JPH0570679B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、粉体を高圧系の反応炉に安定に供給
する装置に係り、特に、粉体供給量を正確に制御
できる原料供給量制御装置に関する。

本発明中で反応炉には、ガス化炉、燃焼炉及び
ボイラ等が含まれる。

〔従来の技術〕

石油代替エネルギーの中で石炭は埋蔵量が一番
豊富であり、世界でも注目されている。

石炭は、固体で取り扱いが不便な上、灰分、硫
黄及び窒素等が含有しており、これを有効利用す
るために液化、ガス化等によるクリーンなエネル
ギー源に変換し、利用することが望まれる。

現在、石炭のクリーン燃焼化の有力な方法とし
て、石炭ガス化が注目されている。ガス化炉とし
ては高いガス化効率、運転性及び幅広い炭種に対
する適応性等が要求されている。これらを満足す
るために、微粉炭を気流中でガス化剤（酸素、水
蒸気）と反応させる噴流層ガス化方式が有望であ
る。

その噴流層ガス化炉を用いたガス化装置の概略
図、第３図（特願昭58−2185380号）に示す。本
装置は、石炭供給系、ガス化炉、集じん系及び脱
硫系から構成している。石炭供給系は、粉末固体
燃料（石炭、液化残差等）３を原料搬送ライン１
から常圧ホツパ２に搬送した後、加圧ホツパ４へ
充填し、その後外壁に重量測定用のロードセル８
を設置した供給ホツパ９へ供給する。粉末固定燃
料３は、フイーダ１０で定量排出し、混入器（以
下エジエクタと称す）１２内へ供給した後、搬送
ガス（窒素、不活性ガス等）２６を搬送用ガス調
節弁１１から供給し、原料輸送ライン１７内を流
通させ、ガス化炉２５へ供給する。途中、複数本
の原料バーナ２１へ均等分配できる分配器１８を
介して、分岐管１９ａ，ｂ，ｃ，ｄ内に流通して
原料バーナ２１に至り、ガス化炉反応領域部３８
内へ供給する。

ガス化剤供給系は酸素調節弁３４、水蒸気調節
弁３３を有し、それぞれの供給ライン３５，３６
から各原料バーナ２１を介して、ガス化炉反応領
域部３８内へ供給している。粉末固体燃料３とガ
ス化剤２０は、原料バーナ２１内部もしくは先端
部出口で接触する。

ガス化炉２５は耐火レンガ３７で内張りした構
造であり、ガス化炉反応領域部３８内で粉末固体
燃料３とガス化剤２０とを接触、反応させて、
CO、H₂に富んだガスを生成する。

ガス化炉２５内は高温のため粉末固体燃料３中
の灰分が溶融してスラグ等が生成するため、ガス
化炉下部にそれを回収するスラグ流通ライン４
０、スラグホツパ４１等を有している。ガス化炉
底部及びスラグホツパ４１内にはスラグ等を急
冷、固化させるための冷却水４２を充填してい
る。

ガス化炉２５から生成したガスは、ガス化炉出
口ライン４３を介して集じん装置４４（サイクロ
ン、バグフイルタ等）に供給され、未然カーボン
を含有したチヤー、ダスト等を除去した後、生成
ガスは脱硫装置４５を経て硫化水素を除去した
後、クリーンなガスとして生成ガス回収部へ供給
される。

これらのガス化装置には、前述したように必ず
原料を供給する装置が設置されており、高圧化で
反応を行なう燃焼炉及びガス化炉では、常圧から
高圧に向かつて粉末固体燃料３を安定に供給する
技術及び供給量の安定制御が必要不可欠である。

