JPH0571309B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0571309B2 JPH0571309B2 JP60194657A JP19465785A JPH0571309B2 JP H0571309 B2 JPH0571309 B2 JP H0571309B2 JP 60194657 A JP60194657 A JP 60194657A JP 19465785 A JP19465785 A JP 19465785A JP H0571309 B2 JPH0571309 B2 JP H0571309B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- organic solvent
- lip
- compounds
- casting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は粘性液体の塗布装置に関し、特に低沸
点有機溶媒溶液の塗布装置に関する。
点有機溶媒溶液の塗布装置に関する。
粘性液体の塗布液をウエブ等の支持体面に延展
する塗布方法には各種の方法があり、更に重層同
時塗布可能な塗布液を分配スリツトから押出す方
式の塗布装置も各種知られている。
する塗布方法には各種の方法があり、更に重層同
時塗布可能な塗布液を分配スリツトから押出す方
式の塗布装置も各種知られている。
例えばコータダイスのリツプに開口する複数も
しくは単数のスリツトから支持体ウエブに塗布液
を直接差渡すエクストルーダ、複数もしくは単数
のスリツトから夫々の塗布液を押出し下降斜面と
なつたスライド面を積層させながらもしくは単層
で流延させ、スライド面のリツプ部から支持体ウ
エブに差渡すスライドホツパー、更に前記２つの
方式を組合せてなる塗布装置或は前記スライドホ
ツパーでスライド面が下降斜面でなく水平である
特殊なスライドホツパー（特開昭58−180262号）
等々、塗布及び塗布液の要件に合せて各種の形態
の塗布装置が挙げられる。
しくは単数のスリツトから支持体ウエブに塗布液
を直接差渡すエクストルーダ、複数もしくは単数
のスリツトから夫々の塗布液を押出し下降斜面と
なつたスライド面を積層させながらもしくは単層
で流延させ、スライド面のリツプ部から支持体ウ
エブに差渡すスライドホツパー、更に前記２つの
方式を組合せてなる塗布装置或は前記スライドホ
ツパーでスライド面が下降斜面でなく水平である
特殊なスライドホツパー（特開昭58−180262号）
等々、塗布及び塗布液の要件に合せて各種の形態
の塗布装置が挙げられる。
しかしこれらの塗布装置には夫々に欠点を有し
ている。例えば前記エクストルーダはコータダイ
スのリツプと支持体ウエブの間隙は未乾燥膜厚の
２倍以下に制御する必要があり、従つて薄膜塗布
の場合間隙の機械的精度が厳密に要求され、塗布
条件の制御も難しくまた装置のコストも高くな
る。
ている。例えば前記エクストルーダはコータダイ
スのリツプと支持体ウエブの間隙は未乾燥膜厚の
２倍以下に制御する必要があり、従つて薄膜塗布
の場合間隙の機械的精度が厳密に要求され、塗布
条件の制御も難しくまた装置のコストも高くな
る。
またスライドホツパーでは低沸点（例えば40〜
95℃）の有機溶媒、溶液を塗布する場合等では溶
媒の蒸発等による流延液体の流れに乱れが生じ易
く、縦すじ或は斑状の膜厚むらが生じ易い。
95℃）の有機溶媒、溶液を塗布する場合等では溶
媒の蒸発等による流延液体の流れに乱れが生じ易
く、縦すじ或は斑状の膜厚むらが生じ易い。
更に前記した２つの方式を組合せたタイプ及び
特殊スライドホツパーに於てもエクストルーダ、
スライドホツパーの欠点を組合せて或はそのまゝ
に発現する。
特殊スライドホツパーに於てもエクストルーダ、
スライドホツパーの欠点を組合せて或はそのまゝ
に発現する。
本発明の目的は、塗布品位が高く、有機溶媒溶
液の塗布に於ても塗布むらがなく均一膜厚の塗膜
を与え、且つ操作簡便で低コストの塗布装置を提
供することにある。
液の塗布に於ても塗布むらがなく均一膜厚の塗膜
を与え、且つ操作簡便で低コストの塗布装置を提
供することにある。
前記本発明の目的は、塗布液の流延面リツプか
ら走行するウエブの表面に塗布液膜を移して塗布
を行う塗布装置において、主成分を低沸点有機溶
媒に溶解してなる塗布液を前記塗布装置の流延面
に押出すスリツトから前記流延面リツプまでの流
延面の長さが0.5〜10mmであることを特徴とする
低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置によつて達成さ
れる。
ら走行するウエブの表面に塗布液膜を移して塗布
を行う塗布装置において、主成分を低沸点有機溶
媒に溶解してなる塗布液を前記塗布装置の流延面
に押出すスリツトから前記流延面リツプまでの流
延面の長さが0.5〜10mmであることを特徴とする
低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置によつて達成さ
れる。
本発明を構成するに当つて、エクストルーダ
