JPH0575685B2 - - Google Patents

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JPH0575685B2
JPH0575685B2 JP60284172A JP28417285A JPH0575685B2 JP H0575685 B2 JPH0575685 B2 JP H0575685B2 JP 60284172 A JP60284172 A JP 60284172A JP 28417285 A JP28417285 A JP 28417285A JP H0575685 B2 JPH0575685 B2 JP H0575685B2
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    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626—Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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    • Y10S423/09—Reaction techniques
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、単一成分及び／又は多成分の金属酸
化物、及び金属酸化物、金属酸化物混合物、フエ
ライト及びSiO2−化合物のようなこれらの混合
物に基づくセラミツク粉末を製造するための方法
と装置に関する。このセラミツク粉末は、主たる
粒子の狭い粒径分布を持ち、即ち主たる粒径
（REM）の最大偏差は＋／−0.75μｍ好ましくは
＋／−0.25μｍであり、また0.05から10.0μｍまで
の範囲内の粒系を有している。製造されたセラミ
ツク粉末組成物は、耐火材料の製造については勿
論、フエライト、チタン酸塩、スピネル、ジルコ
ニウム酸塩、ガーネツト、ケイ酸塩、酸化マグネ
シウム、酸化アルミニウム、セラミツク顔料、研
磨剤、酸化物のセラミツク担体材料の製造に好適
であり、次にそのまま使用されるか、又は次の製
造工程において公知の方法で部品にプレスされた
後、焼結される。
〔発明の概要〕
本発明は、次のような工程を特徴とするもので
ある。即ち、金属、金属酸化物、金属水酸化物、
金属塩、SiO2−化合物の成分の中の少くとも一
つを含み、また0.05から500m2／ｇ（BET）、好
ましくは、5.0m2／ｇまでの比表面積を有する原
料及び／又は混合物を、10から2500μｍ、好まし
くは25から250μｍまでの平均直径を有する分級
された微粒子の状態で、0.5から15秒間、好まし
くは1.5から５秒間炉中で処理する。この炉は、
500〓から3500〓、好ましくは2500〓までの温度
で運転しており、この炉内に供給材料が自由に流
れ、供給材料は、酸化的、不活性又は還元的な炉
内の雰囲気中を重力の作用により殆ど自由落下の
ように落下する。
本発明による製造方法を実施するための装置
は、炉が落下式筒型炉であり、この炉は少くとも
１つの落下式筒型構成部分を有し、また固体の集
合状態にある原料物質を自然落下させる装置を有
していることを特徴とするものである。
最終生成物の所望の性質により、炉の雰囲気
は、例えばアルゴン、N2による不活性状態又は
調節可能な酸化的状態又は還元的状態とする。
〔従来の技術〕
この分野における関連する従来技術は、例えば
図面の第１図と第２図に示すような工程図及び下
記の関連文献によつて最も良く説明されており、
第１図に関しては「ビユルタン・ド・ラ・ソシエ
テ・セラミツク（Bulletin de la
Societe′ Ceramique）」C525、A43及び第２図に
関しては「フイルマ・アイリヒ・フアハベリヒ
テ・アウスガーベ（Firma Eirich Fachberichte
Ausgabe）21／1980」を比較対照されたい。これ
らから、多段階で複雑な製造工程が常に含まれて
いることが明らかである。
更に、セラミツク粉末を製造するための他の公
知の製法があり、これは溶液又は懸濁液を加熱し
た反応室（例えばスプレイ・ロースタ）中に直接
又は間接的に噴霧すること特徴とするものであ
る。このような製法は、文献にもしばしば記載さ