従来、低圧下から高圧下への粉体の供給方法に
は、前述したようにロツクホツパ方式を採用した
例が多い。

代表的な例を第４図（特開昭58−164692号公
報）に示す。図のように、常圧ホツパ２、中間加
圧ホツパ４、供給加圧ホツパ９と各部を連結する
粒子いつ流管４９、延びちじみ可能な収縮管１
４、フイーダ１０及びホツパ加圧用ガス導入系の
電磁弁２９，７及び重量測定用のロードセル８、
レベル検知器４６から成り、常圧ホツパ２、中間
加圧ホツパ４、供給加圧ホツパ９の順に接続され
ている。粉砕した粒子はまず、常圧ホツパ２に入
りホツパ２の下に設置したバルブ３２により、常
圧にしている中間加圧ホツパ４内に充填する。粒
子で充満された中間加圧ホツパ４は上、下に設置
したバルブ３２、バルブ３１を閉じ、電磁弁２９
から窒素または不活性ガスを導入して加圧する。
一方、供給加圧ホツパ９は通常、原料粒子３を処
理するガス化炉の圧力よりやや高圧下で常時運転
し、圧力差によりガス化炉に粒子を気流輸送して
いる。供給加圧ホツパ９のレベルが所定値以下に
なつたら中間加圧ホツパ４下の粉体排出バルブ３
１を開にし、供給加圧ホツパ９への輸送を開始す
る。常時、供給加圧ホツパ９内には粉体をためて
おく。中間加圧ホツパ４が空になつたら、ガス抜
き出し弁４７を開にし、４内の圧力を常圧にした
後、弁３２を開放して常圧ホツパ２から粒子を供
給する。これがロツクホツパ方式の乾式固体供給
方法である。

この技術において、原料供給量の負荷変化時及
び何等かの原因によるガス化炉圧力の変動時にお
いても、原料を安定に供給すること、原料供給量
を一定に制御することは至難であつた。また、安
定に原料をガス化炉側に供給できないと、ガス化
炉負荷変化をもたらし、ガス化炉安定運転に悪影
響を与える原因にもなる。

よつて、これらの課題を回避し、安定に供給で
き、かつ原料供給量制御を効果的にできれば、ガ
ス化炉安定運転かつ運転操作性の向上を図る上で
不可欠になる。

従来、これらを安定に搬送する手段として、下
記に上げる方法が代表的である。

(1) ロツクホツパ内の圧力をガス化炉内の圧力よ
りも高くして、ガス化炉内へ原料を供給し、原
料供給管内の圧力損失を測定し、この測定値に
従つて加圧用イナートガス量を制御する方法
（特開昭58−164692号公報）。

(2) ロツクホツパ内の圧力とガス化炉内の圧力の
差圧制御を行い、ロードセルの重量変化を元に
イナートガス流量を制御する方法（文献、燃料
協会誌、第68巻、第10号、高炉への微粉炭吹き
込み）。

(3) 加圧タンクにロードセルを設置し、この重量
変化から実供給量を求め、加圧タンク下部に設
けたフイーダへ排出量と回転数の関係から設定
された関数に基づいて与えられる回転数信号の
積算値と比較、補正する供給量制御とホツパの
圧力と供給量との関係から補正される供給量制
御の両方で行なう方法（特開昭61−231323号公
報）等がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

ロツクホツパ方式によるガス化炉へ安定に供給
する方法として、前記の(1)の方式では、原料供給
管の圧力損失レベルから原料供給量を検知し、そ
の値によつてロツクホツパ圧力をガス化炉圧力に
対して調節する方法であり、供給管の圧力損失レ
ベルは、原料が流通しているか否かの判断には最
適である。

しかし、何等かの原因でガス化炉内において圧
力変動が発生したり、原料が変わつたり、原料の
粒径及び比重が変化した場合には、供給管内の圧
力損失レベルが変化するため正確な原料供給量の
把握が困難である。また、圧力制御によつて原料
供給量を変化させるが、この時ホツパ圧力を増減
させる操作をし供給量を調節するが、0.05atg変
化した場合でも多大に流量が変化するため、粗調
整には良いが微細な調節が困難である。

(2)の方式では、ホツパに設置したロードセルの
重量変化から原料供給量を把握し、この値を基に
ホツパと高炉との圧力差を自動制御する方法であ
り、上記同様の困難さがある。

また、炉側との圧力差制御では、原料投入時に
おいてはよいが、定常時で原料供給管内において
何等かの原因で分配器及びバーナ先端で閉塞した
場合、フイーダ出口の抵抗が増し、排出量が低下
する。その時の原料供給管内における判断手段が
配管差圧しかないため、もとの供給量に復帰させ
る対応が遅くなる欠点がある。

