JPH0573968A - 光デイスク基板成形方法及び成形装置 - Google Patents
光デイスク基板成形方法及び成形装置Info
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- JPH0573968A JPH0573968A JP26725091A JP26725091A JPH0573968A JP H0573968 A JPH0573968 A JP H0573968A JP 26725091 A JP26725091 A JP 26725091A JP 26725091 A JP26725091 A JP 26725091A JP H0573968 A JPH0573968 A JP H0573968A
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- optical disk
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スタンパ裏面の欠陥や微細な凹凸をスタンパ
表面に形成しない。 【構成】 ベースプレート3とスタンパ1との間に感光
性樹脂2が挿入されている。スタンパ台8は取付台5と
両面接着テープ5と弾性体6とビニールシート7とから
成っている。スタンパ1の裏面に弾性体6が配置されて
いるので、スタンパの厚みムラやスタンパ裏面の凸部等
があっても均一なディスク基板が成形される。
表面に形成しない。 【構成】 ベースプレート3とスタンパ1との間に感光
性樹脂2が挿入されている。スタンパ台8は取付台5と
両面接着テープ5と弾性体6とビニールシート7とから
成っている。スタンパ1の裏面に弾性体6が配置されて
いるので、スタンパの厚みムラやスタンパ裏面の凸部等
があっても均一なディスク基板が成形される。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は、光ディスク基板成形方法及び成
形装置に関する。
形装置に関する。
【0002】
【従来技術】光ディスクは、一般にはプラスチック基板
を2P(Photo-polymer)法等により作製し、その上に
記録材を塗布することにより作製されるが、高密度化,
高速化に伴い、基板の平面度に対する要求が厳しくなっ
て来ている。このような状況を解決するために、スタン
パと紫外線硬化樹脂の間に気泡の巻き込みを防止するも
のとして、例えば、特開平2−126434号公報のも
のがある。この公報のものは、スタンパ裏面にゴム製バ
ッグを配置し、ガス又は液体をゴム製バッグに注入加圧
し、スタンパを凸状に押圧するものである。また、特公
平3−5975号公報のものは、表面が弾性変形可能な
球状凸構造となった押え体を使用したものである。ま
た、特開平2−113456号公報のものは、スタンパ
をその記録両側が凸となる曲面状弾性体で形成したもの
である。さらに、特開昭59−9012号公報のもの
は、スタンパの裏面を裏打ち補強したものである。
を2P(Photo-polymer)法等により作製し、その上に
記録材を塗布することにより作製されるが、高密度化,
高速化に伴い、基板の平面度に対する要求が厳しくなっ
て来ている。このような状況を解決するために、スタン
パと紫外線硬化樹脂の間に気泡の巻き込みを防止するも
のとして、例えば、特開平2−126434号公報のも
のがある。この公報のものは、スタンパ裏面にゴム製バ
ッグを配置し、ガス又は液体をゴム製バッグに注入加圧
し、スタンパを凸状に押圧するものである。また、特公
平3−5975号公報のものは、表面が弾性変形可能な
球状凸構造となった押え体を使用したものである。ま
た、特開平2−113456号公報のものは、スタンパ
をその記録両側が凸となる曲面状弾性体で形成したもの
である。さらに、特開昭59−9012号公報のもの
は、スタンパの裏面を裏打ち補強したものである。
【0003】スタンパを用いてディスク基板を作製する
方法には、 射出成形法 圧縮成形法 射出圧縮成形法 感光性樹脂法(Photo-polymer法,2P法) 等があるが、の射出成形法は最もポピュラーな方法で
あり、スタンパを取り付けた金型の中にディスク材料を
射出し成形する方法であり、成形サイクルが短く、生産
性に優れているが、転写性が悪いという欠点がある。
の圧縮成形法は材料を押出し機で可塑化した後いったん
予備成形してから金型内へ入れ、それを圧縮してディス
クを成形するため射出成形法よりは転写性が良いが、サ
イクルタイムが長くなり生産効率は悪い。
方法には、 射出成形法 圧縮成形法 射出圧縮成形法 感光性樹脂法(Photo-polymer法,2P法) 等があるが、の射出成形法は最もポピュラーな方法で
あり、スタンパを取り付けた金型の中にディスク材料を
