JPH0568710B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0568710B2 JPH0568710B2 JP59196051A JP19605184A JPH0568710B2 JP H0568710 B2 JPH0568710 B2 JP H0568710B2 JP 59196051 A JP59196051 A JP 59196051A JP 19605184 A JP19605184 A JP 19605184A JP H0568710 B2 JPH0568710 B2 JP H0568710B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transparent
- liquid crystal
- forming
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は液晶を用いたマトリクス型フルカラー
表示装置およびその製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION FIELD OF INDUSTRIAL APPLICATION The present invention relates to a matrix-type full-color display device using liquid crystals and a method for manufacturing the same.
従来例の構成とその問題点
一般に、マトリクス表示は、一対の電極をそれ
ぞれ帯状に分割し、一方を走査電極、他方を信号
電極として互いに直交するように組合せ、この一
対の電極間に液晶を充填した構造のものが知られ
ている。これは分割されたそれぞれの電極群の各
交差点が絵素を形成し、これらの電極群に選択的
に電圧を印加することによつて、任意の情報を表
示することが出来るものである。通常このような
表示装置の駆動は走査電極を一定の周期で線順次
走査し、これと同期させて信号電極には情報に応
じた信号電圧波形を印加するいわゆる時分割駆動
方式が用いられる。Conventional configuration and problems Generally, in a matrix display, a pair of electrodes is divided into strips, one is used as a scanning electrode and the other is a signal electrode, and they are combined so as to be orthogonal to each other, and liquid crystal is filled between the pair of electrodes. It is known that the structure is as follows. Each intersection of each divided electrode group forms a picture element, and arbitrary information can be displayed by selectively applying a voltage to these electrode groups. Normally, such a display device is driven using a so-called time-division drive method in which scanning electrodes are line-sequentially scanned at a constant period, and in synchronization with this, a signal voltage waveform corresponding to information is applied to a signal electrode.
このようなマトリクス型液晶表示装置において
カラー表示をさせる場合の構成について図面を用
いて説明する。第1図および第2図は従来のカラ
ー表示用マトリクス表示装置の構造を模式的に示
した要部断面図である。すなわち第1図は信号電
極6または走査電極2上に例えば赤、緑、青など
の複数色のフイルター層7をそれぞれ列または格
子状に設けた構造であつて、赤、緑、青のそれぞ
れの信号電極6にはそれぞれ対応するカラー信号
電圧を供給することによつてカラー表示を行なう
ものである。この構成において、電極上に設けら
れるカラーフイルター層は一般にホトリソ法ある
いは印刷法によつて形成され、通常前者はゼラチ
ン等の有機系絶縁物を染色する手法が用いられ、
後者の場合は有機系樹脂中に顔料を分散させる手
法がとられる。これらの手法で形成されたフイル
ター層の色純度は、その膜厚が薄いものは悪く、
厚いもの程良いのが一般的である。ところが液晶
表示装置の光学特性は電極上にそのような絶縁層
が形成された場合印加電圧に対する透過光量の立
上り特性(以下これを急峻度と云う)あるいは閾
値電圧特性が著しくそこなわれる。このため特に
表示容量の大きいマトリクス型表示装置を時分割
駆動する際、この急峻度の悪化は表示のコントラ
ストを低下させ、また閾値電圧の増大は駆動電圧
を高くするという欠点があつた。 A configuration for displaying color in such a matrix type liquid crystal display device will be described with reference to the drawings. FIGS. 1 and 2 are sectional views of main parts schematically showing the structure of a conventional color matrix display device. That is, FIG. 1 shows a structure in which filter layers 7 of a plurality of colors, such as red, green, and blue, are provided in rows or grids on the signal electrode 6 or the scanning electrode 2. Color display is performed by supplying corresponding color signal voltages to the signal electrodes 6, respectively. In this configuration, the color filter layer provided on the electrode is generally formed by a photolithography method or a printing method, and the former is usually a method of dyeing an organic insulator such as gelatin.
In the latter case, a method is used in which the pigment is dispersed in an organic resin. The color purity of the filter layer formed by these methods is poor if the film thickness is thin;
Generally speaking, the thicker the better. However, when such an insulating layer is formed on the electrodes, the optical characteristics of a liquid crystal display device are significantly impaired in the rise characteristic (hereinafter referred to as steepness) of the amount of transmitted light relative to the applied voltage or the threshold voltage characteristic. For this reason, particularly when driving a matrix type display device with a large display capacity in a time-division manner, this deterioration of the steepness lowers the display contrast, and an increase in the threshold voltage increases the driving voltage.