れている。特許文献に基づく２、３の例を挙げる
ことができる。即ち、例えば米国特許3378335、
西独特許公告公報2403900及び欧州特許0011265で
ある。
予備焼結した又は反応焼結したセラミツク粉末
の製造は、流動体にしたベツド反応物とスプレ
イ・ロータス炉の使用と同様に、プレートプツシ
ユ型炉、チヤンバーキルン、ロータリキルン、振
り子キルンを使用して公知の方法で行う。
〔発明が解決しようとする問題点〕
予備焼結の程度とこれらの製法により製造され
たセラミツク粉末の化学的及び物理的性質は、こ
れらの場合、材料特性における工程依存性の変動
によつてかなり影響を受け、これらはその後の製
造工程で問題を生じさせ、また低品質の生成物が
できる可能性がある。
セラミツク粉末を製造するための上記製法にお
いては、特に種々の理由により製造途中のセラミ
ツク反応生成物、取り分け同時的な熱的及び化学
処理で集合体と塊りができ上る個々の粒子を提供
することは不可能である。この事実によれば、異
なる化学的分析を結果と広く散らばつた粒径分布
を示す粒子が必ず生成されることになり、これは
後のそしてしばしば不適当な粉砕手段による然る
べき方法によつては改善することができないもの
である。これに関連して非常に複雑な粉砕方法及
び等級を上げる方法は、「アドバンシーズ・イ
ン・セラミツクス（Advances in Ceramics）」
Vol 17、18（1984／85）、Amar.Soc.（オチアイと
オクタニによる研究）に論じられている。
例えば噴霧焼成工程における加熱した予備焼結
炉（又は反応焼結炉）において、炉の雰囲気の性
質は燃料ガスの組成に強く依存しているものであ
り、所望の方法で自由に選ぶことはできない。
フエライトを製造するための重要な原料であ
る、例えばアルフア酸化第２鉄を製造する場合、
上記事実によれば文献でも既に説明されているよ
うに、マグヘマイト（ガンマ酸化第２鉄）という
マグネタイト（第１鉄と第２鉄の酸化物）という
様々な好ましくない内容物が生成することにな
る。フイツク（Fick）とゼンガー（Zenger）「ア
ドバンシーズ・イン・セラミツク」Vol.17と18
（1984／85）、発行者Ame.Cer.Soc.を参照された
い。
噴霧焼成は、20μｍから500μｍまでの直径を有
する粒を焼成炉中に噴霧することを特徴とするも
のであり、これは上述した参考文献に記載されて
いる。製造条件に基づき、サイクロンからの反応
及び燃焼ガスにより、焼成物の大きな粒又は大き
な塊と比較して、焼成物の小さな粒又は小さな塊
は、より高い所に上げられて、異なる熱処理を受
けることになる。この事実により、非常に異なつ
た粒径を有する主たる単一の結晶より成る生成物
が得られることになる。更に、長い処理時間を必
要とする、特に予備焼結と反応焼結のための工程
は、最初から細かく分散している不純物が自動的
に集積する程、結晶又は粒子の成長を引き起こし
ている。
不純物の好まなくない分布及びその後の粉砕操
作（これは経済的理由により不純物を再び細かく
分散させるには不充分である）は、広く分散して
いる粒径分布を共に、前以つて焼結した形作つた
セラミツク部品にこのようなセラミツク粉末を使
用したことにより所謂セラミツクの２重構造の形
成の原因となつており、これが材料特性に好まし
くない影響を与えている。
本発明は、新規な予備焼結及び／又は反応焼結
方法により、前以つて決めた粒子又は主たる結晶
のサイズ（ミクロンとサブミクロンの範囲内）の
集合又は塊りより成り、安定した化学分析結果を
示すと共に狭い粒径分布を示すセラミツク粉末の
製造を確実にすることを目的とする。ここでの粒
径の意味は、DIM53206、リーフレツト１、２
頁、パラグラフ1.1の定義に基づく。更に、生成
物は、製造に関連した不純物を含んでいるような
ものであつてはならない。
〔問題点を解決するための手段〕
第３図に示すように、サイロ１には前以つて決
めた材料特性を有する原料が入つている。例えば
スクリユーの形式である分布器２及び例えば漏斗
の形式である供給器３により、原料の微粒子は、
間接的な加熱器６及び良好な絶縁体７によつて囲
まれた落下式炉の構成部分５に導入され、ここで
例えば微粒子は略自由落下方式で２、３秒のうち
に反応温度にもつて来られ、配管系８により前以
つて決められた炉の雰囲気に応じて、制御可能な
