JPH0576952B2 - - Google Patents
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- JPH0576952B2 JPH0576952B2 JP85260622A JP26062285A JPH0576952B2 JP H0576952 B2 JPH0576952 B2 JP H0576952B2 JP 85260622 A JP85260622 A JP 85260622A JP 26062285 A JP26062285 A JP 26062285A JP H0576952 B2 JPH0576952 B2 JP H0576952B2
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- methyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
- Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
Description
本発明は立体選択性を有する還元剤およびその
製法、並びに該還元剤を使用した還元反応に関す
る。 従来、立体選択性を有する還元剤としては次よ
うなものがあげられる。 (1) プロスタグランジン類の合成において、15位
のカルボニル基をリチウムセキシルリモニルボ
ロヒドリドを用いて還元した結果、最高で
15S:15Rの比が92:8であつた〔E.J.Corey
etal・、J.Amer.Chem.Soc.、94巻、8616頁
(1972年)〕。 しかしながら、本反応では水酸基の保護基と
して特殊な保護基を使用する必要のあること、
反応温度が非常に低いことなどの欠点を有す
る。 (2) プロスタグランジン中間体の製造において、
15位のカルボニル基をS−水素化1,1′−ビナ
フチル−2,2′−ジオキシエトキシアルミニウ
ムリチウムを用いて還元した結果、最高で
15S:15Rの比が100:0であつた〔R.Noyori
etal.、J.Amer.Chem.Soc.、101巻、5843頁
(1979年)〕。しかしながら、本反応においては、
還元剤の原料化合物である光学活性体(S)−(−)
−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル
の製造が困難であること、反応温度が非常に低
いことなどの欠点を有する。 (3) プロテスタグランジン類の合成において、15
位のカルボニル基をジイソブチルアルミニウム
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノキ
シドを用いて還元した結果、最高で15S:15R
の比が92:8であつた〔S.Iguchi et al.、J.
Org.Chem.、44巻、8号、1363頁(1979年)〕。
しかしながら、本反応においては、立体選択性
が高いのは11位の水酸基が保護されていない場
合であり、11位の水酸基が保護されている場合
は立体選択性は低いという欠点を有する。従つ
て、その応用範囲は限定されたものである。 (4) 置換アルミニウム水素化物が還元剤として使
用されることは知られている(特公昭45−
41214号および同47−1452号)。そしてプロスタ
グランジン類の中間体において、15位のカルボ
ニル基をヒドライド(Vitride )やK−セレ
クトライド(K−Selectride )を用いて還元
した結果も知られている〔D.H.Picker et al.、
Synthetic Communications、5巻、6号、
451頁(1975年)〕。しかしながら、本反応にお
いては、本発明の還元剤と最も近似しているヒ
ドライドを使用した場合において、15S:15R
の比が41:33であり、選択性が非常に低いこ
と、および13:の二重結合も同時に還元された
副生成物も得られるなどの欠点を有する。 そこで、本発明者らは立体選択性を有する還元
剤について鋭意研究した結果、本発明を完成し
た。 (1) 本発明の還元剤およびその製法 本発明の還元剤は次式
製法、並びに該還元剤を使用した還元反応に関す
る。 従来、立体選択性を有する還元剤としては次よ
うなものがあげられる。 (1) プロスタグランジン類の合成において、15位
のカルボニル基をリチウムセキシルリモニルボ
ロヒドリドを用いて還元した結果、最高で
15S:15Rの比が92:8であつた〔E.J.Corey
etal・、J.Amer.Chem.Soc.、94巻、8616頁
(1972年)〕。 しかしながら、本反応では水酸基の保護基と
して特殊な保護基を使用する必要のあること、
反応温度が非常に低いことなどの欠点を有す
る。 (2) プロスタグランジン中間体の製造において、
15位のカルボニル基をS−水素化1,1′−ビナ
フチル−2,2′−ジオキシエトキシアルミニウ
ムリチウムを用いて還元した結果、最高で
15S:15Rの比が100:0であつた〔R.Noyori
etal.、J.Amer.Chem.Soc.、101巻、5843頁
(1979年)〕。しかしながら、本反応においては、
還元剤の原料化合物である光学活性体(S)−(−)
−2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−ビナフチル
の製造が困難であること、反応温度が非常に低
いことなどの欠点を有する。 (3) プロテスタグランジン類の合成において、15
位のカルボニル基をジイソブチルアルミニウム
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノキ
シドを用いて還元した結果、最高で15S:15R
の比が92:8であつた〔S.Iguchi et al.、J.
Org.Chem.、44巻、8号、1363頁(1979年)〕。
しかしながら、本反応においては、立体選択性
が高いのは11位の水酸基が保護されていない場
合であり、11位の水酸基が保護されている場合
は立体選択性は低いという欠点を有する。従つ
て、その応用範囲は限定されたものである。 (4) 置換アルミニウム水素化物が還元剤として使
用されることは知られている(特公昭45−
41214号および同47−1452号)。そしてプロスタ
グランジン類の中間体において、15位のカルボ
ニル基をヒドライド(Vitride )やK−セレ
クトライド(K−Selectride )を用いて還元
した結果も知られている〔D.H.Picker et al.、
Synthetic Communications、5巻、6号、
451頁(1975年)〕。しかしながら、本反応にお
いては、本発明の還元剤と最も近似しているヒ
ドライドを使用した場合において、15S:15R
の比が41:33であり、選択性が非常に低いこ
と、および13:の二重結合も同時に還元された
副生成物も得られるなどの欠点を有する。 そこで、本発明者らは立体選択性を有する還元
剤について鋭意研究した結果、本発明を完成し
た。 (1) 本発明の還元剤およびその製法 本発明の還元剤は次式
【式】
を有する。
式中、Mはナトリウムまたはリチウム原子を
示す。R1はアルキル基を示す。R2は置換分と
してハロゲンを有してもよいアルキル基、フエ
ニル基、ナフチル基又は置換分としてハロゲ
ン、トリハロゲノメチルもしくは炭素数1乃至
4のアルキル基を有するフエニル基を示す。 更に詳しくは、 Mはナトリウムまたはリチウムであり、好ま
しくはナトリウムである。 R1がアルキル基である場合、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チルのような直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキ
ル基であり、好ましくは炭素数1乃至5個を有
するアルキル基である。 R2がアルキル基である場合、例えばR1で述
べたと同様のアルキル基をあげることができ
る。R2が置換分としてハロゲンを有するアル
キル基である場合、ハロゲンとしてはクロロ、
ブロモ、ヨード、フルオロであり、好ましくは
フルオロである。アルキルとしては、例えば
R1で述べたと同様のアルキルをあげることが
できる。 置換分としてハロゲンを有するアルキル基と
しては、例えばヘキサクロロイソプロピル、フ
ルオロメチル、フルオロエチル、フルオロプロ
ピル、フルオロブチル、フルオロペンチル、フ
ルオロヘキシル、フルオロヘプチル、1,2−
ジフルオロエチル、2,2−ジフルオロエチ
ル、1,2,2−トリフルオロエチル、2,
2,2−トリフルオロエチル、ヘキサフルオロ
イソプロピルなどであり、好ましくは置換分と
してハロゲンを有する炭素数1乃至3個のアル
キル基であり、更に好ましくはハロゲノエチ
ル、2,2−ジハロゲノエチル、2,2,2−
トリハロゲノエチル、ヘキサハロゲノイソプロ
ピルである。 R2が例えばフエニル、1−ナフチル、2−
ナフチルであり、好ましくはフエニルである。 R2が置換分としてハロゲンを有するフエニ
ル基である場合、ハロゲンとしてはクロロ、ブ
ロモ、ヨード、フルオロであり、好ましくはク
ロロ、フルオロである。 置換分としてハロゲンを有するフエニル基と
しては、例えば4−フルオロフエニル、2,4
−ジクロロフエニル、2,4−ジフルオロフエ
ニル、2,3,4,5,6−ペンタクロロフエ
ニル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
エニル、4−クロロナフチル、4−フルオロナ
フチルなどであり、好ましくは2,3,4,
5,6−ペンタクロロフエニル、2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフエニルである。 R2が置換分としてトリハロゲノメチルを有
するフエニル基である場合、トリハロゲノメチ
ルとしては例えばトリクロロメチル、トリフル
オロメチルなどであり、好ましくはトリフルオ
ロメチルである。 置換分としてトリハロゲノメチルを有するフ
エニル基としては、例えば4−トリクロロメチ
ルフエニル、4−トリフルオロメチルフエニ
ル、4−トリフルオロメチルナフチルなどであ
り、好ましくは4−トリフルオロメチルフエニ
ルである。 R2が置換分としてアルキルを有するフエニ
ル基である場合、炭素数1乃至4のアルキル基
としては例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、i−プロピル、n−ブチル、t−ブチルの
ような直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基で
あり、好ましくはメチルまたはt−ブチルであ
る。 置換分としてアルキルを有するフエニル基と
しては、例えばトリル、キシリル、メシチル、
クメニル、2,6−ジ−t−ブチルフエニル、
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエニ
ル、4−メチルナフチルなどであり、好ましく
は置換分として炭素数1乃至4個を有するアル
キルを有するフエニルであり、更に好ましくは
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエニル
である。 本発明の還元剤としては、例えば次のような
化合物をあげることができる。
示す。R1はアルキル基を示す。R2は置換分と
してハロゲンを有してもよいアルキル基、フエ
ニル基、ナフチル基又は置換分としてハロゲ
ン、トリハロゲノメチルもしくは炭素数1乃至
4のアルキル基を有するフエニル基を示す。 更に詳しくは、 Mはナトリウムまたはリチウムであり、好ま
しくはナトリウムである。 R1がアルキル基である場合、例えばメチル、
エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブ
チル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チルのような直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキ
ル基であり、好ましくは炭素数1乃至5個を有
するアルキル基である。 R2がアルキル基である場合、例えばR1で述
べたと同様のアルキル基をあげることができ
る。R2が置換分としてハロゲンを有するアル
キル基である場合、ハロゲンとしてはクロロ、
ブロモ、ヨード、フルオロであり、好ましくは
フルオロである。アルキルとしては、例えば
R1で述べたと同様のアルキルをあげることが
できる。 置換分としてハロゲンを有するアルキル基と
しては、例えばヘキサクロロイソプロピル、フ
ルオロメチル、フルオロエチル、フルオロプロ
ピル、フルオロブチル、フルオロペンチル、フ
ルオロヘキシル、フルオロヘプチル、1,2−
ジフルオロエチル、2,2−ジフルオロエチ
ル、1,2,2−トリフルオロエチル、2,
2,2−トリフルオロエチル、ヘキサフルオロ
イソプロピルなどであり、好ましくは置換分と
してハロゲンを有する炭素数1乃至3個のアル
キル基であり、更に好ましくはハロゲノエチ
ル、2,2−ジハロゲノエチル、2,2,2−
トリハロゲノエチル、ヘキサハロゲノイソプロ
ピルである。 R2が例えばフエニル、1−ナフチル、2−
ナフチルであり、好ましくはフエニルである。 R2が置換分としてハロゲンを有するフエニ