そこで、このようなフイルター層に起因する欠
点を除去する方法としては第2図に示すような構
成が考えられる。この構造は一方の基板1上にま
ずカラーフイルター層7を形成したのち、このフ
イルター層7上に錫を含む酸化インジウムを低温
でスパツタリングして透明の走査電極3あるいは
信号電極6を設ける構成である。 Therefore, as a method of eliminating the defects caused by such a filter layer, a configuration as shown in FIG. 2 can be considered. This structure is such that a color filter layer 7 is first formed on one substrate 1, and then a transparent scanning electrode 3 or signal electrode 6 is provided on this filter layer 7 by sputtering indium oxide containing tin at a low temperature. .
しかしながら、この構造および製造方法におい
てフイルター層上に形成される透明電極はその電
気的特性および機械的強度の点で欠点があり、こ
れに起因する問題として表示装置の表示特性、信
頼性に関する致命的な欠点がある。これらの点に
関して詳しく説明する。 However, in this structure and manufacturing method, the transparent electrode formed on the filter layer has shortcomings in terms of its electrical properties and mechanical strength, and this causes problems that are fatal to the display properties and reliability of the display device. There are some drawbacks. These points will be explained in detail.
すなわち、一般にカラーフイルター層の耐熱性
は染色型あるいは顔料型のいずれの場合も低く、
約210℃以上では退色を生じ色純度が極端に悪く
なる。このため、このフイルター層の上に設けら
れる透明電極は200℃以下の低温で形成しなけれ
ばならない。一般に透明導電膜を200℃以下で形
成する方法としては低温スパツタ法が採用される
が、通常低温スパツタ法で形成される透明導電膜
はその電気抵抗値が高く、さらに有機系樹脂被膜
上に形成された膜は摩擦などに対する機械的強度
および接着強度が極めて弱いのが一般的である。 In other words, the heat resistance of color filter layers is generally low, whether dyed or pigmented.
At temperatures above about 210°C, color fading occurs and color purity becomes extremely poor. Therefore, the transparent electrode provided on this filter layer must be formed at a low temperature of 200° C. or lower. Low-temperature sputtering is generally used to form transparent conductive films at temperatures below 200°C, but transparent conductive films formed by low-temperature sputtering usually have a high electrical resistance, and are formed on organic resin films. Generally, the resulting film has extremely low mechanical strength and adhesive strength against friction.
従つて複数本に細分割された帯状の電極群で構
成されるマトリクス型表示装置においてまず第1
の欠点は透明電極の1本当りの長さ方向の電気抵
抗が極めて高くなり、このためこの電極の一端か
ら電圧を供給した場合、長さ方向に電気抵抗によ
る電圧降下が生じ、これに起因する表示ムラが生
じる。さらに第2の欠点は通常液晶表示装置は、
その製造過程において液晶分子を一定方向に配列
させるいわゆる配向処理が施されるが、この処理
方法として、一般に透明電極上に配向膜を設け、
その後その表面を綿布などを用いて一定方向にラ
ビングする手段がとられる。この場合低温スパツ
タ法で形成された透明電極は、その機械的強度お
よび接着強度が弱いため、ラビングによる摩擦に
よつて断線が生じたり、あるいは表示装置のその
後の製造過程において発生する熱履歴、あるいは
完成後において繰返し行なわれる電圧印加などに
よつてしばしば断線あるいは導通不良が生じるな
ど表示装置の信頼性に問題があつた。 Therefore, in a matrix display device consisting of a group of strip-shaped electrodes subdivided into a plurality of electrodes, the first
The disadvantage of this is that the electric resistance in the length direction of each transparent electrode is extremely high, so when voltage is supplied from one end of this electrode, a voltage drop occurs in the length direction due to the electric resistance. Display unevenness occurs. Furthermore, the second drawback is that liquid crystal display devices usually have
In the manufacturing process, a so-called alignment treatment is performed to align liquid crystal molecules in a certain direction, and this treatment method generally involves providing an alignment film on a transparent electrode.