(3)の方式では、供給加圧ホツパの圧力検出端の
検出圧力を、原料の供給量の関数として定められ
た値に制御するようにしているが、炉（キルン及
びボイラ等）側の圧力が何等かの原因で変動した
場合には、それに対する手段がないため、タンク
側のみ圧力を一定制御しても、出口側抵抗が供給
量制御に大きく影響するため原料供給量が変動す
る。

したがつて、この方式では、出口側の圧力変動
に対処する機構を考慮していないため、その現象
に対する応答性及び供給量が安定に搬送できない
欠点がある。

そこで、本発明では、上記の従来技術の欠点を
解消し、粉体供給量を正確に制御し、反応炉に安
定に供給できる方法及び装置を提供し、あわせて
その制御システムを提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明では、一つ
の常圧ホツパと二つの加圧ホツパ、原料排出用の
フイーダ及び混入器より構成されるロツクホツパ
方式で、反応炉へ原料を供給する原料粉体供給方
法において、原料供給量の制御を、供給加圧ホツ
パの圧力で粗調整し、フイーダの回転数で微調整
して行なうことを特徴とする原料粉体の安定供給
方法としたものである。また、本発明では、一つ
の常圧ホツパと二つの加圧ホツパ、原料排出用の
フイーダ及び混入器より構成されるロツクホツパ
方式による反応炉への原料粉体供給装置におい
て、原料供給量を制御する手段として、供給加圧
ホツパの圧力調整手段と、フイーダの回転数調整
手段の両手段を有することを特徴とする原料粉体
の安定供給装置としたものである。

そして、前記の安定供給装置は、原料供給量演
算装置を有するデータ処理装置と、原料供給量を
操作するホツパ圧力調節弁及びフイーダ回転数を
制御する制御装置との原料供給量制御機構によつ
て、原料供給量を制御するものである。

すなわち、本発明では、原料供給装置に設置し
ているロードセルからの重量変化信号を元に供給
量を求め、この値と設定値とを比較して大幅にず
れている場合には粗調整として供給加圧ホツパの
圧力を、また微調整用としてフイーダの回転数を
変化させることにより、安定に輸送するとともに
供給量を正確に制御できる。

原料投入時には、供給加圧ホツパ圧力とガス化
炉側圧力との圧力差（圧力差）を元に、供給加
圧ホツパ圧力及びフイーダ回転数を設定して供給
し、定常になれば圧力差から供給加圧ホツパ圧
力とフイーダ出口圧力との圧力差（圧力差）を
一定に保持し以下の操作を行う。供給量を変化さ
せる時には、供給量制御装置に供給量の設定値を
入力し、その設定値に対して、先ず微調整用のフ
イーダの回転数を調節する信号が送信され回転数
が変化し、数回変化しても設定値に近ずかない場
合には、粗調整用の供給加圧ホツパの圧力を変化
させる信号をホツパ圧力調節弁に送信し、供給ホ
ツパ圧力を増減させる操作を行うことにより原料
供給量の制御が達成される。

〔作用〕

本発明では、一つの常圧ホツパと二つの中間及
び供給加圧ホツパから構成されるロツクホツパ方
式で、供給加圧ホツパの外壁に粉体の重量測定用
のロードセル、圧力調節弁、原料排出用のフイー
ダ及び混入器（エジエクタ等）を有し、反応炉へ
安定に原料を供給する原料粉体供給装置におい
て、原料供給量の把握は供給加圧ホツパに設置し
たロードセルによつて行い、その重量変化を元に
原料供給量制御機構を有した制御装置に送信し、
それぞれの操作因子に信号を与えて制御するもの
である。

供給加圧ホツパ圧力と、フイーダ出口圧力（原
料供給ライン差圧＋反応炉圧力）との圧力差（以
下、圧力差と称す）及び供給加圧ホツパ圧力と
ガス化炉圧力との圧力差（以下、圧力差と称
す）の両方の圧力差を一定に保持する圧力差調節
計５，１６及びそれを切替える圧力差切替装置５
０を有する。