ル基である場合、ハロゲンとしてはクロロ、ブ
ロモ、ヨード、フルオロであり、好ましくはク
ロロ、フルオロである。 置換分としてハロゲンを有するフエニル基と
しては、例えば4−フルオロフエニル、2,4
−ジクロロフエニル、2,4−ジフルオロフエ
ニル、2,3,4,5,6−ペンタクロロフエ
ニル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
エニル、4−クロロナフチル、4−フルオロナ
フチルなどであり、好ましくは2,3,4,
5,6−ペンタクロロフエニル、2,3,4,
5,6−ペンタフルオロフエニルである。 R2が置換分としてトリハロゲノメチルを有
するフエニル基である場合、トリハロゲノメチ
ルとしては例えばトリクロロメチル、トリフル
オロメチルなどであり、好ましくはトリフルオ
ロメチルである。 置換分としてトリハロゲノメチルを有するフ
エニル基としては、例えば4−トリクロロメチ
ルフエニル、4−トリフルオロメチルフエニ
ル、4−トリフルオロメチルナフチルなどであ
り、好ましくは4−トリフルオロメチルフエニ
ルである。 R2が置換分としてアルキルを有するフエニ
ル基である場合、炭素数1乃至4のアルキル基
としては例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、i−プロピル、n−ブチル、t−ブチルの
ような直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基で
あり、好ましくはメチルまたはt−ブチルであ
る。 置換分としてアルキルを有するフエニル基と
しては、例えばトリル、キシリル、メシチル、
クメニル、2,6−ジ−t−ブチルフエニル、
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエニ
ル、4−メチルナフチルなどであり、好ましく
は置換分として炭素数1乃至4個を有するアル
キルを有するフエニルであり、更に好ましくは
2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエニル
である。 本発明の還元剤としては、例えば次のような
化合物をあげることができる。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
本発明の還元剤として、特に好ましいのはM
がナトリウムまたはカリウムであり、R1がメ
チルまたはエチルであり、R2がエチル、n−
プロピル、i−プロピル、n−ブチル、2−フ
ルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、
2,2,2−トリフルオロエチル、ヘキサフル
オロイソプロピル、フエニル、ナフチル、2,
3,4,5,6−ペンタクロロフエニル、2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフエニルまた
は4−トリフルオロメチルフエニルである化合
物である。 本発明の還元剤は次の製法によつて得られ
る。 即ち、式 MAlH2(OCH2CH2OR1)2 () (式中、MおよびR1は前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を、式 R2−OH () (式中、R2は前述したものと同意義を示
す。) と接触させることによつて得られる。 反応は前記一般式()を有する化合物1モ
ルに対して、前記一般式()を有する化合物
を約0.5〜1.5モル量加えることによつて達成さ
れる。 反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。使
用される溶剤としては反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく、例えばジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ
ーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類が好適である。反応温度は
比較的低温が好ましく、−20℃乃至室温程度、
好適には0℃付近である。反応時間は反応条件
によつて異なるが、通常は使用した前記一般式
()を有する化合物と等モルの水素が発生し
た時点で反応は完了する。 反応終了後、目的化合物は例えば窒素気流中
で反応混合物より減圧下で溶剤を留去すること
によつて得られる。通常は特に溶剤を留去する
ことなく、そのままの状態で還元剤として使用
される。 なお、本発明の原料化合物である前記一般式
()を有する化合物は特公昭45−41214号およ
び同47−1452号に記載されており、公知であ
る。 (2) 本発明の還元剤の使用方法 本発明の還元剤は、次に示す如く、カルボニ
ル基を還元して立体特異的な水酸基を得るのに
特に有用である。 即ち、式
がナトリウムまたはカリウムであり、R1がメ
チルまたはエチルであり、R2がエチル、n−
プロピル、i−プロピル、n−ブチル、2−フ
ルオロエチル、2,2−ジフルオロエチル、
2,2,2−トリフルオロエチル、ヘキサフル
オロイソプロピル、フエニル、ナフチル、2,
3,4,5,6−ペンタクロロフエニル、2,
3,4,5,6−ペンタフルオロフエニルまた
は4−トリフルオロメチルフエニルである化合
物である。 本発明の還元剤は次の製法によつて得られ
る。 即ち、式 MAlH2(OCH2CH2OR1)2 () (式中、MおよびR1は前述したものと同意
義を示す。)を有する化合物を、式 R2−OH () (式中、R2は前述したものと同意義を示
す。) と接触させることによつて得られる。 反応は前記一般式()を有する化合物1モ
ルに対して、前記一般式()を有する化合物
を約0.5〜1.5モル量加えることによつて達成さ
れる。 反応は溶剤の存在下で好適に行なわれる。使
用される溶剤としては反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく、例えばジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエ
ーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレンなど
の芳香族炭化水素類が好適である。反応温度は
比較的低温が好ましく、−20℃乃至室温程度、
好適には0℃付近である。反応時間は反応条件
によつて異なるが、通常は使用した前記一般式
()を有する化合物と等モルの水素が発生し
た時点で反応は完了する。 反応終了後、目的化合物は例えば窒素気流中
で反応混合物より減圧下で溶剤を留去すること
によつて得られる。通常は特に溶剤を留去する
ことなく、そのままの状態で還元剤として使用
される。 なお、本発明の原料化合物である前記一般式
()を有する化合物は特公昭45−41214号およ
び同47−1452号に記載されており、公知であ
る。 (2) 本発明の還元剤の使用方法 本発明の還元剤は、次に示す如く、カルボニ
ル基を還元して立体特異的な水酸基を得るのに
特に有用である。 即ち、式
【式】
〔式中、R3は水酸基の保護基を示す。R4は置
換されていてもよいアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、置換されていてもよいシク
ロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール
基、または式−CH2−Q−R5基(式中、Qは
単結合、酸素原子、硫黄原子またはメチレン基
を示し、R5は置換されていてもよいシクロア
ルキル基またはアリール基を示す。)を示す。
Xは
換されていてもよいアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、置換されていてもよいシク
ロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール
基、または式−CH2−Q−R5基(式中、Qは
単結合、酸素原子、硫黄原子またはメチレン基
を示し、R5は置換されていてもよいシクロア
ルキル基またはアリール基を示す。)を示す。
Xは
【式】または
【式】
(式中、Yはカルボニル基の保護基または式=
CH−(CH2)o−A−(CH2)o′−R6基を示す。W
およびZは共に水素原子を示すか、または一方
が水素原子を示し、他方が保護された水酸基を
示すか、またはWおよびZが一緒になつてカル
ボニル基の保護基を示す。Aは単結合、酸素原
子、硫黄原子またはビニレン基を示す。nは0
乃至4の整数を示し、n′は0乃至4の整数を示
す。R6は保護されていてもよいヒドロキシメ
チル基または保護されていてもよいカルボキシ
ル基を示す。R7は式−(CH2)n−R6基または式
−CH2−CH=CH−(CH2)n-3−R6基を示す。
但し、mは3乃至8の整数を示す。)を示す。〕 を有する化合物を式
CH−(CH2)o−A−(CH2)o′−R6基を示す。W
およびZは共に水素原子を示すか、または一方
が水素原子を示し、他方が保護された水酸基を
示すか、またはWおよびZが一緒になつてカル
ボニル基の保護基を示す。Aは単結合、酸素原
子、硫黄原子またはビニレン基を示す。nは0
乃至4の整数を示し、n′は0乃至4の整数を示
す。R6は保護されていてもよいヒドロキシメ
チル基または保護されていてもよいカルボキシ
ル基を示す。R7は式−(CH2)n−R6基または式
−CH2−CH=CH−(CH2)n-3−R6基を示す。
但し、mは3乃至8の整数を示す。)を示す。〕 を有する化合物を式
【式】
(式中、Mはナトリウムまたはリチウム原子を示
す。R1はアルキル基を示す。R2は置換分として
ハロゲンを有してもよいアルキル基、フエニル
基、ナフチル基又は置換分としてハロゲン、トリ
ハロゲノメチルもしくは炭素数1乃至4のアルキ
ル基を有するフエニル基を示す。) を有する本発明の還元剤と接触させることにより
式
す。R1はアルキル基を示す。R2は置換分として
ハロゲンを有してもよいアルキル基、フエニル
基、ナフチル基又は置換分としてハロゲン、トリ
ハロゲノメチルもしくは炭素数1乃至4のアルキ
ル基を有するフエニル基を示す。) を有する本発明の還元剤と接触させることにより
式
【式】
(式中、R3、R4およびXは前述したものと同
意義を示す。)を有する化合物を製造すること
ができる。 上記式中、 R3の水酸基の保護基、WまたはZの一方が
保護された水酸基である場合の水酸基の保護
基、R6が保護されていてもよいヒドロキシメ
チル基である場合の保護基としては、通常使用
される水酸基の保護基なら特に限定されない
が、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、ビニルオキシカルボニル、
ベンゾイル、ナフトイルのような低級脂肪族も
しくは芳香族アシル基;ベンジル、p−ニトロ
ベンジル、p−メトキシベンジルのようなアラ
ルキル基;2−テトラヒドロピラニル、2−テ
トラヒドロフラニル、4−メトキシテトラヒド
ロピラン−4−イル、2−テトラヒドロチオピ
ラニルのようなアルコキシ基を置換分として有
するか有しない環内に酸素原子または硫黄原子
を含有する5乃至6員環状の複素環基;メトキ
シメチル、エトキシメチル、2−メトキシエト
キシメチル、ベンジルオキシメチルのようなア
ルコキシ基もしくはアラルキルオキシ基を置換
分として有するメチル基;1−メトキシエチ
ル、1−エトキシエチルのような1−アルコキ
シエチル基またはトリエチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリn−プロピルシリル、t−ブチ
ルジメチルシリル、ジフエニルt−ブチルシリ
ルのようなトリ低級アルキルもしくはジアリー
ル低級アルキルシリル基をあげることができ
る。 R4の置換されていてもよいアルキル基のア
ルキル基としては例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチ
ルペンチル、2−メチルペンチル、n−ヘキシ
ル、n−ヘプチル、1,1−ジメチルペンチ
ル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘキシ
ル、2−エチルペンチル、n−オクチル、2−
メチルオクチル、n−ノニル、2−メチルノニ
ル、2−エチルオクチル、n−デシル、2−メ
チルデシルまたは2−エチルデシルのような炭
素数1乃至12個のアルキル基をあげることがで
き、好適には炭素数4乃至10個を有するアルキ
ル基、例えばn−ブチル、イソブチル、n−ペ
ンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、
2−メチルペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプ
チル、1,1−ジメチルペンチル、1−メチル
ヘキシル、2−メチルヘキシル、2−エチルペ
ンチル、n−オクチル、2−メチルオクチルま
たは2−エチルオクチル基であり、さらに好適
にはn−ペンチル、1−メチルペンチル、n−
ヘキシル、1,1−ジメチルペンチル、1−メ
チルヘキシルまたは2−メチルヘキシル基であ
る。 R4の置換されていてもよいアルキル基の置