Thereafter, the surface is rubbed in a certain direction using cotton cloth or the like. In this case, the transparent electrode formed by the low-temperature sputtering method has low mechanical strength and adhesive strength, so it may break due to friction caused by rubbing, or may be damaged by thermal history that occurs during the subsequent manufacturing process of the display device. There were problems with the reliability of the display device, such as wire breakage or poor conduction often occurring due to repeated voltage application after completion.
発明の目的
本発明は上記従来の欠点を解消するもので、コ
ントラストの優れた均質なフルカラー表示が得ら
れ、しかも断線などの生じない信頼性の高いマト
リクス型液晶表示装置ならびにこのようなマトリ
クス型液晶表示装置を容易に製造出来る製造方法
を提供することを目的とする。Purpose of the Invention The present invention solves the above-mentioned conventional drawbacks, and provides a highly reliable matrix-type liquid crystal display device that can provide a homogeneous full-color display with excellent contrast and does not cause disconnection, and such a matrix-type liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide a manufacturing method that can easily manufacture a display device.
発明の構成
上記目的を達するため、本願第1の発明にかか
るマトリクス型液晶表示装置は、相対向する一対
の透明な基板を設け、一方の基板の他方の基板と
対向面に格子あるいは列状あるいは所定の形状を
有する複数色のフイルター層を設け、走査電極に
対応する位置において絵素以外の部分に所定の形
状を有する金属層を設け、そののち前記フイルタ
ー層と金属層を覆う複数の透明な走査電極を設
け、他方の基板の一方の基板との対向面に、透明
な複数の信号電極を設け、前記一対の基板間に液
晶材料を充填した構成である。また本願第2の発
明にかかるマトリクス型液晶表示装置の製造方法
は透明な第1の基板上に、走査電極に対応する位
置において絵素以外の部分に所定の形状を有する
金属層を形成する工程と、その後この金属層以外
の部分で絵素に対応する位置に複数色のフイルタ
ー層を形成する工程と、その後前記金属層とフイ
ルター層を覆うように透明な複数本の走査電極を
形成する工程と、透明な第2の基板上に透明な複
数本の信号電極を形成する工程と、前記第1の基
板と第2の基板との間隙に液晶材料を充填する工
程とを有する構成である。また本願第3の発明に
かかるマトリクス型液晶表示装置の製造方法は透
明な第1の基板上に格子あるいは列状あるいは所
定の形状を有する複数色のフイルター層を形成す
る工程と、その後走査電極に対応する位置におい
て絵素以外の部分の前記フイルター層上に所定の
形状を有する金属層を形成する工程とその後前記
フイルター層と金属層を覆うように透明な複数本
の走査電極を形成する工程と、透明な第2の基板
上に、透明な複数本の信号電極を形成する工程と
前記第1の基板と第2の基板との間隙に液晶材料
を充填する工程とを有する構成である。Structure of the Invention In order to achieve the above-mentioned object, a matrix type liquid crystal display device according to the first invention of the present application is provided with a pair of transparent substrates facing each other, and the surface of one substrate facing the other substrate is arranged in a grid, rows or A plurality of color filter layers having a predetermined shape are provided, a metal layer having a predetermined shape is provided in a portion other than the picture element at a position corresponding to the scanning electrode, and then a plurality of transparent filter layers covering the filter layer and the metal layer are provided. A scan electrode is provided, a plurality of transparent signal electrodes are provided on the surface of the other substrate facing the one substrate, and a liquid crystal material is filled between the pair of substrates. Further, the method for manufacturing a matrix liquid crystal display device according to the second invention of the present application includes a step of forming a metal layer having a predetermined shape on a portion other than the picture elements at a position corresponding to a scanning electrode on a transparent first substrate. Then, a step of forming a plurality of color filter layers at positions corresponding to the picture elements other than this metal layer, and a step of forming a plurality of transparent scanning electrodes so as to cover the metal layer and the filter layer. The method includes the steps of: forming a plurality of transparent signal electrodes on a transparent second substrate; and filling a gap between the first and second substrates with a liquid crystal material. Further, the method for manufacturing a matrix type liquid crystal display device according to the third invention of the present application includes a step of forming a plurality of color filter layers having a grid, rows, or a predetermined shape on a transparent first substrate, and then forming filter layers on scanning electrodes. forming a metal layer having a predetermined shape on the filter layer in a portion other than the picture element at a corresponding position; and then forming a plurality of transparent scanning electrodes so as to cover the filter layer and the metal layer. , the structure includes a step of forming a plurality of transparent signal electrodes on a transparent second substrate, and a step of filling a gap between the first substrate and the second substrate with a liquid crystal material.
