ、このもの
を直接処理した。
【0070】(c) 得られた油をアルゴン下にて0℃
で無水塩化メチレン250mlに採り入れ、10分以内
に63%臭化水素溶液30mlで処理した。この混合物
を酢酸エチル約0.5lに採り入れ、飽和塩化ナトリウ
ム溶液で1回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で1回洗浄
し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、30℃(浴温)で回転
蒸発機中にて約300mlに濃縮した。かくして得られ
たブロマイド溶液を無水酢酸エチル100ml中のトリ
フェニルホスフィン26.2gの溶液に滴下し、室温で
一夜撹拌した。濾過後、粗製の[5‐(4‐ヒドロキシ
‐2,6,6‐トリメチル‐3‐オキソ‐1‐シクロヘキ
セン‐1‐イル)‐3‐メチル‐2,4‐ペンタジエニ
ル]‐トリフェニルホスホニウムブロマイド(前記式V
II′;高速液体クロマトグラフィーによる含有量:2
E‐異性体77.2%及び2Z‐異性体12.1%)4
9.0gが得られた;融点162〜164℃。塩化メチ
レン200ml及び酢酸エチル400mlから再結晶
し、ホスホニウム塩(含有量:2E‐異性体84.5%
及び2Z‐異性体10%)43.2gを得た;融点17
8〜180℃。
【0071】実施例 10 (a)
【0072】
【化25】
【0073】1‐(3‐オキソ‐2,6,6‐トリメチル
‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メチル‐1,
4‐ペンタジエン‐3‐オール[式VB]2.34gを
ヘキサン5ml及びジエチルエーテル5mlに溶解し、
トリカプリルメチルアンモニウムクロライド2滴及び水
酸化カリウム水溶液(粉末にした水酸化カリウム70g
及び水50mlから製造)4.54mlで処理し、十分
に撹拌した。次にこの混合物に硫酸1.98gを加え、
反応工程をガスクロマトグラフィーによって追跡した。
室温で4時間撹拌した後(生成物/抽出物比99.7:
0.3)、混合物を氷に注いだ。有機相を分離し、水で
洗浄して中性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、水流ポ
ンプによる真空下で濃縮した。黄色油として1‐(3‐
オキソ‐2,6,6‐トリメチル‐1‐シクロヘキセン‐
1‐イル)‐3‐メトキシ‐3‐メチル‐1,4‐ペン
タジエン[式VC′]2.47gが得られた。
【0074】(b)
【0075】
【化26】
【0076】無水テトラヒドロフラン300ml中のジ
イソプロピルアミン19.5gの溶液を−20℃に冷却
し、ヘキサン中のブチルリチウムの1.6M溶液126
mlで滴下処理し、−20℃で更に20分間撹拌した。
次に混合物を無水テトラヒドロフラン50ml中の1‐
(3‐オキソ‐2,6,6‐トリメチル‐1‐シクロヘキ
セン‐1‐イル)‐3‐メトキシ‐3‐メチル‐1,4
‐ペンタジエン[式VC′]40.0gの溶液で滴下処
理し、得られた混合物を0℃で更に1時間撹拌した。−
20℃に冷却し、そしてトリメチルクロロシラン21g
の速やかな滴下後、この混合物を0℃で15分間撹拌し
た(ガスクロマトグラフィーによれば、この時点で抽出
物の96.5%が所望の生成物に転化された)。この混
合物を飽和塩化ナトリウム溶液80mlで滴下処理し、
次にジエチルエーテルで抽出した。有機相を飽和塩化ナ
トリウム溶液で3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、水流ポンプによる真空下で濃縮した。1‐[2,6,
6‐トリメチル‐3‐(トリメチルシロキシ)‐1,3
‐シクロヘキサジエン‐1‐イル]‐3‐メトキシ‐3
‐メチル‐1,4‐ペンタジエン(式IB″;純度96.
36%)51.0gが得られた。
【0077】実施例 11 (a)
【0078】
【化27】
【0079】1‐[2,6,6‐トリメチル‐3‐(トリ
メチルシロキシ)‐1,3‐シクロヘキサジエン‐1‐
イル]‐3‐メトキシ‐3‐メチル‐1,4‐ペンタジ
エン[式IB″]32.0g、炭酸水素ナトリウム10.