は、スライドホツパー方式或は前記複合或は変形
スライドホツパー方式に比べ、こと塗布むらに関
する限り他方式と同一の有機溶媒溶液を用いて塗
布しても縦むら、斑むら状の膜厚むらは少いか或
は全くないかであつて良好な塗布品位を与えるが
そのスライドホツパー等のスリツトからリツプま
での長さが長い方式に於ては、確実に膜厚むらを
発生する。
は、スライドホツパー方式或は前記複合或は変形
スライドホツパー方式に比べ、こと塗布むらに関
する限り他方式と同一の有機溶媒溶液を用いて塗
布しても縦むら、斑むら状の膜厚むらは少いか或
は全くないかであつて良好な塗布品位を与えるが
そのスライドホツパー等のスリツトからリツプま
での長さが長い方式に於ては、確実に膜厚むらを
発生する。
この原因は、スライドホツパー方式に於て塗布
液が分配スリツトから押出され、スライド面を流
延する間に有機溶媒の蒸発によるスリツトからリ
ツプまでの間で生じる表面張力の不均一性による
液の流動、流延塗布液の厚み方向の粘度等の物性
の層状変化等にあることが確認され、塗布液の流
延距離を充分短かくすること即ちスリツトからリ
ツプまでの距離を短かくすることによつて確実に
膜厚むらの発生を防止しうることが明らかになつ
た。
液が分配スリツトから押出され、スライド面を流
延する間に有機溶媒の蒸発によるスリツトからリ
ツプまでの間で生じる表面張力の不均一性による
液の流動、流延塗布液の厚み方向の粘度等の物性
の層状変化等にあることが確認され、塗布液の流
延距離を充分短かくすること即ちスリツトからリ
ツプまでの距離を短かくすることによつて確実に
膜厚むらの発生を防止しうることが明らかになつ
た。
従つて前記要因に基き本発明に於ては、分配ス
リツトからリツプまでの流延距離の最適条件は、
用いる有機溶媒の種類（沸点の高低）、雰囲気温
度、換気条件、塗布液の粘度、塗布速度と未乾燥
膜厚等を勘案し実験的に求められるものである。
リツトからリツプまでの流延距離の最適条件は、
用いる有機溶媒の種類（沸点の高低）、雰囲気温
度、換気条件、塗布液の粘度、塗布速度と未乾燥
膜厚等を勘案し実験的に求められるものである。
例えば他の要件の変動を補償し且つ実用的範囲
として95℃程度の沸点を有する有機溶媒溶液の場
合に流延距離は0.1〜10mm、更に好しくは0.5〜７
mmの範囲に収る。10mmより長ければ塗布むらの発
生があり、0.1mmより短かければ定常流延に達し
がたくまたダイスのコスト高を招く。
として95℃程度の沸点を有する有機溶媒溶液の場
合に流延距離は0.1〜10mm、更に好しくは0.5〜７
mmの範囲に収る。10mmより長ければ塗布むらの発
生があり、0.1mmより短かければ定常流延に達し
がたくまたダイスのコスト高を招く。
第１図に本発明の塗布装置の例を示した。１は
分配スリツト１２を有するダイス、１１は流延
面、１３はリツプである。また２は支持体ウエ
ブ、３はバツクローラである。lfは塗布液がスリ
ツトから出てリツプまで至る流延距離である。
分配スリツト１２を有するダイス、１１は流延
面、１３はリツプである。また２は支持体ウエ
ブ、３はバツクローラである。lfは塗布液がスリ
ツトから出てリツプまで至る流延距離である。
第２図は集合分配スリツト１２，１２′或は１
２″を有する例を示した。第１図と同符号の物件
は同義である。
２″を有する例を示した。第１図と同符号の物件
は同義である。
本発明に関る支持体としては、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフイン類、セルローストリアセテート、セ
ルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、
ポリアミド、ポリカーボネートなどのプラスチツ
クが挙げられるが、Cu、Al、Zn、ステンレスス
チール等の金属薄板等も使用することができる。
レフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ート等のポリエステル類、ポリプロピレン等のポ
リオレフイン類、セルローストリアセテート、セ
ルロースダイアセテート等のセルロース誘導体、
ポリアミド、ポリカーボネートなどのプラスチツ
クが挙げられるが、Cu、Al、Zn、ステンレスス
チール等の金属薄板等も使用することができる。
本発明によつて塗布される有機溶媒溶液の塗布
液の代表として電子写真に用いる感光層塗布液を
例に挙げて説明する。勿論本発明による塗布が上
記に限られるものではない。また本発明によつて
支持体ウエブに塗布される電子写真感光層の組
成、層構成等は特に限定されるものではなく、各
種の光導電体とバインダ物質との分散液、溶液或
いは光導電層のウエブに対する付着を強化する下
引液等各種の塗布液を任意に塗布することがで
き、その例としては有機光導電体感光層を形成す
るための、下引液、電荷発生層塗布液、電荷輸送
層塗布液等が挙げられる。
液の代表として電子写真に用いる感光層塗布液を
例に挙げて説明する。勿論本発明による塗布が上
記に限られるものではない。また本発明によつて
支持体ウエブに塗布される電子写真感光層の組
成、層構成等は特に限定されるものではなく、各
