JPH0578210A - 除草作用物質としてのシクロヘキセノン誘導体および解毒薬としてのナフタリン誘導体を含有する除草剤 - Google Patents
除草作用物質としてのシクロヘキセノン誘導体および解毒薬としてのナフタリン誘導体を含有する除草剤Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 シクロヘキセノン型IIの除草剤によって惹
起される栽培植物に対する損傷を補償することができる
化合物。 【構成】 拮抗作用を有する化合物としての式I: 【化1】 で示される少なくとも1つのナフタリン誘導体および式
II: 【化2】 で示されるシクロヘキセノン誘導体の群からの少なくと
も1つの除草作用物質を含有する除草剤。
起される栽培植物に対する損傷を補償することができる
化合物。 【構成】 拮抗作用を有する化合物としての式I: 【化1】 で示される少なくとも1つのナフタリン誘導体および式
II: 【化2】 で示されるシクロヘキセノン誘導体の群からの少なくと
も1つの除草作用物質を含有する除草剤。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、除草作用物質としての
シクロヘキセノン誘導体および解毒薬としてのナフタリ
ン誘導体を含有する除草剤、ならびにこの除草剤を用い
て望ましからぬ植物成長を選択的に防除する方法に関す
る。
シクロヘキセノン誘導体および解毒薬としてのナフタリ
ン誘導体を含有する除草剤、ならびにこの除草剤を用い
て望ましからぬ植物成長を選択的に防除する方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】シクロヘキセノン誘導体の群からの除草
作用物質は、式II:
作用物質は、式II:
【0003】
【化5】 [式中、R1はC1〜C6−アルキル基を表わし;AはC4
−アルキレン鎖またはC4アルケニレン鎖を表わし、こ
の場合これらの鎖は、C1〜C3−アルキル基および/ま
たはハロゲン原子を1〜3個有することができ;Xは水
素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、C1〜C4
−アルキル基、C1〜C4−アルコキシ基、C1〜C4−ア
ルキルチオ基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル基、C1
〜C4−ハロゲン化アルコキシ基、カルボキシル基、C1
〜C4−アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカル
ボニル基および/またはフェニル基を表わし、この場合
芳香族基は、次の置換基:ニトロ、シアノ、ハロゲン、
C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4
−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、C1
〜C4−ハロゲン化アルコキシ、カルボキシル、C1〜C
4−アルコキシカルボニルおよび/またはベンジルオキ
シカルボニルを1〜3個有することができ;nは1〜3
であるかまたはXがハロゲンを表わす場合には1〜5で
あり;R2はC1〜C4−アルコキシ−C1〜C6−アルキ
ル基またはC1〜C4−アルキルチオ−C1〜C6−アルキ
ル基;C3〜C7−シクロアルキル基またはC5〜C7−シ
クロアルケニル基、但し、これらの基は、次の置換基:
C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4
−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、ヒド
ロキシおよび/またはハロゲンを1〜3個有することが
でき;1もしくは2個の酸素原子および/または硫黄原
子をヘテロ原子として有しかつ次の置換基:C1〜C4−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル
チオおよび/またはC1〜C4−ハロゲン化アルキルを1
〜3個有することができる5員の飽和複素環式基;1も
しくは2個の酸素原子および/または硫黄原子および2
個までの二重結合を有する6または7員の複素環式基、
但し、これらの環は、次の置換基:ヒドロキシ、ハロゲ
ン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1
〜C4−アルキルチオおよび/またはC1〜C4−ハロゲ
ン化アルキルを1〜3個有することができるものとし;
1〜2個の窒素原子および1個の酸素原子または硫黄原
子を有する5員のヘテロ芳香族基、但し、この環は、次
の置換基:ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、C
1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜
C4−ハロゲン化アルキル、C2〜C6−アルケニル、C2
〜C6−アルケニルオキシ、C2〜C6−ハロゲン化アル
ケニルおよび/またはC1〜C4−アルコキシ−C1〜C4
−アルキルを1〜3個有することができるものとし;フ
ェニル基またはピリジル基を表わし、この場合これらの
基は、次の置換基:ハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜
C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア
ルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、C3〜C6
−アルケニルオキシ、C3〜C6−アルキニルオキシ、C
1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−
アルキルチオ−C1〜C4−アルキルおよび/または−N
R13R14を1〜3個有することができ、その際R13は水
素原子、C1〜C4−アルキル基、C3〜C6−アルケニル
基またはC3〜C6−アルキニル基を表わし、かつR14は
水素原子、C1〜C4−アルキル基、C3〜C6−アルケニ
ル基、C3〜C6−アルキニル基、C1〜C6−アシル基ま
たはベンゾイル基を表わし、この場合芳香環は、次の置
換基:ニトロ、シアノ、ハロゲン、C1〜C4−アルキ
ル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオお
よび/またはC1〜C4−ハロゲン化アルキルを1〜3個
有することができる]で示される化合物ならびにその農
業的に有用なC1〜C10−カルボン酸および有機酸の塩
およびエステルである。
−アルキレン鎖またはC4アルケニレン鎖を表わし、こ
の場合これらの鎖は、C1〜C3−アルキル基および/ま
たはハロゲン原子を1〜3個有することができ;Xは水
素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、C1〜C4
−アルキル基、C1〜C4−アルコキシ基、C1〜C4−ア
ルキルチオ基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル基、C1
〜C4−ハロゲン化アルコキシ基、カルボキシル基、C1
〜C4−アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカル
ボニル基および/またはフェニル基を表わし、この場合
芳香族基は、次の置換基:ニトロ、シアノ、ハロゲン、
C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4
−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、C1
〜C4−ハロゲン化アルコキシ、カルボキシル、C1〜C
4−アルコキシカルボニルおよび/またはベンジルオキ
シカルボニルを1〜3個有することができ;nは1〜3
であるかまたはXがハロゲンを表わす場合には1〜5で
あり;R2はC1〜C4−アルコキシ−C1〜C6−アルキ
ル基またはC1〜C4−アルキルチオ−C1〜C6−アルキ
ル基;C3〜C7−シクロアルキル基またはC5〜C7−シ
クロアルケニル基、但し、これらの基は、次の置換基:
C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4
−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、ヒド
ロキシおよび/またはハロゲンを1〜3個有することが
でき;1もしくは2個の酸素原子および/または硫黄原
子をヘテロ原子として有しかつ次の置換基:C1〜C4−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル
チオおよび/またはC1〜C4−ハロゲン化アルキルを1
〜3個有することができる5員の飽和複素環式基;1も
しくは2個の酸素原子および/または硫黄原子および2
個までの二重結合を有する6または7員の複素環式基、
但し、これらの環は、次の置換基:ヒドロキシ、ハロゲ
ン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1
〜C4−アルキルチオおよび/またはC1〜C4−ハロゲ
ン化アルキルを1〜3個有することができるものとし;
1〜2個の窒素原子および1個の酸素原子または硫黄原
子を有する5員のヘテロ芳香族基、但し、この環は、次
の置換基:ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アルキル、C
1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜
C4−ハロゲン化アルキル、C2〜C6−アルケニル、C2
〜C6−アルケニルオキシ、C2〜C6−ハロゲン化アル
ケニルおよび/またはC1〜C4−アルコキシ−C1〜C4
−アルキルを1〜3個有することができるものとし;フ
ェニル基またはピリジル基を表わし、この場合これらの
基は、次の置換基:ハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜
C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア
ルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、C3〜C6
−アルケニルオキシ、C3〜C6−アルキニルオキシ、C
1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキル、C1〜C4−
アルキルチオ−C1〜C4−アルキルおよび/または−N
R13R14を1〜3個有することができ、その際R13は水
素原子、C1〜C4−アルキル基、C3〜C6−アルケニル
基またはC3〜C6−アルキニル基を表わし、かつR14は
水素原子、C1〜C4−アルキル基、C3〜C6−アルケニ
ル基、C3〜C6−アルキニル基、C1〜C6−アシル基ま
たはベンゾイル基を表わし、この場合芳香環は、次の置
換基:ニトロ、シアノ、ハロゲン、C1〜C4−アルキ
ル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオお
よび/またはC1〜C4−ハロゲン化アルキルを1〜3個
有することができる]で示される化合物ならびにその農
業的に有用なC1〜C10−カルボン酸および有機酸の塩
およびエステルである。
【0004】シクロヘキセノンIIは、明らかに酸の性
質を有し、すなわちこの化合物は、アルカリ金属−また
はアルカリ土類金属化合物の塩またはエノールエステル
のような簡単な反応生成物を形成することができる。
質を有し、すなわちこの化合物は、アルカリ金属−また
はアルカリ土類金属化合物の塩またはエノールエステル
のような簡単な反応生成物を形成することができる。
【0005】式IIの化合物は、多数の互変異体の形で
生じることができ、これらの互変異体は全部が本明細書
中の特許請求の範囲に包含されている。
生じることができ、これらの互変異体は全部が本明細書
中の特許請求の範囲に包含されている。
【0006】式IIのシクロヘキセノンは、自体公知の
方法で式 IIIの既に公知の誘導体(欧州特許出願公
開第80301号明細書、欧州特許出願公開第1250
94号明細書、欧州特許出願公開第142741号明細
書、米国特許第4249937号明細書、欧州特許出願
公開第137174号明細書および欧州特許出願公開第
177913号明細書)および式IVの相応するヒドロ
キシルアミン(Houben−Weyl,10/1,第
1181頁以降)から得ることができる。
方法で式 IIIの既に公知の誘導体(欧州特許出願公
開第80301号明細書、欧州特許出願公開第1250
94号明細書、欧州特許出願公開第142741号明細
書、米国特許第4249937号明細書、欧州特許出願
公開第137174号明細書および欧州特許出願公開第
177913号明細書)および式IVの相応するヒドロ
キシルアミン(Houben−Weyl,10/1,第
1181頁以降)から得ることができる。
【0007】
【化6】 この反応は、有利に不均質相で溶剤中で約80℃よりも
低い十分な温度で塩基の存在下に実施され、ヒドロキシ
ルアミンIVは、アンモニウム塩の形で使用される。
低い十分な温度で塩基の存在下に実施され、ヒドロキシ
ルアミンIVは、アンモニウム塩の形で使用される。