換分としては、例えば弗素のようなハロゲン原
子またはメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシのような低
級アルコキシ基をあげることができ、好適に
は、弗素原子またはメトキシ基である。 R4のアルケニル基としては、1−ブチルビ
ニル、アリル、2−プロピルアリル、2−ブテ
ニル、2−ペンテニル、4−ペンテニル、2−
メチル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペ
ンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、4−
ヘキセニル、5−ヘキセニル、1,4−ジメチ
ル−3−ペンテニル、5−ヘプテニル、1−メ
チル−5−ヘキセニル、6−メチル−5−ヘプ
テニル、2,6−ジメチル−5−ヘプテニル、
1,1,6−トリメチル−5−ヘプテニル、6
−メチル−5−オクテニル、2,6−ジメチル
−5−オクテニル、6−エチル−5−オクテニ
ル、2−メチル−6−エチル−5−オクテニ
ル、2,6−ジエチル−5−オクテニルのよう
な炭素数3乃至12個を有する直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルケニル基をあげることができ、好
適には1−ブチルビニル、2−プロピルアリ
ル、2−ペンテニル、4−ペンテニル、2−メ
チル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペン
テニル、1−メチル−4−ペンテニル、4−ヘ
キセニル、5−ヘキセニル、1,4−ジメチル
−3−ペンテニル、5−ヘプテニル、1−メチ
ル−5−ヘキセニル、6−メチル−5−ヘプテ
ニル、2,6−ジメチル−5−ヘプテニルのよ
うな炭素数5乃至9個のアルケニル基である。 R4のアルキニル基としては、例えばプロパ
ルギル、2−ブチニル、3−ペンチニル、3−
ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、2−
ヘキシニル、1−メチル−2−ペンチニル、1
−メチル−3−ペンチニル、1,1−ジメチル
−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−3−ペ
ンチニル、1,1−ジメチル−2−ヘキシニル
のような炭素数3乃至8個を有するアルキニル
基をあげることができ、好適には炭素数4乃至
6個を有するアルキニル基、例えば2−ブチニ
ル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メ
チル−2−ペンチニルまたは1−メチル−3−
ペンチニル基であり、さらに好適には1−メチ
ル−3−ペンチニル基である。 R4およびR5の置換されていてもよいシクロ
アルキル基としては、例えばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、3−エチルシ
クロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシ
クロヘキシル、シクロヘプチルのような低級ア
ルキル基を置換分として有してもよい3乃至7
員環のシクロアルキル基をあげることができ、
好適にはシクロペンチルまたはシクロヘキシル
基である。 R4のシクロアルケニル基としては、例えば
2−シクロプロペン−1−イル、2−シクロブ
テン−1−イル、3−シクロペンテン−1−イ
ル、1−シクロヘキセン−1−イル、3−シク
ロヘプテン−1−イルのような3乃至7員環の
シクロアルケニル基をあげることができ、好適
にはシクロペンテン−1−イルまたはシクロヘ
キセン−1−イル基である。 R4およびR5のアリール基としては、フエニ
ル、o−トリル、m−トリル、p−トリル、p
−エチルフエニル、m−n−プロピルフエニ
ル、m−メトキシフエニル、p−メトキシフエ
ニル、o−エトキシフエニル、o−フルオロフ
エニル、m−フルオロフエニル、p−フルオロ
フエニル、m−クロロフエニル、p−クロロフ
エニル、p−ブロモフエニル、p−トリフルオ
ロメチルフエニル、3,4−ジメチルフエニ
ル、3−フルオロ−4−メチルフエニル、2,
4−ジクロロフエニルのような低級アルキル、
低級アルコキシ、ハロゲンまたはトリフルオロ
メチルを1乃至2個置換分として有していても
よいフエニル基をあげることができるが、好適
にはメチル、弗素、塩素またはトリフルオロメ
チルで置換されていてもよいフエニル基であ
り、さらに好適にはフエニル基である。 Qは好適には単結合、酸素原子またはメチレ
ン基であり、さらに好適には単結合または酸素
原子である。 また、好適な−CH2−Q−R5基としては、
例えばシクロペンチルメチル、シクロヘキシル
メチル、4−メチルシクロヘキシルメチル、ベ
ンジル、p−メチルベンジル、m−トリフルオ
ロベンジル、2−シクロペンチルエチル、2−
(3−メチルシクロペンチル)エチル、2−シ
クロヘキシルエチル、2−フエニルエチル、2
−(p−フルオロフエニル)エチル、シクロペ
ンチルオキシメチル、シクロヘキシルオキシメ
チル、フエノキシメチル、m−トリルオキシメ
チル、p−クロロフエノキシメチル、またはフ
エニルチオメチルをあげることができる。 Yのカルボニル基の保護基、WおよびZが一
緒になつて形成するカルボニル基の保護基とし
ては例えばジメトキシ、ジエトキシのようなジ
アルコキシ基、エチレンジオキシ、トリメチレ
ンジオキシのようなアルキレンジオキシ基、エ
チレンジチオ、トリメチレンジチオのようなア
ルキレンジチオ基等のカルボニル基の保護基を
示す。 Aは好適には単結合または酸素原子である。 nは好適には0乃至4の整数であり、n′は好
適には0または2であり、さらに好適には0で
ある。 R6が保護されていてもよいカルボキシル基
である場合の保護基としては、通常使用される
カルボキシル基の保護着なら特に限定されない
が、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、t−ブチルのような
低級アルキル基;ベンジル、p−ブロモベンジ
ルのようなアラルキル基;フエニル、トリルの
ようなアリール基;ベンツヒドリル基またはフ
エナシル基をあげることができ、好適には低級
アルキル基である。 本反応によつて得られる前記一般式()を有
する化合物としては、例えば次のような化合物を
挙げることができる。
意義を示す。)を有する化合物を製造すること
ができる。 上記式中、 R3の水酸基の保護基、WまたはZの一方が
保護された水酸基である場合の水酸基の保護
基、R6が保護されていてもよいヒドロキシメ
チル基である場合の保護基としては、通常使用
される水酸基の保護基なら特に限定されない
が、例えばアセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、ビニルオキシカルボニル、
ベンゾイル、ナフトイルのような低級脂肪族も
しくは芳香族アシル基;ベンジル、p−ニトロ
ベンジル、p−メトキシベンジルのようなアラ
ルキル基;2−テトラヒドロピラニル、2−テ
トラヒドロフラニル、4−メトキシテトラヒド
ロピラン−4−イル、2−テトラヒドロチオピ
ラニルのようなアルコキシ基を置換分として有
するか有しない環内に酸素原子または硫黄原子
を含有する5乃至6員環状の複素環基;メトキ
シメチル、エトキシメチル、2−メトキシエト
キシメチル、ベンジルオキシメチルのようなア
ルコキシ基もしくはアラルキルオキシ基を置換
分として有するメチル基;1−メトキシエチ
ル、1−エトキシエチルのような1−アルコキ
シエチル基またはトリエチルシリル、トリエチ
ルシリル、トリn−プロピルシリル、t−ブチ
ルジメチルシリル、ジフエニルt−ブチルシリ
ルのようなトリ低級アルキルもしくはジアリー
ル低級アルキルシリル基をあげることができ
る。 R4の置換されていてもよいアルキル基のア
ルキル基としては例えばメチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチ
ルペンチル、2−メチルペンチル、n−ヘキシ
ル、n−ヘプチル、1,1−ジメチルペンチ
ル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘキシ
ル、2−エチルペンチル、n−オクチル、2−
メチルオクチル、n−ノニル、2−メチルノニ
ル、2−エチルオクチル、n−デシル、2−メ
チルデシルまたは2−エチルデシルのような炭
素数1乃至12個のアルキル基をあげることがで
き、好適には炭素数4乃至10個を有するアルキ
ル基、例えばn−ブチル、イソブチル、n−ペ
ンチル、イソペンチル、1−メチルペンチル、
2−メチルペンチル、n−ヘキシル、n−ヘプ
チル、1,1−ジメチルペンチル、1−メチル
ヘキシル、2−メチルヘキシル、2−エチルペ
ンチル、n−オクチル、2−メチルオクチルま
たは2−エチルオクチル基であり、さらに好適
にはn−ペンチル、1−メチルペンチル、n−
ヘキシル、1,1−ジメチルペンチル、1−メ
チルヘキシルまたは2−メチルヘキシル基であ
る。 R4の置換されていてもよいアルキル基の置
換分としては、例えば弗素のようなハロゲン原
子またはメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシのような低
級アルコキシ基をあげることができ、好適に
は、弗素原子またはメトキシ基である。 R4のアルケニル基としては、1−ブチルビ
ニル、アリル、2−プロピルアリル、2−ブテ
ニル、2−ペンテニル、4−ペンテニル、2−
メチル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペ
ンテニル、1−メチル−4−ペンテニル、4−
ヘキセニル、5−ヘキセニル、1,4−ジメチ
ル−3−ペンテニル、5−ヘプテニル、1−メ
チル−5−ヘキセニル、6−メチル−5−ヘプ
テニル、2,6−ジメチル−5−ヘプテニル、
1,1,6−トリメチル−5−ヘプテニル、6
−メチル−5−オクテニル、2,6−ジメチル
−5−オクテニル、6−エチル−5−オクテニ
ル、2−メチル−6−エチル−5−オクテニ
ル、2,6−ジエチル−5−オクテニルのよう
な炭素数3乃至12個を有する直鎖状もしくは分
枝鎖状のアルケニル基をあげることができ、好
適には1−ブチルビニル、2−プロピルアリ
ル、2−ペンテニル、4−ペンテニル、2−メ
チル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペン
テニル、1−メチル−4−ペンテニル、4−ヘ
キセニル、5−ヘキセニル、1,4−ジメチル
−3−ペンテニル、5−ヘプテニル、1−メチ
ル−5−ヘキセニル、6−メチル−5−ヘプテ
ニル、2,6−ジメチル−5−ヘプテニルのよ
うな炭素数5乃至9個のアルケニル基である。 R4のアルキニル基としては、例えばプロパ
ルギル、2−ブチニル、3−ペンチニル、3−
ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、2−
ヘキシニル、1−メチル−2−ペンチニル、1
−メチル−3−ペンチニル、1,1−ジメチル
−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−3−ペ
ンチニル、1,1−ジメチル−2−ヘキシニル
のような炭素数3乃至8個を有するアルキニル
基をあげることができ、好適には炭素数4乃至
6個を有するアルキニル基、例えば2−ブチニ
ル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メ
チル−2−ペンチニルまたは1−メチル−3−
ペンチニル基であり、さらに好適には1−メチ
ル−3−ペンチニル基である。 R4およびR5の置換されていてもよいシクロ
アルキル基としては、例えばシクロプロピル、
シクロブチル、シクロペンチル、3−エチルシ
クロペンチル、シクロヘキシル、4−メチルシ
クロヘキシル、シクロヘプチルのような低級ア
ルキル基を置換分として有してもよい3乃至7
員環のシクロアルキル基をあげることができ、
好適にはシクロペンチルまたはシクロヘキシル
基である。 R4のシクロアルケニル基としては、例えば
2−シクロプロペン−1−イル、2−シクロブ
テン−1−イル、3−シクロペンテン−1−イ
ル、1−シクロヘキセン−1−イル、3−シク
ロヘプテン−1−イルのような3乃至7員環の
シクロアルケニル基をあげることができ、好適
にはシクロペンテン−1−イルまたはシクロヘ
キセン−1−イル基である。 R4およびR5のアリール基としては、フエニ
ル、o−トリル、m−トリル、p−トリル、p
−エチルフエニル、m−n−プロピルフエニ
ル、m−メトキシフエニル、p−メトキシフエ
ニル、o−エトキシフエニル、o−フルオロフ
エニル、m−フルオロフエニル、p−フルオロ
フエニル、m−クロロフエニル、p−クロロフ
エニル、p−ブロモフエニル、p−トリフルオ
ロメチルフエニル、3,4−ジメチルフエニ
ル、3−フルオロ−4−メチルフエニル、2,
4−ジクロロフエニルのような低級アルキル、
低級アルコキシ、ハロゲンまたはトリフルオロ
メチルを1乃至2個置換分として有していても
よいフエニル基をあげることができるが、好適
にはメチル、弗素、塩素またはトリフルオロメ