種の光導電体とバインダ物質との分散液、溶液或
いは光導電層のウエブに対する付着を強化する下
引液等各種の塗布液を任意に塗布することがで
き、その例としては有機光導電体感光層を形成す
るための、下引液、電荷発生層塗布液、電荷輸送
層塗布液等が挙げられる。
有機光導電体感光層を形成する場合の塗布液成
分としては、溶媒としてはｎ−ブチルアミン、ジ
エチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノ
ールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレ
ンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢
酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセ
テート等が挙げられる。また、溶媒に溶解せしめ
る塗膜材料としてはアゾ化合物、キノン化合物、
フタロシアニン化合物、トリアゾール化合物、オ
キサジアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピ
ラゾリン化合物、トリアリールアルカン化合物、
フエニレンジアミン化合物、ヒドラゾン化合物、
アミノ置換カルコン化合物、トリアリールアミン
化合物、カルバゾール化合物、スチルベン化合物
等の素材及び、バインダーとしてポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹
脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
スチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニルブ
チラール、スチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体等、更にその他の各種添加剤が挙
げられる。
分としては、溶媒としてはｎ−ブチルアミン、ジ
エチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノ
ールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレ
ンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン、ジクロロメタン、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、
エタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢
酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセ
テート等が挙げられる。また、溶媒に溶解せしめ
る塗膜材料としてはアゾ化合物、キノン化合物、
フタロシアニン化合物、トリアゾール化合物、オ
キサジアゾール化合物、イミダゾール化合物、ピ
ラゾリン化合物、トリアリールアルカン化合物、
フエニレンジアミン化合物、ヒドラゾン化合物、
アミノ置換カルコン化合物、トリアリールアミン
化合物、カルバゾール化合物、スチルベン化合物
等の素材及び、バインダーとしてポリカーボネー
ト、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹
脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ
スチレン、ポリビニルアセテート、ポリビニルブ
チラール、スチレン共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体等、更にその他の各種添加剤が挙
げられる。
塗布液として下記処方による電子写真感光体用
電荷輸送層塗布液を調整した。
電荷輸送層塗布液を調整した。
ポリカーボネート 50ｇ
１，１−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ
−２−メチルフエニル）ノルマンブタン 50ｇ １，２−ジクロロエタン １ 支持体ウエブとして下引電荷発生層塗布済みの
ポリエチレンテレフタレートウエブを準備し流延
距離（lf）５mmの本発明の塗布装置を用い塗布速
度20ｍ／minで塗布を行つた。
−２−メチルフエニル）ノルマンブタン 50ｇ １，２−ジクロロエタン １ 支持体ウエブとして下引電荷発生層塗布済みの
ポリエチレンテレフタレートウエブを準備し流延
距離（lf）５mmの本発明の塗布装置を用い塗布速
度20ｍ／minで塗布を行つた。
得られた塗膜の厚みは支持体ウエブの巾手方向
に対し第３図曲線のような極めて均一な分布を
示した。
に対し第３図曲線のような極めて均一な分布を
示した。
又、対比のため流延距離（lf）を25mmとして他
は前記と全く同様にして塗布を行つた。
は前記と全く同様にして塗布を行つた。
得られた塗膜の厚みは塗布時における塗膜の流
延により第３図曲線のように支持体ウエブ巾手
方向に変動が大きく、1μ以上の差を生じて感光