【0008】適当な塩基は、例えばアルカリ金属または
アルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩、アル
コラートまたは酸化物、殊に水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウムである。
更に、ピリジンまたは3級アミンのような有機塩基を使
用することができる。塩基は、例えばアンモニウム化合
物に対して0.5〜2モル当量の量で添加される。
アルカリ土類金属の炭酸塩、炭酸水素塩、酢酸塩、アル
コラートまたは酸化物、殊に水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウムである。
更に、ピリジンまたは3級アミンのような有機塩基を使
用することができる。塩基は、例えばアンモニウム化合
物に対して0.5〜2モル当量の量で添加される。
【0009】溶剤としては、例えばジメチルスルホキシ
ド;アルコール、例えばメタノール、エタノールおよび
イソプロパノール;芳香族炭化水素、例えばベンゾール
およびトルオール;塩素化炭化水素、例えばクロロホル
ムおよびジクロルエタン;脂肪族炭化水素、例えばヘキ
サンおよびシクロヘキサン;エステル、例えば酢酸エチ
ルエステルおよびエーテル、例えばジエチルエーテル、
ジオキサンおよびテトラヒドロフランが適当である。特
に、反応は、メタノール中で塩基としての炭酸水素ナト
リウムを用いて実施される。
ド;アルコール、例えばメタノール、エタノールおよび
イソプロパノール;芳香族炭化水素、例えばベンゾール
およびトルオール;塩素化炭化水素、例えばクロロホル
ムおよびジクロルエタン;脂肪族炭化水素、例えばヘキ
サンおよびシクロヘキサン;エステル、例えば酢酸エチ
ルエステルおよびエーテル、例えばジエチルエーテル、
ジオキサンおよびテトラヒドロフランが適当である。特
に、反応は、メタノール中で塩基としての炭酸水素ナト
リウムを用いて実施される。
【0010】反応は、数時間後に終結する。目的化合物
は、例えば混合物の濃縮、塩化メチレン/水中への残留
物の分配および減圧下での溶剤の留去によって単離する
ことができる。
は、例えば混合物の濃縮、塩化メチレン/水中への残留
物の分配および減圧下での溶剤の留去によって単離する
ことができる。
【0011】しかし、この反応のためには直接に遊離ヒ
ドロキシルアミン塩基を、例えば水溶液の形で使用する
ことができ;化合物 IIIに使用される溶剤に応じて
単相または二相の反応混合物が得られる。この変法に適
当な溶剤は、例えばアルコール、例えばメタノール、エ
タノール、イソプロパノールおよびシクロヘキサノー
ル;脂肪族炭化水素および芳香族炭化水素、場合によっ
ては塩素化炭化水素、例えばヘキサン、シクロヘキサ
ン、塩化メチレン、トルオールおよびジクロルエタン;
エステル、例えば酢酸エチルエステル;ニトリル、例え
ばアセトニトリルおよび環式エーテル、例えばジオキサ
ンおよびテトラヒドロフランである。
ドロキシルアミン塩基を、例えば水溶液の形で使用する
ことができ;化合物 IIIに使用される溶剤に応じて
単相または二相の反応混合物が得られる。この変法に適
当な溶剤は、例えばアルコール、例えばメタノール、エ
タノール、イソプロパノールおよびシクロヘキサノー
ル;脂肪族炭化水素および芳香族炭化水素、場合によっ
ては塩素化炭化水素、例えばヘキサン、シクロヘキサ
ン、塩化メチレン、トルオールおよびジクロルエタン;
エステル、例えば酢酸エチルエステル;ニトリル、例え
ばアセトニトリルおよび環式エーテル、例えばジオキサ
ンおよびテトラヒドロフランである。
【0012】化合物IIのアルカリ金属塩は、3−ヒド
ロキシ化合物を水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウ
ムまたはナトリウムアルコラートもしくはカリウムアル
コラートを用いて水溶液中または有機溶剤中、例えばメ
タノール、エタノール、アセトンおよびトルオール中で
処理することによって得ることができる。
ロキシ化合物を水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウ
ムまたはナトリウムアルコラートもしくはカリウムアル
コラートを用いて水溶液中または有機溶剤中、例えばメ
タノール、エタノール、アセトンおよびトルオール中で
処理することによって得ることができる。
【0013】別の金属塩、例えばマンガン塩、銅塩、亜
鉛塩、鉄塩、カルシウム塩、マグネシウム塩およびバリ
ウム塩は、ナトリウム塩から常法で得ることができ、同
様にアンモニウム塩およびホスホニウム塩は、アンモニ
ア、水酸化アンモニウム、水酸化ホスホニウム、水酸化
スルホニウムまたは水酸化スルホキソニウムにより得る
ことができる。
鉛塩、鉄塩、カルシウム塩、マグネシウム塩およびバリ
ウム塩は、ナトリウム塩から常法で得ることができ、同
様にアンモニウム塩およびホスホニウム塩は、アンモニ
ア、水酸化アンモニウム、水酸化ホスホニウム、水酸化
スルホニウムまたは水酸化スルホキソニウムにより得る
ことができる。
【0014】型 IIIの化合物は、例えば式V:
【0015】
【化7】 [式中、Yは水素原子またはメトキシカルボニル基を表
わす]で示される相応するシクロヘキサン−1,3−ジ
オンから公知方法(Tetrahedron Let
t.,2491( 1975))により得ることができ
る。
わす]で示される相応するシクロヘキサン−1,3−ジ
オンから公知方法(Tetrahedron Let
t.,2491( 1975))により得ることができ
る。
【0016】また、式 IIIの化合物をエノールエス
テルVIの中間段階を経て得ることもでき、この場合こ
のエステルは、塩基の存在下に式Vの化合物と酸塩化物
VIIとの反応の際に生じ、かつ引き続いて特定のイ
ミダゾール誘導体またはピリジン誘導体を用いて転移さ
れる(特開昭54−063052号公報)。
テルVIの中間段階を経て得ることもでき、この場合こ
のエステルは、塩基の存在下に式Vの化合物と酸塩化物
VIIとの反応の際に生じ、かつ引き続いて特定のイ
ミダゾール誘導体またはピリジン誘導体を用いて転移さ
れる(特開昭54−063052号公報)。
【0017】
【化8】 式Vの化合物は、公知の前駆物質から出発して一連の公
知の処理工程を経て得られる。
知の処理工程を経て得られる。
【0018】Aが置換または非置換のブト−2−エニレ
ン橋を表わすようなヒドロキシルアミンIVの合成は、
次の反応式によりアニリン誘導体VIIIから出発して
ジアゾ化および引き続くジアゾニウム塩と、相応する置
換ブタジエンIXとのカップリングによって行なわれ
る。こうして得られたXaとXbとの混合物は、環式ヒ
ドロキシイミドXIとカップリングされ、得られる保護
されたヒドロキシルアミン誘導体XII は、2−アミ
ノエタノールで分解されて遊離ヒドロキシルアミンIV
に変わる。
ン橋を表わすようなヒドロキシルアミンIVの合成は、
次の反応式によりアニリン誘導体VIIIから出発して
ジアゾ化および引き続くジアゾニウム塩と、相応する置
換ブタジエンIXとのカップリングによって行なわれ
る。こうして得られたXaとXbとの混合物は、環式ヒ
ドロキシイミドXIとカップリングされ、得られる保護
されたヒドロキシルアミン誘導体XII は、2−アミ
ノエタノールで分解されて遊離ヒドロキシルアミンIV
に変わる。
【0019】
【化9】 この場合、Ra、RbおよびRcは、互いに独立に水素原
子、C1〜C3−アルキル基および/またはハロゲン原子
を表わす。Halはハロゲン原子、特に塩素原子を表わ
す。
子、C1〜C3−アルキル基および/またはハロゲン原子
を表わす。Halはハロゲン原子、特に塩素原子を表わ
す。
【0020】環式ヒドロキシイミドとしては、例えば次
の物質がこれに該当する:
の物質がこれに該当する:
【0021】
【化10】 式IVの新規のヒドロキシルアミンの合成に必要とされ
るハロゲン化物は、文献に公知の方法により、例えば芳
香族アニリンおよびヘテロ芳香族アニリンのジアゾニウ
ム塩と、ジエンとの反応によってXbとの混合物で得る
ことができる。この反応の使用範囲は、Organic
Reactions 11(1960)189または
同書24(1976)225に論究されている。
るハロゲン化物は、文献に公知の方法により、例えば芳
香族アニリンおよびヘテロ芳香族アニリンのジアゾニウ
ム塩と、ジエンとの反応によってXbとの混合物で得る
ことができる。この反応の使用範囲は、Organic
Reactions 11(1960)189または
同書24(1976)225に論究されている。
【0022】異性体ハロゲン化物XaおよびXbを式X
Iの環式ヒドロキシイミドにカップリングした場合に
は、専ら式XIIの環式イミドエーテルが生じ、このイ
ミドエーテルは、窒素の保護基の脱離後にヒドロキシル
アミンIVを生じる。
Iの環式ヒドロキシイミドにカップリングした場合に
は、専ら式XIIの環式イミドエーテルが生じ、このイ
ミドエーテルは、窒素の保護基の脱離後にヒドロキシル
アミンIVを生じる。
【0023】XaおよびXbからなる混合物と、ヒドロ
キシイミドXIとの反応は、酸結合剤および溶剤の存在
下に行なわれる。費用の理由から、ヒドロキシイミドX
Iとしては有利にヒドロキシフタルイミドが使用され
る。
キシイミドXIとの反応は、酸結合剤および溶剤の存在
下に行なわれる。費用の理由から、ヒドロキシイミドX
Iとしては有利にヒドロキシフタルイミドが使用され
る。
【0024】酸結合剤としては、アルカリ金属炭酸塩、
例えば炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム、アルカリ金
属炭酸水素塩、例えば炭酸水素カリウムおよび炭酸水素
ナトリウム、3級アミン、例えばトリメチルアミンおよ
びトリエチルアミンならびに塩基性複素環式化合物、例
えばピリジンが適当である。費用の理由から、有利には
炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムが当てはまる。
例えば炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウム、アルカリ金
属炭酸水素塩、例えば炭酸水素カリウムおよび炭酸水素
ナトリウム、3級アミン、例えばトリメチルアミンおよ
びトリエチルアミンならびに塩基性複素環式化合物、例
えばピリジンが適当である。費用の理由から、有利には
炭酸カリウムおよび炭酸ナトリウムが当てはまる。
【0025】溶剤としては、非プロトン性の双極性有機
溶剤、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよび/またはスルホランが適当である。
溶剤、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シドおよび/またはスルホランが適当である。
【0026】更に、またアルキル化は、相転移の条件下
で可能である。この場合、有機溶剤としては、水と混合
不可能な化合物、例えば炭化水素または塩素化炭化水素
が適当である。相転移触媒としては、4級アンモニウム
塩およびホスホニウム塩が適当である。
で可能である。この場合、有機溶剤としては、水と混合
不可能な化合物、例えば炭化水素または塩素化炭化水素
が適当である。相転移触媒としては、4級アンモニウム
塩およびホスホニウム塩が適当である。
【0027】環式イミドエーテルXIIの分解は、欧州
特許出願公開第244786号明細書に記載の方法と同
様にしてアルカノールアミンを用いて行なうことができ
る。ヒドロキシルアミンIVは、この方法により遊離塩
基として単離することができるかまたは沈殿後に酸を用
いて塩として単離することができる。良好な結晶性塩
は、塩基と蓚酸との反応によって得られる。
特許出願公開第244786号明細書に記載の方法と同
様にしてアルカノールアミンを用いて行なうことができ
る。ヒドロキシルアミンIVは、この方法により遊離塩
基として単離することができるかまたは沈殿後に酸を用
いて塩として単離することができる。良好な結晶性塩
は、塩基と蓚酸との反応によって得られる。
【0028】生物学的作用に関連して、置換基が次の意
味を有するような式IIのシクロヘキセノンは、好まし
い:R1分枝鎖状または非分枝鎖状C1〜C6−アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、1−メチ
ルエチル基、ブチル基、1−メチルプロピル基、2−メ
チルプロピル基、1,1−ジメチルエチル基、ペンチル
基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メ
チルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−
ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、1
−エチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチルペンチル
基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4
−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,
2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、