チルで置換されていてもよいフエニル基であ
り、さらに好適にはフエニル基である。 Qは好適には単結合、酸素原子またはメチレ
ン基であり、さらに好適には単結合または酸素
原子である。 また、好適な−CH2−Q−R5基としては、
例えばシクロペンチルメチル、シクロヘキシル
メチル、4−メチルシクロヘキシルメチル、ベ
ンジル、p−メチルベンジル、m−トリフルオ
ロベンジル、2−シクロペンチルエチル、2−
(3−メチルシクロペンチル)エチル、2−シ
クロヘキシルエチル、2−フエニルエチル、2
−(p−フルオロフエニル)エチル、シクロペ
ンチルオキシメチル、シクロヘキシルオキシメ
チル、フエノキシメチル、m−トリルオキシメ
チル、p−クロロフエノキシメチル、またはフ
エニルチオメチルをあげることができる。 Yのカルボニル基の保護基、WおよびZが一
緒になつて形成するカルボニル基の保護基とし
ては例えばジメトキシ、ジエトキシのようなジ
アルコキシ基、エチレンジオキシ、トリメチレ
ンジオキシのようなアルキレンジオキシ基、エ
チレンジチオ、トリメチレンジチオのようなア
ルキレンジチオ基等のカルボニル基の保護基を
示す。 Aは好適には単結合または酸素原子である。 nは好適には0乃至4の整数であり、n′は好
適には0または2であり、さらに好適には0で
ある。 R6が保護されていてもよいカルボキシル基
である場合の保護基としては、通常使用される
カルボキシル基の保護着なら特に限定されない
が、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、t−ブチルのような
低級アルキル基;ベンジル、p−ブロモベンジ
ルのようなアラルキル基;フエニル、トリルの
ようなアリール基;ベンツヒドリル基またはフ
エナシル基をあげることができ、好適には低級
アルキル基である。 本反応によつて得られる前記一般式()を有
する化合物としては、例えば次のような化合物を
挙げることができる。
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
【化】
反応は通常は不活性溶剤の存在下で前記一般式
()を有する化合物を、前記一般式()を有
する還元剤と接触させることによつて達成され
る。 反応に使用される不活性溶剤は反応に影響を与
えないものであれば特に限定はなく、例えばジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメト
キシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類が好適である。特に好適
にはテトラヒドロフランである。前記一般式
()を有する化合物を、好ましくは前記一般式
()を有する還元剤を溶解した溶剤と同一の溶
剤に溶解する。次いで、前記一般式()を有す
る還元剤の溶液を窒素気流下で約−100〜−20℃
に冷却する。この冷却溶液に前記一般式()を
有する化合物の溶液を同温度で滴下する。反応は
約−100〜−20℃、好ましくは−80〜−45℃で行
なわれる。使用される前記一般式()を有する
還元剤は、前記一般式()を有する化合物1モ
ルに対して約1〜10モル量、好ましくは約3モル
量程度が使用される。反応時間は主に反応試剤、
反応温度等により異なるが30分間〜7時間であ
る。反応の経過は薄層クロマトグラフイー、高速
液体クロマトグラフイー等により知ることができ
る。 反応終了後、目的化合物は常法に従つて反応混
合物から採取される。例えば反応終了後、反応混
合物に希アルカリ水溶液を加え、次いで有機溶剤
を加えて抽出する。抽出液を必要に応じて洗浄し
た後、有機溶剤を留去することによつて得られ
る。得られた目的化合物はさらに必要ならば常
法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロ
マトグラフイー、再結晶法などを用いて精製する
ことができる。 なお、前記一般式()を有する原料化合物は
例えば特開昭54−95552号、同55−28945号、同56
−5456号、同56−15239号、同58−192845号、特
願昭59−27810号、ケミカル・コミユニケーシヨ
ンズ(Chem.Commun.)、304頁(1972年);テト
ラヘドロン(Tetrahedron)、29巻、1447頁
(1973年);ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケ
ミストリ(J.Org.Chem.)、34巻、3552頁(1969
年);ジヤーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミ
カル・ソシエテイ(J.Amer.Chem.Soc.)、94巻、
2122頁(1972年)などに記載されている。 また本発明の立体選択性を有する還元剤の使用
例として、シクロヘキサノンもしくはシクロヘキ
セノン()またはシクロペンタノンもしくはシ
クロペンテノン()を、それぞれ対応するアル
コール体()または()への還元反応をあげ
ることができる。
()を有する化合物を、前記一般式()を有
する還元剤と接触させることによつて達成され
る。 反応に使用される不活性溶剤は反応に影響を与
えないものであれば特に限定はなく、例えばジエ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメト
キシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素類が好適である。特に好適
にはテトラヒドロフランである。前記一般式
()を有する化合物を、好ましくは前記一般式
()を有する還元剤を溶解した溶剤と同一の溶
剤に溶解する。次いで、前記一般式()を有す
る還元剤の溶液を窒素気流下で約−100〜−20℃
に冷却する。この冷却溶液に前記一般式()を
有する化合物の溶液を同温度で滴下する。反応は
約−100〜−20℃、好ましくは−80〜−45℃で行
なわれる。使用される前記一般式()を有する
還元剤は、前記一般式()を有する化合物1モ
ルに対して約1〜10モル量、好ましくは約3モル
量程度が使用される。反応時間は主に反応試剤、
反応温度等により異なるが30分間〜7時間であ
る。反応の経過は薄層クロマトグラフイー、高速
液体クロマトグラフイー等により知ることができ
る。 反応終了後、目的化合物は常法に従つて反応混
合物から採取される。例えば反応終了後、反応混
合物に希アルカリ水溶液を加え、次いで有機溶剤
を加えて抽出する。抽出液を必要に応じて洗浄し
た後、有機溶剤を留去することによつて得られ
る。得られた目的化合物はさらに必要ならば常
法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロ
マトグラフイー、再結晶法などを用いて精製する
ことができる。 なお、前記一般式()を有する原料化合物は
例えば特開昭54−95552号、同55−28945号、同56
−5456号、同56−15239号、同58−192845号、特
願昭59−27810号、ケミカル・コミユニケーシヨ
ンズ(Chem.Commun.)、304頁(1972年);テト
ラヘドロン(Tetrahedron)、29巻、1447頁
(1973年);ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケ
ミストリ(J.Org.Chem.)、34巻、3552頁(1969
年);ジヤーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミ
カル・ソシエテイ(J.Amer.Chem.Soc.)、94巻、
2122頁(1972年)などに記載されている。 また本発明の立体選択性を有する還元剤の使用
例として、シクロヘキサノンもしくはシクロヘキ
セノン()またはシクロペンタノンもしくはシ
クロペンテノン()を、それぞれ対応するアル
コール体()または()への還元反応をあげ
ることができる。
【式】または
【式】
または
【式】
(式中の点線はC1−C2結合が一重結合または二
重結合であることを示す。) 式中、R8〜R12は、同一または異なつて、水素
原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基
を有してもよいアルケニル基または置換基を有し
てもよいアルキニル基である。R13およびR14は、
同一または異なつて、水素原子、置換されていて
もよいアルキル基または置換されていてもよいア
ルケニル基である。R15〜R18は、同一または異
なつて水素原子、保護された水酸基を有してもよ
い低級アルキル基またはハロゲン原子であるか、
あるいはR17とR16、R17とR14もしくはR17とR13
が一緒になつて−(CH2)r−基、(rは2〜8であ
り、好適には2〜4である。)であつて、このア
ルキレン基は置換基を有してもよいことを示す。 R8〜R14のアルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、n−ペンチル、イソペンチ
ル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、
n−ヘキシル、n−ヘプチル、1,1−ジメチル
ペンチル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘキ
シル、2−エチルペンチル、n−オクチル、2−
メチルオクチル、n−ノニル、2−メチルノニ
ル、2−エチルオクチル、n−デシル、2−メチ
ルデシルまたは2−エチルデシルのような炭素数
1乃至12個のアルキル基をあげることができ、好
適にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペン
チル、イソペンチル、1−メチルペンチル、2−
メチルペンチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキ
シル、2−エチルペンチル、n−オクチル、2−
メチルオクチルまたはn−ノニルである。 R8〜R12のアルケニル基としては、例えばビニ
ル、アリル、2−プロピルアリル、2−ブテニ
ル、2−ペンテニル、4−ペンテニル、2−メチ
ル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペンテニ
ル、1−メチル−4−ペンテニル、4−ヘキセニ
ル、5−ヘキセニル、1,4−ジメチル−3−ペ
ンテニル、5−ヘプテニル、1−メチル−5−ヘ
キセニル、6−メチル−6−ヘプテニル、2,6
−ジメチル−5−ヘプテニル、1,1,6−トリ
メチル−5−ヘプテニル、6−メチル−5−オク
テニル、2,6−ジメチル−5−オクテニル、6
−エチル−5−オクテニル、2−メチル−6−エ
チル−5−オクテニル、2,6−ジエチル−5−
オクテニルのような炭素数2乃至12個を有するア
ルケニル基をあげることができ、好適にはビニ
ル、アリル、2−ブテニル、2−ペンテニル、4
−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、4
−メチル−3−ペンテニル、1−メチル−4−ペ
ンテニル、4−ヘキセニルまたは5−ヘキセニル
である。 R13およびR14のアルケニル基としては、たと
えばビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニ
ル、ペンタジエニル、ヘキセニル、ヘキサジエニ
ル、ヘプテニル、ヘプタジエニル、オクテニル、
5−メチルオクテニル、4,4−ジメチルオクテ
ニル、ノネニル、ノナジエニル、デカエニル、デ
カジエニル、9−メチルデカジエニル、5,9−
ジメチルデカジエニル、ウンデカエニル、ウンデ
カジエニル、ドデカニエルまたはドデカジエニル
などの炭素数2乃至14個を有するアルケニル基を
あげることができ、好適にはプロペニル、ブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、
5−メチルオクテニル、4,4−ジメチルオクテ
ニル、9−メチルデカジエニルまたは5,9−ジ
メチルデカジエニルである。 R8〜R12のアルキニル基としては、例えばプロ
パルギル、ブチニル、1−メチルブチニル、ペン
チル、1−メチルペンチニル、1,1−ジメチル
ペンチニル、ヘキシニル、1,1−ジメチルヘキ
シニルなどの炭素数3〜8個を有するアルキニル
基をあげることができ、好適にはプロパルギル、
ブチニル、1−メチルブチニル、ペンチニル、1
−メチルペンチニルまたはヘキシニルである。 R8〜R14のアルキル基、アルケニル基またはア
ルキニル基における置換基としては、たとえば保
護された水酸基、アルコキシカルボニル基、アル
コキシ基、フエノキシまたはシクロアルキル基で
あつて、これらの同一または異なる置換基を1〜
4個有してもよいことを示す。 上述した水酸基の保護基としては式()の
R3の水酸基の保護基と同じ例をあげることがで
き、好ましくはベンジル、テトラハイドロピラニ
ル、メトキシメチル、トリメチルシリルまたはt
−ブチルジメチルシリルである。上述したアルコ
キシカルボニル基およびアルコキシ基のアルキル
部分としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、s−ブチルまたはt