射出し成形する方法であり、成形サイクルが短く、生産
性に優れているが、転写性が悪いという欠点がある。
の圧縮成形法は材料を押出し機で可塑化した後いったん
予備成形してから金型内へ入れ、それを圧縮してディス
クを成形するため射出成形法よりは転写性が良いが、サ
イクルタイムが長くなり生産効率は悪い。
【0004】の射出圧縮成形法は、射出成形法と同様
に射出装置と型締装置から成り、一度金型を閉じた後、
圧締しないで射出すると、その射出圧力により金型が所
定の寸法だけ開く。その後金型が圧締され、その型締の
圧力により金型キャビティー内の樹脂が押し広げられて
形成される方法である。これは圧縮成形法に比べて一段
改良された方法といえるが、射出成形法に比べればサイ
クルタイムが長く、スタンパの寿命が短いという欠点が
ある。又、これら3方法に共通して言えることは、いず
れも設備費用が高く、大きなスペース,大きな動力が必
要であり、連続使用時に比べて断続的に使用する時の効
率は極端に悪くなるという欠点があることである。
に射出装置と型締装置から成り、一度金型を閉じた後、
圧締しないで射出すると、その射出圧力により金型が所
定の寸法だけ開く。その後金型が圧締され、その型締の
圧力により金型キャビティー内の樹脂が押し広げられて
形成される方法である。これは圧縮成形法に比べて一段
改良された方法といえるが、射出成形法に比べればサイ
クルタイムが長く、スタンパの寿命が短いという欠点が
ある。又、これら3方法に共通して言えることは、いず
れも設備費用が高く、大きなスペース,大きな動力が必
要であり、連続使用時に比べて断続的に使用する時の効
率は極端に悪くなるという欠点があることである。
【0005】の2P法は、紫外線照射により硬化する
樹脂を用いてディスク基板を作製する方法であり、スタ
ンパの微細な凹凸の転写性にすぐれているのみならず、
簡単な設備で必要な時にはいつでもディスクを作製でき
るという特徴がある。そのため、2P法はディスク基板
の生産用として用いられるだけでなく、前記,,の
方法を用いてディスク基板を量産する際のスタンパのチ
ェック用としても用いられている。しかし、従来法の如
く、気泡を巻き込み易いという欠点のみならず、スタン
パ裏面の欠陥がスタンパ表面に微細な凹凸として形成さ
れ、それがディスク基板にも転写されるという欠点があ
る。又、スタンパを裏打ちする方法もあるが、一度裏打
ちしてしまうと2P法以外は使えなくなるという欠点が
ある。
樹脂を用いてディスク基板を作製する方法であり、スタ
ンパの微細な凹凸の転写性にすぐれているのみならず、
簡単な設備で必要な時にはいつでもディスクを作製でき
るという特徴がある。そのため、2P法はディスク基板
の生産用として用いられるだけでなく、前記,,の
方法を用いてディスク基板を量産する際のスタンパのチ
ェック用としても用いられている。しかし、従来法の如
く、気泡を巻き込み易いという欠点のみならず、スタン
パ裏面の欠陥がスタンパ表面に微細な凹凸として形成さ
れ、それがディスク基板にも転写されるという欠点があ
る。又、スタンパを裏打ちする方法もあるが、一度裏打
ちしてしまうと2P法以外は使えなくなるという欠点が
ある。
【0006】図6(a)〜(j)は、従来のディスク原
盤(スタンパ)の作製方法を示す図で、図中、11はガ
ラス円盤、12はフォトレジスト密着剤、13はフォト
レジスト、14は潜像、15は凹凸、16は導電化表
面、17はニッケル電鋳、18はスタンパである。ガラ
ス円盤11を準備し、表面を研磨,洗浄後、スピンコー
ト法によりフォトレジスト密着剤12及びフォトレジス
ト13を塗布し、定法によりレーザーカッティングを行
い、潜像14をつくる。次に、現像によりレーザー光の
照射部分を溶解除去し、微少な凹凸15とする。その
後、表面16を導電化し、所定の厚さまで電鋳17を行
う。ガラス円盤11より電鋳板を剥離して表面に残留す
る密着剤12やフォトレジスト13を洗浄除去してスタ
ンパ18を得る。スタンパ18に裏打ちをする場合は、
ガラス円盤11に電鋳板が着いている状態で裏打ち板を
電鋳板に接着した後、ガラス円盤11より剥離すること
により裏打ちスタンパを得ることができる。
盤(スタンパ)の作製方法を示す図で、図中、11はガ
ラス円盤、12はフォトレジスト密着剤、13はフォト
レジスト、14は潜像、15は凹凸、16は導電化表
面、17はニッケル電鋳、18はスタンパである。ガラ
ス円盤11を準備し、表面を研磨,洗浄後、スピンコー
ト法によりフォトレジスト密着剤12及びフォトレジス
ト13を塗布し、定法によりレーザーカッティングを行
い、潜像14をつくる。次に、現像によりレーザー光の
照射部分を溶解除去し、微少な凹凸15とする。その
後、表面16を導電化し、所定の厚さまで電鋳17を行
う。ガラス円盤11より電鋳板を剥離して表面に残留す