先ず原料投入時には圧力差を元に定められた
ホツパ圧力に設定するとともにフイーダの回転数
は、最低回転数に設定した後、原料を供給する。
原料を供給すると原料供給ライン内の抵抗が増
し、フイーダ出口の圧力が増大してくる。そのた
め、供給加圧ホツパ９圧力よりもフイーダ出口圧
力の方が高くなり、原料の排出が困難になること
が考えられるので、圧力制御の操作部を切替装置
５０を用いて圧力差から圧力差に切り替え、
圧力差を炉側圧力が変動しても一定に保持する
ようにホツパ圧力調節弁６を作動させ、炉側圧力
及びフイーダ出口圧力の変動に対応してホツパ圧
力を変化させることにより安定に輸送させるとと
もに供給量を一定に制御する。

供給量を変化させる時には、供給量制御装置に
供給量の設定値を入力した後、その設定値に対し
て、先ず供給加圧ホツパの圧力を一定にして、微
調整用のフイーダの回転数を変化させる信号が送
信され回転数が0.5回転変化し、その変化に対す
る供給量はロードセルからの重量信号を元に把握
し、数回0.5回転づつ変化しても設定値に近づか
ない場合には、次に粗調整用の供給加圧ホツパ圧
力を変化させる信号を供給加圧ホツパ圧力調節弁
に送信し、供給加圧ホツパ圧力を0.05atgづつ変
化させる操作を行なう。

したがつて、設定値よりもずれている場合に
は、先ず微調整用のフイーダの回転数制御を実施
し、それでも設定値に近ずかない場合には、粗調
整用の供給加圧ホツパ圧力の制御を実施するもの
である。また、設定供給量を低下させる時も同様
に、微調整用のフイーダの回転数を先に操作する
ことにより行い、近ずかない場合には供給加圧ホ
ツパ圧力を操作する。したがつて、設定値からず
れている場合には、かならずフイーダの回転数制
御を先に行なうことにより、微細な制御が可能と
なる。

よつて、炉側の圧力変動時でも安定に原料を輸
送できると同時に原料供給量の制御が容易かつ正
確に行なえるようにしたものである。

〔実施例〕

以下、本発明を図面により具体的に説明する
が、本発明にこれに限定されない。

実施例 １ この実施例は、一つの常圧ホツパ、中間加圧ホ
ツパ及び供給加圧ホツパの二つより構成されるロ
ツクホツパ方式の粉体供給装置を用いて、燃焼炉
側の圧力変動や原料供給量の変化時において、粉
体を安定に輸送するとともに、原料の供給量を正
確に制御するために適用したものである。

本発明の詳細を第１図に従つて説明する。

粉枠、分級された粉末固体燃料３を、常圧ホツ
パ３に充填する。中間加圧ホツパ４が空になる
と、押圧ホツパ２内の原料３をバルブ３２を開に
し、ホツパ４内に供給、充填する。その後、バル
ブ３２を閉にした後、電磁弁２９を開き加圧用の
ガスを供給し、供給加圧ホツパ９の圧力以上に加
圧する。供給加圧ホツパ９は、上部粉末固体燃料
３を充填するためのいつ流管４９、圧力調節用バ
ルブ６、加圧用ガス電磁弁、重量測定用のロード
セル８、粉体排出フイーダ１０等を持つている。
また、フイーダ１０の下部には、窒素又は不活性
ガス等２６が、調節された流量調節弁１１を通し
て粉末固体燃料３を搬送するために吹込まれる粉
体供給室（混合器またはエジエクタ）１２が設け
られている。その粉体供給室１２には、原料３を
供給加圧ホツパ圧力９出口から、炉側原料バーナ
２１入口間へ供給するラインのフイーダ出口圧力
を検知する圧力検出器１３を持つている。

原料供給量制御系は、原料演算装置等を備えた
データ処理装置１５、原料供給量制御装置２８及
びエジエクタ圧力を供給ホツパ圧力の圧力差とガ
ス化炉圧力と供給ホツパ圧力とホツパ圧力の圧力
差を制御する圧力差調節計５，１６が構成された
原料供給量制御機構３０を有している。

従来、原料搬送管の差圧レベルだけで供給量を
把握した場合には、第５図に示したように原料の
性状が変化した時及び炉側圧力が変化した時等
は、供給管内抵抗及び配管差圧等が変化するた
め、差圧レベルが変化し正確な供給量の把握が困
難であつた。これを回避するため、供給加圧ホツ
パに原料自体の重量を測定するロードセルを設置
し、時間に対する重量変化から供給量を算出する
方法を採用することにより、正確な供給量が把握
できる。