実施例の説明
以下本発明の一実施例について図面を参照しな
がら説明する。DESCRIPTION OF EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
実施例 1
第3図は本発明の一実施例におけるマトリクス
型液晶表示装置の構造の要部を模式的に示した断
面図であり、第4図,5図,6図は要部平面図で
ある。1は透明なガラス基板であり、この上に、
まず基板全面に亘つて金属被膜を形成する。この
金属被膜としては、Cr、Au、Ni、Al、Paなど
の単体またはこれら数種の積層被膜が適用できる
が、導電性、接着強度および透明導電被膜との電
気的接続の点からCr−Ni−Auの3層構成が好ま
しい。この金属被膜の形成方法としては通常の真
空蒸着手段により形成した。その後、この金属被
膜をホトエツチング手法によりエツチングしてフ
イルター層が埋設される部分が除かれた形状の金
属層10を得る。次に第4図の様にこの金属層1
0の切削部に複数色のフイルター層7を形成す
る。Embodiment 1 FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the main part of the structure of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 4, 5, and 6 are plan views of the main part. be. 1 is a transparent glass substrate, on which
First, a metal coating is formed over the entire surface of the substrate. As this metal coating, a single coating of Cr, Au, Ni, Al, Pa, etc. or a laminated coating of several of these materials can be applied, but from the viewpoint of conductivity, adhesive strength, and electrical connection with the transparent conductive coating, Cr-Ni is preferable. - A three-layer structure of Au is preferred. The metal coating was formed by a conventional vacuum deposition method. Thereafter, this metal coating is etched by a photoetching method to obtain a metal layer 10 having a shape in which the portion where the filter layer is buried is removed. Next, as shown in Figure 4, this metal layer 1
A plurality of color filter layers 7 are formed on the cut portion of 0.
このフイルター層7の形成方法としては、ホト
リソ手法によりゼラチンの層を形成したのち、こ
れを所望の染料で着色すれば良い。本実施例では
列方向に赤、青、緑の3色のフイルターをこの配
列で、またn+1行目(偶数行)については、n
行(奇数行)に対して半ピツチずらして緑、赤、
青の配列でそれぞれ模細工状に形成した。これら
のフイルター層の形成順序としては、赤、緑、青
の順にそれぞれ所定の位置に形成した。ここで形
成されるフイルター層7の被膜厚は1〜3μmが
好ましい。1μm以下の場合は色純度が悪くなり、
また3μm以上では被膜の光の透過率が低下する
ので好ましくない。以上のようにして形成された
金属層10と複数色のフイルター層7の上に、錫
を含む酸化インジウム(以下ITOと云う)を200
℃以下の低温スパツタ法で形成し、その後この
ITOの被膜をホトエツチング手法により、第5図
のようにエツチングして帯状の透明な走査電極3
とした。その後基板1の走査電極3側の全面に亘
つて液晶配向膜4を形成したのち、その表面をポ
リエステルの繊維を用いて一定方向にラビングし
て配向処理を施した。一方、透明なガラス基板5
の基板1と対向する表面には、ITO被膜を形成
し、これをホトエツチングして第6図のような透
明な信号電極6を設けた。この場合ITOの被膜の
形成方法としては、形成過程において基板加熱温
度を200℃以下にする必要がないため、通常のス
パツタ法、あるいは真空蒸着法などが適用出来
る。その後、この基板5の信号電極6側の表面に
基板1と同様の方法で配向膜8を形成し、これを
ラビングして配向処理を施した。 The filter layer 7 can be formed by forming a gelatin layer by photolithography and then coloring it with a desired dye. In this embodiment, filters of three colors red, blue, and green are arranged in this arrangement in the column direction, and for the n+1st row (even row),
Green, red,
They were each formed into a pattern of blue arrays. These filter layers were formed at predetermined positions in the order of red, green, and blue. The film thickness of the filter layer 7 formed here is preferably 1 to 3 μm. If it is less than 1μm, the color purity will be poor.