る密着剤12やフォトレジスト13を洗浄除去してスタ
ンパ18を得る。スタンパ18に裏打ちをする場合は、
ガラス円盤11に電鋳板が着いている状態で裏打ち板を
電鋳板に接着した後、ガラス円盤11より剥離すること
により裏打ちスタンパを得ることができる。
【0007】図7(a)〜(d)は、従来の2P法によ
るディスク基板作製工程を示す図で、図(a)は、金型
およびベースプレートの準備を示す図、図(b)は感光
性樹脂の充填を示す図、図(c)は紫外線による硬化を
示す図、図(d)はスタンパの剥離を示す図である。図
中、21は金型(ニッケルスタンパ)、22は感光性樹
脂、22aは硬化した感光性樹脂、23はベースプレー
ト、24は完成ディスク基板である。まず、スタンパ2
1上に2P樹脂22を付与し、その上からベースプレー
ト23を乗せる。その後、ベースプレート23の上から
加圧して、2P樹脂23をスタンパ21とベースプレー
ト23の間に押し広げる。次に、ベースプレート23を
通して紫外線を照射して2P樹脂22を硬化させる。2
P樹脂22が硬化した後、スタンパ21からベースプレ
ート23及び硬化した2P樹脂22aを剥離してディス
ク基板24を得る。
るディスク基板作製工程を示す図で、図(a)は、金型
およびベースプレートの準備を示す図、図(b)は感光
性樹脂の充填を示す図、図(c)は紫外線による硬化を
示す図、図(d)はスタンパの剥離を示す図である。図
中、21は金型(ニッケルスタンパ)、22は感光性樹
脂、22aは硬化した感光性樹脂、23はベースプレー
ト、24は完成ディスク基板である。まず、スタンパ2
1上に2P樹脂22を付与し、その上からベースプレー
ト23を乗せる。その後、ベースプレート23の上から
加圧して、2P樹脂23をスタンパ21とベースプレー
ト23の間に押し広げる。次に、ベースプレート23を
通して紫外線を照射して2P樹脂22を硬化させる。2
P樹脂22が硬化した後、スタンパ21からベースプレ
ート23及び硬化した2P樹脂22aを剥離してディス
ク基板24を得る。
【0008】しかし、スタンパ21は厚みが不均一であ
るだけでなく、スタンパの裏面は粗い状態であるため、
2P法によると、得られたディスク基板に厚みムラや微
少な凹凸の存在することが確認されている。又、スタン
パをゴムバッグを用いて反らせる方式が気泡の巻き込み
防止を目的として提案されているが、スタンパを反らせ
ることによる変形の可能性があり好ましくない。
るだけでなく、スタンパの裏面は粗い状態であるため、
2P法によると、得られたディスク基板に厚みムラや微
少な凹凸の存在することが確認されている。又、スタン
パをゴムバッグを用いて反らせる方式が気泡の巻き込み
防止を目的として提案されているが、スタンパを反らせ
ることによる変形の可能性があり好ましくない。
【0009】図8(a),(b)は、スタンパ取付台を
示す図で、図中、25は磁石、26は取付台、27は真
空チャック用溝で、その他、図7と同じ作用をする部分
は同一の符号を付してある。図7においては、2P法に
よりディスク基板作製する方法について述べたが、実際
には2Pディスク基板を作製する時には、何等かの形で
スタンパを固定する台が必要である。図8(a)は磁石
25を用いてスタンパを固定する方法、図8(b)は真
空チャック27によりスタンパを固定する方法の構成図
を示すが、機械的に保持する方法等も考えられる。しか
し、いずれにしても、ベースプレートの上から加圧する
ことを想定して、スタンパ固定台は硬質のものとなって
いる。
示す図で、図中、25は磁石、26は取付台、27は真
空チャック用溝で、その他、図7と同じ作用をする部分
は同一の符号を付してある。図7においては、2P法に
よりディスク基板作製する方法について述べたが、実際
には2Pディスク基板を作製する時には、何等かの形で
スタンパを固定する台が必要である。図8(a)は磁石
25を用いてスタンパを固定する方法、図8(b)は真
空チャック27によりスタンパを固定する方法の構成図
を示すが、機械的に保持する方法等も考えられる。しか
し、いずれにしても、ベースプレートの上から加圧する
ことを想定して、スタンパ固定台は硬質のものとなって
いる。
【0010】
【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、2P法によりスタンパからディスク基板を作製
するに際し、スタンパ裏面の欠陥や微細な凹凸をスタン
パ表面に形成しない方法、すなわち、2P転写ディスク
にも転写しないでスタンパの表面の凹凸のみを2P転写
する方法によるディスク基板成形方法及び成形装置を提
供することを目的としてなされたものである。
もので、2P法によりスタンパからディスク基板を作製
するに際し、スタンパ裏面の欠陥や微細な凹凸をスタン
