JPH0565627A - 蒸着重合装置 - Google Patents

蒸着重合装置

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JPH0565627A
JPH0565627A JP3253087A JP25308791A JPH0565627A JP H0565627 A JPH0565627 A JP H0565627A JP 3253087 A JP3253087 A JP 3253087A JP 25308791 A JP25308791 A JP 25308791A JP H0565627 A JPH0565627 A JP H0565627A
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JP
Japan
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evaporation source
heating
vapor deposition
vaporization source
evaporation
Prior art date
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Pending
Application number
JP3253087A
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English (en)
Inventor
Isao Tada
勲 多田
Naoki Nagashima
直樹 長嶋
Yoshikazu Takahashi
善和 高橋
Masayuki Iijima
正行 飯島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 [目的] 蒸着重合装置における蒸発源容器の蒸発源噴
出口にモノマを付着・堆積させず、モノマの蒸発レート
を安定化させる。 [構成] 原料モノマA、Bが供給された蒸発源容器7
の蒸発源貯蔵部14a、14bの外周部と蒸発源噴出口
部13a、13bの外周部とに、それぞれ別個に蒸発源
加熱ヒータ9a、9bと蒸発源噴出口加熱用ヒータ12
a、12bとを設け、蒸発源加熱ヒータ9a、9bの温
度よりも蒸発源噴出口加熱用ヒータ12a、12bの温
度を若干高くする。これにより蒸発源噴出口部13a、
13bの温度が低下するのを防ぎ、蒸発源容器7a、7
b全体の温度がそれぞれ一定化するので、蒸発源噴出口
13a、13bにモノマが付着・堆積することなくモノ
マA、Bの蒸発速度及び蒸発レートが常に安定化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は被蒸着材の表面に高分子
膜を形成させる際に用いる蒸着重合装置に関する。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】従来では、半導体素子の
絶縁膜、パッシべーション膜、ソフトエラー防止膜及び
コンデンサの誘電体膜等に用いられている各種高分子被
膜の形成方法として、湿式法、ポリマー蒸着法及びプラ
ズマ重合法が知られている。
【0003】湿式法は原料モノマを適当な溶媒に溶かし
て重合させ、これを基板上に塗布する方法であり、ポリ
マー蒸着法はポリマー自体を基板上に蒸着させる方法で
あり、プラズマ重合法はモノマ蒸気をプラズマ状態にし
て重合させ、基板上に堆積させる方法である。しかしな
がら、これら従来法には各々不都合があり、湿式法では
極めて薄い膜が得られず、密着性も不充分であり、更に
不純物の混入が生じ易く、ポリマー蒸着法では蒸着時に
分解が起こり易く、重合度が充分とならず、プラズマ重
合法では重合時に分解が起こり易く、高分子設計が困難
であった。
【0004】そこで、本出願人は先にこれら従来法の不
都合を解消する高分子被膜形成方法として、真空中で多
種類のモノマを蒸発させ、基板上で重合させる蒸着重合
法(特開昭61−78463号公報、特開昭63−16
6961号公報)を発明した。
【0005】以下、従来の蒸着重合装置の構成について
図3を参照して説明する。図において蒸着重合装置1の
処理室1aに真空排気系2を介して図示されていない真
空ポンプを接続し、この処理室1aの内部には高分子の
蒸着被膜を形成せしめるべき基板3を基板ホルダ4によ
って、下向きに保持するようにした。
【0006】基板3は基板ホルダ4の背面に設けられた
基板加熱用ヒータ5によって加熱できるようにしてい
る。また、基板3の下方前面には膜厚モニタ6が設けら