Further, if the thickness is 3 μm or more, the light transmittance of the coating decreases, which is not preferable. 200% of indium oxide containing tin (hereinafter referred to as ITO) is placed on the metal layer 10 and the multi-color filter layer 7 formed as described above.
It is formed by a low temperature sputtering method below ℃, and then this
The ITO film is etched using a photoetching method as shown in Figure 5 to form a band-shaped transparent scanning electrode 3.
And so. Thereafter, a liquid crystal alignment film 4 was formed over the entire surface of the substrate 1 on the scanning electrode 3 side, and then the surface was rubbed in a certain direction using polyester fibers to perform an alignment treatment. On the other hand, a transparent glass substrate 5
An ITO film was formed on the surface facing the substrate 1, and this was photoetched to provide a transparent signal electrode 6 as shown in FIG. In this case, as a method for forming the ITO film, the usual sputtering method or vacuum evaporation method can be applied since there is no need to lower the substrate heating temperature to 200° C. or lower during the formation process. Thereafter, an alignment film 8 was formed on the surface of the substrate 5 on the signal electrode 6 side in the same manner as the substrate 1, and was subjected to an alignment treatment by rubbing.
その後、基板1と5をそれぞれ走査電極4およ
び信号電極6が直交し、かつフイルター層7が走
査電極4と信号電極6で形成される絵素部に位置
するように対向させ、走査電極4と信号電極6と
を一定の間隙を保たせて、基板1および5の周辺
をシールしたのち、両基板1,5の間隙に、正の
誘電異方性をもつネマテイツク液晶に光学活性剤
を添加した混合液晶を充填して液晶セルを完成さ
た。 Thereafter, the substrates 1 and 5 are made to face each other so that the scanning electrodes 4 and the signal electrodes 6 are perpendicular to each other, and the filter layer 7 is located in the pixel area formed by the scanning electrodes 4 and the signal electrodes 6. After sealing the periphery of the substrates 1 and 5 with a constant gap between them and the signal electrode 6, an optically active agent was added to the nematic liquid crystal having positive dielectric anisotropy in the gap between the substrates 1 and 5. The liquid crystal cell was completed by filling the mixed liquid crystal.
このようにして製作した液晶セルをネガ型表示
となるよう2枚の直線偏光板で挾みマトリクス型
液晶表示装置を完成させた。 A matrix-type liquid crystal display device was completed by sandwiching the thus manufactured liquid crystal cell between two linear polarizing plates to provide a negative type display.
本実施例のマトリクス型液晶表示装置は、液晶
の特性を悪化させるフイルタ層が走査電極と信号
電極との間には設けられておらず、さらにフイル
ター層上の走査電極は絵素以外の部分で列方向に
一体化した金属層と接続されている構造となつて
いるため、走査電極の電気抵抗が小さく、さらに
断線や導通不良などが生じない。また、さらには
電極構成として、信号電極を一表示ライン中で2
個に分割した2重マトリクス構造にしているため
駆動デユーテイーを実質2倍にすることが出来
る。このため表示コントラストの優れた、信頼性
の高いカラー表示が可能となつた。 In the matrix type liquid crystal display device of this example, a filter layer that deteriorates the characteristics of the liquid crystal is not provided between the scanning electrode and the signal electrode, and furthermore, the scanning electrode on the filter layer is located in a portion other than the picture element. Since it has a structure in which it is connected to a metal layer integrated in the column direction, the electrical resistance of the scanning electrode is low, and furthermore, disconnection or poor conduction does not occur. Furthermore, as an electrode configuration, two signal electrodes are provided in one display line.
Since it has a double matrix structure divided into individual parts, the drive duty can be practically doubled. This has made it possible to provide highly reliable color display with excellent display contrast.
実施例 2
次に、本願第3の発明の一実施例について説明
する。Example 2 Next, an example of the third invention of the present application will be described.
第7図は、本発明の一実施例におけるマトリク
ス型液晶表示装置の構造の要部を模式的に示した
断面図であり、第8図,第9図はその製造過程を
示す要部平面図である。 FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing the main part of the structure of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, and FIGS. 8 and 9 are plan views of the main part showing the manufacturing process. It is.