また、炉側圧力が何等かの原因で変化した場合
には、第６図及び第７図に示したように供給量が
炉圧の変化とともに変動する。第７図のように炉
側圧力を故意に変化させた時の搬送ガス量と原料
供給量との関係を示したが、この図のように炉圧
が変化すると搬送ガス量一定では供給量が変化す
ることがわかり、所定の供給量を得るためには、
搬送ガス量を変化させる必要があり、搬送ガス量
調節では微細な供給量制御が困難であることが予
測されたため、供給加圧ホツパとガス化炉圧力を
調節する圧力差調節計５を設置し、両方の圧力差
を一定に維持させることによりその影響を回避し
たものである。

供給量を制御する因子には、二つある。それは
フイーダの回転数と供給加圧ホツパ圧力である。
この二つのどちらかが変化すると原料排出量が変
化する。第８図のように、回転数と原料排出量と
はだいたい比例関係があり、回転数が速くなるほ
ど多くなる。またホツパ圧力を図のように高くす
るほど排出量が増加することがわかる。

この第８図の関係を原料供給量制御装置に入力
しておき、第９図に示した操作を行なう。次に順
をおつて説明する。先ず、原料供給時では、ガス
化炉圧力が３Kg／cm²Ｇで、原料供給量を40Kg／ｈ
で供給開始したい場合には、原料供給量制御装置
２８に入力している第８図を元に、フイーダの回
転数は最低回転数に設定し、ホツパ圧力を炉側圧
力よりも１Kg／cm²Ｇ程高めに設定した後、フイー
ダを作動させ、原料をガス化炉内へ供給した。原
料供給と同時にエジエクタ圧力（フイーダ圧力）
EPが上昇し、配管差圧が一時的に増大し、ある
差圧レベルで安定した後、所定の回転数に設定す
ると、ある圧力で安定する。安定したところで、
原料供給量制御装置２８内の圧力検知を供給加圧
ホツパ圧力とガス化炉圧力の圧力差指示から供
給加圧ホツパ圧力とエジエクタ圧力の圧力差に
切り替え圧力差が一定に保持されるようにホツ
パ圧力を調節することにより供給量を安定に制御
する。

供給量の設定値に対してデータ処理装置１５に
より供給量が算出された第９図のように差がある
場合には、先ず、フイーダ回転数を変化させる信
号が制御装置２８から送信され、0.5回転づつ速
くなる作動を段階的に行なう。それに見合つてロ
ードセルからの重量変化信号を元に、１時間当た
りの重量をデータ処理装置１５で算出し、この値
を元にフイーダ回転数を調節する。回転数変化だ
けでは設定値に近付かない場合には、次にホツパ
圧力を0.05atgづつ増加させる信号をホツパ圧力
調節弁６に送信する。そうすると圧力調節弁６は
閉まり加圧用窒素電磁弁７が開になりガスが供給
され、0.5atg増加するまで加圧される（但し、こ
の圧力範囲内で所定値に達した場合には、その圧
力に維持する）。ホツパ圧力設定後、ロードセル
からの重量信号の変化から供給量設定値範囲±
2.5Kg／ｈ内に入れば、その条件を維持する信号
を供給量制御装置２８に与え、定常運転を実施す
る。逆に、供給量を低下するためには、供給加圧
ホツパ圧力を一定にし、フイーダ回転数を下げる
信号をフイーダに送信し、回転数を数回下げる操
作を行ない、それでも低下しない場合にはホツパ
圧力をさげる操作を実施する。

第２図は本発明と同等の効果を有する原料供給
量制御システムである。原料投入時及び定常時に
かかわらず圧力差を主体に運転を行なう方法で
あるが、供給量制御方法は第１図と同等である。