2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル
基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、
2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル
基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−
1−メチルプロピル基および1−エチル−2−メチルプ
ロピル基、殊にエチル基およびプロピル基;A C4−
アルキレン基またはC4−アルケニレン基、例えば1〜
3回殊にメチルもしくはエチルおよび/または弗素もし
くは塩素によって置換されていてもよいブチレン基、ブ
ト−2−エニレン基およびブト−3−エニレン基;不飽
和鎖の場合には、シス形ならびにトランス形を生じるこ
とができる。殊に有利なのは、ブト−2−エニレン基で
ある。X ハロゲン原子、例えば弗素原子、塩素原子、
臭素原子および沃素原子、殊に弗素原子および塩素原
子;C1〜C4−アルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、1−メチルエチル基、ブチル基、1−
メチルプロピル基、2−メチルプロピル基および1,1
−ジメチルエチル基、殊にメチル基および1,1−ジメ
チルエチル基、C1〜C4−アルコキシ基、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、1−メチルエトキシ
基、ブトキシ基、1−メチルプロポキシ基、2−メチル
プロポキシ基および1,1−ジメチルエトキシ基、殊に
メトキシ基、エトキシ基、1−メチルエトキシ基および
1,1−ジメチルエトキシ基、C1〜C4−アルキルチオ
基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ
基、1−メチルエチルチオ基、ブチルチオ基、1−メチ
ルプロピルチオ基、2−メチルプロピルチオ基および
1,1−ジメチルエチルチオ基、殊にメチルチオ基およ
びエチルチオ基、部分的または完全にハロゲン化された
C1〜C4−アルキル基、例えばフルオルメチル基、ジフ
ルオルメチル基、トリフルオルメチル基、クロルジフル
オルメチル基、ジクロルフルオルメチル基、トリクロル
メチル基、1−フルオルエチル基、2−フルオルエチル
基、2,2−ジフルオルエチル基、2,2,2−トリフ
ルオルエチル基、2−クロル−2,2−ジフルオルエチ
ル基、2,2−ジクロル−2フルオルエチル基、2,
2,2−トリクロルエチル基およびペンタフルオルエチ
ル基、殊にジフルオルメチル基、トリフルオルメチル
基、2,2,2−トリフルオルエチル基およびペンタフ
ルオルエチル基、部分的または完全にハロゲン化された
C1〜C4−アルコキシ基、例えばジフルオルメトキシ
基、トリフルオルメトキシ基、クロル−ジフルオルメト
キシ基、ジクロルフルオルメトキシ基、1−フルオルエ
トキシ基、2−フルオルエトキシ基、2,2−ジフルオ
ルエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオルエトキ
シ基、2,2,2−トリフルオルエトキシ基、2−クロ
ル−1,1,2−トリフルオルエトキシ基およびペンタ
フルオルエトキシ基、殊にトリフルオルメトキシ基;C
1〜C4−アルコキシカルボニル基、例えばメトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカル
ボニル基、1−メチルエトキシカルボニル基、ブチルオ
キシカルボニル基および1,1−ジメチルエトキシカル
ボニル基、殊にメトキシカルボニル基、ならびに水素原
子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ベンゾキシ
カルボニル基およびフェニル基、この場合芳香族基は、
その側で1〜3個の次の基を有することができる:ニト
ロ、シアノ、カルボキシル、便ジルオキシカルボニル、
一般に特にXで記載したようなハロゲン;R1で記載し
たようなアルキル、殊にメチル、エチルおよび1−メチ
ルエチル;前記したようなアルコキシ、殊にメトキシお
よびエトキシ;前記したようなアルキルチオ、殊にメチ
ルチオ;前記したようなハロゲン化アルキル、殊にトリ
フルオルメチル;前記したようなハロゲン化アルコキ
シ、殊にジフルオルメトキシおよびトリフルオルメトキ
シおよび/または前記したようなアルコキシカルボニ
ル、殊にメトキシカルボニルおよびエトキシカルボニ
ル。
味を有するような式IIのシクロヘキセノンは、好まし
い:R1分枝鎖状または非分枝鎖状C1〜C6−アルキル
基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、1−メチ
ルエチル基、ブチル基、1−メチルプロピル基、2−メ
チルプロピル基、1,1−ジメチルエチル基、ペンチル
基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、3−メ
チルブチル基、1,1−ジメチルプロピル基、1,2−
ジメチルプロピル基、2,2−ジメチルプロピル基、1
−エチルプロピル基、ヘキシル基、1−メチルペンチル
基、2−メチルペンチル基、3−メチルペンチル基、4
−メチルペンチル基、1,1−ジメチルブチル基、1,
2−ジメチルブチル基、1,3−ジメチルブチル基、
2,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル
基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、
2−エチルブチル基、1,1,2−トリメチルプロピル
基、1,2,2−トリメチルプロピル基、1−エチル−
1−メチルプロピル基および1−エチル−2−メチルプ
ロピル基、殊にエチル基およびプロピル基;A C4−
アルキレン基またはC4−アルケニレン基、例えば1〜
3回殊にメチルもしくはエチルおよび/または弗素もし
くは塩素によって置換されていてもよいブチレン基、ブ
ト−2−エニレン基およびブト−3−エニレン基;不飽
和鎖の場合には、シス形ならびにトランス形を生じるこ
とができる。殊に有利なのは、ブト−2−エニレン基で
ある。X ハロゲン原子、例えば弗素原子、塩素原子、
臭素原子および沃素原子、殊に弗素原子および塩素原
子;C1〜C4−アルキル基、例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、1−メチルエチル基、ブチル基、1−
メチルプロピル基、2−メチルプロピル基および1,1
−ジメチルエチル基、殊にメチル基および1,1−ジメ
チルエチル基、C1〜C4−アルコキシ基、例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、1−メチルエトキシ
基、ブトキシ基、1−メチルプロポキシ基、2−メチル
プロポキシ基および1,1−ジメチルエトキシ基、殊に
メトキシ基、エトキシ基、1−メチルエトキシ基および
1,1−ジメチルエトキシ基、C1〜C4−アルキルチオ
基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ
基、1−メチルエチルチオ基、ブチルチオ基、1−メチ
ルプロピルチオ基、2−メチルプロピルチオ基および
1,1−ジメチルエチルチオ基、殊にメチルチオ基およ
びエチルチオ基、部分的または完全にハロゲン化された
C1〜C4−アルキル基、例えばフルオルメチル基、ジフ
ルオルメチル基、トリフルオルメチル基、クロルジフル
オルメチル基、ジクロルフルオルメチル基、トリクロル
メチル基、1−フルオルエチル基、2−フルオルエチル
基、2,2−ジフルオルエチル基、2,2,2−トリフ
ルオルエチル基、2−クロル−2,2−ジフルオルエチ
ル基、2,2−ジクロル−2フルオルエチル基、2,
2,2−トリクロルエチル基およびペンタフルオルエチ
ル基、殊にジフルオルメチル基、トリフルオルメチル
基、2,2,2−トリフルオルエチル基およびペンタフ
ルオルエチル基、部分的または完全にハロゲン化された
C1〜C4−アルコキシ基、例えばジフルオルメトキシ
基、トリフルオルメトキシ基、クロル−ジフルオルメト
キシ基、ジクロルフルオルメトキシ基、1−フルオルエ
トキシ基、2−フルオルエトキシ基、2,2−ジフルオ
ルエトキシ基、1,1,2,2−テトラフルオルエトキ
シ基、2,2,2−トリフルオルエトキシ基、2−クロ
ル−1,1,2−トリフルオルエトキシ基およびペンタ
フルオルエトキシ基、殊にトリフルオルメトキシ基;C
1〜C4−アルコキシカルボニル基、例えばメトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロピルオキシカル
ボニル基、1−メチルエトキシカルボニル基、ブチルオ
キシカルボニル基および1,1−ジメチルエトキシカル
ボニル基、殊にメトキシカルボニル基、ならびに水素原
子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、ベンゾキシ
カルボニル基およびフェニル基、この場合芳香族基は、
その側で1〜3個の次の基を有することができる:ニト
ロ、シアノ、カルボキシル、便ジルオキシカルボニル、
一般に特にXで記載したようなハロゲン;R1で記載し
たようなアルキル、殊にメチル、エチルおよび1−メチ
ルエチル;前記したようなアルコキシ、殊にメトキシお
よびエトキシ;前記したようなアルキルチオ、殊にメチ
ルチオ;前記したようなハロゲン化アルキル、殊にトリ
フルオルメチル;前記したようなハロゲン化アルコキ
シ、殊にジフルオルメトキシおよびトリフルオルメトキ
シおよび/または前記したようなアルコキシカルボニ
ル、殊にメトキシカルボニルおよびエトキシカルボニ
ル。
【0029】この芳香族基の場合には、置換されていな
いかまたは1回置換された代表例が殊に好ましい。n
1、2または3、殊に1または2。数多くのX基の場
合、置換基は同一でも異なっていてもよい。R2Xで記
載したアルコキシ基またはアルキルチオ基の中の1個を
有利に1、2または3位で有することができる、R1で
記載したようなアルキル基、殊に2−エチルチオプロピ
ル基;5員のヘテロシクロアルキル環、例えばテトラヒ
ドロフラニル環、テトラヒドロチエニル環、ジオキソラ
ニル環、ジチオラニル環およびオキサチオラニル環、殊
にテトラヒドロフラニル環、テトラヒドロチエニル環お
よびジオキソラニル環、この場合これらの環は、既にX
で記載したC1〜C4−アルキル基、C1〜C4−アルコキ
シ基、C1〜C4−アルキルチオ基および/またはC1〜
C4−ハロゲン化アルキル基を有することができ、5員
のヘテロアリール環、例えばピロリル環、ピラゾリル
環、イミダゾリル環、イソキサゾリル環、オキサゾリル
環、イソチアゾリル環、チアゾリル環、フラニル環およ
びチエニル環、殊にイソキサゾリル環およびフラニル
環、6または7員の複素環式基、例えばテトラヒドロピ
ラン−3−イル基、ジヒドロピラン−3−イル基、テト
ラヒドロピラン−4−イル基、ジヒドロピラン−4−イ
ル基、テトラヒドロチオピラン−3−イル基、ジヒドロ
チオピラン−3−イル基、テトラヒドロチオピラン−4
−イル基、ジヒドロチオピラン−4−イル基およびジオ
キセパン−5−イル基、殊にテトラヒドロピラン−3−
イル基、テトラヒドロピラン−4−イル基およびテトラ
ヒドロチオピラン−3−イル基、フェニル基およびピリ
ジル基、この場合環式基は、Xで記載したアルキル基、
アルコキシ基、アルキルチオ基および/またはハロゲン
化アルキル基を1〜3個有することができる。
いかまたは1回置換された代表例が殊に好ましい。n
1、2または3、殊に1または2。数多くのX基の場
合、置換基は同一でも異なっていてもよい。R2Xで記
載したアルコキシ基またはアルキルチオ基の中の1個を
有利に1、2または3位で有することができる、R1で
記載したようなアルキル基、殊に2−エチルチオプロピ
ル基;5員のヘテロシクロアルキル環、例えばテトラヒ
ドロフラニル環、テトラヒドロチエニル環、ジオキソラ
ニル環、ジチオラニル環およびオキサチオラニル環、殊
にテトラヒドロフラニル環、テトラヒドロチエニル環お
よびジオキソラニル環、この場合これらの環は、既にX
で記載したC1〜C4−アルキル基、C1〜C4−アルコキ
シ基、C1〜C4−アルキルチオ基および/またはC1〜
C4−ハロゲン化アルキル基を有することができ、5員
のヘテロアリール環、例えばピロリル環、ピラゾリル
環、イミダゾリル環、イソキサゾリル環、オキサゾリル
環、イソチアゾリル環、チアゾリル環、フラニル環およ
びチエニル環、殊にイソキサゾリル環およびフラニル
環、6または7員の複素環式基、例えばテトラヒドロピ
ラン−3−イル基、ジヒドロピラン−3−イル基、テト
ラヒドロピラン−4−イル基、ジヒドロピラン−4−イ
ル基、テトラヒドロチオピラン−3−イル基、ジヒドロ
チオピラン−3−イル基、テトラヒドロチオピラン−4
−イル基、ジヒドロチオピラン−4−イル基およびジオ
キセパン−5−イル基、殊にテトラヒドロピラン−3−
イル基、テトラヒドロピラン−4−イル基およびテトラ
ヒドロチオピラン−3−イル基、フェニル基およびピリ
ジル基、この場合環式基は、Xで記載したアルキル基、
アルコキシ基、アルキルチオ基および/またはハロゲン
化アルキル基を1〜3個有することができる。
【0030】R2の5員のヘテロ芳香族基は、置換基と
して次の基を有することができる:Xで記載したような
ハロゲン原子、殊に弗素原子および塩素原子、アルコキ
シアルキル基、例えばメトキシメチル基、2−メトキシ
エチル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロ
ピル基、2−メトキシ−1−メチルエチル基、エトキシ
メチル基、2−エトキシエチル基、2−エトキシプロピ
ル基、3−エトキシプロピル基、2−エトキシ−1−メ
チルエチル基および1−エトキシ−1−メチルエチル
基、殊にメトキシエチル基およびエトキシエチル基、ア
ルケニル基、例えばエテニル基、1−プロペニル基、2
−プロペニル基、1−メチルエテニル基、1−ブテニル
基、2−ブテニル基 3−ブテニル基、1−メチル−1
−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−
メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニ
ル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペン
テニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−1−ブテニ
ル基、2−メチル−1−ブテニル基、3−メチル−1−
ブテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−メチル
−2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−
メチル−3−ブテニル基、2−メチル−3−ブテニル
基、3−メチル−3−ブテニル基、1,1−ジメチル−
2−プロペニル基、1,2−ジメチル−1−プロペニル
基、1,2−ジメチル−2−プロペニル基、1−エチル
−1−プロペニル基、1−エチル−2−プロペニル基、
1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−キセニル
基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、1−メチル
−1−ペンテニル基、2−メチル−1−ペンテニル基、
3−メチル−1−ペンテニル基、4−メチル−1−ペン
テニル基、1−メチル−2−ペンテニル基、2−メチル
−2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、
4−メチル−2−ペンテニル基、1−メチル−3−ペン
テニル基、2−メチル−3−ペンテニル基、3−メチル
−3−ペンテニル基、4−メチル−3−ペンテニル基、
1−メチル−4−ペンテニル基、2−メチル−4−ペン
テニル基、3−メチル−4−ペンテニル基、4−メチル
−4−ペンテニル基、1,1−ジメチル−2−ブテニル
基、1,1−ジメチル−3−ブテニル基、1,2−ジメ
チル−1−ブテニル基、1,2−ジメチル−2−ブテニ
ル基、1,2−ジメチル−3−ブテニル基、1,3−ジ
メチル−1−ブテニル基、1,3−ジメチル−2−ブテ
ニル基、1,3−ジメチル−3−ブテニル基、2,2−
ジメチル−3−ブテニル基、2,3−ジメチル−1−ブ
テニル基、2,3−ジメチル−2−ブテニル基、2,3
−ジメチル−3−ブテニル基、3,3−ジメチル−1−
ブテニル基、1−エチル−1−ブテニル基、1−エチル
−2−ブテニル基、1−エチル−3−ブテニル基、2−
エチル−1−ブテニル基、2−エチル−2−ブテニル
基、2−エチル−3−ブテニル基、1,1,2−トリメ
チル−2−プロペニル基、1−エチル−1−メチル−2
−プロペニル基、1−エチル−2−メチル−1−プロペ
ニル基および1−エチル−2−メチル−2−プロペニル
基、殊に1−メチルエテニル基もしくは相応するアルケ
ニルオキシ基および/またはハロゲン化アルケニル基。
して次の基を有することができる:Xで記載したような
ハロゲン原子、殊に弗素原子および塩素原子、アルコキ
シアルキル基、例えばメトキシメチル基、2−メトキシ
エチル基、2−メトキシプロピル基、3−メトキシプロ
ピル基、2−メトキシ−1−メチルエチル基、エトキシ
メチル基、2−エトキシエチル基、2−エトキシプロピ
ル基、3−エトキシプロピル基、2−エトキシ−1−メ
チルエチル基および1−エトキシ−1−メチルエチル
基、殊にメトキシエチル基およびエトキシエチル基、ア
ルケニル基、例えばエテニル基、1−プロペニル基、2
−プロペニル基、1−メチルエテニル基、1−ブテニル
基、2−ブテニル基 3−ブテニル基、1−メチル−1
−プロペニル基、1−メチル−2−プロペニル基、2−
メチル−1−プロペニル基、2−メチル−2−プロペニ
ル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペン
テニル基、4−ペンテニル基、1−メチル−1−ブテニ
ル基、2−メチル−1−ブテニル基、3−メチル−1−
ブテニル基、1−メチル−2−ブテニル基、2−メチル
−2−ブテニル基、3−メチル−2−ブテニル基、1−
メチル−3−ブテニル基、2−メチル−3−ブテニル
基、3−メチル−3−ブテニル基、1,1−ジメチル−
2−プロペニル基、1,2−ジメチル−1−プロペニル
基、1,2−ジメチル−2−プロペニル基、1−エチル
−1−プロペニル基、1−エチル−2−プロペニル基、
1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−キセニル
基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基、1−メチル
−1−ペンテニル基、2−メチル−1−ペンテニル基、
3−メチル−1−ペンテニル基、4−メチル−1−ペン
テニル基、1−メチル−2−ペンテニル基、2−メチル
−2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、
4−メチル−2−ペンテニル基、1−メチル−3−ペン
テニル基、2−メチル−3−ペンテニル基、3−メチル
−3−ペンテニル基、4−メチル−3−ペンテニル基、
1−メチル−4−ペンテニル基、2−メチル−4−ペン
テニル基、3−メチル−4−ペンテニル基、4−メチル
−4−ペンテニル基、1,1−ジメチル−2−ブテニル
基、1,1−ジメチル−3−ブテニル基、1,2−ジメ
チル−1−ブテニル基、1,2−ジメチル−2−ブテニ
ル基、1,2−ジメチル−3−ブテニル基、1,3−ジ
メチル−1−ブテニル基、1,3−ジメチル−2−ブテ
ニル基、1,3−ジメチル−3−ブテニル基、2,2−
ジメチル−3−ブテニル基、2,3−ジメチル−1−ブ
テニル基、2,3−ジメチル−2−ブテニル基、2,3
−ジメチル−3−ブテニル基、3,3−ジメチル−1−
ブテニル基、1−エチル−1−ブテニル基、1−エチル
−2−ブテニル基、1−エチル−3−ブテニル基、2−
エチル−1−ブテニル基、2−エチル−2−ブテニル
基、2−エチル−3−ブテニル基、1,1,2−トリメ
チル−2−プロペニル基、1−エチル−1−メチル−2
−プロペニル基、1−エチル−2−メチル−1−プロペ
ニル基および1−エチル−2−メチル−2−プロペニル
基、殊に1−メチルエテニル基もしくは相応するアルケ
ニルオキシ基および/またはハロゲン化アルケニル基。
【0031】6員および7員の複素環式基は、前記の置
換基とともにヒドロキシ基を有することもできる。
換基とともにヒドロキシ基を有することもできる。
【0032】フェニル基およびピリジル基の場合、置換
基としては、上記の基とともに次の基もこれに該当す
る:アルケニルオキシ基、例えば2−プロペニルオキシ
基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、1
−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−メチル−2−
プロペニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、3−ペ
ンテニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、1−メチ
ル−2−ブテニルオキシ基、2−メチル−2−ブテニル
オキシ基、3−メチル−2−ブテニルオキシ基、1−メ
チル−3−ブテニルオキシ基、2−メチル−3−ブテニ
ルオキシ基、3−メチル−3−ブテニルオキシ基、1,
1−ジメチル−2−プロペニルオキシ基、1,2−ジメ
チル−2−プロペニルオキシ基、1−エチル−2−プロ
ペニルオキシ基、2−ヘキセニルオキシ基、3−ヘキセ
ニルオキシ基、4−ヘキセニルオキシ基、5−ヘキセニ
ルオキシ基、1−メチル−2−ペンテニルオキシ基、2
−メチル−2−ペンテニルオキシ基、3−メチル−2−
ペンテニルオキシ基、4−メチル−2−ペンテニルオキ
シ基、1−メチル−3−ペンテニルオキシ基、2−メチ
ル−3−ペンテニルオキシ基、3−メチル−3−ペンテ
ニルオキシ基、4−メチル−3−ペンテニルオキシ基、
1−メチル−4−ペンテニルオキシ基、2−メチル−4
−ペンテニルオキシ基、3−メチル−4−ペンテニルオ
キシ基、4−メチル−4−ペンテニルオキシ基、1,1
−ジメチル−2−ブテニルオキシ基、1,1−ジメチル
−3−ブテニルオキシ基、1,2−ジメチル−2−ブテ
ニルオキシ基、1,2−ジメチル−3−ブテニルオキシ
基、1,3−ジメチル−2−ブテニルオキシ基、1,3
−ジメチル−3−ブテニルオキシ基、2,2−ジメチル
−3−ブテニルオキシ基、2,3−ジメチル−2−ブテ
ニルオキシ基、2,3−ジメチル3−ブテニルオキシ
基、1−エチル−2−ブテニルオキシ基、1−エチル−
3−ブテニルオキシ基、2−エチル−2−ブテニルオキ
シ基、2−エチル−3−ブテニルオキシ基、1,1,2
−トリメチル−2−プロペニルオキシ基、1−エチル−
1−メチル−2−プロペニルオキシ基および1−エチル
−2−メチル−2−プロペニルオキシ基、殊に2−プロ
ペニルオキシ基および2−ブテニルオキシ基;アルキニ
ルオキシ基、例えば2−プロピニルオキシ基、2−ブチ
ニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基、1−メチル−2
−プロピニルオキシ基、2−ペンチニルオキシ基、3−
ペンチニルオキシ基、4−ペンチニルオキシ基、1−メ
チル−3−ブチニルオキシ基、2−メチル−3−ブチニ
ルオキシ基、1−メチル−2−ブチニルオキシ基、1,
1−ジメチル−2−プロピニルオキシ基、1−エチル−
2−プロピニルオキシ基、2−ヘキシニルオキシ基、3
−ヘキシニルオキシ基、4−ヘキシニルオキシ基、5−
ヘキシニルオキシ基、1−メチル−2−ペンチニルオキ
シ基、1−メチル−3−ペンチニルオキシ基、1−メチ
ル−4−ペンチニルオキシ基、2−メチル−3−ペンチ
ニルオキシ基、2−メチル−4−ペンチニルオキシ基、
3−メチル−4−ペンチニルオキシ基、4−メチル−2
−ペンチニルオキシ基、1,1−ジメチル−2−ブチニ
ルオキシ基、1,1−ジメチル−3−ブチニルオキシ
基、1,2−ジメチル−3−ブチニルオキシ基、2,2
−ジメチル−3−ブチニルオキシ基、1−エチル−2−
ブチニルオキシ基、1−エチル−3−ブチニルオキシ
基、2−エチル−3−ブチニルオキシ基および1−エチ
ル−1−メチル−2−プロピニルオキシ基、殊に2−ピ
ロピニルオキシ基および2−ブチニルオキシ基;次の
基:Xで記載したようなアルキル、殊にメチルおよびエ
チル;前記したようなアルケニル、殊に2−プロペニル
および2−ブテニルを1または2個有することができる
アミノ基;アルキニル基、例えばエチニル基、1−プロ
ピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブ
チニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニ
ル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペン
チニル基、4−ペンチニル基、1−メチル−3−ブチニ
ル基、2−メチル−3−ブチニル基、1−メチル−2−
ブチニル基、3−メチル−1−ブチニル基、1,1−ジ
メチル−2−プロピニル基、1−エチル−2−プロピニ
ル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、3−ヘキ
シニル基、4−アルキニル基、5−ヘキシニル基、1−
メチル−2−ペンチニル基、1−メチル−3−ペンチニ
ル基、1−メチル−4−ペンチニル基、2−メチル−3
−ペンチニル基、2−メチル−4−ペンチニル基、3−
メチル−1−ペンチニル基、3−メチル−4−ペンチニ
ル基、4−メチル−1−ペンチニル基、4−メチル−2
−ペンチニル基、1,1−ジメチル−2−ブチニル基、
1,1−ジメチル−3−ブチニル基、1,2−ジメチル
−3−ブチニル基、2,2−ジメチル−3−ブチニル
基、3,3−ジメチル−1−ブチニル基、1−エチル−
2−ブチニル基、1−エチル−3−ブチニル基、2−エ
チル−3−ブチニル基および1−エチル−1−メチル−
2−プロピニル基、殊に2−プロピニル基および2−ブ
チニル基および/またはアシル基、例えばアセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、2−メチル−プロピニル
基、ペンタノイル基、2−メチルブチリル基、3−メチ
ルブチリル基、2,2−ジメチルプロピニル基、ヘキサ
ノイル基、2−メチルペンタノイル基、3−メチルペン
タノイル基、4−メチルペンタノイル基、2,2−ジメ
チルブチリル基、2,3−ジメチルブチリル基、3,3
−ジメチルブチリル基および2−エチルブチリル基、殊
にアセチル基およびプロピニル基またはベンゾイル基。
基としては、上記の基とともに次の基もこれに該当す
る:アルケニルオキシ基、例えば2−プロペニルオキシ
基、2−ブテニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、1
−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−メチル−2−
プロペニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、3−ペ
ンテニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、1−メチ
ル−2−ブテニルオキシ基、2−メチル−2−ブテニル
オキシ基、3−メチル−2−ブテニルオキシ基、1−メ
チル−3−ブテニルオキシ基、2−メチル−3−ブテニ
ルオキシ基、3−メチル−3−ブテニルオキシ基、1,
1−ジメチル−2−プロペニルオキシ基、1,2−ジメ
チル−2−プロペニルオキシ基、1−エチル−2−プロ
ペニルオキシ基、2−ヘキセニルオキシ基、3−ヘキセ
ニルオキシ基、4−ヘキセニルオキシ基、5−ヘキセニ
ルオキシ基、1−メチル−2−ペンテニルオキシ基、2
−メチル−2−ペンテニルオキシ基、3−メチル−2−
ペンテニルオキシ基、4−メチル−2−ペンテニルオキ
シ基、1−メチル−3−ペンテニルオキシ基、2−メチ
ル−3−ペンテニルオキシ基、3−メチル−3−ペンテ
ニルオキシ基、4−メチル−3−ペンテニルオキシ基、
1−メチル−4−ペンテニルオキシ基、2−メチル−4
−ペンテニルオキシ基、3−メチル−4−ペンテニルオ
キシ基、4−メチル−4−ペンテニルオキシ基、1,1
−ジメチル−2−ブテニルオキシ基、1,1−ジメチル
−3−ブテニルオキシ基、1,2−ジメチル−2−ブテ
ニルオキシ基、1,2−ジメチル−3−ブテニルオキシ
基、1,3−ジメチル−2−ブテニルオキシ基、1,3
−ジメチル−3−ブテニルオキシ基、2,2−ジメチル
−3−ブテニルオキシ基、2,3−ジメチル−2−ブテ
ニルオキシ基、2,3−ジメチル3−ブテニルオキシ
基、1−エチル−2−ブテニルオキシ基、1−エチル−
3−ブテニルオキシ基、2−エチル−2−ブテニルオキ
シ基、2−エチル−3−ブテニルオキシ基、1,1,2
−トリメチル−2−プロペニルオキシ基、1−エチル−
1−メチル−2−プロペニルオキシ基および1−エチル
−2−メチル−2−プロペニルオキシ基、殊に2−プロ
ペニルオキシ基および2−ブテニルオキシ基;アルキニ
ルオキシ基、例えば2−プロピニルオキシ基、2−ブチ
ニルオキシ基、3−ブチニルオキシ基、1−メチル−2
−プロピニルオキシ基、2−ペンチニルオキシ基、3−
ペンチニルオキシ基、4−ペンチニルオキシ基、1−メ
チル−3−ブチニルオキシ基、2−メチル−3−ブチニ
ルオキシ基、1−メチル−2−ブチニルオキシ基、1,
1−ジメチル−2−プロピニルオキシ基、1−エチル−
2−プロピニルオキシ基、2−ヘキシニルオキシ基、3
−ヘキシニルオキシ基、4−ヘキシニルオキシ基、5−
ヘキシニルオキシ基、1−メチル−2−ペンチニルオキ
シ基、1−メチル−3−ペンチニルオキシ基、1−メチ
ル−4−ペンチニルオキシ基、2−メチル−3−ペンチ
ニルオキシ基、2−メチル−4−ペンチニルオキシ基、
3−メチル−4−ペンチニルオキシ基、4−メチル−2
−ペンチニルオキシ基、1,1−ジメチル−2−ブチニ
ルオキシ基、1,1−ジメチル−3−ブチニルオキシ
基、1,2−ジメチル−3−ブチニルオキシ基、2,2
−ジメチル−3−ブチニルオキシ基、1−エチル−2−
ブチニルオキシ基、1−エチル−3−ブチニルオキシ
基、2−エチル−3−ブチニルオキシ基および1−エチ
ル−1−メチル−2−プロピニルオキシ基、殊に2−ピ
ロピニルオキシ基および2−ブチニルオキシ基;次の
基:Xで記載したようなアルキル、殊にメチルおよびエ
チル;前記したようなアルケニル、殊に2−プロペニル
および2−ブテニルを1または2個有することができる
アミノ基;アルキニル基、例えばエチニル基、1−プロ
ピニル基、2−プロピニル基、1−ブチニル基、2−ブ
チニル基、3−ブチニル基、1−メチル−2−プロピニ
ル基、1−ペンチニル基、2−ペンチニル基、3−ペン
チニル基、4−ペンチニル基、1−メチル−3−ブチニ
ル基、2−メチル−3−ブチニル基、1−メチル−2−
ブチニル基、3−メチル−1−ブチニル基、1,1−ジ
メチル−2−プロピニル基、1−エチル−2−プロピニ
ル基、1−ヘキシニル基、2−ヘキシニル基、3−ヘキ
シニル基、4−アルキニル基、5−ヘキシニル基、1−
メチル−2−ペンチニル基、1−メチル−3−ペンチニ
ル基、1−メチル−4−ペンチニル基、2−メチル−3
−ペンチニル基、2−メチル−4−ペンチニル基、3−
メチル−1−ペンチニル基、3−メチル−4−ペンチニ
ル基、4−メチル−1−ペンチニル基、4−メチル−2
−ペンチニル基、1,1−ジメチル−2−ブチニル基、
1,1−ジメチル−3−ブチニル基、1,2−ジメチル
−3−ブチニル基、2,2−ジメチル−3−ブチニル
基、3,3−ジメチル−1−ブチニル基、1−エチル−
2−ブチニル基、1−エチル−3−ブチニル基、2−エ
チル−3−ブチニル基および1−エチル−1−メチル−
2−プロピニル基、殊に2−プロピニル基および2−ブ
チニル基および/またはアシル基、例えばアセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、2−メチル−プロピニル
基、ペンタノイル基、2−メチルブチリル基、3−メチ
ルブチリル基、2,2−ジメチルプロピニル基、ヘキサ
ノイル基、2−メチルペンタノイル基、3−メチルペン
タノイル基、4−メチルペンタノイル基、2,2−ジメ
チルブチリル基、2,3−ジメチルブチリル基、3,3
−ジメチルブチリル基および2−エチルブチリル基、殊
にアセチル基およびプロピニル基またはベンゾイル基。
【0033】栽培植物に対する認容性を式Iのナフタリ
ン誘導体によって改善することができる式IIのシクロ
ヘキセノンの詳細な例は、次の表Aおよび表Bに記載さ
れている:
ン誘導体によって改善することができる式IIのシクロ
ヘキセノンの詳細な例は、次の表Aおよび表Bに記載さ
れている:
【0034】
【表1】
【0035】
【表2】
【0036】
【表3】
【0037】
【表4】
【0038】
【表5】
【0039】
【表6】
【0040】
【表7】
【0041】
【表8】
【0042】
【表9】
【0043】
【表10】 式IIの除草作用を有するシクロヘキセノン誘導体は、
双子葉の栽培植物中およびイネ科植物に属さない草本中
の望ましからぬ雑草を防除するために主として使用され
る。置換基の構造および使用の用量に応じて、この群か
らの化合物は、イネ科の栽培植物中、例えばコムギおよ
びイネ中の望ましからぬ雑草を選択的に防除するために
使用することもできる。
双子葉の栽培植物中およびイネ科植物に属さない草本中
の望ましからぬ雑草を防除するために主として使用され
る。置換基の構造および使用の用量に応じて、この群か
らの化合物は、イネ科の栽培植物中、例えばコムギおよ
びイネ中の望ましからぬ雑草を選択的に防除するために
使用することもできる。
【0044】ナフタリン誘導体は、文献に除草剤とし
て、ならびに式I´:
て、ならびに式I´:
【0045】
【化11】 [式中、R´は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、C
1〜C5−アルキル基またはフェニル基を表わし、かつ
R″はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アミノ基または置換されたアミノ基を表わす]で示され
る解毒薬として記載されている(ハンガリー国特許出願
公開第21318号明細書、同第21319号明細書、
同第21320号明細書、同第21321号明細書、同
第21322号明細書、同第21323号明細書および
ベルギー国特許第884634号明細書)。この解毒薬
は、次の種類の除草剤:尿素、チオカルバメート、トリ
アジン、クロルアセトアニリド誘導体およびウラジル誘
導体によって惹起される損傷を減少させるのに推奨され
る。
1〜C5−アルキル基またはフェニル基を表わし、かつ
R″はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、
アミノ基または置換されたアミノ基を表わす]で示され
る解毒薬として記載されている(ハンガリー国特許出願
公開第21318号明細書、同第21319号明細書、
同第21320号明細書、同第21321号明細書、同
第21322号明細書、同第21323号明細書および
ベルギー国特許第884634号明細書)。この解毒薬
は、次の種類の除草剤:尿素、チオカルバメート、トリ
アジン、クロルアセトアニリド誘導体およびウラジル誘
導体によって惹起される損傷を減少させるのに推奨され
る。
【0046】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、シク
ロヘキセノン型IIの除草剤によって惹起される栽培植
物に対する損傷を補償することができる化合物を見い出
すことであった。
ロヘキセノン型IIの除草剤によって惹起される栽培植
物に対する損傷を補償することができる化合物を見い出
すことであった。
【0047】
【課題を解決するための手段】課題に相応して、式I:
【0048】
【化12】 [式中、RはC1〜C4−アルキル基、C1〜C4−アルキ
ルチオ基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル基、C1〜C4
−アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ
基またはベンジル基を表わし;mは0、1、2または3
を表わし、この場合R基は、mが2または3を表わす場
合には異なっていてもよく;R3は−CN基;−C(N
H2)NOH基;−C(Z)TR5基;
ルチオ基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル基、C1〜C4
−アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ
基またはベンジル基を表わし;mは0、1、2または3
を表わし、この場合R基は、mが2または3を表わす場
合には異なっていてもよく;R3は−CN基;−C(N
H2)NOH基;−C(Z)TR5基;
【0049】
【化13】 を表わし;R4はハロゲン原子;−NR7R8基;−N=
CH−R7基;−NR7−SO2R9基;COOR5基;O
H基
CH−R7基;−NR7−SO2R9基;COOR5基;O
H基
【0050】
【化14】 を表わし;Zは酸素原子または硫黄原子を表わし;Tは
酸素原子または−NR5を表わし;R5は水素原子、次の
置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミノ、ジ−
(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−アルコキシ
およびC1〜C4−アルキルチオを1〜3個有することが
できるC1〜C6−アルキル基;次の置換基:C1〜C4−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル
チオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、シアノ、ニトロ
および/またはハロゲンを1〜3個有することができる
フェニル基またはベンジル基を表わし;R6は次の置換
基:ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコ
キシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化
アルキル、シアノおよび/またはニトロを1または2個
有することができるフェニル基を表わし;R7は水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、フェニルおよび/
または(C1〜C4−アルキル)オキシカルボニルを1〜
3個有することができるC1〜C6−アルキル基;次の置
換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アル
コキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン
化アルキル、シアノおよび/またはニトロを1〜3個有
することができるフェニル基を表わし;R8は水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはフェ
ニルを1〜3個有することができるC1〜C6−アルキル
基を表わし;R9は次の置換基:C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、フェニルおよ
び/または1〜5個のハロゲン原子を1〜3個有するこ
とができるC1〜C6−アルキル基;フェニル基または5
〜6員のヘテロアリール基を表わし、この場合これらの
環は次の基:C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化ア
ルキル、ニトロ、シアノおよび/またはハロゲンを1〜
3個有することができ;R10はC1〜C6−アルキル基ま
たはC2〜C6−アルケニル基を表わし、この場合これら
の基は、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはフェニル基
を1〜3個有することができ;次の基:C1〜C4−アル
キル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチ
オ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、ニトロ、シアノお
よび/またはハロゲンを1〜3個有することができるフ
ェニル基を表わし;R10... R10は一緒になってC
2〜C4−アルキレン鎖またはC2〜C4−アルケニレン鎖
を形成し、この場合これらの橋は、次の置換基:C1〜
C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア
ルキルチオ、ハロゲンおよび/またはフェニルを1〜3
個有することができるか、またはハロゲン原子1〜4個
および/または次の基:C1〜C4−アルキル、C1〜C4
−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハ
ロゲン化アルキル、シアノ、ニトロおよび/またはフェ
ニルを1〜3個有することができる縮合環化したベンゼ
ン環を形成し;R11,R12はC1〜C4−アルキル基を表
わすかまたはC原子と一緒になってC原子を含んで結合
したC3〜C6−シクロアルキルを表わし;Bは水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルコキシ、C
1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルアミノ、ジ
−(C1〜C4−アルキル)アミノ、フェニルおよび/ま
たはC1〜C4−アルコキシカルボニルを1〜3個有する
ことができるC1〜C6−アルキル基;C1〜C4−アルコ
キシカルボニル基;−NR7R8−基またはハロゲン原子
1〜5個および/または次の置換基:C1〜C4−アルキ
ル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ハロゲン化アル
キル、シアノおよび/またはニトロ1〜3個を有するこ
とができるフェニル基を表わす]で示されるナフタリン
誘導体は、イネ科植物からの栽培植物を保護するのに顕
著に好適であり、かつ特に栽培用のキビ、イネ、トウモ
ロコシ、穀類(コムギ、ライムギ、オオムギ、カラスム
ギ)、ワタ、サトウダイコン、サトウキビ、ダイズおよ
びモロコシのような栽培植物の場合にシクロヘキセノン
型IIの除草剤に対する認容性を改善することが見い出
された。有用植物に対する損傷は、緩和されるかまたは
完全に抑制される。望ましからぬ雑草類は、防除され、
この場合には、除草作用物質および解毒作用を有する化
合物からなる前記除草剤が一緒にまたは別個に配合され
かつ散布されるか、或いは別個に散布する際に如何なる
順序で除草作用物質および解毒薬を使用するのかは作用
にとってどちらでもよいことである。
酸素原子または−NR5を表わし;R5は水素原子、次の
置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミノ、ジ−
(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−アルコキシ
およびC1〜C4−アルキルチオを1〜3個有することが
できるC1〜C6−アルキル基;次の置換基:C1〜C4−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル
チオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、シアノ、ニトロ
および/またはハロゲンを1〜3個有することができる
フェニル基またはベンジル基を表わし;R6は次の置換
基:ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコ
キシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化
アルキル、シアノおよび/またはニトロを1または2個
有することができるフェニル基を表わし;R7は水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、フェニルおよび/
または(C1〜C4−アルキル)オキシカルボニルを1〜
3個有することができるC1〜C6−アルキル基;次の置
換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アル
コキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン
化アルキル、シアノおよび/またはニトロを1〜3個有
することができるフェニル基を表わし;R8は水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはフェ
ニルを1〜3個有することができるC1〜C6−アルキル
基を表わし;R9は次の置換基:C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、フェニルおよ
び/または1〜5個のハロゲン原子を1〜3個有するこ
とができるC1〜C6−アルキル基;フェニル基または5
〜6員のヘテロアリール基を表わし、この場合これらの
環は次の基:C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化ア
ルキル、ニトロ、シアノおよび/またはハロゲンを1〜
3個有することができ;R10はC1〜C6−アルキル基ま
たはC2〜C6−アルケニル基を表わし、この場合これら
の基は、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはフェニル基
を1〜3個有することができ;次の基:C1〜C4−アル
キル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチ
オ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、ニトロ、シアノお
よび/またはハロゲンを1〜3個有することができるフ
ェニル基を表わし;R10... R10は一緒になってC
2〜C4−アルキレン鎖またはC2〜C4−アルケニレン鎖
を形成し、この場合これらの橋は、次の置換基:C1〜
C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア
ルキルチオ、ハロゲンおよび/またはフェニルを1〜3
個有することができるか、またはハロゲン原子1〜4個
および/または次の基:C1〜C4−アルキル、C1〜C4
−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハ
ロゲン化アルキル、シアノ、ニトロおよび/またはフェ
ニルを1〜3個有することができる縮合環化したベンゼ
ン環を形成し;R11,R12はC1〜C4−アルキル基を表
わすかまたはC原子と一緒になってC原子を含んで結合
したC3〜C6−シクロアルキルを表わし;Bは水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルコキシ、C
1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルアミノ、ジ
−(C1〜C4−アルキル)アミノ、フェニルおよび/ま
たはC1〜C4−アルコキシカルボニルを1〜3個有する
ことができるC1〜C6−アルキル基;C1〜C4−アルコ
キシカルボニル基;−NR7R8−基またはハロゲン原子
1〜5個および/または次の置換基:C1〜C4−アルキ
ル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ハロゲン化アル
キル、シアノおよび/またはニトロ1〜3個を有するこ
とができるフェニル基を表わす]で示されるナフタリン
誘導体は、イネ科植物からの栽培植物を保護するのに顕
著に好適であり、かつ特に栽培用のキビ、イネ、トウモ
ロコシ、穀類(コムギ、ライムギ、オオムギ、カラスム
ギ)、ワタ、サトウダイコン、サトウキビ、ダイズおよ
びモロコシのような栽培植物の場合にシクロヘキセノン
型IIの除草剤に対する認容性を改善することが見い出
された。有用植物に対する損傷は、緩和されるかまたは
完全に抑制される。望ましからぬ雑草類は、防除され、
この場合には、除草作用物質および解毒作用を有する化
合物からなる前記除草剤が一緒にまたは別個に配合され
かつ散布されるか、或いは別個に散布する際に如何なる
順序で除草作用物質および解毒薬を使用するのかは作用
にとってどちらでもよいことである。
【0051】化合物Iは、刊行物中で一般的な常法によ
り製造される。
り製造される。
【0052】R3基とR4基が隣接した環状位置を占める
ような誘導体Iは、例えば相応するニトロナフチル誘導
体XIII をトミオカ(Y. Tomioka)(C
hem. Pharm. Bull.33(4)、13
60〜1366(1985))によって記載された条件
と同様にして反応させ、シアノナフチルアミンIa(R
3=CN、R4=NH2)に変えることにより得られる。
この反応の順序は、2−アミノナフタリン−1−カルボ
ニトリル誘導体の合成に関連して次の反応式で表わされ
る:
ような誘導体Iは、例えば相応するニトロナフチル誘導
体XIII をトミオカ(Y. Tomioka)(C
hem. Pharm. Bull.33(4)、13
60〜1366(1985))によって記載された条件
と同様にして反応させ、シアノナフチルアミンIa(R
3=CN、R4=NH2)に変えることにより得られる。
この反応の順序は、2−アミノナフタリン−1−カルボ
ニトリル誘導体の合成に関連して次の反応式で表わされ
る:
【0053】
【化15】 誘導体Iaから、相応する化合物Iは、刊行物中で常用
の誘導体化法を用いて合成することができる(シアノ基
の誘導体:Methoden der organ.
Chem.(Houben−Weyl)第E5巻、第2
63頁以降、第710頁以降、第790頁以降、第94
1頁以降、第1242頁以降、第1313頁;同書第X
/4巻(1968)、第209頁以降;アミノ基の誘導
体:Methoden der organ. Che
m.(Houben−Weyl)第XI巻(2)、第3
頁以降;同書第V巻(2)、第846頁以降)。
の誘導体化法を用いて合成することができる(シアノ基
の誘導体:Methoden der organ.
Chem.(Houben−Weyl)第E5巻、第2
63頁以降、第710頁以降、第790頁以降、第94
1頁以降、第1242頁以降、第1313頁;同書第X
/4巻(1968)、第209頁以降;アミノ基の誘導
体:Methoden der organ. Che
m.(Houben−Weyl)第XI巻(2)、第3
頁以降;同書第V巻(2)、第846頁以降)。
【0054】R3基とR4基が隣接した環状位置を占めて
いないようなナフタリン誘導体Iの合成は、多種多様の
方法で可能であり、かつ刊行物に記載されている。刊行
物中の引用文には、相応するか化合物が第8表もしくは
第9表に合成例に続いて記載されている。
いないようなナフタリン誘導体Iの合成は、多種多様の
方法で可能であり、かつ刊行物に記載されている。刊行
物中の引用文には、相応するか化合物が第8表もしくは
第9表に合成例に続いて記載されている。
【0055】生物学的作用に関連して、置換基が次の意
味を有するようなナフタリン誘導体は、有利である: R アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、1−メチルエチル基、ブチル基、1−メチルプロピ
ル基、2−メチルプロピル基および1,1−ジメチルエ
チル基、殊にメチル基およびエチル基;ハロゲン化アル
キル基、例えばフルオルメチル基、ジフルオルメチル
基、トリフルオルメチル基、2,2−ジフルオルエチル
基、2,2,2−トリフルオルエチル基および1,2,
2−トリフルオルエチル基、殊にトリフルオルメチル基
および2,2,2−トリフルオルエチル基;アルコキシ
基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基、イソ−プロピルオキシ基および第三ブチルオキシ
基、殊にメトキシ基およびエトキシ基;アルキルチオ
基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、イソ−プロピ
ルチオ基および第三ブチルチオ基、殊にメチルチオ基;
ハロゲン原子、例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子お
よび沃素原子、殊に弗素原子、塩素原子および臭素原
子;ヒドロキシル基;ニトロ基またはベンジル基; m 0、1、2または3、この場合R基は、mが2また
は3を表わす場合には異なっていてもよい; R3シアノ基;カルボキシアミノオキシム基、カルボン
酸、チオカルボン酸、カルボン酸アミド、チオカルボン
酸アミド、オキサジアゾール、オキシムエステル基、但