まず、透明なガラス基板1の上にホトリソ手法
により、所望の形状を有する複数色のフイルター
層7を形成する。ここでは、第8図に示すように
列方向に赤、青、緑の3色のフイルター層をこの
配列で、またn+1行目(偶数行)についてn行
(奇数行)に対して列方向に半ピツチずらして緑、
赤、青の配列で、それぞれ模細工状に形成した。
ここでフイルター層7の被膜厚は実施例1の場合
と同様の理由から1〜3μmが好ましい。次に、
このフイルター層7の上に、実施例1と同様の方
法で金属被膜を設け、これをエツチングして、絵
素に対応しない位置に第7図、第8図に示すよう
な金属層10を形成し、その後、これらのフイル
ター層7と金属層10を覆うように実施例1と同
様の方法で透明な走査電極3を形成する。その
後、さらにこの上に配向膜を形成し、その表面を
ラビングして配向処理する。その後、実施例1と
同様の方法で、もう一方の基板5上に透明な信号
電極6を形成し、その上に配向膜8を形成し、配
向処理したのち、これらを組合せてマトリクス表
示装置を完成させる。 First, a plurality of color filter layers 7 having desired shapes are formed on a transparent glass substrate 1 by photolithography. Here, as shown in Figure 8, filter layers of three colors red, blue, and green are arranged in this arrangement in the column direction, and for the n+1st row (even row), in the column direction for the n row (odd row). Green, shifted half a pitch.
The red and blue arrays were each formed into a pattern.
Here, the film thickness of the filter layer 7 is preferably 1 to 3 μm for the same reason as in Example 1. next,
A metal film is provided on this filter layer 7 in the same manner as in Example 1, and this is etched to form a metal layer 10 as shown in FIGS. 7 and 8 at positions that do not correspond to picture elements. Then, transparent scanning electrodes 3 are formed in the same manner as in Example 1 so as to cover these filter layer 7 and metal layer 10. Thereafter, an alignment film is further formed on this, and the surface thereof is rubbed for alignment treatment. Thereafter, in the same manner as in Example 1, a transparent signal electrode 6 is formed on the other substrate 5, an alignment film 8 is formed thereon, and after alignment treatment, these are combined to form a matrix display device. Finalize.
この実施例によれば、実施例1の場合と同様の
効果を得ることが出来ると共に、金属層10の形
成工程を、フイルター層7形成工程の後に行なう
ことによつて、フイルター層形成時の寸法精度が
低くても良く、このため、製造分留りが向上し、
これに起因して、製造コストの低減が図れる。 According to this embodiment, it is possible to obtain the same effect as in the case of embodiment 1, and by performing the step of forming the metal layer 10 after the step of forming the filter layer 7, the size at the time of forming the filter layer is Less precision is required, which improves production fractionation and
Due to this, manufacturing costs can be reduced.
発明の効果
以上説明したように、第1の発明のマトリクス
型液晶表示装置によれば、走査電極をフイルター
層上に形成し、この走査電極は、フイルター層中
に埋設または、フイルター層上に形成された金属
層と電気的に接続された構成にしているので、フ
イルター層による液晶特性の悪化が全くなく、ま
た走査電極の電気抵抗が低く、かつ断線あるいは
導通不良が起らない。さらに、前記金属層は絵素
以外の位置に形成されているので、隣接する絵素
間から漏れる不用な透過光をしや断出来る。Effects of the Invention As explained above, according to the matrix type liquid crystal display device of the first invention, the scanning electrode is formed on the filter layer, and the scanning electrode is embedded in the filter layer or formed on the filter layer. Since the structure is such that the filter layer is electrically connected to the metal layer, there is no deterioration of liquid crystal characteristics due to the filter layer, the electrical resistance of the scanning electrode is low, and there is no disconnection or conduction failure. Furthermore, since the metal layer is formed at a position other than the picture elements, unnecessary transmitted light leaking from between adjacent picture elements can be cut off.
