JPH0571669B2 - - Google Patents

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JPH0571669B2
JPH0571669B2 JP60505333A JP50533385A JPH0571669B2 JP H0571669 B2 JPH0571669 B2 JP H0571669B2 JP 60505333 A JP60505333 A JP 60505333A JP 50533385 A JP50533385 A JP 50533385A JP H0571669 B2 JPH0571669 B2 JP H0571669B2
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cobalt
cathode
solution
anode
compartment
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JP60505333A
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Geiru Eru Haburetsudo
Maikuru Doyuburobusukii
Arubaato Etsuchi Sukuroodaa
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Chevron USA Inc
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Chevron Research and Technology Co
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Publication date
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Publication of JPH0571669B2 publication Critical patent/JPH0571669B2/ja
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25B1/00Electrolytic production of inorganic compounds or non-metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B23/00Obtaining nickel or cobalt
    • C22B23/04Obtaining nickel or cobalt by wet processes
    • C22B23/0407Leaching processes
    • C22B23/0446Leaching processes with an ammoniacal liquor or with a hydroxide of an alkali or alkaline-earth metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B23/00Obtaining nickel or cobalt
    • C22B23/04Obtaining nickel or cobalt by wet processes
    • C22B23/0453Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B23/0461Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by chemical methods
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    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B3/00Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
    • C22B3/20Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
    • C22B3/42Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by ion-exchange extraction