0g、硫酸マグネシウム三水和物10.0g及びジエチ
ルエーテル500mlの混合物を2〜5℃で十分に撹拌
し、次に40%過酢酸26.45gで滴下処理し、放置
して室温に加温した。次に混合物を0℃に冷却し、メタ
ノール及び1N塩酸の混合物(容量比1:1)90ml
で滴下処理し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を
冷半濃度のピリ亜硫酸ナトリウム溶液で2回、氷水で1
回、少量の飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加えた氷水で
2回、そして更に氷水で2回洗浄した。硫酸ナトリウム
上で乾燥し、水流ポンプによる真空下にて35℃で濃縮
後、粗製の1‐(4‐ヒドロキシ‐3‐オキソ‐2,6,
6‐トリメチル‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3
‐メトキシ‐3‐メチル‐1,4‐ペンタジエン(式I
IIB″;純度91.5%)26.4gが得られ、このも
のは未だ1‐(3‐オキソ‐2,6,6‐トリメチル‐1
‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メトキシ‐3‐メ
チル‐1,4‐ペンタジエン7.07%を含有していた。
【0080】(b)
【0081】
【化28】
【0082】塩化メチレン400ml中の粗製の91.
55%1‐(4‐ヒドロキシ‐3‐オキソ‐2,6,6‐
トリメチル‐1‐シクロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メ
トキシ‐3‐メチル‐1,4‐ペンタジエン[式III
B″]58.0gの溶液を−20℃で撹拌し、63%臭
化水素溶液38.5gで速やかに滴下し、次に−15℃
で更に10分間撹拌した。この混合物を冷酢酸エチルで
抽出した。抽出液を25%冷臭化ナトリウム水溶液及び
少量の飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、次に水流
ポンプによる真空下にて室温で約70〜80mlの容量
に濃縮した。得られた溶液を酢酸エチル200ml中の
トリフェニルホスフィン52.4gの溶液に加え、この
混合物を室温で約3〜4時間撹拌した。生成物を結晶化
させた後、混合物を5℃で更に15時間撹拌し、次に吸
引濾過し、濾過物質を水流ポンプによる真空下にて35
℃で乾燥した。生じた粗製のホスホニウム塩(95.3
g)を塩化メチレン200ml及び酢酸エチル400m
lから再結晶させた。かくして[(4E)‐5‐(4‐
ヒドロキシ‐2,6,6‐トリメチル‐3‐オキソ‐1‐
シクロヘキセン‐1‐イル)‐3‐メチル‐2,4‐ペ
ンタジエニル]‐トリフェニルホスホニウムブロマイド
(式VII′;2E‐異性体83.36%及び2Z‐異
性体13.55%含有)80.35gが得られた;融点1
79〜182℃。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロベルト・カルル・ミユーラー スイス国4058バーゼル・ベツトシユタイン アレー145 (72)発明者 ロベルト・スプリユイテンブルク スイス国4153ライナツハ・クルメンライン ベーク9

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式 【化1】 式中、nは数0を表わし且つXは基 【化2】 を表わすか、或いはnは数1を表わし且つXは6,11
    ‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,6,8,10,12,14‐
    ヘプタエン‐2,15‐ジイル基を表わし 、記号R1
    同一もしくは相異なる意味を有し且つアルキル基を表わ
    し、そして記号R2はトリアルキルシロキシ基―OSi
    (R13またはエーテル基を表わす、の化合物。
  2. 【請求項2】 一般式 【化3】 式中、nは数0を表わし且つYは基 【化4】 を表わすか、或いはnは数1を表わし且つYは6,11
    ‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,6,8,10,12,14‐
    ヘプタエン‐2,15‐ジイル基を表わし 、そしてR3
    はヒドロキシ基またはエーテル基を表わす、の化合物を
    シリル化することを特徴とする一般式 【化5】 式中、nは数0を表わし且つXは基 【化6】 を表わすか、或いはnは数1を表わし且つXは6,11
    ‐ジメチルヘキサデカ‐2,4,6,8,10,12,14‐
    ヘプタエン‐2,15‐ジイル基を表わし、記号R1は同
    一もしくは相異なる意味を有し且つアルキル基を表わ
    し、そして記号R2はトリアルキルシロキシ基―OSi
    (R13またはエーテル基を表わす、の化合物の製造方
    法。
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