−ブチルである。 上述したシクロアルキル基としては、例えばシ
クロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキ
シルである。 R15〜R17の低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで
ある。 前述した−(CH2)r−基の置換基としては、例
えば低級アルキル基、保護された水酸基、アルコ
キシカルボニル基またはアルコキシ基である。こ
れらの置換基としては、前述したそれらと同じ例
をあげることができる。 化合物()または()の還元反応は、化合
物()の還元反応と同様に行える。 本発明で得られた還元剤の立体特異性を他の還
元剤と比較した例を3−メチルシクロヘキサノン
の場合について示す。
重結合であることを示す。) 式中、R8〜R12は、同一または異なつて、水素
原子、置換基を有してもよいアルキル基、置換基
を有してもよいアルケニル基または置換基を有し
てもよいアルキニル基である。R13およびR14は、
同一または異なつて、水素原子、置換されていて
もよいアルキル基または置換されていてもよいア
ルケニル基である。R15〜R18は、同一または異
なつて水素原子、保護された水酸基を有してもよ
い低級アルキル基またはハロゲン原子であるか、
あるいはR17とR16、R17とR14もしくはR17とR13
が一緒になつて−(CH2)r−基、(rは2〜8であ
り、好適には2〜4である。)であつて、このア
ルキレン基は置換基を有してもよいことを示す。 R8〜R14のアルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−
ブチル、イソブチル、n−ペンチル、イソペンチ
ル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、
n−ヘキシル、n−ヘプチル、1,1−ジメチル
ペンチル、1−メチルヘキシル、2−メチルヘキ
シル、2−エチルペンチル、n−オクチル、2−
メチルオクチル、n−ノニル、2−メチルノニ
ル、2−エチルオクチル、n−デシル、2−メチ
ルデシルまたは2−エチルデシルのような炭素数
1乃至12個のアルキル基をあげることができ、好
適にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、s−ブチル、t−ブチル、ペン
チル、イソペンチル、1−メチルペンチル、2−
メチルペンチル、n−ヘキシル、1−メチルヘキ
シル、2−エチルペンチル、n−オクチル、2−
メチルオクチルまたはn−ノニルである。 R8〜R12のアルケニル基としては、例えばビニ
ル、アリル、2−プロピルアリル、2−ブテニ
ル、2−ペンテニル、4−ペンテニル、2−メチ
ル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペンテニ
ル、1−メチル−4−ペンテニル、4−ヘキセニ
ル、5−ヘキセニル、1,4−ジメチル−3−ペ
ンテニル、5−ヘプテニル、1−メチル−5−ヘ
キセニル、6−メチル−6−ヘプテニル、2,6
−ジメチル−5−ヘプテニル、1,1,6−トリ
メチル−5−ヘプテニル、6−メチル−5−オク
テニル、2,6−ジメチル−5−オクテニル、6
−エチル−5−オクテニル、2−メチル−6−エ
チル−5−オクテニル、2,6−ジエチル−5−
オクテニルのような炭素数2乃至12個を有するア
ルケニル基をあげることができ、好適にはビニ
ル、アリル、2−ブテニル、2−ペンテニル、4
−ペンテニル、2−メチル−3−ペンテニル、4
−メチル−3−ペンテニル、1−メチル−4−ペ
ンテニル、4−ヘキセニルまたは5−ヘキセニル
である。 R13およびR14のアルケニル基としては、たと
えばビニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニ
ル、ペンタジエニル、ヘキセニル、ヘキサジエニ
ル、ヘプテニル、ヘプタジエニル、オクテニル、
5−メチルオクテニル、4,4−ジメチルオクテ
ニル、ノネニル、ノナジエニル、デカエニル、デ
カジエニル、9−メチルデカジエニル、5,9−
ジメチルデカジエニル、ウンデカエニル、ウンデ
カジエニル、ドデカニエルまたはドデカジエニル
などの炭素数2乃至14個を有するアルケニル基を
あげることができ、好適にはプロペニル、ブテニ
ル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘキサジエニル、
5−メチルオクテニル、4,4−ジメチルオクテ
ニル、9−メチルデカジエニルまたは5,9−ジ
メチルデカジエニルである。 R8〜R12のアルキニル基としては、例えばプロ
パルギル、ブチニル、1−メチルブチニル、ペン
チル、1−メチルペンチニル、1,1−ジメチル
ペンチニル、ヘキシニル、1,1−ジメチルヘキ
シニルなどの炭素数3〜8個を有するアルキニル
基をあげることができ、好適にはプロパルギル、
ブチニル、1−メチルブチニル、ペンチニル、1
−メチルペンチニルまたはヘキシニルである。 R8〜R14のアルキル基、アルケニル基またはア
ルキニル基における置換基としては、たとえば保
護された水酸基、アルコキシカルボニル基、アル
コキシ基、フエノキシまたはシクロアルキル基で
あつて、これらの同一または異なる置換基を1〜
4個有してもよいことを示す。 上述した水酸基の保護基としては式()の
R3の水酸基の保護基と同じ例をあげることがで
き、好ましくはベンジル、テトラハイドロピラニ
ル、メトキシメチル、トリメチルシリルまたはt
−ブチルジメチルシリルである。上述したアルコ
キシカルボニル基およびアルコキシ基のアルキル
部分としては、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、s−ブチルまたはt
−ブチルである。 上述したシクロアルキル基としては、例えばシ
クロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキ
シルである。 R15〜R17の低級アルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピルまたはイソプロピルで
ある。 前述した−(CH2)r−基の置換基としては、例
えば低級アルキル基、保護された水酸基、アルコ
キシカルボニル基またはアルコキシ基である。こ
れらの置換基としては、前述したそれらと同じ例
をあげることができる。 化合物()または()の還元反応は、化合
物()の還元反応と同様に行える。 本発明で得られた還元剤の立体特異性を他の還
元剤と比較した例を3−メチルシクロヘキサノン
の場合について示す。
【表】
すなわち水素化ナトリウムホウ素、水素化リチ
ウムアルミニウムおよび水素化−ビス−(2−メ
トキシエトキシ)ナトリウムアルミニウムで3−
メチルシクロヘキサノン(a)を還元すると主生成物
として(c)を与えるが、本還元剤では主生成物とし
て(b)を与える。 以下に実施例、参考例をあげ本発明を具体的に
示す。 実施例 1 ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(ヘキサフルオロイソプロポキシ)アルミ
ニウム
ウムアルミニウムおよび水素化−ビス−(2−メ
トキシエトキシ)ナトリウムアルミニウムで3−
メチルシクロヘキサノン(a)を還元すると主生成物
として(c)を与えるが、本還元剤では主生成物とし
て(b)を与える。 以下に実施例、参考例をあげ本発明を具体的に
示す。 実施例 1 ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(ヘキサフルオロイソプロポキシ)アルミ
ニウム
【式】
100ml4ツ口フラスコに窒素気流下でナトリウ
ム水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニ
ウム(70%トルエン溶液1085mg(3.757mmol)
および虫水テトラヒドロフロン(開放直後)50ml
を加え攪拌溶解し0℃に冷却した。次いで、ヘキ
サフルオロイソプロパノール573.9mg(3.415m
mol)を同テトラヒドロフラン4mlに溶解し、得
られた溶液を先のナトリウム水素化ビス(2−メ
トキシエトキシ)アルミニウムの無水テトラヒド
ロフラン溶液に0〜5℃で滴加した。約3.4m
molの水素スが発生した。滴加終了後、反応温度
を室温とし、更に1時間15分攪拌した。反応終了
後、反応混合物より20mlを採取し、窒素気流下で
減圧濃縮すると、目的物の無色透明の粘稠性油状
物質690mgが得られた。 赤外吸収スペクトル(Nujol):νmaxcm-11770、
1370、1215、1140、1100、885、855 〔ヘキサフルオロイソプロパノールの3400、900
およびナトリウム水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムの1680、765cm-1の吸収消失〕 実施例 2 ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(メトキシ)アルミニウム
ム水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニ
ウム(70%トルエン溶液1085mg(3.757mmol)
および虫水テトラヒドロフロン(開放直後)50ml
を加え攪拌溶解し0℃に冷却した。次いで、ヘキ
サフルオロイソプロパノール573.9mg(3.415m
mol)を同テトラヒドロフラン4mlに溶解し、得
られた溶液を先のナトリウム水素化ビス(2−メ
トキシエトキシ)アルミニウムの無水テトラヒド
ロフラン溶液に0〜5℃で滴加した。約3.4m
molの水素スが発生した。滴加終了後、反応温度
を室温とし、更に1時間15分攪拌した。反応終了
後、反応混合物より20mlを採取し、窒素気流下で
減圧濃縮すると、目的物の無色透明の粘稠性油状
物質690mgが得られた。 赤外吸収スペクトル(Nujol):νmaxcm-11770、
1370、1215、1140、1100、885、855 〔ヘキサフルオロイソプロパノールの3400、900
およびナトリウム水素化ビス(2−メトキシエト
キシ)アルミニウムの1680、765cm-1の吸収消失〕 実施例 2 ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(メトキシ)アルミニウム
実施例 3
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(n−プロポキシ)アルミニウム
シ)(n−プロポキシ)アルミニウム
実施例 4
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(i−プロポキシ)アルミニウム
シ)(i−プロポキシ)アルミニウム
実施例 5
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(n−ブトキシ)アルミニウム
シ)(n−ブトキシ)アルミニウム
実施例 6
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(t−ブトキシ)アルミニウム
シ)(t−ブトキシ)アルミニウム
実施例 7
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(2−フルオロエトキシ)アルミニウム
シ)(2−フルオロエトキシ)アルミニウム
実施例 8
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(2−トリフルオロメチルフエノキシ)ア
ルミニウム
シ)(2−トリフルオロメチルフエノキシ)ア
ルミニウム
実施例 9
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(4−メチル−2,6−ジ−t−ジブチル
フエノキシ)アルミニウム
シ)(4−メチル−2,6−ジ−t−ジブチル
フエノキシ)アルミニウム
実施例 10
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(2,3,4,5,6−ペンタクロロフエ
ノキシ)アルミニウム
シ)(2,3,4,5,6−ペンタクロロフエ
ノキシ)アルミニウム
実施例 11
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
エノキシ)アルミニウム
シ)(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
エノキシ)アルミニウム
実施例 12
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(1−ナフトキシ)アルミニウム
シ)(1−ナフトキシ)アルミニウム
参考例 1
3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3−オキソ−5R,9−ジメチル−1,8−
デカジエニル)−7,7−エチレンジオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン(a)の還元による