このため、表示ムラがなく、コントラストの良
好な優れたカラー表示が得られ、かつ信頼性の向
上を図り得る。また、第2の発明のマトリクス型
液晶表示装置の製造方法によれば、第1の発明に
かかるマトリクス型液晶表示装置を容易に効率よ
く製造し得る。また、第3の発明のマトリクス型
液晶表示装置の製造方法によれば、第2の発明の
マトリクス型液晶表示装置の製造方法よりもさら
に容易かつ迅速に、しかも低コストで第1の発明
にかかるマトリクス型液晶表示装置を製造し得
る。 Therefore, an excellent color display with no display unevenness and good contrast can be obtained, and reliability can be improved. Moreover, according to the method for manufacturing a matrix type liquid crystal display device of the second invention, the matrix type liquid crystal display device according to the first invention can be manufactured easily and efficiently. Further, according to the method of manufacturing a matrix type liquid crystal display device of the third invention, the method of manufacturing the matrix type liquid crystal display device of the first invention is performed more easily and quickly than the method of manufacturing a matrix type liquid crystal display device of the second invention, and at a lower cost. A matrix type liquid crystal display device can be manufactured.
第1図は従来のマトリクス型液晶表示装置の構
造を示す断面図、第2図は従来のマトリクス型液
晶表示装置の他の構造を示す断面図、第3は第1
および第2の発明の一実施例におけるマトリクス
型液晶表示装置の構造を模式的に示す要部断面
図、第4図、第5図および第6図は第1および第
2の発明の一実施例おけるマトリクス型液晶表示
装置の製造過程を示す要部平面図、第7図は第1
および第3の発明の一実施例におけるマトリクス
型液晶表示装置の構造を模式的に示す要部断面
図、第8図および第9図は、第1および第3の発
明の一実施例におけるマトリクス型液晶表示装置
の製造過程を示す要部平面図である。
1,5……透明基板、2,3,6……走査電
極、4,8……配向膜、7……フイルター層、9
……液晶材料、10……金属層。
Figure 1 is a sectional view showing the structure of a conventional matrix type liquid crystal display device, Figure 2 is a sectional view showing another structure of the conventional matrix type liquid crystal display device, and Figure 3 is a sectional view showing the structure of a conventional matrix type liquid crystal display device.
4, 5 and 6 are cross-sectional views schematically showing the structure of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the second invention, and FIGS. 4, 5 and 6 are embodiments of the first and second inventions Figure 7 is a plan view of the main parts showing the manufacturing process of a matrix type liquid crystal display device.
FIGS. 8 and 9 are sectional views schematically showing the structure of a matrix type liquid crystal display device according to an embodiment of the third invention, and FIGS. FIG. 2 is a plan view of main parts showing the manufacturing process of a liquid crystal display device. 1, 5... Transparent substrate, 2, 3, 6... Scanning electrode, 4, 8... Alignment film, 7... Filter layer, 9
...Liquid crystal material, 10...Metal layer.
Claims (1)
基板の他方の基板との対向面に、格子あるいは列
状あるいは所定の形状を有する複数色のフイルタ
ー層を設け、走査電極に対応する位置において絵
素以外の部分に所定の形状を有する金属層を設け
その後前記フイルター層と金属層を覆う複数の透
明な走査電極を設け、他方の基板の一方の基板と
の対向面に、透明な複数の信号電極を設け、前記
一対の基板間に液晶材料を充填したことを特徴と
するマトリクス型液晶表示装置。 2 透明な第1の基板上に、走査電極の対応する
位置において、絵素以外の部分に所定の形状を有
する金属層を形成する工程と、その後前記金属層
以外の部分で絵素に対応する位置に複数色のフイ
ルター層を形成する工程と、その後前記金属層と
フイルター層を覆うように透明な複数本の走査電
極を形成する工程と、透明な第2の基板上に、透
明な複数本の信号電極を形成する工程と、前記第
1の基板と第2の基板との間隙に液晶材料を充填
する工程とを有するマトリクス型液晶表示装置の
製造方法。 3 透明な第1の基板上に、格子あるいは列状あ
るいは所定の形状を有する複数色のフイルター層
を形成する工程と、その後走査電極に対応する位
置において絵素以外の部分の前記フイルター層上
に、所定の形状を有する金属層を形成する工程
と、その後、前記フイルター層と金属層を覆うよ
うに透明な複数本の走査電極を形成する工程と、
透明な第2の基板上に透明な複数本の信号電極を
形成する工程と、前記第1の基板を第2の基板と
の間隙に液晶材料を充填する工程とを有するマト
リクス型液晶表示装置の製造方法。[Claims] 1. A pair of transparent substrates facing each other is provided, and a filter layer of multiple colors in a grid, rows, or a predetermined shape is provided on the surface of one substrate facing the other substrate, and a scanning method is performed. A metal layer having a predetermined shape is provided in a portion other than the picture element at a position corresponding to the electrode, and then a plurality of transparent scanning electrodes are provided covering the filter layer and the metal layer, and the surface of the other substrate facing the one substrate is provided. A matrix type liquid crystal display device, characterized in that a plurality of transparent signal electrodes are provided, and a liquid crystal material is filled between the pair of substrates. 