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description

請求の範囲 1 陽極区画室と、陰極区画室と、陽極と接触し
かつ該陽極区画室と該陰極区画室との間に位置す
る透過性隔膜とから成り、しかも該陰極区画室に
は30〜60%の範囲の気孔率のある孔性電極を内蔵
する電解槽中で、アンモニア性水溶液中のCo+3
をCo+2に還元する電解方法において、該電解槽
の該陰極区画室にアンモニア性第二コバルト
()水溶液を導入し、該陽極区画室に水性電解
液を供給し、直流電流を陽極と陰極とに流して該
陰極区画室で第一コバルト()イオンを生成さ
せ、同時に、陽極と多孔性陰極との間に透過性隔
膜を維持することによつて、第一コバルト陽イオ
ンが該陰極区画室と該陽極区画室との間で移動す
るのを実質的に阻止し、生成したガスを該陽極区
画室から取り出し、次いで第一コバルトイオンを
含有する電解液を該陰極区画室から取り出すこと
から成る上記電解方法。 2 前記電解工程を20〜50℃の範囲の温度で行
う、請求の範囲第1項記載の電解方法。 3 前記陰極がステンレス鋼の網である、請求の
範囲第1項記載の電解方法。 4 前記陽極区画室の電解液が硫酸ナトリウム水
溶液である、請求の範囲第1項記載の電解方法。 5 前記陽極区画室の電解液がアンモニア性水溶
液である、請求の範囲第1項記載の電解方法。 6 前記陰極区画室の電解液がアンモニア−硫酸
アンモニウム水溶液、又はアンモニア−炭酸アン
モニウム水溶液である、請求の範囲第1項記載の
電解方法。 7 前記水性電解液はPHが8.5〜10である、請求
の範囲第1項記載の電解方法。 8 前記陰極区画室の水性電解液の電位をSHE
基準で−50〜−100mVの範囲まで下げる、請求
の範囲第1項記載の電解方法。 9 コバルト金属を前記多孔性電極上に全く析出
させない、請求の範囲第1項記載の電解方法。 10 前記陰極上に析出したと思われるコバルト
を残らず溶解するのに十分な時間の間、該陰極を
アンモニア性第二コバルト()水溶液で処理す
る、請求の範囲第1項記載の電解方法。 11 前記陰極を前記透過性隔膜と接触させる、
請求の範囲第1項記載の電解方法。 12 前記アンモニア性第二コバルト()水溶
液を、活性炭上に通過させ、次いで前記電解槽の
前記陰極区画室に導入する、請求の範囲第1項記
載の電解方法。 技術分野 本発明はアンモニア性水溶液中でCo+3を還元
してCo+2にする電解方法に関するものである。
更に詳細には、本発明は多孔性陰極の存在での
Co+3のCo+2への還元に関するものである。 本発明の背景 酸化物鉱石から、並びに湿式処理の廃触媒か
ら、コバルトを回収するために、アンモニア性ア
ンモニウム塩溶液を使用することは公知である。
このタイプの技術の典型的な例は、酸化物鉱石か
らの選択的還元、酸化アンモニア浸出方法を開示
している米国特許第3929468号明細書、並びに湿
式処理の廃触媒のアンモニア及びアンモニア塩水
溶液による酸化ばい焼及び浸出を開示している米
国特許の第3567433号明細書、第4442074号明細
書、及び第4432949号明細書である。コバルトは、
これを酸化物鉱石または廃触媒から抽出した後に
は、+3の酸化状態になつている。 先行技術では、(1)米国特許の第3276863号明細
書及び第3929468号明細書に記載してあるような
x−ヒドロキシオキシム、並びに米国特許第
4258016号明細書に記載してあるようなβ−ジケ
トンを使用して、アンモニア性浸出溶液から第二
コバルトイオンを抽出することも公知である。 その上、三価のコバルトをコバルト金属と接触
させることによる第二コバルトイオンの第一コバ
ルトイオンへの転化は、デー・エヌ・ネルソン
(D.N.Nelson)、アール・イー・シーメンス(R.
E.Siemens)、及びエス・シー・ローズ(S.C.
Roads)、「ラテライト−アンモニア性浸出液から
のコバルトの溶剤抽出(Solvent Extraction of
Cobalt from Laterite−Ammoniacal Leach
Liquors)」、米国鉱山局(U.S.Bureau of
Mines)、RI8419によつて示されるように、一般
に公知である。 コバルトを抽出するためのアンモニア性浸出操
作の大部分は酸化条件下で行うので、コバルトは