3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3S−ヒドロキシ−5R,9−ジメチル−1,
8−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3.3.0〕オクタン(a)および3α
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−
(3R−ヒドロキシ−5R,9−ジメチル−1,
8−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3.3.0〕オクタン(a)の製造
−(3−オキソ−5R,9−ジメチル−1,8−
デカジエニル)−7,7−エチレンジオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン(a)の還元による
3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3S−ヒドロキシ−5R,9−ジメチル−1,
8−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3.3.0〕オクタン(a)および3α
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−
(3R−ヒドロキシ−5R,9−ジメチル−1,
8−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3.3.0〕オクタン(a)の製造
得られた還元剤を−45〜−50℃に冷却した。
次いで、(a)の化合物5.50gを無水テトラヒ
ドロフラン8mlに溶解し、窒素気流下で−45℃に
冷却後、上記の調製した還元剤に滴加した。反応
混合物を−40〜−45℃で1時間40分撹拌した。反
応終了後、反応混合物に酢酸エチル240ml、次い
で5%水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、更に
飽和食塩水100mlを加えて分液した。有機層を飽
和食塩水100mlで2回洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、有機層より溶剤を減圧下で留去して
油状物5.50gが得られた。収率99.6%。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
a)/(a)=84.5/15.5であつた。 また、カラムクロマトグラフイー(シリカゲ
ル、60〜110メツシユ、390g、70cm〓×24cmL)に
付して、20%酢酸エチル−80%n−ヘキサン乃至
22%酢酸エチル−78%n−ヘキサンの溶出部から
(a)が4.39g(収率79.5%)、24%酢酸エチル−
76%n−ヘキサン乃至30%酢酸エチル−70%n−
ヘキサンの溶出部から(a)が0.807g(収率
14.6%)得られた。 (a)の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13430 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 5.5(2H、m、
ドロフラン8mlに溶解し、窒素気流下で−45℃に
冷却後、上記の調製した還元剤に滴加した。反応
混合物を−40〜−45℃で1時間40分撹拌した。反
応終了後、反応混合物に酢酸エチル240ml、次い
で5%水酸化ナトリウム水溶液10mlを加え、更に
飽和食塩水100mlを加えて分液した。有機層を飽
和食塩水100mlで2回洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥後、有機層より溶剤を減圧下で留去して
油状物5.50gが得られた。収率99.6%。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
a)/(a)=84.5/15.5であつた。 また、カラムクロマトグラフイー(シリカゲ
ル、60〜110メツシユ、390g、70cm〓×24cmL)に
付して、20%酢酸エチル−80%n−ヘキサン乃至
22%酢酸エチル−78%n−ヘキサンの溶出部から
(a)が4.39g(収率79.5%)、24%酢酸エチル−
76%n−ヘキサン乃至30%酢酸エチル−70%n−
ヘキサンの溶出部から(a)が0.807g(収率
14.6%)得られた。 (a)の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13430 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 5.5(2H、m、
【式】)
5.0(1H、m、
【式】)
4.6(1H、m、
【式】)
3.9(4H、s、
得られた還元剤を−78℃に冷却した。次いで、
(a)の化合物173.7mgを無水テトラヒドロフラ
ン1mlに溶解した溶液を上記の調製した還元剤に
滴加した。反応混合物を−78℃で5時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、参考例1と
同様に処理して油状物178mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
a)/(a)=81/19であつた。 (a)の物理恒数は参考例1で得られたもの
と同じであつた。 参考例 5 (a)の還元による(a)および(a)の
製造 無水テトラヒドロフラン10mlにナトリウム水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)370.7mgを溶解した溶液と無
水エタノール48.4mgを無水テトラヒドロフラン1
mlに溶解した溶液を実施例1と同様に処理した還
元剤ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(エトキシ)アルミニウムを調製した。 赤外吸収スペクトル(Nujol):νnaxcm-11760、
1370、1200、1130、1100、995、940、910 〔エタノールの33320、1055、880およびナトリウ
ム水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニ
ウムの1680、765cm-1の吸収消失〕 得られた還元剤を−78℃に冷却した。次いで、
(a)の化合物152.6mgを無水テトラヒドロフラ
ン1mlに溶解した溶液を上記の調製した還元剤に
滴加した。反応混合物を−78℃で5時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、参考例1と
同様に処理して油状物157mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
a)/(a)=84/16であつた。 (a)の物理恒数は参考例1で得られたもの
と同じであつた。 参考例 6 3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3−オキソ−9−メチル−1,8−デカジ
エニル)−7,7−エチレンジオキシビシクロ
ロ〔〔3.3.0〕オクタン(b)の還元による3α
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−
(3S−ヒドロキシ−9−メチル−1,8−デカ
ジエニル)−7,7−エチレンジオキシビシク
ロロ〔3.3.0〕オクタン(b)および3α−(2
−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−(3R−
ヒドロキシ−9−メチル−1,8−デカジエニ
ル)−7,7−エチレンジオキシビシクロロ
〔〔3.3.0〕オクタン(b)の製造
(a)の化合物173.7mgを無水テトラヒドロフラ
ン1mlに溶解した溶液を上記の調製した還元剤に
滴加した。反応混合物を−78℃で5時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、参考例1と
同様に処理して油状物178mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
a)/(a)=81/19であつた。 (a)の物理恒数は参考例1で得られたもの
と同じであつた。 参考例 5 (a)の還元による(a)および(a)の
製造 無水テトラヒドロフラン10mlにナトリウム水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)370.7mgを溶解した溶液と無
水エタノール48.4mgを無水テトラヒドロフラン1
mlに溶解した溶液を実施例1と同様に処理した還
元剤ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)(エトキシ)アルミニウムを調製した。 赤外吸収スペクトル(Nujol):νnaxcm-11760、
1370、1200、1130、1100、995、940、910 〔エタノールの33320、1055、880およびナトリウ
ム水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニ
ウムの1680、765cm-1の吸収消失〕 得られた還元剤を−78℃に冷却した。次いで、
(a)の化合物152.6mgを無水テトラヒドロフラ
ン1mlに溶解した溶液を上記の調製した還元剤に
滴加した。反応混合物を−78℃で5時間撹拌し
た。反応終了後、反応混合物を以下、参考例1と
同様に処理して油状物157mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
a)/(a)=84/16であつた。 (a)の物理恒数は参考例1で得られたもの
と同じであつた。 参考例 6 3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3−オキソ−9−メチル−1,8−デカジ
エニル)−7,7−エチレンジオキシビシクロ
ロ〔〔3.3.0〕オクタン(b)の還元による3α
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−
(3S−ヒドロキシ−9−メチル−1,8−デカ
ジエニル)−7,7−エチレンジオキシビシク
ロロ〔3.3.0〕オクタン(b)および3α−(2
−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−(3R−
ヒドロキシ−9−メチル−1,8−デカジエニ
ル)−7,7−エチレンジオキシビシクロロ
〔〔3.3.0〕オクタン(b)の製造
【化】
無水テトラヒドロフラン10mlにナトリウム水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)216.4mgを溶解した溶液のヘ
キサフルオロイソプロパノール154.7mgを無水テ
トラヒドロフラン2mlに溶解した溶液を実施例1
と同様に処理して還元剤ナトリウム水素化ビス
(2−メトキシエトキシ)(ヘキサフルオロイソプ
ロポキシ)アルミニウムを調製した。得られた還
元剤の赤外吸収スペクトルは実施例1で得られた
ものと同じであつた。得られた還元剤を−75℃に
冷却した。次いで、(b)の化合物132.8mgを無
水テトラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を上記
の調製した還元剤に滴加した。反応混合物を−75
℃で2時間30分撹拌した。反応終了後、反応混合
物を以下、参考例1と同様に処理して油状物
135.5mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
b)/(b)=84/16であつた。 また、カラムクロマトグラフイー(シリカゲ
ル、60〜110メツシユ、9.4g)に付して、酢酸エ
チル−n−ヘキサン系溶剤で溶出した結果、(
b)が108.9mg(収率81.6%)、(b)が17.7mg(収
率13.3%)得られた。 (b)の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13420 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 5.40(2H、m、
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)216.4mgを溶解した溶液のヘ
キサフルオロイソプロパノール154.7mgを無水テ
トラヒドロフラン2mlに溶解した溶液を実施例1
と同様に処理して還元剤ナトリウム水素化ビス
(2−メトキシエトキシ)(ヘキサフルオロイソプ
ロポキシ)アルミニウムを調製した。得られた還
元剤の赤外吸収スペクトルは実施例1で得られた
ものと同じであつた。得られた還元剤を−75℃に
冷却した。次いで、(b)の化合物132.8mgを無
水テトラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を上記
の調製した還元剤に滴加した。反応混合物を−75
℃で2時間30分撹拌した。反応終了後、反応混合
物を以下、参考例1と同様に処理して油状物