パ表面に形成しない方法、すなわち、2P転写ディスク
にも転写しないでスタンパの表面の凹凸のみを2P転写
する方法によるディスク基板成形方法及び成形装置を提
供することを目的としてなされたものである。
【0011】
【構成】本発明は、上記目的を達成するために、(1)
透明基板とスタンパの間に紫外線硬化樹脂を挿入し、相
互に押圧することにより、前記紫外線硬化樹脂を所定の
大きさに押し広げて紫外線照射を行い、前記紫外線硬化
樹脂を硬化することにより、スタンパの凹凸を透明基板
上の紫外線硬化樹脂に転写して光ディスク基板を成形す
る光ディスク基板成形方法において、前記スタンパの裏
面に弾性体を配置したこと、更には、(2)前記弾性体
として、スポンジ,クロス,不織布,綿,紙等の吸水性
を有する材料を用いること、更には、(3)前記(2)
において、前記弾性体に、水,油,ゲル等の流動体を吸
収させたこと、更には、(4)前記(1)において、前
記弾性体としてエアーバッグを用いたこと、(5)前記
(4)において、前記エアーバッグの中に気体を封入し
たこと、更には、(6)前記(5)において、前記エア
ーバッグの中の気体を、窒素,アルゴン,ヘリウム等の
不活性気体としたこと、更には、(7)前記(4)にお
いて、前記エアーバッグの中に流動体を封入したこと、
更には、(8)前記(7)において、前記流動体を水,
油等の液を封入したこと、或いは、(9)スタンパと、
該スタンパ上に設けられるベースプレートと、前記スタ
ンパと前記ベースプレートとの間に充填される光硬化性
樹脂と、前記スタンパを保持する取付台と、該取付台と
スタンパとの間に設けられた弾性体とから成ることを特
徴としたものである。以下、本発明の実施例に基づいて
説明する。
透明基板とスタンパの間に紫外線硬化樹脂を挿入し、相
互に押圧することにより、前記紫外線硬化樹脂を所定の
大きさに押し広げて紫外線照射を行い、前記紫外線硬化
樹脂を硬化することにより、スタンパの凹凸を透明基板
上の紫外線硬化樹脂に転写して光ディスク基板を成形す
る光ディスク基板成形方法において、前記スタンパの裏
面に弾性体を配置したこと、更には、(2)前記弾性体
として、スポンジ,クロス,不織布,綿,紙等の吸水性
を有する材料を用いること、更には、(3)前記(2)
において、前記弾性体に、水,油,ゲル等の流動体を吸
収させたこと、更には、(4)前記(1)において、前
記弾性体としてエアーバッグを用いたこと、(5)前記
(4)において、前記エアーバッグの中に気体を封入し
たこと、更には、(6)前記(5)において、前記エア
ーバッグの中の気体を、窒素,アルゴン,ヘリウム等の
不活性気体としたこと、更には、(7)前記(4)にお
いて、前記エアーバッグの中に流動体を封入したこと、
更には、(8)前記(7)において、前記流動体を水,
油等の液を封入したこと、或いは、(9)スタンパと、
該スタンパ上に設けられるベースプレートと、前記スタ
ンパと前記ベースプレートとの間に充填される光硬化性
樹脂と、前記スタンパを保持する取付台と、該取付台と
スタンパとの間に設けられた弾性体とから成ることを特
徴としたものである。以下、本発明の実施例に基づいて
説明する。
【0012】図1は、本発明による光ディスク基板成形
方法の一実施例を説明するための構成図で、図中、1は
金型(ニッケルスタンパ)、2は感光性樹脂(液体)、
3はベースプレート、4はスタンパ取付台、5は両面接
着テープ、6はスポンジ、7はビニールシート、8はス
タンパ台である。本発明においては、スタンパ取付台4
とスタンパ1との間に弾性体6を介在させることを特徴
としている。すなわち、スタンパ取付台4上に両面接着
テープ5をはり、そのほぼ中央部にスタンパより大きい
弾性体(図ではスポンジ6)を配置し、必要に応じてビ
ニールシート7をかぶせ、その上にスタンパ1を配置す
る。以下は前記の如き方法により2Pディスク基板を作
製すればよい。
方法の一実施例を説明するための構成図で、図中、1は
金型(ニッケルスタンパ)、2は感光性樹脂(液体)、
3はベースプレート、4はスタンパ取付台、5は両面接
着テープ、6はスポンジ、7はビニールシート、8はス
タンパ台である。本発明においては、スタンパ取付台4
とスタンパ1との間に弾性体6を介在させることを特徴
としている。すなわち、スタンパ取付台4上に両面接着
テープ5をはり、そのほぼ中央部にスタンパより大きい
弾性体(図ではスポンジ6)を配置し、必要に応じてビ
ニールシート7をかぶせ、その上にスタンパ1を配置す
る。以下は前記の如き方法により2Pディスク基板を作
製すればよい。
【0013】スタンパは定法(図4の例)に従って作製
したものを用いる。以下に、スタンパ作製工程上の主要
条件,材料を示す。 (1)ガラス円盤 φ250mm ×6mmt (2)フォトレジスト密着剤 ヘキサメチレンジシラザ