第一コバルト()アミン形態よりはむしろ第二
コバルト()アミン形態になつている。結果と
して、ヒドロキシ−オキシム及びβ−ジケトンの
ような抽出剤でコバルトを取り出すための溶剤抽
出操作では、第二コバルト()アミン種を還元
する還元段階が必要である。経済的評科では、
Co+3を還元してCo+2にするためにコバルト金属
を使用するのは、この方法に関連するコバルトの
棚卸しが多いために、コストの点でとても実施で
きない、従つて第二コバルト()アミンを還元
する別の方法を見つけ出さなければならない。 米国特許第3929468号明細書では、コバルトを
電解的に、それの三価の状態からそれの二価の状
態に還元することができることを示しているが、
このような方法の実施については、他の詳細を全
く示していない。 本発明では、この還元段階を行うために、実施
例であり、かつ経済的に都合のよい方法である、
電気化学的方法を提供する。 本発明の要約 本発明によつて、電解槽で、アンモニア性水溶
液中のCo+3をCo+2に還元する電解方法を見い出
したが、電解槽は陽極区画室、陰極区画室、及び
陽極と接触していて、しかも陽極区画室と陰極区
画室との間の位置にある透過性膜から成り、かつ
該陰極区画室には約30%から60%までの範囲内の
気孔率のある多孔性電極を内蔵し、方法はアンモ
ニア性第二コバルト()水溶液を電解槽の陰極
区画室に導入し、陽極区画室に水性電解液を供給
し、直流を陽極と陰極とに通して、陰極区画室で
第一コバルト()イオンを生成させ、同時に陽
極と多孔性陰極との間に透過性障壁を維持するこ
とによつて、第一コバルト()陽イオンが陰極
区画室と陽極区画室との間で移動するのを実質的
に阻止し、生成したガスを陽極区画室から取り出
し、かつ第一コバルト()イオンを含有する電
解液を陰極区画室から取り出すことから成る。ア
ンモニア性水溶液は電解槽を通して流す前に、溶
液は活性炭上を通過させて、電気還元工程を妨害
する虞のある有機汚染物質をアンモニア性水溶液
から除去する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法で使用する電解槽の模式
説明図である。 第2図では電気還元過程中の溶液電位の変化を
示す。 第3図では電気還元をした溶液に適用する
LIX51抽出剤を使用する溶剤抽出段階で得た、相
当するコバルト抽出数値を示す。
【発明の詳細な説明】
本発明では、少量のCo+3、例えば1当たり
で0.1gから10gまで、を含有するアンモニア性
水溶液中で、Co+3をCo+2に還元する電解方法を
提供する。 本発明の方法では、アンモニア性アンモニウム
塩水溶液を多孔性陰極のある電解槽に流通させれ
ば、多孔性陰極でCo+3のCo+2への還元が起こる。 アンモニア性水溶液を電解槽を通して流す前
に、溶液を活性炭上を流通させて、電気還元工程
を妨害する虞のある有機汚染物質をアンモニア性
水溶液から除去する。 本発明の実施に使用することのできる槽1は、
第1図に示してあり、かつ槽容器、すなわち本体
2、多孔性陰極3、陽極4、及び電解槽1の陽国
区画室と陰極区画室とを分離する透過性隔膜5か
ら成つている。陽極は透過性隔膜と接触してい
る。陰極は透過性隔膜と接触していても、してい
なくてもよいが、しかし陰極を隔膜と接触させる
のが好ましい。槽本体2には、溶液を入れるた
め、または取り出すための開口6及び7がある。
電解槽の陰極区画室には、下記で更に記載する第
二コバルト()陽イオン溶液を初めから含有し
ている陰極液溶液を入れてある。電解槽の陽極区
画室には下記で更に記載する陽極液を入れてあ
る。陽極4及び陰極3は直流電源の適切な供給源
に、それらの端子で接続する。陽極液及び陰極液
を所望の操作温度に維持するために、加熱又は冷
却の装置を設備することもできる。 本発明の方法では、第二コバルト()アミン
を含有する陰極液溶液を多孔性陰極槽を通過(従
つて多孔性陰極を通過)させ、同時に陰極を、第
二コバルト()アミンを第一コバルト()ア
ミンに還元するのに十分な電位の下におくことを
包含する。アンモニア性溶液からの第二コバルト
アミンの電気還元は下記の方程式で示すことがで
きる。 Co(NH36 +3+e→Co(NH36 +2 E0=0.108ボルト(1) 電気還元方法の過程では、陰極で副反応が二つ