135.5mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
b)/(b)=84/16であつた。 また、カラムクロマトグラフイー(シリカゲ
ル、60〜110メツシユ、9.4g)に付して、酢酸エ
チル−n−ヘキサン系溶剤で溶出した結果、(
b)が108.9mg(収率81.6%)、(b)が17.7mg(収
率13.3%)得られた。 (b)の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13420 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 5.40(2H、m、
【式】)
5.02(1H、m、
【式】)
4.66(1H、m、
【式】)
3.80(4H、s、
【式】)
4.2〜3.2(4H、m)
2.8〜1.1(30H、m)
なお、本還元反応を水素化ホウ素ナトリウムを
用いて実施すると、(b)/(b)=60/40であ
つた。 参考例 7 (b)の還元による(b)および(b)の
製造 無水テトラヒドロフラン10mlにナトリウム水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)225.4mgを溶解した溶液と
2,2,2−トリフルオロエタノール93.1mgを無
水テトラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を実施
例1と同様に処理して還元剤ナトリウム水素化ビ
ス(2−メトキシエトキシ)(2,2,2−トリ
フルオロエトキシ)アルミニウムを調製した。得
られた還元剤の赤外吸収スペクトルは参考例1で
得られたものと同じであつた。得られた還元剤を
−78℃に冷却した。次いで、(b)の化合物
134.8mgを無水テトラヒドロフラン1mgに溶解し
た溶液を上記の調製した還元剤に滴加した。反応
混合物を−78℃で2時間30分撹拌した。反応終了
後、反応混合物を以下、参考例1と同様に処理し
て油状物136.5mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
b)/(b)=76/24であつた。 (b)の物理恒数は参考例6で得られたもの
と同じであつた。 参考例 8 3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3−オキソ−5S,9−ジメチル−1,8−
デカジエニル)−7,7−エチレンジオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン(c)の還元による
3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3S−ヒドロキシ−5S,9−ジメチル−1,
8−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3.3.0〕オクタン(c)および3α
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−
(3R−ヒドロキシ−5S,9−ジメチル−1,8
−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキシ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン(c)の製造
用いて実施すると、(b)/(b)=60/40であ
つた。 参考例 7 (b)の還元による(b)および(b)の
製造 無水テトラヒドロフラン10mlにナトリウム水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)225.4mgを溶解した溶液と
2,2,2−トリフルオロエタノール93.1mgを無
水テトラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を実施
例1と同様に処理して還元剤ナトリウム水素化ビ
ス(2−メトキシエトキシ)(2,2,2−トリ
フルオロエトキシ)アルミニウムを調製した。得
られた還元剤の赤外吸収スペクトルは参考例1で
得られたものと同じであつた。得られた還元剤を
−78℃に冷却した。次いで、(b)の化合物
134.8mgを無水テトラヒドロフラン1mgに溶解し
た溶液を上記の調製した還元剤に滴加した。反応
混合物を−78℃で2時間30分撹拌した。反応終了
後、反応混合物を以下、参考例1と同様に処理し
て油状物136.5mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
b)/(b)=76/24であつた。 (b)の物理恒数は参考例6で得られたもの
と同じであつた。 参考例 8 3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3−オキソ−5S,9−ジメチル−1,8−
デカジエニル)−7,7−エチレンジオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン(c)の還元による
3α−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β
−(3S−ヒドロキシ−5S,9−ジメチル−1,
8−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキ
シビシクロ〔3.3.0〕オクタン(c)および3α
−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−4β−
(3R−ヒドロキシ−5S,9−ジメチル−1,8
−デカジエニル)−7,7−エチレンジオキシ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン(c)の製造
【化】
実施例1で調製した還元剤ナトリウム水素化ビ
ス(2−メトキシエトキシ)(ヘキサフルオロイ
ソプロポキシ)アルミニウムのテトラヒドロフラ
ン溶液を−78℃に冷却し、次いで(c)の化合
物57mgを無水テトラヒドロフラン1mlに溶解した
溶液を上記の調製した還元剤に滴加した。反応混
合物を−78℃で45分間撹拌した。反応終了後、反
応混合物を以下、参考例1と同様に処理して油状
物58mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
c)/(c)=67/33であつた。 (c)/(c)=67/33の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13440 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 5.50(2H、m、
ス(2−メトキシエトキシ)(ヘキサフルオロイ
ソプロポキシ)アルミニウムのテトラヒドロフラ
ン溶液を−78℃に冷却し、次いで(c)の化合
物57mgを無水テトラヒドロフラン1mlに溶解した
溶液を上記の調製した還元剤に滴加した。反応混
合物を−78℃で45分間撹拌した。反応終了後、反
応混合物を以下、参考例1と同様に処理して油状
物58mgが得られた。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
c)/(c)=67/33であつた。 (c)/(c)=67/33の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13440 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 5.50(2H、m、
【式】)
5.0(1H、m、
【式】)
4.6(1H、m、
【式】)
3.9(4H、s、
【式】)
4.45〜3.25(4H、m)
2.75〜1.6(32H、m)
なお、本還元反応を水素化ホウ素ナトリウムを
用いて実施すると、(c)/(c)=55.5/44.5
であつた。 参考例 9 3−(5−ベンジルオキシペンチル)−6β−(3
−オキソ−9−メチル−1.8−デカジエニル)−
7α−(2−テトラヒドロピラニオキシ)−シス
−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン(d)
の還元による3−(5−ベンジルオキシペンチ
ル)−6β−(3α−ヒドロキシ−9−メチル−1.8
−デカジエニル)−7α−(2−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
ト−2−エン(d)および3−(5−ベンジル
オキシペンチル)−6β−(3β−ヒドロキシ−9
−メチル−1.8−デカジエニル)−7α−(2−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクト−2−エン(d)の製造
用いて実施すると、(c)/(c)=55.5/44.5
であつた。 参考例 9 3−(5−ベンジルオキシペンチル)−6β−(3
−オキソ−9−メチル−1.8−デカジエニル)−
7α−(2−テトラヒドロピラニオキシ)−シス
−ビシクロ〔3.3.0〕オクト−2−エン(d)
の還元による3−(5−ベンジルオキシペンチ
ル)−6β−(3α−ヒドロキシ−9−メチル−1.8
−デカジエニル)−7α−(2−テトラヒドロピ
ラニルオキシ)−シス−ビシクロ〔3.3.0〕オク
ト−2−エン(d)および3−(5−ベンジル
オキシペンチル)−6β−(3β−ヒドロキシ−9
−メチル−1.8−デカジエニル)−7α−(2−テ
トラヒドロピラニルオキシ)−シス−ビシクロ
〔3.3.0〕オクト−2−エン(d)の製造
【化】
無水テトラヒドロフラン10mlにナトリウム水素
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)270mgを溶解した溶液のヘキ
サフルオロイソプロパノール143mgを無水テトラ
ヒドロフラン1mlに溶解した溶液を実施例1と同
様に処理して還元剤ナトリウム水素化ビス(2−
メトキシエトキシ)(ヘキサフルオロイソプロポ
キシ)アルミニウムを調製した。得られた還元剤
の赤外吸収スペクトルは実施例1で得られたもの
と同じであつた。得られた還元剤を−78℃に冷却
した。次いで、(d)の化合物141mgを無水テト
ラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を上記の調製
した還元剤に滴加した。反応混合物を−78℃で1
時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、
参考例1と同様に処理して油状物142mgが得られ
た。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
d)/(d)=83/17であつた。 また、カラムクロマトグラフイー(シリカゲ
ル、60〜110メツシユ)に付して、酢酸エチル−
n−ヘキサン系溶剤で溶出した結果、(d)が
110mg(収率77.7%)、(d)が23mg(収率16.3%)
得られた。 (d)/(d)=83/17の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13420、
2920、1450、1125、1080、1025、737、698 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 7.29(5H、m、
化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウム
(70%トルエン溶液)270mgを溶解した溶液のヘキ
サフルオロイソプロパノール143mgを無水テトラ
ヒドロフラン1mlに溶解した溶液を実施例1と同
様に処理して還元剤ナトリウム水素化ビス(2−
メトキシエトキシ)(ヘキサフルオロイソプロポ
キシ)アルミニウムを調製した。得られた還元剤
の赤外吸収スペクトルは実施例1で得られたもの
と同じであつた。得られた還元剤を−78℃に冷却
した。次いで、(d)の化合物141mgを無水テト
ラヒドロフラン1mlに溶解した溶液を上記の調製
した還元剤に滴加した。反応混合物を−78℃で1
時間撹拌した。反応終了後、反応混合物を以下、
参考例1と同様に処理して油状物142mgが得られ
た。 得られた油状物をHPLCで定量した結果、(
d)/(d)=83/17であつた。 また、カラムクロマトグラフイー(シリカゲ
ル、60〜110メツシユ)に付して、酢酸エチル−
n−ヘキサン系溶剤で溶出した結果、(d)が
110mg(収率77.7%)、(d)が23mg(収率16.3%)
得られた。 (d)/(d)=83/17の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-13420、
2920、1450、1125、1080、1025、737、698 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 7.29(5H、m、
【式】)
5.7〜5.4(2H、br.d、
【式】)
5.22(1H、br.s、
【式】)
5.03(1H、br.d、J=8.0Hz、
【式】)
4.63(1H、br.s、
【式】)
4.43(2H、s、
【式】)
4.2〜3.2(4H、br.)