材料特性を示す反応生成物に変えられる。冷却用
クラツプ、冷却用コイル、冷却用箱、冷却用板の
ような形式の次の冷却系９，１０，１１により、
生成したセラミツク粉末１２は、例えば空気中、
液体ガス中での冷却または調節可能な酸化物、還
元的又は不活性条件で室温に冷却される。生成し
た反応ガスは、炉の出入口４又は炉の底部を通つ
て排出される。落下式筒型構成部分５を、３つ以
上の温度領域に分けることができることは勿論で
ある。
原料微粒子を予備加熱するために、加熱装置は
分配器又は供給器に設けても良い。
〔実施例〕
以下に本発明を実現の実施例によつてより詳細
に説明するが、これらの実験例はＡ、Ｂ、Ｃ及び
Ｄの４つの温度領域を有する垂直落下式筒型構造
を使用して行つたものである。
実験例 １ 目的：0.4μｍの主たる粒径を有するマンガン−亜
鉛−フエライト粉末の製造 次の組成、即ち14.5wt％MnO、12.5wt％ZnO
及び72.0wt％Fe2O3より成る原料混合物をボール
ミル中で粉砕した後、得られた懸濁液を噴霧乾燥
させた。37μｍから88μｍまでの粒系の微粒子を
ふるい分けた後、これをサイロに入れた。この微
粒子は、0.5wt％の残留水分を有していた。比表
面積（BET）は、8.0m2／ｇであつた。
垂直落下式筒型炉内の製造条件を、本実施例に
係る粉末の材料特性と共に下記に記す。
落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：100 ２ 供給装置：分配スクリユー ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……1100、Ｂ領域…
…1250、Ｃ領域……1400、Ｄ領域……1400 ４ 処理時間（秒）：2.5 ５ 壁の付着物：痕跡（Ｂ領域） ６ 容積重（ｇ／）：865 ７ 炉の雰囲気：空気 ８ 生成物の後処理：空気中の冷却 ９ コメント： 生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：3.15 ２ 相：スピネル、原料は不検出 ３ 主たる粒径（μｍ）：0.39 粒子分布（μｍ）：0.30〜0.45 粒子の形状：球状 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：20〜60 強度：弱い ５ 押出し成形性：良好 ６ 容積重（ｇ／）：1540 ７ 不純物の度合（ppm）：マイナス520ppmの塩
含有量 ８ 生成量（ｇ／テスト）：360000、（ｇ／分）：
103.5 ９ コメント： 実験例 ２ 目的：約0.4μｍの主たる粒径を有するニツケル・
フエライト粉末の製造 次の組成、即ち63.26wt.％Fe2O3及び36.73wt.
％Ni（OH2）より成る原料混合物をサンド・ミル
で粉砕した後、得られた懸濁液を噴霧乾燥させ
た。
粒径が44μｍから105μｍの間にある微粒子をふ
るい分けた後、サイロへ移した。この微粒子の残
留水分は、0.38wt.％であり、比表面積は12.0m2／
ｇであつた。
垂直落下式筒型炉内の製造条件を、本実施例に
係る粉末の材料特性と共に下記に記す。
垂直落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：100 ２ 供給装置：振動式分配シユート ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……1000、Ｂ領域…
…1350、Ｃ領域……1400、Ｄ領域……1450 ４ 処理時間（秒）：2.6 ５ 壁の付着物：無し ６ 容積重（ｇ／）：920 ７ 炉の雰囲気：空気 ８ 生成物の後処理：空気中での冷却 ９ コメント： 生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：2.6 ２ 相：ニツケル・フエライト、未確認相の痕跡 ３ 主たる粒径（μｍ）：0.46 粒子分布（μｍ）：0.4〜0.5 粒子の形状：球状 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：25から65 強度：弱い ５ 押出し成形性：可 ６ 容積重（ｇ／）：1640 ７ 不純物の度合（ppm）：マイナス650のCl′及
びSO3″ ８ 生成量（ｇ／テスト）：270000、（ｇ／分）：