ン (3)フォトレジスト ポジ型(東京応化製OF
RP−800) (4)現像液 アルカリ現像液(東京応
化製DE−3) (5)表面等電化 ニッケルスタッパ 約
500Å厚 (6)電鋳 ニッケル電鋳 浴組成 スルファミン酸ニッケル 450g/l 臭化ニッケル 5g/l ほう酸 30g/l 浴温 50℃ ph4.0 電流密度0〜60A/cm2 厚さ 0.3mm このようにして、スタンパは約0.3mm 厚のニッケル製
で平板状のものを得る(大きさは自由に加工すればよ
い)。
したものを用いる。以下に、スタンパ作製工程上の主要
条件,材料を示す。 (1)ガラス円盤 φ250mm ×6mmt (2)フォトレジスト密着剤 ヘキサメチレンジシラザ
ン (3)フォトレジスト ポジ型(東京応化製OF
RP−800) (4)現像液 アルカリ現像液(東京応
化製DE−3) (5)表面等電化 ニッケルスタッパ 約
500Å厚 (6)電鋳 ニッケル電鋳 浴組成 スルファミン酸ニッケル 450g/l 臭化ニッケル 5g/l ほう酸 30g/l 浴温 50℃ ph4.0 電流密度0〜60A/cm2 厚さ 0.3mm このようにして、スタンパは約0.3mm 厚のニッケル製
で平板状のものを得る(大きさは自由に加工すればよ
い)。
【0014】図1におけるスタンパ取付台4は、アルミ
ニウム,鉄,プラスチック等固体ならば何でもよいが、
加工性や重さを考慮するとアルミニウムが適している。
このスタンパ取付台は、サイズとしてはスタンパより直
径にして20mm〜100mm大きい方が好ましい。又、厚
さは特に制限はないが、10mm〜20mmが扱い易い。前
記スタンパ取付台上に両面接着テープ5をはり、その中
央部にスポンジ6を、スタンパのサイズより大きく、ス
タンパ取付台のサイズより小さい形状に取りつける。ス
ポンジ6も厚みの制限は特別ないが、3mm〜10mmが使
い易い。その後、スポンジ6をカバーするようにビニー
ルシート7を取りつける。このビニールシート7は必ず
しも必要はないが、スタンパがニッケル製であり、スポ
ンジ6は軟質であるので、両者を接触させるとスポンジ
が破れ易いので、これを防ぐためにビニールシート(厚
み0.1mm〜0.2mm)7を取りつけた方がよい。このよ
うに組み立てたスタンパ台8上にスタンパを配置して、
以下は定法に従って2Pディスク基板を作製する。
ニウム,鉄,プラスチック等固体ならば何でもよいが、
加工性や重さを考慮するとアルミニウムが適している。
このスタンパ取付台は、サイズとしてはスタンパより直
径にして20mm〜100mm大きい方が好ましい。又、厚
さは特に制限はないが、10mm〜20mmが扱い易い。前
記スタンパ取付台上に両面接着テープ5をはり、その中
央部にスポンジ6を、スタンパのサイズより大きく、ス
タンパ取付台のサイズより小さい形状に取りつける。ス
ポンジ6も厚みの制限は特別ないが、3mm〜10mmが使
い易い。その後、スポンジ6をカバーするようにビニー
ルシート7を取りつける。このビニールシート7は必ず
しも必要はないが、スタンパがニッケル製であり、スポ
ンジ6は軟質であるので、両者を接触させるとスポンジ
が破れ易いので、これを防ぐためにビニールシート(厚
み0.1mm〜0.2mm)7を取りつけた方がよい。このよ
うに組み立てたスタンパ台8上にスタンパを配置して、
以下は定法に従って2Pディスク基板を作製する。
【0015】図2(a),(b)は、同じスタンパを用
いた場合の従来法と、本発明の方法による2P層の厚さ
の比較を示す図で、図(a)は従来法、図(b)は本発
明の方法である。従来法によると0.05mmの厚みムラ
に対して、本発明の方法では0.02mm以下であった。
本発明の方法が使用したスポンジは厚さ2mm、大きさφ
230mmのものを水を含ませて用い、0.2mm 厚さのビ
ニールシートでカバーをした。本発明の方法において
は、弾性体としてスポンジを取り上げて説明したが、
綿,クロス,紙,不織布等の材料を用いることができ
る。又、これらの材料に、水,油等の流動体を吸収させ
て用いても良い結果が得られる。
いた場合の従来法と、本発明の方法による2P層の厚さ
の比較を示す図で、図(a)は従来法、図(b)は本発
明の方法である。従来法によると0.05mmの厚みムラ
に対して、本発明の方法では0.02mm以下であった。
本発明の方法が使用したスポンジは厚さ2mm、大きさφ
230mmのものを水を含ませて用い、0.2mm 厚さのビ
ニールシートでカバーをした。本発明の方法において
は、弾性体としてスポンジを取り上げて説明したが、
綿,クロス,紙,不織布等の材料を用いることができ
る。又、これらの材料に、水,油等の流動体を吸収させ
て用いても良い結果が得られる。
【0016】図3は、本発明によるディスク基板成形方
法の他の実施例を示す図で、図中、9はエアーバッグ、