2. Forming a metal layer having a predetermined shape in a portion other than the picture element at a position corresponding to the scanning electrode on the transparent first substrate, and then forming a metal layer corresponding to the picture element in the part other than the metal layer. forming a plurality of transparent scanning electrodes on a transparent second substrate; forming a plurality of transparent scanning electrodes on a transparent second substrate; A method for manufacturing a matrix liquid crystal display device, comprising the steps of: forming a signal electrode; and filling a gap between the first substrate and the second substrate with a liquid crystal material. 3. A step of forming a plurality of color filter layers having a grid, rows, or predetermined shape on a transparent first substrate, and then forming a filter layer on a portion other than the picture elements at a position corresponding to a scanning electrode. , a step of forming a metal layer having a predetermined shape, and then a step of forming a plurality of transparent scanning electrodes so as to cover the filter layer and the metal layer;
A matrix type liquid crystal display device comprising the steps of forming a plurality of transparent signal electrodes on a transparent second substrate, and filling a gap between the first substrate and a second substrate with a liquid crystal material. Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59196051A JPS6173183A (en) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Matrix type liquid crystal display device and its manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59196051A JPS6173183A (en) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Matrix type liquid crystal display device and its manufacturing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6173183A JPS6173183A (en) | 1986-04-15 |
| JPH0568710B2 true JPH0568710B2 (en) | 1993-09-29 |
Family
ID=16351376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59196051A Granted JPS6173183A (en) | 1984-09-19 | 1984-09-19 | Matrix type liquid crystal display device and its manufacturing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6173183A (en) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58120287A (en) * | 1982-01-11 | 1983-07-18 | 株式会社東芝 | Liquid crystal display |
| JPS6143729A (en) * | 1984-08-08 | 1986-03-03 | Citizen Watch Co Ltd | Production of color liquid crystal panel |
| JPS6151126A (en) * | 1984-08-21 | 1986-03-13 | Citizen Watch Co Ltd | Color liquid crystal panel |
-
1984
- 1984-09-19 JP JP59196051A patent/JPS6173183A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6173183A (en) | 1986-04-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1124372A (en) | Liquid crystal display device | |
| JPS62205319A (en) | Ferroelectric liquid crystal element | |
| EP0385419A1 (en) | Liquid crystal display device | |
| KR100254937B1 (en) | Color electro-optics device | |
| JPH0568710B2 (en) | ||
| JPS5817421A (en) | Liquid crystal display element | |
| GB2100875A (en) | All solid state complementary electrochromic display devices | |
| JPS61143725A (en) | Colored liquid crystal panel | |
| JPS63226626A (en) | Color liquid crystal display element | |
| JPH0524493B2 (en) | ||
| JPS63180934A (en) | Liquid crystal display device and its manufacturing method | |
| JPS62160424A (en) | Ferroelectric liquid crystal element | |
| JPS63200101A (en) | Liquid crystal display device and its manufacturing method | |
| JPH0643779Y2 (en) | Liquid crystal display element | |
| JPH08179305A (en) | Liquid crystal display element | |
| JPS6370828A (en) | Matrix type liquid crystal display device and its production | |
| JPH07117663B2 (en) | Method for manufacturing multicolor liquid crystal display device | |
| JPS6088986A (en) | Color liquid crystal display device | |
| JPH0338573B2 (en) | ||
| JP2737758B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
| JPH0980414A (en) | Liquid crystal display | |
| JP2520604B2 (en) | Liquid crystal element and manufacturing method thereof | |
| JPH04166916A (en) | Liquid crystal display element | |
| JPH04277722A (en) | Color liquid crystal display panel | |
| JPH05224218A (en) | Liquid crystal device |