93.2 ９ コメント： 実験例 ３ 1μｍの主たる粒径を有するMgO粉末を製造 下記の組成、即ち98.5wt.％MgO、0.2wt.％
CaO及び0.3wt.％SiO2より成る原料混合物（これ
は12.5m2／ｇの比表面積と30から250μｍの塊りの
大きさを有する、噴霧焼成したマグネシウム酸化
物として存在していた）を分配シユートから垂直
落下式筒型炉に落下させることにより直ちに材料
温度を800〓とした。
落下式筒型炉内の製造条件を、本実験例に係る
粉末の材料特性と共に下記に記す。
落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：100 ２ 供給装置：分配スクリユー ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……1850、Ｂ領域…
…2050、Ｃ領域……2050、Ｄ領域……2000 ４ 処理時間（秒）：4.7 ５ 壁の付着物：無し ６ 容積重（ｇ／）：380 ７ 炉の雰囲気：空気 ８ 生成物の後処理：空気中で緩徐に冷却 ９ コメント：炉内に排ガスの逆流案内手段を設
置 生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：1.85 ２ 相：ペリクレース ３ 主たる粒径（μｍ）：0.93 粒子分布（μｍ）：0.8〜1.2 粒子の形状：球状 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：20から160 強度：弱い ５ 押出し成形性：良 ６ 容積重（ｇ／）：1280 ７ 不純物の度合（ppm）：600以下のCl′ ８ 生成量（ｇ／テスト）：450000、（ｇ／分）：
98.9 ９ コメント： 実験例 ４ 目的：SiO2に富む、上の等級に変えた残留分に
基づくセラミツク担体材料の製造 原料混合物は、次の組成、即ち80.1wt.％SiO2、
2.1wt.％Al2O3、0.5wt.％Fe2O3及び1.0wt.％K2O、
2.5wt.％ホウ砂より成る。内容物の残部は、実質
的には結晶水と水分であつた。原料の比表面積
は、218.0m2／ｇであつた。500から1500μｍの直
径を有する微粒子に対して実施した。
落下式筒型炉内の製造条件を、本実験例に係る
粉末の材料特性と共に下記に記す。
落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：250 ２ 供給装置：分配シユート ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……1200、Ｂ領域…
…1350、Ｃ領域……1350、Ｄ領域……1350 ４ 処理時間（秒）：2.6 ５ 壁の付着物：微量 ６ 容積重（ｇ／）：980 ７ 炉の雰囲気：空気 ８ 生成物の後処理：空気中での冷却 ９ コメント：K2Oとホウ砂の添加生成物のデー
タ 生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：35.5 ２ 相：ケイ酸塩SiO2ガラス ３ 主たる粒径（μｍ）：0.06 粒子分布（μｍ）：0.03〜0.08 粒子の形状：球状、板状 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：200〜1200 強度：良 ５ 押出し成形性：可 ６ 容積重（ｇ／）：1675 ７ 不純物の度合（ppm）：マイナス2000ppmCl′ ８ 生成量（ｇ／テスト）：400000、（ｇ／分）：
235 ９ コメント： 実験例 ５ 目的：0.8μｍの平均粒径を有するストロンチウ
ム・フエライト粉末の製造 次の組成、即ち15wt.％SrCO3と85.0wt.％
Fe2O3をサンド・ミル中で湿式粉砕した後、得ら
れた懸濁液を噴霧乾燥させた。振動篩で37μｍか
ら24μｍのサイズの微粒子をふるい分けし、これ
をサイロへ入れた。残留水分は、0.35wt.％、比
表面積（BET）は7.6m2／ｇであつた。
この落下式筒型炉内の製造条件を、本実験例に
係る粉末の材料特性と共に下記に記す。
落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：100 ２ 供給装置：分配シユート ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……1300、Ｂ領域…