10はスタンパ台で、その他、図1と同じ作用をする部
分は同一の符号を付してある。基本構成は図1に示すも
のと同様であるが、スポンジの代りにエアーバッグ9を
用いている点が異る。図3はエアーバック9を用いてい
るが、エアーバッグ9の中には必ずしもエアーだけでな
く、その他のガス体、例えば、窒素ガス,アルゴンガス
等を封入したバッグでも同様な作用をすることは明白で
ある。又、実験によれば、エアーバッグ中に流動体
(水,油,ゲル等)を封入しても同様な結果が得られ
た。水を封入した場合の2P層のバラツキは、従来法だ
と0.05mm あったものが、本発明の方法によると0.
015mm 以下になった。又、スタンパの裏面に電鋳時
に発生する凸部があると、従来法では2P層が薄くなっ
てしまうが、本発明の方法によれば均一な厚さの2P層
が得られることがわかった。
法の他の実施例を示す図で、図中、9はエアーバッグ、
10はスタンパ台で、その他、図1と同じ作用をする部
分は同一の符号を付してある。基本構成は図1に示すも
のと同様であるが、スポンジの代りにエアーバッグ9を
用いている点が異る。図3はエアーバック9を用いてい
るが、エアーバッグ9の中には必ずしもエアーだけでな
く、その他のガス体、例えば、窒素ガス,アルゴンガス
等を封入したバッグでも同様な作用をすることは明白で
ある。又、実験によれば、エアーバッグ中に流動体
(水,油,ゲル等)を封入しても同様な結果が得られ
た。水を封入した場合の2P層のバラツキは、従来法だ
と0.05mm あったものが、本発明の方法によると0.
015mm 以下になった。又、スタンパの裏面に電鋳時
に発生する凸部があると、従来法では2P層が薄くなっ
てしまうが、本発明の方法によれば均一な厚さの2P層
が得られることがわかった。
【0017】図4(a)〜(c)は、スタンパの裏面に
凸部のある場合の従来法と、本発明による方法との2P
層の厚さの比較を示す図で、図(a)はスタンパの裏面
の凸部、図(b)は従来法、図(c)は本発明の方法で
ある。これはスタンパ台が硬いとスタンパ1の裏面の凸
部が吸収できず、2P転写工程でベースプレート3を加
圧した時スタンパ1の表面が凸状になり、それがそのま
ま2P層に転写されるため、図(b)に示すように従来
法の如き形状となるが、本発明の方法の如くスタンパ1
の裏面が軟材たる弾性体に接触していると、スタンパ1
の裏面の凸部がその弾性体中にもぐり込み、2P転写工
程でベースプレート3を加圧してもスタンパ1の表面は
平坦のままであるため、2P層にはほとんどスタンパ1
の裏面の影響は出ない。これはスタンパ製造工程で発生
するスタンパ1の裏面の凸状を吸収できるだけでなく、
2P転写工程でスタンパ1とスタンパ台との間にゴミ等
の異物をはさみ込んだ時にも同様な効果がある。
凸部のある場合の従来法と、本発明による方法との2P
層の厚さの比較を示す図で、図(a)はスタンパの裏面
の凸部、図(b)は従来法、図(c)は本発明の方法で
ある。これはスタンパ台が硬いとスタンパ1の裏面の凸
部が吸収できず、2P転写工程でベースプレート3を加
圧した時スタンパ1の表面が凸状になり、それがそのま
ま2P層に転写されるため、図(b)に示すように従来
法の如き形状となるが、本発明の方法の如くスタンパ1
の裏面が軟材たる弾性体に接触していると、スタンパ1
の裏面の凸部がその弾性体中にもぐり込み、2P転写工
程でベースプレート3を加圧してもスタンパ1の表面は
平坦のままであるため、2P層にはほとんどスタンパ1
の裏面の影響は出ない。これはスタンパ製造工程で発生
するスタンパ1の裏面の凸状を吸収できるだけでなく、
2P転写工程でスタンパ1とスタンパ台との間にゴミ等
の異物をはさみ込んだ時にも同様な効果がある。
【0018】図5は、本発明によるディスク基板成形方
法の更に他の実施例を示す図で、図中、11は枠、12
はゴムバッグ、13は流体で、その他、図3と同じ作用
をする部分は同一の符号を付してある。図5に示した実
施例は加圧側にも弾力性を持たせたもので、ゴム製バッ
グ12の中に流体13を満たし、枠11の中に入れて流
体13を加圧,減圧することにより、ベースプレート3
にかかる圧力を調節できるようにして、ベースプレート
全面にかかる圧力を均一にすることにより、ベースプレ
ート3,2P層を通してスタンパ1にかかる圧力は均一
となり、厚みのムラが生じにくくなる。
法の更に他の実施例を示す図で、図中、11は枠、12
はゴムバッグ、13は流体で、その他、図3と同じ作用
をする部分は同一の符号を付してある。図5に示した実
施例は加圧側にも弾力性を持たせたもので、ゴム製バッ
グ12の中に流体13を満たし、枠11の中に入れて流
体13を加圧,減圧することにより、ベースプレート3
にかかる圧力を調節できるようにして、ベースプレート