起こるのを予想することができる。 第一コバルト還元 Co(NH36 +3+2e→Co+6(NH3aq E0=−0.42ボルト(2) 水還元 2H2O+2e→H2+2OH- E0=−0.45ボルト(3) 後者の両副反応についての平衡電位は非常に接
近しているので、これらはたいてい同時に起こ
る。第二コバルト還元と副反応との間の平衡電位
の差異が大きいのを根拠にして、第二コバルト還
元を主反応と考えることができる。副反応は、第
二コバルト濃度が低下して、第二コバルト種の電
極へ移動が速度制限になる程度まで低下した条件
の下で起こることが予想される。これらの条件は
電気還元段階の終末、代表的には、第二コバルト
濃度が100ppmよりも低い場合に起こることが予
想される。O2ガスを生成する通常の水電解が陽
極で起こる。 電解槽は、約10アンペア/平方フイートから
200アンペア/平方フイートまで、好ましくは10
アンペア/平方フイートから50アンペア/平方フ
イートまでの定電流方式で、かつ約3ボルトから
8ボルトまで、好ましくは約4ボルトから5ボル
トまでの範囲にわたる槽電圧で操作することがで
きる。 陰極液の温度は約20℃から約50℃まで、好まし
くは約20℃から30℃までにすることができる。陽
極液の温度は陰極液にしたのと同じ範囲内に収め
ることができ、陰極液温度の約5℃以内が好まし
い。 陽極4は電気伝導性の、安定などんな物質から
成つていてもよい。陰極は低過電圧であり、かつ
腐食及び(または)分解に対して抵抗力のあるの
が好ましい。代表的な陽極物質は鉛、白金族金
属、白金族金属でコーテイングしてあるチタン、
及び炭素またはグラフアイトのような炭素質物質
である。本明細書で使用する用語「白金族金属
(platinum group metals)」では白金族金属の全
部、すなわちルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、オスミウム、イリジウム、及び白金を包含す
る。その上、白金金属の酸化物またはこのような
酸化物二種類以上の混合物はチタン金属へのコー
テイングとして使用することができる。特によく
適していることが分かつた陽極物質にはTi基体
上RuO2/TiO2、またはTi上IrO2/TiO2を包含
し、これらの陽極は両方とも市販品を入手するこ
とができる。 陰極3は、陰極液が流通する多孔性電極物質か
ら成る。本発明の電解槽で使用する多孔性電極
は、約30%から約60%までの範囲の気孔率がある
適切などんな電極であつてもよい。気孔率は電極
の全容積に対する空げきの比率と定義する。陰極
物質として使用することのできる代表的な物質に
は、焼結金属、スポンジまたは金網、並びに炭素
質物質を包含する。多孔性陰極物質は、例えば、
白金または鋼で、または電気伝導性金属でコーテ
イングすることのできる物質で作ることができ
る。ある実施態様では、多孔性電極は細かい網、
または気孔率が約30%ある多孔のシートまたは板
で作る。多孔性電極の好ましい実施態様は網状電
極のような三次元電極である。これらの電極に
は、広い表面積、詳細には広い内部表面積があ
る。これらの気孔率は約30%から約60%までの範
囲である。陰極の厚さは、陰極物質、陰極気孔
率、及び溶液の流速のような事柄に左右されて変
化するであろう。 本発明では、陽極と接触し、また場合によつて
は、かつ好ましくは陰極と接触していてもよい
種々の隔膜を使用することができる。このような
隔膜は電解業界では公知であり、かつ多孔性ガラ
スフリツト、糸アスベスト、または織りアスベス
ト、多孔性強化重合体、自動車バツテリータイプ
隔離板(グレース社〔Grace Corporation〕の供
給するダラミツク〔Daramic〕)、及びイオン選
択透過膜を包含する。 陽イオン性でも陰イオン性でもよいイオン選択
透過性膜は、代表的には、水性電解液に対して実
質的に不浸透性であるイオン交換膜またはシート
である。これらのイオン交換膜は本来公知であ
り、かつイオン交換基または物質を重合体マトリ
ツクスあるいは結合剤に含浸させるか、または全
体に分散させてある膜、並びにこのような基を膜
の裏張り、または強化織物の外側表面だけと結合
させてある膜の両方を包含する。膜構造体全体に
イオン交換特性があり、かつ部分重合させたイオ
ン交換樹脂をシート形態に型込め、または流し込
みして作ることのできる、連続したイオン交換膜
もまた使用することができる。 Co+3のCo+2への電解転化はバツチ操作で実施
することができ、この場合には、陽極液及び陰極
液をそれぞれの貯槽から、槽の底に近い位置にあ