体として実用に耐えないものであつた。
延により第３図曲線のように支持体ウエブ巾手
方向に変動が大きく、1μ以上の差を生じて感光
体として実用に耐えないものであつた。
本発明によつて、装置自体及び支持体ウエブの
熱膨脹或はバツクローラに張架されたウエブの遠
心力による躍り等の不測変動を寛容し、有機溶媒
溶液の薄膜塗布を可能とする且つ低コストの塗布
装置がえられる。
熱膨脹或はバツクローラに張架されたウエブの遠
心力による躍り等の不測変動を寛容し、有機溶媒
溶液の薄膜塗布を可能とする且つ低コストの塗布
装置がえられる。
第１図及び第２図は本発明の断面図を示す。第
３図は本発明及び比較のウエブ巾手方向膜厚変動
を示すグラフである。 １……ダイス、１１……流延面、１２……分配
スリツト、１３……リツプ、２……支持体ウエ
ブ、３……バツクロール。
３図は本発明及び比較のウエブ巾手方向膜厚変動
を示すグラフである。 １……ダイス、１１……流延面、１２……分配
スリツト、１３……リツプ、２……支持体ウエ
ブ、３……バツクロール。
Claims (1)
- １ 塗布液の流延面リツプから走行するウエブの
表面に塗布液膜を移して塗布を行う塗布装置にお
いて、主成分を低沸点有機溶媒に溶解してなる塗
布液を前記塗布装置の流延面に押出すスリツトか
ら前記流延面リツプまでの流延面の長さが0.5〜
10mmであることを特徴とする低沸点有機溶媒塗布
液の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19465785A JPS6253768A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19465785A JPS6253768A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6253768A JPS6253768A (ja) | 1987-03-09 |
| JPH0571309B2 true JPH0571309B2 (ja) | 1993-10-06 |
Family
ID=16328150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19465785A Granted JPS6253768A (ja) | 1985-09-02 | 1985-09-02 | 低沸点有機溶媒塗布液の塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6253768A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0690341A1 (en) | 1994-06-08 | 1996-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Material of construction of a coating apparatus and use of said apparatus |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5139981A (ja) * | 1974-09-30 | 1976-04-03 | Nippon Denki Sylvania Kk | Hodentotentosochi |
| JPS5575758A (en) * | 1978-12-06 | 1980-06-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating method and apparatus therefor |
| JPS56133067A (en) * | 1980-03-24 | 1981-10-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating apparatus |
| JPS58189061A (ja) * | 1982-04-30 | 1983-11-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | エンドレスに形成された連続面を有する基材表面の塗布装置 |
-
1985
- 1985-09-02 JP JP19465785A patent/JPS6253768A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0690341A1 (en) | 1994-06-08 | 1996-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Material of construction of a coating apparatus and use of said apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6253768A (ja) | 1987-03-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |