JPH0577429A - インクジエツトヘツドの製造方法 - Google Patents

インクジエツトヘツドの製造方法

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JPH0577429A
JPH0577429A JP24143891A JP24143891A JPH0577429A JP H0577429 A JPH0577429 A JP H0577429A JP 24143891 A JP24143891 A JP 24143891A JP 24143891 A JP24143891 A JP 24143891A JP H0577429 A JPH0577429 A JP H0577429A
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JP
Japan
Prior art keywords
deep groove
etching
boundary
resist
ink
Prior art date
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Pending
Application number
JP24143891A
Other languages
English (en)
Inventor
Mitsuharu Takahashi
光治 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Publication date
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 インク流路の浅溝部と深溝部との境界部に傾
斜面を、エッチング工程のみによって容易に形成可能と
し、高機能のインクジェットヘッドを容易に製造する。 【構成】 基板1の上面に第1のレジスト2を形成し、
基板1の上面を浅溝部となるべき部分との境界部Dに凹
凸を有する深溝部A,Bの領域だけをエッチングする。
次に2回目のエッチングを施して、深溝部ととともに浅
溝部の部分をエッチングする。このとき、境界部の凹凸
を有する部分は、深溝部A,Bに向って突出する凸状部
の両側からエッチングが進行し、先端の小さくなってい
る部分ほどエッチング量が多くなる。その結果凸状部の
先端部は、深溝部A,Bの溝面と一致する程度に腐食さ
れ、凸状部の基部は、浅溝部よりもやや低い程度に腐食
された状態となって傾斜面を形成する。こうして深溝部
A,Bと浅溝部とが境界部Dに形成されたなだらかな傾
斜面を介して連通したインク流路が形成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェットヘッド
の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般的にインクジェットヘッドは、ガラ
ス基板の上面にインク流路を形成し、その上に振動板を
貼り合わせ、振動板上の所定の位置に圧電素子を装着し
たものを基本構成としている。インク流路は、基板の上
面にフォトレジスト層を形成し、露光・現像によりイン
ク流路になるべき領域のレジスト層を除去し、その部分
にエッチングを施して形成している。インク流路は、加
圧室などとノズルなどとでは底面の深さを異にしている
ので、深溝の部分と浅溝の部分とを2回に分けてエッチ
ングを施している。
【0003】
【解決しようとする課題】ところが、従来技術のよう
に、エッチングを2回に分けて行うものでは、インク流
路の深さを異にする部分の境界部に段差を生じる。この
段差によって、流路抵抗が大きくなり、加圧室からノズ
ル側のインク流路に向かうインクの流れを妨害したり、
インク噴射後に加圧室の容積が大きくなるときに、ノズ
ル先端部から気泡を加圧室内に引き込んで、境界部に溜
って次のインク噴射を妨げたり、パージング不能を引き
起こしたりするなどの原因になっている。このようなイ
ンク噴射の障害を避けるためには、境界部をなだらかに
形成する必要がある。このような境界部を傾斜面に形成
するための方法としては、サンドブラスト法、ホーニン
グまたは研磨などがあるが、いずれもエッチングとは別
の面倒な工程を必要とし、インクジェットヘッドの製造
コストを高くする原因になっている。
【0004】そこで本発明の目的は、インク流路等の境
界部に、容易に傾斜面を設けられるようにすることによ
り、高機能のインクジェットヘッドを容易に製造可能に
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のインクジェットヘッドの製造方法は、基
板の上面にインク流路の深溝部を除いた形状に第1のレ
ジストを形成し、第1のレジストが形成された状態で深
溝部に1回目のエッチングを施し、第1のレジストを除
去した後、インク流路の深溝部とともに浅溝部を除いた
形状に第2のレジストを形成し、第2のレジストが形成
された状態で2回目のエッチングを施し、深溝部と浅溝
部とを有するインク流路を刻設するインクジェットヘッ
ドの製造方法において、第1のレジストは、深溝部と浅
溝部との境界部において凹凸を有する形状に形成するよ
うにしてある。
【0006】
【作用】1回目のエッチングにおいて、第1のレジスト
が、深溝部と浅溝部との境界部において凹凸を有する形
状に形成してある部分は、エッチングにより先端部ほど
多くエッチングされ易いなどエッチング深さが徐々に異
なり凹凸の先端部側を深くした傾斜面が形成される。
【0007】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面を参照し
て説明する。エッチングを施すべき基板1として、厚さ
1〜5mmの平板状のガラス板を所定の形状に切り取っ
たものを用い、最初に以下の通り基板1の上面にインク
流路の深溝部A,Bの領域をエッチングによって形成す
る。
【0008】(a)図1に示すように、基板1の上面に
フォトレジストを回転法によって均一に塗布して第1の
レジスト2を形成する。
【0009】(b)次に、紫外線などの照射装置を使っ
て、基板1上に形成された第1のレジスト2の上面を露
光して、図1に2点鎖線で示すように、所望の流路等の
パターンを形成する。ここでは深溝部A,Bである加圧
室およびインク溜りになるべき部分に所定形状のマスク
をして、深溝部A,Bとなるべき領域を除いた領域Cの
みに露光し、領域Cに光による化学変化を生じさせる。
上記のマスクは、深溝部A,Bと浅溝部との境界部D
に、凹凸を有する形状にしてあり、凸状部が深溝部A,
Bに向って突出するようにしてある。
【0010】(c)次に現像によって未露光部すなわ
ち、深溝部A,Bとなるべき部分のレジストを除去し
て、図2に示すように、浅溝部となるべき部分との境界
に凹凸を有する深溝部A,Bの領域だけ、基板1の上面
が露出した状態にする。
【0011】(d)次にフッ酸混合液で深溝部A,Bと
なるべき領域をエッチングする。このとき、第1のレジ
スト2によって覆われている境界部Dの凹凸を有する部
分は、深溝部A,Bに向って突出する凸状部の両側から
サイドエッチングにより若干削られる。
【0012】(e)図3に示すように、第1のレジスト
2を除去すると、基板1の上面にインク溜り3aおよび
加圧室3bとなるべきインク流路3の深溝部が刻まれて
いる。 (f)深溝部A,Bが形成してある基板1の上
面に、1回目のエッチングの場合と同様の要領によっ
て、第2のレジスト4を形成する。
【0013】(g)図4に2点鎖線で示すように、イン
ク流路3となるべき部分の全領域Eにマスクをして、こ
の領域Eを除いた領域Fに、1回目のエッチングと同様
の要領によって、露光および現像を行い、図5のように
インク流路3の領域に形成してある第2のレジスト4を
除去する。
【0014】(h)次に2回目のエッチングを施してイ
ンク流路3を形成する。この結果、図5,図6に示すよ
うに、2回目のエッチングにより浅溝部G,Hが刻まれ
るとともに、深溝部A,Bの領域も再びエッチングさ
れ、2回分のエッチングによる深さになる。今度のエッ
チングが行なわれる過程では浅溝部G,Hと境界部Dと
にエッチング液が強く衝突するので、浅溝部G,Hが所
望の深さまでエッチングされて連絡流路3g,3hとな
るとともに、境界部Dのエッチング量も多くなり、なだ
らかな傾斜面3dが形成される。すなわち、境界部にお
いては、深溝部側へ突出する尖端部分ほどエッチングさ
れ易く、えぐられるように刻まれ、幅の細い尖端部分か
ら幅の広い根元部分までに徐々に浅くなっている傾斜面
3dが形成される。その結果、図6〜図8に示すよう
に、インク流路3はインク溜り3aから連絡流路3g,
加圧室3b,連絡流路3hを経てノズル5まで連通し、
深溝部A,Bと浅溝部G,Hとの間の境界部は、なだら
かに連続する傾斜面3dとなって連通する。
【0015】図9に示すように、でき上った基板1の上
面に、振動板6を貼着し、この振動板の加圧室3bと対
向する位置の上面に、それぞれ圧電素子7…を装着す
る。圧電素子7を振動板上の透明電極(図示略)によっ
て導通可能にすれば、インクジェットヘッドが完成す
る。
【0016】上記した実施例では、境界部に傾斜面を形
成するための凹凸は、1境界部当たり1個宛て形成した
ものであるが、サイドエッチングし易くするために、こ
れを図10または図11に示すように、境界部D1 およ
びD2 は、1境界部当たりの凹凸を2個ずつ設けたり、
あるいは2個以上並列させて設けてもよい。凹凸の形成
を微細化することにより、一層滑らかな傾斜面を形成可
能になる。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
エッチング工程だけで、深溝部と浅溝部とその境界の傾
斜面とを容易に形成可能となり、研磨など他の工程を要
しないので、製造工程が短縮され、射出機能の高いイン
クジェットヘッドを低コストにて製造可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例において、1回目のエッチン
グを行なうための露光すべき領域を示す斜視図である。
【図2】同上露光・現像によって深溝部となるべき領域
のレジストを除去した状態を示す斜視図である。
【図3】1回目のエッチングによって深溝部を形成した
状態を示す斜視図である。
【図4】2回目のエッチングを行うための露光すべき領
域を示す斜視図である。
【図5】同上露光・現像によってインク流路となるべき
領域のレジストを除去した状態を示す斜視図である。
【図6】2回目のエッチングによってインク流路全体が
連通し、深溝部と浅溝部との境界部に傾斜面が形成され
た状態をを示す一部断面斜視図である。
【図7】同上深溝部と浅溝部とその境界部との拡大平面
図である。
【図8】図7のX−X線断面図である。
【図9】本発明における基板を用いてインクジェットヘ
ッドを組み立た状態を示す斜視図である。
【図10】他の実施例において、複数の凹凸を有する形
状に形成した境界部を示す拡大平面図である。
【図11】さらに他の実施例において、複数の凹凸を有
する形状に形成した境界部を示す拡大平面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 第1のレジスト 3 インク流路 4 第2のレジスト A,B 深溝部 D,D1 ,D2 境界部 G,H 浅溝部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の上面にインク流路の深溝部を除い
    た形状に第1のレジストを形成し、上記第1のレジスト
    が形成された状態で上記深溝部に1回目のエッチングを
    施し、上記第1のレジストを除去した後、上記インク流
    路の上記深溝部とともに浅溝部を除いた形状に第2のレ
    ジストを形成し、上記第2のレジストが形成された状態
    で2回目のエッチングを施し、上記深溝部と上記浅溝部
    とを有する上記インク流路を刻設するインクジェットヘ
    ッドの製造方法において、 上記第1のレジストは、上記深溝部と上記浅溝部との境
    界部において凹凸を有する形状に形成することを特徴と
    するインクジェットヘッドの製造方法。
JP24143891A 1991-09-20 1991-09-20 インクジエツトヘツドの製造方法 Pending JPH0577429A (ja)

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