全面にかかる圧力を均一にすることにより、ベースプレ
ート3,2P層を通してスタンパ1にかかる圧力は均一
となり、厚みのムラが生じにくくなる。
【0019】
【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、以下のような効果がある。 (1)ディスク基板成形方法においては、スタンパの裏
面に弾性体を配置しているので、スタンパの厚みムラや
スタンパの裏面の凸部等があっても均一なディスク基板
ができる(請求項1,5に対応)。 (2)軟質な吸収性材料を用いているので取り扱いが容
易である(請求項2に対応)。 (3)弾性体に流動体を吸収させているので吸収させな
い場合よりも効果が大きい(請求項3に対応)。 (4)弾性体としてエアーバッグを用いているので作業
性がよい(請求項4に対応)。 (5)エアーバッグの中に気体を封入しているので作業
性がよい。 (6)気体として不活性ガスを用いているので安全性が
高い。 (7)エアーバッグの中に流動体を封入しているので効
果が大きい。 (8)流動体として液体を用いているので作業性と効果
のバランスがよい。
と、以下のような効果がある。 (1)ディスク基板成形方法においては、スタンパの裏
面に弾性体を配置しているので、スタンパの厚みムラや
スタンパの裏面の凸部等があっても均一なディスク基板
ができる(請求項1,5に対応)。 (2)軟質な吸収性材料を用いているので取り扱いが容
易である(請求項2に対応)。 (3)弾性体に流動体を吸収させているので吸収させな
い場合よりも効果が大きい(請求項3に対応)。 (4)弾性体としてエアーバッグを用いているので作業
性がよい(請求項4に対応)。 (5)エアーバッグの中に気体を封入しているので作業
性がよい。 (6)気体として不活性ガスを用いているので安全性が
高い。 (7)エアーバッグの中に流動体を封入しているので効
果が大きい。 (8)流動体として液体を用いているので作業性と効果
のバランスがよい。
【図1】 本発明によるディスク基板成形方法の一実施
例を説明するための構成図である。
例を説明するための構成図である。
【図2】 同じスタンパを用いた場合の従来法と、本発
明の方法による2P層の厚さの比較を示す図である。
明の方法による2P層の厚さの比較を示す図である。
【図3】 本発明によるディスク基板成形方法の他の実
施例を示す図である。
施例を示す図である。
【図4】 スタンパ裏面に凸部のある場合の従来法と、
本発明による方法との2P層の厚さの比較を示す図であ
る。
本発明による方法との2P層の厚さの比較を示す図であ
る。
【図5】 本発明によるディスク基板成形方法の更に他
の実施例を示す図である。
の実施例を示す図である。
【図6】 従来のディスク原盤(スタンパ)の作製方法
を示す図である。
を示す図である。
【図7】 従来の2P法によるディスク基板作製工程を
示す図である。
示す図である。
【図8】 スタンパ取付台を示す図である。
1…金型(ニッケルスタンパ)、2…感光性樹脂(液
体)、3…ベースプレート、4…スタンパ取付台、5…
両面接着テープ、6…スポンジ、7…ビニールシート、
8…スタンパ台。
体)、3…ベースプレート、4…スタンパ取付台、5…
両面接着テープ、6…スポンジ、7…ビニールシート、
8…スタンパ台。
Claims (5)
- 【請求項1】 透明基板とスタンパの間に紫外線硬化樹
脂を挿入し、相互に押圧することにより、前記紫外線硬
化樹脂を所定の大きさに押し広げて紫外線照射を行い、
前記紫外線硬化樹脂を硬化することにより、スタンパの
凹凸を透明基板上の紫外線硬化樹脂に転写して光ディス
ク基板を成形する光ディスク基板成形方法において、前
記スタンパの裏面に弾性体を配置し、スタンパの裏面の
凸部が該弾性体中にもぐり込むようにしたことを特徴と
する光ディスク基板成形方法。 - 【請求項2】 前記弾性体として、スポンジ,クロス,
不織布,綿,紙等の吸水性を有する材料を用いることを
特徴とする請求項1記載の光ディスク基板成形方法。 - 【請求項3】 前記弾性体に、水,油,ゲル等の流動体
を吸収させたことを特徴とする請求項2記載の光ディス
ク基板成形方法。 - 【請求項4】 前記弾性体としてエアーバッグを用いた
ことを特徴とする請求項1記載の光ディスク基板成形方
法。 - 【請求項5】 スタンパと、該スタンパ上に設けられる
ベースプレートと、前記スタンパと前記ベースプレート
との間に充填される光硬化性樹脂と、前記スタンパを保
持する取付台と、該取付台とスタンパとの間に設けられ
た弾性体とから成ることを特徴とする光ディスク基板成