3.42(2H、t、J=6.0Hz、
【式】)
3.2〜1.2(36H、br.)
なお、原料化物(d)は特願昭59−27810号記
載の方法に準じて製造された。 (d)の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-12920、
1660、1620、1450、1128、1040、737、698 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 7.23(5H、s、
載の方法に準じて製造された。 (d)の物理恒数 赤外吸収スペクトル(液膜状):νnaxcm-12920、
1660、1620、1450、1128、1040、737、698 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3):δppn 7.23(5H、s、
【式】)
7.0〜6.4(1H、br.
【式】)
6.74(1H、d.d.d.)
6.05(1H、d.d、J=16.0Hz、J=3.0Hz、
【式】)
5.19(1H、br.、
【式】)
4.95(1H、br.d、J=7.0Hz、
【式】)
4.60(1H、br.、
【式】)
4.43(2H、s、
【式】)
4.2〜3.2(3H、br.)
3.42(2H、t、J=6.0Hz、
【式】)
3.2〜1.2(3H、br.)
参考例 10
ボルネオール
ナトリウム水素化ビス(2−メトキシエトキ
シ)アルミニウム(70%トルエン溶液、1.462g)
を無水テトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、窒
素気流下、−4℃で、ヘキサフルオロイソプロパ
ノール(885.8mg)のテトラヒドロフラン(2ml)
溶液を滴下した後、25℃で30分間撹拌する。反応
液を−78℃に冷却し(1R)−カンフアー(257.1
mg)のテトラヒドロフラン(2ml)溶液を滴下
し、同温度で20時間、さらに−40℃で4時間撹拌
する。この溶液に飽和食塩水(10ml)を加えた酢
酸エチル(50ml)で抽出する。水層をさらに酢酸
エチル(20ml)で抽出する。酢酸エチル層を合せ
て飽和食塩水(20ml)で3回洗い、乾燥
(Na2SO4)、留去すると目的物251mgが得られた。
このものを日立163型ガスクロマグラフにかける
と90%の返還率でendoとexoアルコール体が2:
98の比で得られたことが明らかとなつた。 この方法に準じて各種ケトン体を還元すると立
体選択的に還元体を与えた。これらの結果を第1
表にかゝげる。
シ)アルミニウム(70%トルエン溶液、1.462g)
を無水テトラヒドロフラン(10ml)に溶かし、窒
素気流下、−4℃で、ヘキサフルオロイソプロパ
ノール(885.8mg)のテトラヒドロフラン(2ml)
溶液を滴下した後、25℃で30分間撹拌する。反応
液を−78℃に冷却し(1R)−カンフアー(257.1
mg)のテトラヒドロフラン(2ml)溶液を滴下
し、同温度で20時間、さらに−40℃で4時間撹拌
する。この溶液に飽和食塩水(10ml)を加えた酢
酸エチル(50ml)で抽出する。水層をさらに酢酸
エチル(20ml)で抽出する。酢酸エチル層を合せ
て飽和食塩水(20ml)で3回洗い、乾燥
(Na2SO4)、留去すると目的物251mgが得られた。
このものを日立163型ガスクロマグラフにかける
と90%の返還率でendoとexoアルコール体が2:
98の比で得られたことが明らかとなつた。 この方法に準じて各種ケトン体を還元すると立
体選択的に還元体を与えた。これらの結果を第1
表にかゝげる。
【表】
【表】
参考例 11
PGF2〓メチルエステル
窒素気流中、ナトリウム水素化ビス(2−メト
キシエトキシ)アルミニウム(70%トルエン溶
液、1.36g)を無水テトラヒドロフラン(10ml)
に溶かし−2〜−4℃でヘキサフルオロイソプロ
パノール(795mg)の無水テトラヒドロフラン
(1.8ml)溶液を滴下し25℃で30分間撹拌する。こ
の還元剤(1.9ml)を2時間にわたつて−78℃で、
窒素気流中、11α,15α−ジテトラヒドロピラニ
ルオキシPGE2メチルエステル(150mg)の無水テ
トラヒドロフラン(10ml)溶液に加える。反応液
に飽和食塩水(3ml)、氷水(10ml)および酢酸
エチル(50ml)を加え抽出する。酢酸エチル層を
飽和食塩水(5ml)で洗い、乾燥(Na2SO4)、
留去して得られる残渣をシリカゲル(11.8g)カ
ラムクロマトにかけ(酢酸エチル/ヘキサン=
13/87〜16/84)ると141mgの11α,15α−ジテト
ラヒドロピラニルオキシPGE2〓メチルエステルが
得られた。 このPGE2〓体(130mg)を酢酸(12ml)、テトラ
ヒドロフラン(4ml)および水(12ml)の混合溶
媒に溶かし、40℃で1時間撹拌する。反応液に5
%水酸化ナトリウム水溶液を加えPH8.0として酢
酸エチルで二回(100ml、50ml)抽出する。酢酸
エチル層を合せて、飽和食塩水で洗い、乾燥
(Na2SO4)、留去して得られる油状物をシリカゲ
ル(11g)カラムクロマトにかけ(酢酸エチル/
ヘキサン=80/20〜100/0)ると目的物79mgが得ら
れた。 IRνLiq cm-1:3350、1740、1720、1438、972 nmr(CDCl3)δppm:0.92(3H、t、J=4Hz)、
2、6〜1.1(20H、m)、2.9〜3.7(3H、m)、
3.67(3H、s)、3.6〜4.3(3H、m)、5.1〜5.8
(4H、m)
キシエトキシ)アルミニウム(70%トルエン溶
液、1.36g)を無水テトラヒドロフラン(10ml)
に溶かし−2〜−4℃でヘキサフルオロイソプロ
パノール(795mg)の無水テトラヒドロフラン
(1.8ml)溶液を滴下し25℃で30分間撹拌する。こ
の還元剤(1.9ml)を2時間にわたつて−78℃で、
窒素気流中、11α,15α−ジテトラヒドロピラニ
ルオキシPGE2メチルエステル(150mg)の無水テ
トラヒドロフラン(10ml)溶液に加える。反応液
に飽和食塩水(3ml)、氷水(10ml)および酢酸
エチル(50ml)を加え抽出する。酢酸エチル層を
飽和食塩水(5ml)で洗い、乾燥(Na2SO4)、
留去して得られる残渣をシリカゲル(11.8g)カ
ラムクロマトにかけ(酢酸エチル/ヘキサン=
13/87〜16/84)ると141mgの11α,15α−ジテト
ラヒドロピラニルオキシPGE2〓メチルエステルが
得られた。 このPGE2〓体(130mg)を酢酸(12ml)、テトラ
ヒドロフラン(4ml)および水(12ml)の混合溶
媒に溶かし、40℃で1時間撹拌する。反応液に5
%水酸化ナトリウム水溶液を加えPH8.0として酢
酸エチルで二回(100ml、50ml)抽出する。酢酸
エチル層を合せて、飽和食塩水で洗い、乾燥
(Na2SO4)、留去して得られる油状物をシリカゲ
ル(11g)カラムクロマトにかけ(酢酸エチル/
ヘキサン=80/20〜100/0)ると目的物79mgが得ら
れた。 IRνLiq cm-1:3350、1740、1720、1438、972 nmr(CDCl3)δppm:0.92(3H、t、J=4Hz)、
2、6〜1.1(20H、m)、2.9〜3.7(3H、m)、
3.67(3H、s)、3.6〜4.3(3H、m)、5.1〜5.8
(4H、m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 【式】 (式中、Mはナトリウムまたはリチウム原子を示
す。R1はアルキル基を示す。R2は置換分として
ハロゲンを有してもよいアルキル基、フエニル
基、ナフチル基又は置換分としてハロゲン、トリ
ハロゲノメチルもしくは炭素数1乃至4のアルキ
ル基を有するフエニル基を示す。) を有するカルボニル基を水酸基に還元する還元
剤。 2 式 MA1H2(OCH2CH2OR1)2 (式中、Mはナトリウムまたはリチウム原子を示
す。R1はアルキル基を示す。)を有する化合物
を、式 R2−OH (式中、R2は置換分としてハロゲンを有しても
よいアルキル基、フエニル基、ナフチル基又は置
換分としてハロゲン、トリハロゲノメチルもしく
は炭素数1乃至4のアルキル基を有するフエニル
基を示す。)を有する化合物と反応させることを
特徴とする式 【式】 (式中、M、R1およびR2は前述したものと同意
義を示す。)を有するカルボニル基を水酸基に還
元する還元剤の製法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60260622A JPS61267589A (ja) | 1984-11-22 | 1985-11-20 | 置換アルミニウム水素化物型還元剤 |
| JP5102408A JPH0794451B2 (ja) | 1984-11-22 | 1993-04-28 | 水素化アルミニウム化合物による還元 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24744484 | 1984-11-22 | ||
| JP59-247444 | 1984-11-22 | ||
| JP60260622A JPS61267589A (ja) | 1984-11-22 | 1985-11-20 | 置換アルミニウム水素化物型還元剤 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5102408A Division JPH0794451B2 (ja) | 1984-11-22 | 1993-04-28 | 水素化アルミニウム化合物による還元 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61267589A JPS61267589A (ja) | 1986-11-27 |
| JPH0576952B2 true JPH0576952B2 (ja) | 1993-10-25 |
Family
ID=26538270
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60260622A Granted JPS61267589A (ja) | 1984-11-22 | 1985-11-20 | 置換アルミニウム水素化物型還元剤 |
| JP5102408A Expired - Lifetime JPH0794451B2 (ja) | 1984-11-22 | 1993-04-28 | 水素化アルミニウム化合物による還元 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5102408A Expired - Lifetime JPH0794451B2 (ja) | 1984-11-22 | 1993-04-28 | 水素化アルミニウム化合物による還元 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS61267589A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100791857B1 (ko) * | 2005-08-23 | 2008-01-07 | 한국화학연구원 | 금속 수소화알루미늄 유도체 및 이의 제조방법 |
-
1985
- 1985-11-20 JP JP60260622A patent/JPS61267589A/ja active Granted
-
1993
- 1993-04-28 JP JP5102408A patent/JPH0794451B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0625215A (ja) | 1994-02-01 |
| JPH0794451B2 (ja) | 1995-10-11 |
| JPS61267589A (ja) | 1986-11-27 |
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