し、R11およびR12は、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル
基を表わすものとし、または−C(O)−アゾール基、
但し、アゾールは、1−イミダゾリル基、1−ピラゾリ
ル基および殊に1−トリアゾリル基を表わすものとす
る。
味を有するようなナフタリン誘導体は、有利である: R アルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、1−メチルエチル基、ブチル基、1−メチルプロピ
ル基、2−メチルプロピル基および1,1−ジメチルエ
チル基、殊にメチル基およびエチル基;ハロゲン化アル
キル基、例えばフルオルメチル基、ジフルオルメチル
基、トリフルオルメチル基、2,2−ジフルオルエチル
基、2,2,2−トリフルオルエチル基および1,2,
2−トリフルオルエチル基、殊にトリフルオルメチル基
および2,2,2−トリフルオルエチル基;アルコキシ
基、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基、イソ−プロピルオキシ基および第三ブチルオキシ
基、殊にメトキシ基およびエトキシ基;アルキルチオ
基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、イソ−プロピ
ルチオ基および第三ブチルチオ基、殊にメチルチオ基;
ハロゲン原子、例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子お
よび沃素原子、殊に弗素原子、塩素原子および臭素原
子;ヒドロキシル基;ニトロ基またはベンジル基; m 0、1、2または3、この場合R基は、mが2また
は3を表わす場合には異なっていてもよい; R3シアノ基;カルボキシアミノオキシム基、カルボン
酸、チオカルボン酸、カルボン酸アミド、チオカルボン
酸アミド、オキサジアゾール、オキシムエステル基、但
し、R11およびR12は、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル
基を表わすものとし、または−C(O)−アゾール基、
但し、アゾールは、1−イミダゾリル基、1−ピラゾリ
ル基および殊に1−トリアゾリル基を表わすものとす
る。
【0056】R3が酸官能基または酸アミド基を表わす
場合には、これらの基は、付加的に上記のアルキル基の
1個、フェニル基またはベンジル基によって置換されて
いてもよい。
場合には、これらの基は、付加的に上記のアルキル基の
1個、フェニル基またはベンジル基によって置換されて
いてもよい。
【0057】特に好ましいのは、次の通りである: − シアノ基、 − 置換されていないかまたはメチル、エチル、フェニ
ルおよび/またはベンジルによって置換されているカル
ボキサミド基およびチオカルボキサミド基、かつ − 5位でフェニル環によって置換されている3−オキ
サジアゾリル基、但し、このフェニル基は、さらに3個
までの置換基を有することができるものとする。この場
合、置換基としては、既にRで記載したハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン
化アルキル基および/またはシアノ基もしくはニトロ基
が当てはまる。
ルおよび/またはベンジルによって置換されているカル
ボキサミド基およびチオカルボキサミド基、かつ − 5位でフェニル環によって置換されている3−オキ
サジアゾリル基、但し、このフェニル基は、さらに3個
までの置換基を有することができるものとする。この場
合、置換基としては、既にRで記載したハロゲン原子、
アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン
化アルキル基および/またはシアノ基もしくはニトロ基
が当てはまる。
【0058】R4は、Rで記載したのと同じハロゲン原
子の意味を有し、この場合には、弗素原子、塩素原子お
よび臭素原子が有利である。
子の意味を有し、この場合には、弗素原子、塩素原子お
よび臭素原子が有利である。
【0059】その上、R4は、カルボン酸基、ヒドロキ
シル基、アミノ基を表わすことができるか、またはヒド
ロキシ基もしくはアミノ基の誘導体を表わす。この場
合、特に好ましいのは、 − ジアルキルアミノ基、例えばジメチルアミノ基およ
びジエチルアミノ基、 − ジアシルアミノ基、例えばジアセチルアミノ基、マ
レインイミノ基、ジクロルマレインイミノ基、メチルマ
レインイミノ基、フタルイミノ基、テトラブロモフタル
イミノ基および3,4,5,6−テトラヒドロフタルイ
ミノ基、 − アシルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、グルタ
リルアミノ基、ベンゾイルアミノ基およびエチルオキサ
ロイルアミノ基、 − スルホニルアミノ基、例えばフェニルスルホニルア
ミノ基およびN−(フェニルスルホニル)−N−(1−
カルボキシリル)メチルアミノ基、 − イミノ基、例えばベンザルイミノ基である。
シル基、アミノ基を表わすことができるか、またはヒド
ロキシ基もしくはアミノ基の誘導体を表わす。この場
合、特に好ましいのは、 − ジアルキルアミノ基、例えばジメチルアミノ基およ
びジエチルアミノ基、 − ジアシルアミノ基、例えばジアセチルアミノ基、マ
レインイミノ基、ジクロルマレインイミノ基、メチルマ
レインイミノ基、フタルイミノ基、テトラブロモフタル
イミノ基および3,4,5,6−テトラヒドロフタルイ
ミノ基、 − アシルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、グルタ
リルアミノ基、ベンゾイルアミノ基およびエチルオキサ
ロイルアミノ基、 − スルホニルアミノ基、例えばフェニルスルホニルア
ミノ基およびN−(フェニルスルホニル)−N−(1−
カルボキシリル)メチルアミノ基、 − イミノ基、例えばベンザルイミノ基である。
【0060】ヒドロキシ基の誘導体としては、塩、例え
ばアルカリ金属塩または無機もしくは有機酸、例えばア
ルキルスルホン酸、燐酸もしくはカルボン酸とのエステ
ルがこれに該当する。
ばアルカリ金属塩または無機もしくは有機酸、例えばア
ルキルスルホン酸、燐酸もしくはカルボン酸とのエステ
ルがこれに該当する。
【0061】化合物Iの中、R3基とR4基が隣接した環
状位置を占めているようなものが特に好ましい。
状位置を占めているようなものが特に好ましい。
【0062】
式IIのシクロヘキセノン誘導体の合成例 実施例3.2に関する製造法 a)水340ml中のアニリン93.1g(1モル)お
よび濃塩酸225mlの溶液に水100ml中の亜硝酸
ナトリウム69.1g(1モル)を0℃で添加した。 b)アセトン840mlおよび水50ml中に−15℃
でブタジエン67.6g(1.25モル)を通気し、塩
化銅(II)15.5gおよび酸化カルシウム22.5
gを添加し、引続きこれに2時間でa)で得られたジア
ゾニウム塩溶液を添加した。この反応混合物を25℃に
加熱した。6時間の撹拌の後、メチル−t−ブチルエー
テルで抽出し、有機抽出液を濃縮し、かつ薄膜蒸発器
(0.2mmHg;80℃)を介して蒸留した。こうし
て、1−クロル−4−フェニルブト−2−エンと、3−
クロル−4−フェニルブト−1−エンとからなる混合物
(78:22)が全収率55%で得られた。 c)無水N−メチルピロリドン480ml中に順次にN
−ヒドロキシフタルイミド78.3g(0.48モル)
および炭酸カリウム44.2g(0.32モル)を添加
した。40℃の内部温度で、実施例b)により得られた
クロリド混合物88.8g(0.54モル)を滴加し
た。60℃に昇温させ、かつさらに6時間撹拌した。冷
却後、2リットルの氷水上に流し込み、かつ濾別した。
洗浄および乾燥の後、理論値の90%で(E)−N−
(4−フェニル−2−ブテニルオキシ)−フタルイミド
が得られた。 融点:70〜71℃(イソプロパノール)。 d)酢酸エチルエステル190ml中のフタルイミドエ
ーテルe)55.5g(0.19モル)に60℃で撹拌
下にエタノールアミン11.6g(0.19モル)を添
加した。5時間後、沈殿したN−(ヒドロキシエチル)
−フタルイミドを濾別し、濾液に酢酸エチルエステル3
0ml中の蓚酸18.8gを添加した。こうして、理論
値の95%で(E)−4−フェニル−2−ブテニルオキ
シ−アミンが蓚酸塩として得られた。 融点:127〜129℃。 e)2−プロピオニル−5−(3−テトラヒドロチオピ
ラニル)−シクロヘキサン−1,3−ジオン4.3g
(0.016モル)、4−フェニル−ブト−2−エニル
オキシアンモニウムオキサレート4.5g(0.018
モル)および炭酸水素ナトリウム3.0gをメタノール
100g中で25℃で16時間撹拌した。溶剤を減圧下
で留去し、残留物をシリカゲルで容量比8:2のトルオ
ール/酢酸エチルエステル混合物を用いてクロマトグラ
フィー処理した。
よび濃塩酸225mlの溶液に水100ml中の亜硝酸
ナトリウム69.1g(1モル)を0℃で添加した。 b)アセトン840mlおよび水50ml中に−15℃
でブタジエン67.6g(1.25モル)を通気し、塩
化銅(II)15.5gおよび酸化カルシウム22.5
gを添加し、引続きこれに2時間でa)で得られたジア
ゾニウム塩溶液を添加した。この反応混合物を25℃に
加熱した。6時間の撹拌の後、メチル−t−ブチルエー
テルで抽出し、有機抽出液を濃縮し、かつ薄膜蒸発器
(0.2mmHg;80℃)を介して蒸留した。こうし
て、1−クロル−4−フェニルブト−2−エンと、3−
クロル−4−フェニルブト−1−エンとからなる混合物
(78:22)が全収率55%で得られた。 c)無水N−メチルピロリドン480ml中に順次にN
−ヒドロキシフタルイミド78.3g(0.48モル)
および炭酸カリウム44.2g(0.32モル)を添加
した。40℃の内部温度で、実施例b)により得られた
クロリド混合物88.8g(0.54モル)を滴加し
た。60℃に昇温させ、かつさらに6時間撹拌した。冷
却後、2リットルの氷水上に流し込み、かつ濾別した。
洗浄および乾燥の後、理論値の90%で(E)−N−
(4−フェニル−2−ブテニルオキシ)−フタルイミド
が得られた。 融点:70〜71℃(イソプロパノール)。 d)酢酸エチルエステル190ml中のフタルイミドエ
ーテルe)55.5g(0.19モル)に60℃で撹拌
下にエタノールアミン11.6g(0.19モル)を添
加した。5時間後、沈殿したN−(ヒドロキシエチル)
−フタルイミドを濾別し、濾液に酢酸エチルエステル3
0ml中の蓚酸18.8gを添加した。こうして、理論
値の95%で(E)−4−フェニル−2−ブテニルオキ
シ−アミンが蓚酸塩として得られた。 融点:127〜129℃。 e)2−プロピオニル−5−(3−テトラヒドロチオピ
ラニル)−シクロヘキサン−1,3−ジオン4.3g
(0.016モル)、4−フェニル−ブト−2−エニル
オキシアンモニウムオキサレート4.5g(0.018
モル)および炭酸水素ナトリウム3.0gをメタノール
100g中で25℃で16時間撹拌した。溶剤を減圧下
で留去し、残留物をシリカゲルで容量比8:2のトルオ
ール/酢酸エチルエステル混合物を用いてクロマトグラ
フィー処理した。
【0063】溶剤の除去後、3−ヒドロキシ−2−[1
−(4−フェニル−ブト−2−エニルオキシイミノ)−
プロピル]−5−(3−テトラヒドロチオピラニル)−
シクロヘキセ−2−エン−1−オン2.2g(理論値の
34.3%)が樹脂として得られた。
−(4−フェニル−ブト−2−エニルオキシイミノ)−
プロピル]−5−(3−テトラヒドロチオピラニル)−
シクロヘキセ−2−エン−1−オン2.2g(理論値の
34.3%)が樹脂として得られた。
【0064】次表中で別記しない限り、アルケニル基は
E配置で存在する。
E配置で存在する。
【0065】
【外1】 実施例5.26に関する製造法 a)N−(4−(4−フルオルフェニル)−3−ブテニ
ルオキシ)フタルイミド71.5g(0.23モル)
(ドイツ連邦共和国特許出願公開第3838310号明
細書の記載により製造)をテトラヒドロフラン300m
lに溶解し、この溶液に活性炭上の(10%の)パラジ
ウム2gを添加し、かつ理論的水素量の1.2倍までの
弱い過圧下で水素量が消費されるまで水素化した。
ルオキシ)フタルイミド71.5g(0.23モル)
(ドイツ連邦共和国特許出願公開第3838310号明
細書の記載により製造)をテトラヒドロフラン300m
lに溶解し、この溶液に活性炭上の(10%の)パラジ
ウム2gを添加し、かつ理論的水素量の1.2倍までの
弱い過圧下で水素量が消費されるまで水素化した。
【0066】珪藻土を介して吸引濾過し、濃縮し、イソ
プロパノールを再結晶させた。 収量:62.8g(87%);融点:67〜68℃
プロパノールを再結晶させた。 収量:62.8g(87%);融点:67〜68℃
【0067】
【外2】 δ(ppm)=1.8〜1.9(m,4H);2.65
(t,2H);4.15(t,2H);7.0〜7.3
5(m,4H);7.86(s,4H)。 b)先に得られたフタルイミドクロル61.8g(0.
197モル)を少量ずつエタノールアミン92ml中に
導入した。3時間60℃に加熱した後、保持後に氷水4
00ml中に流し込み、かつ3回ジクロルメタン100
mlで抽出した。合わせた有機相を飽和食塩溶液で洗浄
し、乾燥し、かつ真空中で濃縮した。
(t,2H);4.15(t,2H);7.0〜7.3
5(m,4H);7.86(s,4H)。 b)先に得られたフタルイミドクロル61.8g(0.