また、加圧ホツパ９と混入器１２との間に均圧
管５１、均圧バルブ５２を有している場合には、
圧力差は同圧となるが、制御方法は同等であ
る。

したがつて、必ずフイーダの回転数を先に起動
させることにより、供給量を調節する。

また、ガス化炉内へ原料を投入する時における
原料供給量の大小つまり供給加圧ホツパ圧力、フ
イーダ回転数の設定のやりかたによつて、搬送ラ
イン等で閉塞することがある。先ず最初から供給
量100Kg／ｈの設定値にして供給した時の状況を
第１０図に示す。供給ホツパ圧力と炉側の圧力差
を１Kg／cm²Ｇ、フイーダの回転数を15rpmに設定
し供給すると図のように、原料が多大に供給され
るため差圧が急激に上昇し、急激に降下するが供
給ライン途中に分配器を介している場合には、分
配器自体の処理量以上に供給されるため、その分
配出口数本が閉塞し、配管差圧が1100mmAqとな
つた。その後数分間は一定で搬送するが、それ以
後分配器出口分岐管の閉塞していない管が閉塞し
始め配管差圧が急激に上昇し、搬送不能となつ
た。

次に、第１１図には原料供給量の設定値が100
Kg／ｈに対して少量（約50Kg／ｈ）から段階的に
設定値に近づけた場合の状況を示す。供給ホツパ
圧力と炉側との圧力差１Kg／cm²Ｇ、フイーダ回転
数最低値に設定して供給した。この図のように少
量から供給すると第１０図と同様に急激に配管差
圧が上昇し、降下するが原料が少ないため分配器
出口孔への負担が小さくなり、供給された原料が
全部分配器から排出されるため配管差圧が200か
ら300mmAqと低いところで安定した。