る流入口6を経て再循環させ、かつ所望の減損水
準に達するまで、槽の頂部近くの排出口7を経て
オーバーフローさせて貯槽に戻す。 工程はまた槽のカスケード系を使用して連続流
通条件下で実施することもでき、この場合には溶
液を、各には設置した流入口のある貯槽を経て、
槽のカスケードを経て、カスケード状に流下さ
せ、減少した溶液は別個の貯槽に収集する。 また、本発明の工程の操作中に、陰極にコバル
ト金属を生成させることもできる。このコバルト
金属析出物は、電流を停止させた後に、新鮮な第
二コバルトアミン溶液を陰極区画質の中に流通す
ることによつて、電極から完全に取り除くことが
できる。一般に、この溶解時間は比較的短時間
で、例えば数時間以内である。 また、本発明の方法によつて得られる第一コバ
ルトアミン生成は空気のために酸化されて第二コ
バルトアミンに戻る虞があるので、工程は、窒素
の使用によるような不活性雰囲気ブランケツトの
中で、あるいは少なくとも空気から隔離して実施
するのが好ましい。 陰極液、すなわち、陰極区画室内の電解液は、
以後はアンモニアと記載するNH3(aq)及び以後
はアンモニウムと記載するNH4+(aq)の両方を
含有する水溶液である。アンモニアはCo+3及び
Co+2の両方が溶解できる程十分な量で存在する。
好ましくは、アンモニアの濃度は約1Mから2Mま
でにするべきであり、かつアンモニウムの濃度
は、好ましくは約1Mから2Mまでの範囲にするべ
きであり、アンモニアの濃度に等しいのが最も好
ましい。好ましいアンモニウム塩には硫酸アンモ
ニウム及び炭酸アンモニウムを包含する。水性陰
極液のPHは8から12までにするべきであり、8.5
から11までが好ましい。陰極液中のCo+3の濃度
は飽和溶液から約100ppmまでの範囲にわたるこ
とができ、約10000ppmから100ppmまでが好まし
い。 陽極液、すなわち陽極区画室内の電解液は相容
性電解質物質のどんな水溶液であつてもよい。代
表的には、陽極液は、陰極区画室で使用するのと
同様のアンモニア性溶液、並びに硫酸ナトリウ
ム、炭酸ナトリウムなどのような他の塩を含有す
る水溶液である。代表的には、塩溶液の濃度は飽
和に極近くするべきであり、陽極液溶液で約1モ
ルから2モルまでの範囲にわたるのが好ましい。 米国特許の第4434141号明細書、第4432953号明
細書、第4152396号明細書、及び第4258016号明細
書は本明細書で併せて参考資料とするが、これら
で指摘されたように、Co+3を還元してCo+2にし
た後に、フツ素化β−ジケトンあるいはα−ヒド
ロキシオキシムを使用することによつて、Co+2
をアンモニア性溶液から抽出することができる。
米国特許第4152396号明細書に記載してあるフツ
素化β−ジケトン、及び米国特許の第4434141号
明細書、第3855090号明細書、第3907966号明細
書、及び第3853725号明細書に記載してあるヒド
ロキシオキシムが好ましく、これらの特許明細書
は本明細書では併せて参考資料とする。特に好ま
しいβ−ジケトンは商品名LIX51でヘンケル社
(Henkel Corporation)が販売するものであり、
また特に好ましいヒドロキシオキシムは商品名
LIX64で、やはりヘンケル社が販売するものであ
る。 コバルトは種々の公知の先行技術の方法のうち
のどの方法かで有機抽出剤から逆抽出することが
できる。たびたび使用する通常の逆抽出技法は、
コバルト有効物を硫酸で逆抽出して、水性相中に
硫酸コバルトを生成させることである。逆抽出し
たコバルトを含有する水溶液は更に処理して純粋
な金属を生成させることができ、あるいは別法と
しては塩を使用して直接新規の触媒を製造するこ
とができる。コバルトは電解採取することがで
き、あるいは水素ガスで直接還元することができ
る。水溶液は、新規の触媒を含浸するため、ある
いはコ・マリング(CO−mulling)するための金
属供給源として直接使用することができる。 Co+3を還元してCo+2にし、かつただちに溶剤
抽出できるようになる終点は、陰極液溶液の電位
を測定して見い出す。溶剤抽出に成功するために
は、陰極液溶液を電気還元して、電位をSHEに
対して−50mVから−100mVまでにしなければ
ならない。電気還元過程中の溶液電位の代表的な
変化を第2図に示し、かつ次の溶剤抽出段階で、
電気還元した溶液に加えるLIX51を使用して得