れ、基板3上に形成される被膜厚を間接的に測定できる
ようになっている。
【0007】処理室1a内下位には基板3に対向させて
蒸発源容器21が配設されており、この蒸発源容器21
a、21b内には高分子樹脂の原料モノマa、bが入っ
て、る(例として具体的名称をあげれば、ポリイミド樹
脂を形成するのであれば、原料モノマaを芳香族酸二無
水物とし原料モノマbを芳香族ジアミン等とすればよい
が、基板に蒸着させる高分子樹脂の種類によって組み合
わせ、材料は任意に変えることができる)。
【0008】蒸発源容器21の近傍にはレートモニタ8
(例えば水晶振動子)が設けられており、レートモニタ
8と蒸発源加熱ヒータ22によって、原料モノマa、b
の蒸発レートを一定化させる所定温度にコントロールで
きるようにしている。また、蒸発源容器21と基板3と
の間にはシャッター10が設けられ、蒸発源容器21
a、21bの間は仕切板11で仕切られている。
【0009】従来の蒸着重合装置1は以上のように構成
されているが、蒸着重合法によって基板上に良質の高分
子被膜を形成させるには、蒸発源のモノマ物質a、bが
基板上で化学量論的に重合させることが必要である。
【0010】従来の装置では繰り返し蒸着を行なってい
ると蒸発源のモノマ蒸発速度が不安定になることがあっ
た。その理由は、蒸発源容器の噴出口が蒸発源容器の貯
蔵部に比べ若干温度が低くなってしまい、蒸発したモノ
マが容器噴出口に付着・堆積し、容器噴出口の面積が小
さくなることにより、モノマa、bの蒸発速度が不安定
となってしまう。
【0011】
【発明が解決しようとする問題点】本発明は上記問題に
鑑みてなされ、蒸発源容器の容器蒸発口にモノマが付着
・堆積せず、モノマの蒸発速度及び蒸発レートを一定に
して、モノマを化学量論的に安定して重合できる蒸着重
合装置を提供することを目的とする。
【0012】
【問題点を解決するための手段】以上の目的は、真空中
における蒸発源容器に供給された原料モノマを加熱手段
により蒸発させる蒸着重合装置において、前記加熱手段
は前記蒸発源容器の蒸発源貯蔵部に設けた第1加熱手段
と、前記蒸発源噴出口部に設けた第2加熱手段とからな
り、前記第2加熱手段の加熱温度は前記第1加熱手段の
加熱温度より若干高く設定されていることを特徴とする
蒸着重合装置によって達成される。
【0013】
【作用】蒸発源容器の蒸発源貯蔵部に第1加熱手段とし
ての加熱ヒータを取り付けるとともに蒸発源容器の蒸発
源噴出口部に蒸発源容器の蒸発源貯蔵部とは別に第2の
加熱手段としての加熱ヒータを取り付け、更に各加熱ヒ
ータを温度制御することにより蒸発源貯蔵部の加熱ヒー
タより蒸発源噴出口部の加熱ヒータの温度を若干高くな
るようにしたので、蒸発源噴出口にモノマが付着しなく
なる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例による蒸着重合装置に
ついて、図面を参照して説明する。なお、従来例と同一
の構成の部分については同一の符号を付し、その詳細な
説明は省略する。
【0015】図2のA及び図2のBは本実施例によるア
ルミニウム製蒸発源容器7の全体を示し、この蒸発源容
器7a、7bの蒸発源貯蔵部14a、14bの外周には
バンドヒータである蒸発源加熱ヒータ9a、9bが巻装
されており、また蒸発源容器7a、7bの円筒状の蒸発
源噴出口部13a、13bの外周にはバンドヒータであ
る蒸発源噴出口加熱用ヒータ12a、12bが巻装され
ている。これら、蒸発源加熱ヒータ9a、9b及び蒸発
源噴出口加熱用ヒータ12a、12bは各々独立してお
り、図示されていない温度制御手段により、それぞれ温
度調節が可能となっている。
【0016】蒸発源容器7に供給されるモノマは、例え
ばポリイミドの蒸着重合法を例にあげれば、蒸発源容器
7aの蒸発源貯蔵部14a内には原料モノマAとしてピ
ロメリト酸二無水物を供給し、蒸発源容器7bの蒸発源
貯蔵部14b内には原料モノマBとして、4、4’‐ジ
アミノジフェニルエーテルを供給する。
【0017】図1は上述した蒸発源容器7が蒸着重合装
置1の処理室1a内に配置された図を示す。
【0018】本発明の実施例による蒸着重合装置1は以
上のように構成されるが、次にこの作用について説明す
る。
【0019】シャッター10が閉じられている状態で図
示されていない排気手段により処理室1a内が所望の圧
力に減圧されると、蒸発源容器7の蒸発源加熱ヒータ9
a、9bと蒸発源噴出口加熱用ヒータ12a、12bと
が加熱される。各々の設定温度は蒸発源加熱ヒータ9a
が180°±2℃、蒸発源噴出口加熱用ヒータ12aが