したがつて、原料投入時にはかならずフイーダ
回転数を最低に設定し、段階的に増加していくこ
とが運転時原料投入時における安定供給に不可欠
である。

以上、噴流層燃焼反応装置に適用した例を示し
たが、本発明はガス化に限定されずボイラ、燃焼
炉等固体燃料を供給する他の設備に適用できるこ
とは言うまでもない。

〔発明の効果〕

本発明によれば、以上説明した構成によれば、
原料の排出量が変化するようなことはなく、原料
投入時には供給ホツパ圧力とガス化炉圧力の圧力
差を元に設定し、定常時にはフイーダ出口圧力
とホツパ圧力の圧力差（供給ホツパと混入器と
に均圧管を設置している場合では圧力差無し）を
一定に維持することによりロードセルからの重量
信号を元に、粗調節用として供給ホツパ圧力、微
調節用としてフイーダ回転数を変化させることに
より、ロツクホツパからガス化炉へ原料を安定に
供給することができると同時に原料供給量を正確
に把握することができ、その供給量制御を可能に
なると言う作用効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は、本発明の原料粉体供給装
置の全体構成図、第３図は、従来のガス化装置の
概略構成図、第４図は、従来のロツクホツパ方式
の粉体供給装置の構成図、第５図は、ホツパ圧力
と炉側圧力の圧力差制御による原料供給時におけ
る配管差圧、原料供給量等の経時変化を示すグラ
フ、第６図は、第５図の圧力差制御無しでの各因
子の経時変化を示すグラフ、第７図は、原料供給
量に及ぼす炉圧力の影響を示すグラフ、第８図
は、原料排出量に及ぼすホツパ圧力の影響を示す
グラフ、第９図は、第１図を適用した時の作動状
況を示すグラフ、第１０図及び第１１図は、原料
投入時における配管差圧の経時変化を示すグラフ
である。 １……原料搬送ライン、２……常圧ホツパ、３
……粉末固体燃料（石炭、液化残差等）、４……
中間加圧ホツパ、５……圧力差調節弁、６……圧
力調節用バルブ、７……加圧用ガス電磁弁、８…
…ロードセル、９……供給加圧ホツパ（又は供給
ホツパ）、１０……粉体排出フイーダ、１１……
搬送用ガス調節弁、１２……粉体供給室（又は混
合室、エジエクタ）、１３……圧力検出器、１４
……収縮管、１５……データ処理装置、１６……
圧力差調節計、１７……原料供給ライン、１８…
…分配器、１９……ａ，ｂ，ｃ，ｄ分岐管１，
２，３，４、２０……ガス化剤（酸素、水蒸気）
ライン、２１……原料バーナ、２２……ガス調節
弁、２３……ガス化炉圧力検出器、２４……圧力
検出信号、２５……ガス化炉、２６……搬送用ガ
ス（不活性ガス又は窒素）、２７……圧力制御用
信号、２８……原料供給量制御装置、２９……中
間加圧ホツパ加圧用ガス電磁弁、３０……原料供
給量制御機構、３１……バルブ２、３２……バル
ブ１、３３……水蒸気流量調節弁、３４……酸素
流量調節弁、３５……酸素供給ライン、３６……
水蒸気供給ライン、３７……耐火レンガ、３８…
…ガス化炉反応領域、３９……スラグタツプ孔、
４０……スラグ流量ライン、４１……スラグホツ
パ、４２……冷却水、４３……ガス化炉出口ライ
ン、４４……集じん装置、４５……脱硫装置、４
６……レベル計、４７……ホツパ内ガス抜き出し
弁、４８……ガス抜き出しライン、４９……いつ
流管、５０……圧力差切替装置、５１……均圧
管、５２……均圧バルブ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一つの常圧ホツパと二つの加圧ホツパ、原料
   排出用のフイーダ及び混入器より構成されるロツ
   クホツパ方式で、反応炉へ原料を供給する原料粉
   体供給方法において、原料供給量の制御を、供給
   加圧ホツパの圧力で粗調整し、フイーダの回転数
   で微調整して行なうことを特徴とする原料粉体の
   安定供給方法。 ２ 前記反応炉は、ガス化炉、燃焼炉又はボイラ
   である請求項１記載の原料粉体の安定供給方法。 ３ 一つの常圧ホツパと二つの加圧ホツパ、原料
   排出用のフイーダ及び混入器より構成されるロツ
   クホツパ方式による反応炉への原料粉体供給装置
   において、原料供給量を制御する手段として、供
   給加圧ホツパの圧力調整手段と、フイーダの回転
   数調整手段の両手段を有することを特徴とする原
   料粉体の安定供給装置。 ４ 請求項３記載において、フイーダの回転数調
   整手段が、フイーダの回転数を変化させる変換器
   であることを特徴とする原料粉体の安定供給装
   置。 ５ 請求項３記載において、フイーダの出口部に
   圧力を検知する圧力検出器を有することを特徴と
   する原料粉体の安定供給装置。 ６ 請求項３記載において、原料供給量を制御す
   る手段として、原料供給量演算装置を有するデー
   タ処理装置と、原料供給量を操作する圧力調節弁
   及びフイーダ回転数を制御する制御装置との原料
   供給量制御機構を有することを特徴とする原料供
   給量制御システム。 ７ 請求項６記載において、データ処理装置によ
   り時間当たりの原料供給量を求め、この値を元に
   供給加圧ホツパの圧力及びフイーダの回転数を変
   化させることを特徴とする原料供給量制御システ
   ム。 ８ 請求項６記載において、原料供給量制御装置
   に、フイーダ回転数と原料排出量及び供給加圧ホ
   ツパの圧力と原料排出量の相関関係を入力してい
   ることを特徴とする原料供給量制御システム。 ９ 請求項６記載において、原料供給時には、原
   料供給量設定値に対応した、ホツパ圧力及びフイ
   ーダ回転数を設定することを特徴とする原料供給
   量制御システム。 １０ 請求項９記載において、フイーダ回転数は
   最低回転数から作動させることを特徴とする原料
   供給量制御システム。 １１ 請求項９記載において、ホツパ圧力は、反
   応炉との圧力差を元に設定することを特徴とする
   原料供給量制御システム。 １２ 請求項６記載において、定常運転時には、
   ホツパの圧力とフイーダ出口の圧力の圧力差を一
   定に保持するように制御することを特徴とする原
   料供給量制御システム。 １３ 請求項６記載において、ホツパ圧力とフイ
   ーダ出口圧力、及びホツパ圧力と反応炉側の圧力
   の圧力差調節弁を切替る切替装置を有することを
   特徴とする原料供給量制御システム。 １４ 請求項６記載において、原料供給量制御装
   置が、供給加圧ホツパ圧力を調節する調整弁及び
   フイーダの回転数を調節する変換器を作動させる
   手段を有することを特徴とする原料供給量制御シ
   ステム。 １５ 請求項３記載の原料粉体の安定供給装置
   と、反応炉及び精製系からなることを特徴とする
   固体燃料処理装置。