た、相当するコバルト抽出値を第3図に示す。 本発明を下記の実施例で更に説明する。 実施例 実施例 1 使用した槽は側面が長方形のタイプであり、か
つ第1図に示したものと同様なルーサイト
(Lucite)で作つた。陽極区画室及び陰極区画室
は両方とも内側の寸法が400mm×60mm×20mmであ
つた。多孔性陰極は304ステンレス鋼網製で、押
しつけ合わせたデメスタ パツド(demester
pad)7個から成つていた。陰極は気孔率が45%
であつた。電流供給装置は陽極から最も遠く離れ
た陰極区画室の部分にあつて、304ステンレス鋼
から成つていた。陽極区画室と陰極区画室とは寸
法から520mm×150mmある隔膜で隔離した。使用し
た陽極は、コーテイングしてあるチタン網の形態
をしている、寸法が600mm×60mmある、寸法安定
性陽極(DSA)であつた。これは隔膜に近接し
た位置にあつて、接触していた。電流及び全槽電
圧は帯状記録紙記録計に記録した。陰極液及び陽
極液は、貯槽及びポンプから成る別個の装置から
槽に供給した。これらの実験で使用した隔膜はダ
ブルユー・アール・グレース(W.R.Grace)が
供給し、かつ代表的には自動車バツテリーの隔離
板として使用する「ダラミツク(Daramic)」で
あつた。この多孔性物質は低電気抵抗(18℃で1
モル濃度の塩化ナトリウム中で0.8rcm2)を示し、
かつ0.1μという非常に小さい細孔寸法のために、
この実験で遭遇する圧力差では、電解液溶液に対
して無視することのできる透過性を示した。 アンモニア性溶液4は、湿式処理廃触媒のパ
イロツトランプ浸出で得た。溶液は下記の組成で
あつた:Co+3840ppm、Ni66.8ppm、V268ppm、
Mo537ppm、アンモニア2M、炭酸アンモニウム
1M、PH9.8。使用した陽極溶液は硫酸ナトリウム
1M、PH9.8であつた。溶液の温度は25℃であつ
た。陽極液及び陰極液の両溶液は、毎分9.25ガロ
ンで、専用区画室を経てポンプ送りした。電流
6.5アンペア(槽の横断面積1平方フイート当た
り2.5アンペアに相当)を槽電圧2.65ボルトで通
した。電解は70分間行つた。操作の終りに、溶液
をヘンケル社供給のフツ素化β−ジケトン、LIX
−51と接触させて、溶液中のコバルト98.8%を抽
出し、かつ溶剤抽出後の抽出残分はCo+310ppm
を含有していた。槽の総括電流効率は18%(すな
わち、水素還元反応で電流の82%を使用した)
で、エネルギー消費量は3キロワツト時/コバル
ト1ポンドであつた。コバルト金属は、操作の過
程中には、多孔性陰極上に全く析出しなかつた。 実施例 2 槽の配置は実施例1と同じであつた。陰極溶液
4は、フイツシヤー(Fisher)試薬物質で調製
し、PH9.8で、アンモニア2M、炭酸アンモニウム
1M、コバルト1.19g/(Co+30.96g/及び
Co+20.23g/)から成つていた。陽極液はPH
9.5で、硫酸ナトリウム1Mから成つていた。陽極
液及び陰極液は共に専用区画室を経て、毎分9.5
ガロンでポンプ送りした。溶液の温度は23℃であ
り、かつ2.7ボルトで、電流6.6アンペア(槽の横
断面積1平方フイト当たり25.5アンペアに相当)
を通した。電解は45分間行つた。5分後に、第二
コバルトの濃度は減少して0.6g/になり、か
つ第一コバルトの濃度は増加して、0.53g/に
なつた。45分後に、第二コバルトの濃度は減少し
て0.01g/になり、第一コバルトの濃度は0.30
g/になり、かつ実質的な量のコバルトが陰極
に析出した。水素の数値決定に約73.6%の電流を
使用した。多孔性陰極上に析出したコバルトを、
「新鮮な(fresh)」第二コバルトアミン溶液8
で、実質的に回収した。「新鮮な溶液」は最初の
溶液と同一組成であつた。「新鮮な」溶液を多孔
性電極を通してポンプ送りすることによつて、回
収を45分間行つた。操作の終りに第二コバルトア
ミン濃度は減少して0.01g/よりも少なかつた
が、一方、第一コバルトアミン濃度は1.81g/
に達した。 これらの結果では、多孔性電極槽は、コバルト
金属が電極の所で析出する条件下でさえも作動す
ること、及びこの金属を容易に取り去ることがで
きることを示している。
JP60505333A 1984-11-19 1985-11-15 第2コバルトアミンの電解還元法 Granted JPS62500874A (ja)

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