…1500、Ｃ領域……1600、Ｄ領域……1580 ４ 処理時間（秒）：2.8 ５ 壁の付着物：無し ６ 容積重（ｇ／）：1150 ７ 炉の雰囲気：空気 ８ 生成物の後処理：空気中での冷却 ９ コメント： 生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：1.45 ２ 相：ヘキサフエライト、他の相の痕跡 ３ 主たる粒径（μｍ）：0.78 粒子分布（μｍ）：0.7〜0.9μｍ 粒子の形状：球状、板状 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：25〜60 強度：著しい ５ 押出し成形性：可 ６ 容積重（ｇ／）：1760 ７ 不純物の度合（ppm）：マイナス750ppmCl′、
SO3 ８ 生成量（ｇ／テスト）：500000、（ｇ／分）：
95.8 ９ コメント： 実験例 ６ 目的：塩化セリウムの水和物からの0.2μｍの平均
粒径を有するCe2O3の製造 塩化セリウムの７水和物を機械的手段で粉砕し
た後、44.0から88μｍまでの分級した微粒子をサ
イロへ移した。
残留水分は、約0.5wt.％であつた。
この落下式筒型炉内の製造条件を、本実験例に
係る粉末の材料特性と共に下記に記す。
落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：4.2 ２ 供給装置：分配シユート ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……800、Ｂ領域……
1250、Ｃ領域……1350、Ｄ領域……1350 ４ 処理時間（秒）：2.9 ５ 壁の付着物：無し ６ 容積重（ｇ／）：865 ７ 炉の雰囲気：N2、HCl、H2O、7.5Vol.％、
O2、NOx ８ 生成物の後処理：飽和蒸気520〓 ９ コメント：廃ガスを炉の出入口から取り出し
た。
生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：4.2 ２ 相：Ce2O3（アルフア） ３ 主たる粒径（μｍ）：0.2 粒子分布（μｍ）：0.1〜0.3 粒子の形状：三稜形 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：20〜60 強度：良い ５ 押出し成形性：良好 ６ 容積重（ｇ／）：1460 ７ 不純物の度合（ppm）：低いCl′含有量70ppm ８ 生成量（ｇ／テスト）：250000、（ｇ／分）：
105 ９ コメント： 実験例 ７ 目的：0.5μｍの平均粒径を有する粉末のアルフア
−Al2O3の製造 バイヤーの製法に基づいて製造した99.1wt.％
Al2O3・3H2Oは、46.5m2／ｇの比表面積を有して
いた。45から105μｍの範囲内の直径を有する微
粒子をふるい分けした後、原料をサイロへ移し
た。残留水分は0.4wt.％であつた。
この落下式筒型炉内の製造条件を、本実験例に
係る粉末の材料特性を共に下記に記す。
落下式筒型炉内の製造条件 １ 供給量（ｇ／分）：100 ２ 供給装置：分配シユート ３ 温度分布（〓）：Ａ領域……800、Ｂ領域……
2050、Ｃ領域……2050、Ｄ領域……2050 ４ 処理時間（秒）：3.5 ５ 壁の付着物：無し ６ 容積重（ｇ／）：680 ７ 炉の雰囲気：空気＋H2O ８ 生成物の後処理：空気冷却 ９ コメント： 生成物のデータ １ 比表面積（m2／ｇ）：3.35 ２ 相：アルフアAl2O3 ３ 主たる粒径（μｍ）：0.44 粒子分布（μｍ）：0.35〜0.55 粒子の形状：球状 ４ 塊り又は集合体のサイズ（μｍ）：35〜75 強度：弱い ５ 押出し成形性：良好 ６ 容積重（ｇ／）：1380 ７ 不純物の度合（ppm）：マイナス
250ppmSO3″ ８ 生成量（ｇ／テスト）：200000、（ｇ／分）：
62.5 ９ コメント：
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の製法及び例えば３つの温度領
域であるＡ、Ｂ及びＣに分けられた垂直落下式筒
型炉の形式である、この製法と関連する装置を示
す模式図、第２図及び第３図は従来技術の製造方
法を示す工程図である。 １はサイロ、２は分配器、３は供給器、５は炉