190°±2℃、蒸発源加熱ヒータ9bが160°±2
℃、蒸発源噴出口加熱用ヒータ12bが170°±2℃
である。これにより蒸発源容器7の蒸発源噴出口部13
a、13bの温度が蒸発源貯蔵部の温度と同じとなり、
蒸発源噴出口部13a、13bの温度が低下するのを防
止できる。
【0020】蒸発源容器7a、7bに供給されているモ
ノマA、Bが加熱されると、モノマA、Bは蒸発する
が、レートモニタ8はこれらの蒸発レートを検知し、蒸
着被膜の形成に適した蒸発レートになると、シャッター
10は開かれる。これによりモノマA、Bの蒸気は処理
室1a内全体に充填され、基板3に飛んでいき、化学量
論的に蒸着・堆積し、基板3の背後に設けられている基
板加熱用ヒータ5により、加熱されながら蒸着重合す
る。膜厚モニタ6は基板3に蒸着重合した蒸着被膜を観
察し、蒸着被膜が所望の厚さになるとシャッター10は
閉じられる。
【0021】以上本実施例の作用について述べたが、本
実施例では蒸発源容器7a、7b共に蒸発源の貯蔵部1
4a、14bの外周の蒸発源加熱ヒータ9a、9bより
も、蒸発源噴出口加熱用ヒータ12a、12bの方が温
度が高くなるように調節しているので、蒸発源容器7
a、7bの全体の温度がそれぞれ一定化して、モノマ
A、Bは蒸発源容器7aの蒸発口に付着・堆積すること
がない。また、これによりモノマの蒸発速度、蒸発レー
トが安定化する。
【0022】以上、本発明の実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれに限定されることなく本発明の
技術的思想に基いて、種々の変形が可能である。
【0023】例えば以上の実施例では、蒸発源の加熱方
法にバンドヒータを使用したが、ニクロム線、媒体加熱
等による加熱方法を使用してもよい。
【0024】また、以上の実施例では蒸発源容器7をア
ルミニウム製としたが、鉄、銅等の他の材質であっても
よく、更にこの蒸発源容器7の蒸発源貯蔵部14a、1
4bと蒸発源噴出口部13a、13bとを一体成形にし
たが、これを別個に成形してもよいし、更に蓋部15
a、15b、噴出口部13a、13b及び貯蔵部14
a、14bを別個に成形してもよい。
【0025】また、以上の実施例ではポリイミドの蒸着
重合法を例としたが、モノマ形成される高分子膜はその
種類を任意に変えることができる。
【0026】
【発明の効果】以上述べたように本発明の蒸着重合装置
は蒸発レートが不安定になる要因を取り除くことができ
るので、基板上に形成される高分子膜の質を良好なもの
にすることができる。また、蒸発源噴出口にモノマが付
着・堆積しないため繰り返し蒸着することができ、蒸発
源容器のメンテナンスの回数も減らすことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による蒸着重合装置の処理室の正面図で
ある。
【図2】Aは同処理室における蒸発源容器の拡大平面図
であり、Bは同蒸発源容器の拡大断面図である。
【図3】従来例の蒸着重合装置の処理室の正面図であ
る。
【符号の説明】
1 蒸着重合装置 7 蒸発源容器 9a 蒸発源加熱ヒータ 9b 蒸発源加熱ヒータ 12a 蒸発源噴出口加熱用ヒータ 12b 蒸発源噴出口加熱用ヒータ 13a 蒸発源噴出口部 13b 蒸発源噴出口部 14a 蒸発源貯蔵部 14b 蒸発源貯蔵部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯島 正行 茨城県つくば市東光台5丁目9番地 日本 真空技術株式会社筑波超材料研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空中における蒸発源容器に供給された
    原料モノマを加熱手段により蒸発させる蒸着重合装置に
    おいて、前記加熱手段は前記蒸発源容器の蒸発源貯蔵部
    に設けた第1加熱手段と、前記蒸発源噴出口部に設けた
    第2加熱手段とからなり、前記第2加熱手段の加熱温度
    は前記第1加熱手段の加熱温度より若干高く設定されて
    いることを特徴とする蒸着重合装置。
JP3253087A 1991-09-04 1991-09-04 蒸着重合装置 Pending JPH0565627A (ja)

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JP3253087A JPH0565627A (ja) 1991-09-04 1991-09-04 蒸着重合装置

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