形装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26725091A JPH0573968A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 光デイスク基板成形方法及び成形装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26725091A JPH0573968A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 光デイスク基板成形方法及び成形装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0573968A true JPH0573968A (ja) | 1993-03-26 |
Family
ID=17442223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26725091A Pending JPH0573968A (ja) | 1991-09-17 | 1991-09-17 | 光デイスク基板成形方法及び成形装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0573968A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6105437A (en) * | 1997-10-10 | 2000-08-22 | Wika Alexander Wiegand Gmbh & Co. | Pressure transducer |
| JP2006518288A (ja) * | 2003-01-30 | 2006-08-10 | タック ファスト システムズ ソシエテ アノニム | フック板の製造システムおよび方法 |
| US7374417B2 (en) | 2003-03-31 | 2008-05-20 | Hitachi, Ltd. | Stamper and transfer apparatus |
| JP2009248503A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 微細構造転写装置 |
| US8375924B2 (en) | 2009-04-03 | 2013-02-19 | Denso Corporation | Fuel injection valve |
| US8474438B2 (en) | 2009-04-03 | 2013-07-02 | Denso Corporation | Fuel injection valve |
| CN104511994A (zh) * | 2013-09-30 | 2015-04-15 | 东捷科技股份有限公司 | 压印系统的膜厚均匀度控制方法 |
-
1991
- 1991-09-17 JP JP26725091A patent/JPH0573968A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6105437A (en) * | 1997-10-10 | 2000-08-22 | Wika Alexander Wiegand Gmbh & Co. | Pressure transducer |
| JP2006518288A (ja) * | 2003-01-30 | 2006-08-10 | タック ファスト システムズ ソシエテ アノニム | フック板の製造システムおよび方法 |
| US7919034B2 (en) | 2003-01-30 | 2011-04-05 | Tac-Fast Georgia L.L.C. | System and methods of manufacturing hook plates |
| US7374417B2 (en) | 2003-03-31 | 2008-05-20 | Hitachi, Ltd. | Stamper and transfer apparatus |
| JP2009248503A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 微細構造転写装置 |
| US8375924B2 (en) | 2009-04-03 | 2013-02-19 | Denso Corporation | Fuel injection valve |
| US8474438B2 (en) | 2009-04-03 | 2013-07-02 | Denso Corporation | Fuel injection valve |
| CN104511994A (zh) * | 2013-09-30 | 2015-04-15 | 东捷科技股份有限公司 | 压印系统的膜厚均匀度控制方法 |
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