の構成部分、６は加熱器、８は配管系、９，１
０，１１は冷却系、１２はセラミツク粉末であ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 0.05から500m2／ｇ（BET）の比表面積を有
    し、成分である金属、金属酸化物、金属水酸化
    物、金属塩及びSiO2化合物の中から少なくとも
    １つを選んだ供給原料を、 酸化的、不活性又は還元的雰囲気の炉内を重力
    の作用により略自由落下式に供給原料が自由に流
    れて降下する炉内で、10から2500μｍの平均直径
    を有する分級された微粒子の状態で500から3500
    〓の温度で0.5から15秒間処理することにより、 狭い粒径分布、即ち＋／−0.75μｍより小さい
    主たる粒径の最大偏差（REM）を持つと共に
    0.05μｍから10μｍまでの主たる粒径範囲を有す
    る、 金属酸化物及びこれらの混合物より成るセラミ
    ツク粉末の製造方法。 ２ 上記金属酸化物及びこれらの混合物は、金属
    酸化物、金属酸化物混合物、フエライト及び
    SiO2化合物の中から選ばれたものである特許請
    求の範囲第１項記載の方法。 ３ 上記金属酸化物及びこれらの混合物は、＋／
    −0.25μｍの主たる粒径の最大偏差を持ち、 上記供給源料の成分は、5.0から50m2／ｇまで
    の比表面積を持ち、これらの成分は、25から
    250μｍまでの平均直径を有する分級された微粒
    子の状態にあり、 そして500から2500〓までの温度で1.5から５秒
    間炉内で処理されるようにした特許請求の範囲第
    １項記載の方法。 ４ 上記供給原料は、微粒子を別々にふるい分け
    した後、炉内に供給されるようにした特許請求の
    範囲第１項記載の方法。 ５ 上記供給原料は予備加熱され、分配器によつ
    て炉内に供給されるようにした特許請求の範囲第
    １項記載の方法。 ６ 略自由落下する分級された微粒子及びこれら
    の炉からの排出が速度が、炉内の反応ガスの作用
    によつて減速又は加速されるようにした特許請求
    の範囲第１項記載の方法。 ７ 本発明により製造されるセラミツク粉末は、
    超音波粉砕装置、サンド・ミル及びジエツト・ミ
    ルによつて塊りが壊されて、単一の集合体及び／
    又は主たる結晶が生じるようにした特許請求の範
    囲第１項記載の方法。 ８ 金属酸化物及びこれらの混合物より成り、狭
    い粒径分布、即ち＋／−0.75μｍより小さい主た
    る粒径の最大偏差（REM）を持つと共に0.05μｍ
    から10μｍまでの主たる粒径範囲を有するセラミ
    ツク粉末を製造するための装置であつて、 少なくとも、10から2500μｍの平均直径を有す
    る分級された微粒子の状態にした供給源料を炉内
    に導入するための分配器及び供給器、該原料を
    500から3500〓の温度に加熱する手段並びに生成
    されたセラミツク粉末を上記炉から回収する手段
    を備え、 上記炉は、略自由落下状態を作る垂直落下式筒
    型炉の形であつて、少なくとも１つの落下式筒型
    構成部分と、固体の集合状態にある供給原料を自
    由落下状態にするための装置とを有するセラミツ
    ク粉末の製造装置。 ９ 上記落下式筒型構成部分は、複数の加熱領域
    に分けられた温度分布を有する特許請求の範囲第
    ８項記載の装置。 １０ 上記垂直落下式筒型炉の落下式筒型構成部
    分は、間接的に加熱されるようにした特許請求の
    範囲第９項記載の装置。 １１ 上記落下式筒型炉の間接的な加熱は、プラ
    ズマ・バーナで行われるようにした特許請求の範
    囲第１０項記載の装置。 １２ 少なくとも１つの冷却系が、上記の最後の
    加熱領域の後に配設された特許請求の範囲第９項
    記載の装置。 １３ 上記冷却系は、空気中、水中、液体ガス中
    での冷却又は調整可能な酸化的、還元的又は不活
    性状態の下での冷却の中から選ばれた、制御され
    た冷却状態を有している特許請求の範囲第１２項
    記載の装置。
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