197モル)を少量ずつエタノールアミン92ml中に
導入した。3時間60℃に加熱した後、保持後に氷水4
00ml中に流し込み、かつ3回ジクロルメタン100
mlで抽出した。合わせた有機相を飽和食塩溶液で洗浄
し、乾燥し、かつ真空中で濃縮した。
【0068】こうして、4−(4−フルオルフェニル)
ブチルオキシアミンが油状物として単離された。
ブチルオキシアミンが油状物として単離された。
【0069】
【外3】 δ(ppm)=1.5〜1.75(m,4H);2.6
1(t,2H);3.68(t,2H);5.4(幅広
s,2H);6.9〜7.2(m,4H)。
1(t,2H);3.68(t,2H);5.4(幅広
s,2H);6.9〜7.2(m,4H)。
【0070】2−ブチリル−3−ヒドロキシ−5−テト
ラヒドロチオピラン−3−イル−シクロヘキセ−2−エ
ノン3g(11モル)を無水メタノール100mlに溶
解し、この溶液に4−(4−フルオルフェニル)−ブト
キシアミン2.2g(12ミリモル)を添加した。この
混合物を室温で16時間撹拌し、次いで真空中で乾燥の
ために蒸発濃縮した。残留物をジエチルエーテル中に入
れ、かつシリカゲルでクロマトグラフィー処理した。目
的化合物の2−(1−[4−(4−フルオルフェニル)
−ブチルオキシイミノ]−ブチル−5−テトラヒドロチ
オピラン−3−イル−3−ヒドロキシ−シクロヘキセ−
2−エノン3.6g(理論値の80%)が得られた(化
合物5.04)。
ラヒドロチオピラン−3−イル−シクロヘキセ−2−エ
ノン3g(11モル)を無水メタノール100mlに溶
解し、この溶液に4−(4−フルオルフェニル)−ブト
キシアミン2.2g(12ミリモル)を添加した。この
混合物を室温で16時間撹拌し、次いで真空中で乾燥の
ために蒸発濃縮した。残留物をジエチルエーテル中に入
れ、かつシリカゲルでクロマトグラフィー処理した。目
的化合物の2−(1−[4−(4−フルオルフェニル)
−ブチルオキシイミノ]−ブチル−5−テトラヒドロチ
オピラン−3−イル−3−ヒドロキシ−シクロヘキセ−
2−エノン3.6g(理論値の80%)が得られた(化
合物5.04)。
【0071】
【表11】
【0072】
【表12】
【0073】
【表13】
【0074】
【表14】
【0075】
【表15】
【0076】
【表16】
【0077】
【表17】
【0078】
【表18】
【0079】
【表19】
【0080】
【表20】
【0081】
【表21】
【0082】
【表22】 式Iのナフタリンの合成例 実施例8.008 2−ベンゾイルアミノナフタリン−1−カルボニトリル
【0083】
【化16】 2−アミノナフタリン−1−カルボニトリル3.0g
(17.8ミリモル)(Chem. Pharm. B
ull.33(4)、1360〜1366(198
5))を塩化ベンゾイル2.5g(18.1ミリモル)
およびトルオール100ml中のトリエチルアミン4m
lと一緒に80℃で15時間撹拌した。反応の終結後、
生成物を濾別し、かつ乾燥した。こうして、融点205
℃の目的化合物1.5g(理論血の1%)が得られた。
(17.8ミリモル)(Chem. Pharm. B
ull.33(4)、1360〜1366(198
5))を塩化ベンゾイル2.5g(18.1ミリモル)
およびトルオール100ml中のトリエチルアミン4m
lと一緒に80℃で15時間撹拌した。反応の終結後、
生成物を濾別し、かつ乾燥した。こうして、融点205
℃の目的化合物1.5g(理論血の1%)が得られた。
【0084】実施例9.010 1−(N−フタルイミド)ナフタリン−2−カルボニト
リル
リル
【0085】
【化17】 1−アミノナフタリン−2−カルボニトリル3.0g
(17.9ミリモル)(Chem. Pharm. B
ull.33(4)、1360〜1366(198
5))および無水フタル酸2.7g(17.9ミリモ
ル)を(濃厚)酢酸40ml中で15時間沸騰するまで
加熱した。反応の終結後、反応混合物を水200ml中
に撹拌混入し、沈殿物を単離し、かつ乾燥した。こうし
て、融点196℃の目的化合物3.5g(理論値の66
%)が得られた。
(17.9ミリモル)(Chem. Pharm. B
ull.33(4)、1360〜1366(198
5))および無水フタル酸2.7g(17.9ミリモ
ル)を(濃厚)酢酸40ml中で15時間沸騰するまで
加熱した。反応の終結後、反応混合物を水200ml中
に撹拌混入し、沈殿物を単離し、かつ乾燥した。こうし
て、融点196℃の目的化合物3.5g(理論値の66
%)が得られた。
【0086】実施例9.069 5−(3−クロルフェニル)−3−(1´−アミノナフ
ト−2´−イル)−オキサジアゾール
ト−2´−イル)−オキサジアゾール
【0087】
【化18】 a)1−アミノナフタリン−2−カルボン酸アミドオキ
シム
シム
【0088】
【化19】 1−アミノナフタリン−2−カルボニトリル33.6g
(0.20モル)(Chem. Pharm. Bul
l.33(4)、1360〜1366(1985))、
ヒドロキシルアンモニウムクロリド18.8g(0.2
7モル)および炭酸水素ナトリウム22.7g(0.2
7モル)をエタノール/水300ml(3:2)中で還
流下に15時間加熱した。冷却後、吸引濾過し、かつn
−プロパノールで後洗浄した。収量:融点=178〜1
80℃の目的化合物30.0g(75%)(作用物質例
9.031)。 b)a)で得られた化合物6.0g(30ミリモル)、
3−クロル安息香酸メチルエステル6.9ml(50ミ
リモル)およびナトリウムメチラート3.2g(60ミ
リモル)をメタノール70ml中で15時間沸騰するま
で加熱した。反応の終結後、水500ml中に撹拌混入
し、沈殿した生成物を濾別し、かつ乾燥した。こうし
て、融点=160℃の目的化合物5.4g(理論値の5
6%)が得られた(作用物質例9.069)。
(0.20モル)(Chem. Pharm. Bul
l.33(4)、1360〜1366(1985))、
ヒドロキシルアンモニウムクロリド18.8g(0.2
7モル)および炭酸水素ナトリウム22.7g(0.2
7モル)をエタノール/水300ml(3:2)中で還
流下に15時間加熱した。冷却後、吸引濾過し、かつn
−プロパノールで後洗浄した。収量:融点=178〜1
80℃の目的化合物30.0g(75%)(作用物質例
9.031)。 b)a)で得られた化合物6.0g(30ミリモル)、
3−クロル安息香酸メチルエステル6.9ml(50ミ
リモル)およびナトリウムメチラート3.2g(60ミ
リモル)をメタノール70ml中で15時間沸騰するま
で加熱した。反応の終結後、水500ml中に撹拌混入
し、沈殿した生成物を濾別し、かつ乾燥した。こうし
て、融点=160℃の目的化合物5.4g(理論値の5
6%)が得られた(作用物質例9.069)。
【0089】実施例8.001 2−クロルナフタリン−1−カルボニトリル
【0090】
【化20】 (無水)アセトニトリル250ml中の2−アミノナフ
タリン−1−カルボニトリル33.6g(0.2モル)
(実施例1参照)を65℃で(無水)塩化銅(II)3
2.3g(0.24モル)および(無水)アセトニトリ
ル800ml中のt−ブチルニトリル30.9g(0.
3モル)の懸濁液に添加した。ガス発生の終結後、冷却
した反応混合物に20%の塩酸2000mlをを添加
し、沈殿物を単離し、洗浄し、かつ乾燥した。こうし
て、融点=82〜83℃の目的化合物31.7g(理論
値の70%)が得られた。
タリン−1−カルボニトリル33.6g(0.2モル)
(実施例1参照)を65℃で(無水)塩化銅(II)3
2.3g(0.24モル)および(無水)アセトニトリ
ル800ml中のt−ブチルニトリル30.9g(0.
3モル)の懸濁液に添加した。ガス発生の終結後、冷却
した反応混合物に20%の塩酸2000mlをを添加
し、沈殿物を単離し、洗浄し、かつ乾燥した。こうし
て、融点=82〜83℃の目的化合物31.7g(理論
値の70%)が得られた。
【0091】
【表23】
【0092】
【表24】
【0093】
【表25】
【0094】
【表26】
【0095】
【表27】
【0096】
【表28】
【0097】
【表29】
【0098】
【表30】
【0099】
【表31】
【0100】
【表32】
【0101】
【表33】
【0102】
【表34】 生物学的作用に関する例 除草作用物質単独の場合と比較して、望ましい植物およ
び望ましからぬ植物の成長に対する、本発明による除草
剤もしくは除草剤と解毒作用を有する化合物との薬剤組
合せ物の種々の代表例の影響は、次の温室試験による生
物学的例によって証明される:栽培容器としては、内容
量約300cm3および基質としての腐植土約3.0%
を有するロ−ム砂を有するプラスチック鉢を使用する。
試験植物の種子を種類に応じて別々に浅く播種し、かつ
灌水する。その後に、この鉢を種子が均一に発芽しかつ
植物が成長するまで透明のプラスチックキャップで覆
う。
び望ましからぬ植物の成長に対する、本発明による除草
剤もしくは除草剤と解毒作用を有する化合物との薬剤組
合せ物の種々の代表例の影響は、次の温室試験による生
物学的例によって証明される:栽培容器としては、内容
量約300cm3および基質としての腐植土約3.0%
を有するロ−ム砂を有するプラスチック鉢を使用する。
試験植物の種子を種類に応じて別々に浅く播種し、かつ
灌水する。その後に、この鉢を種子が均一に発芽しかつ
植物が成長するまで透明のプラスチックキャップで覆
う。
【0103】発芽後の処理法を使用するために、試験植
物を成長形に応じてまず3〜20cmの成長高さになる
まで成育させ、その後にこの試験植物を処理する。この
場合には、除草剤を分配剤としての水の中に懸濁させる
か乳化させ、かつ微分配ノズルを用いて噴霧する。
物を成長形に応じてまず3〜20cmの成長高さになる
まで成育させ、その後にこの試験植物を処理する。この
場合には、除草剤を分配剤としての水の中に懸濁させる
か乳化させ、かつ微分配ノズルを用いて噴霧する。
【0104】生物学的実施例の場合、シクロヘキセノン
誘導体IIとして化合物No.3.34を使用した。
誘導体IIとして化合物No.3.34を使用した。
【0105】除草作用物質および解毒作用を有する化合
物は、一緒にかまたは別個に発芽後に栽培植物の茎葉お
よび新芽ならびに望ましからぬイネ科植物の茎葉および
新芽に散布することができる。有利には、解毒作用を有
する薬剤は、除草作用剤と同時に散布することができ
る。また、別個の散布(但し、まず解毒薬、続いて除草
作用剤を畑地上に施こすものとする)も可能である。こ
の場合、除草作用剤および解毒薬は、スプレー剤として
懸濁可能、乳化可能または溶解可能な形で一緒にかまた
は別個に配合して存在することができる。
物は、一緒にかまたは別個に発芽後に栽培植物の茎葉お
よび新芽ならびに望ましからぬイネ科植物の茎葉および
新芽に散布することができる。有利には、解毒作用を有
する薬剤は、除草作用剤と同時に散布することができ
る。また、別個の散布(但し、まず解毒薬、続いて除草
作用剤を畑地上に施こすものとする)も可能である。こ
の場合、除草作用剤および解毒薬は、スプレー剤として
懸濁可能、乳化可能または溶解可能な形で一緒にかまた
は別個に配合して存在することができる。
【0106】また、播種前に栽培植物の種子を解毒薬で
処理することも考えられる。この場合、除草作用物質
は、単独で常法で使用される。
処理することも考えられる。この場合、除草作用物質
は、単独で常法で使用される。
【0107】同じシクロヘキセノン誘導体IIの関連し
て、シクロヘキセノン誘導体を種々の栽培植物に使用す
る場合には、種々の量の解毒作用を有する化合物が必要
とされる。シクロヘキセノン誘導体IIおよびナフタリ
ン誘導体Iを使用する量比は、広い範囲内で変動可能で
ある。この量比は、シクロヘキノン誘導体の構造、ナフ
タリン誘導体の構造およびそれぞれの栽培植物に依存す
る。除草作用物質:解毒作用を有する化合物の適当な量
比は、1:40〜1:0.01重量部の間、特に1:4
〜1:0.25重量部の間にある。
て、シクロヘキセノン誘導体を種々の栽培植物に使用す
る場合には、種々の量の解毒作用を有する化合物が必要
とされる。シクロヘキセノン誘導体IIおよびナフタリ
ン誘導体Iを使用する量比は、広い範囲内で変動可能で
ある。この量比は、シクロヘキノン誘導体の構造、ナフ
タリン誘導体の構造およびそれぞれの栽培植物に依存す
る。除草作用物質:解毒作用を有する化合物の適当な量
比は、1:40〜1:0.01重量部の間、特に1:4
〜1:0.25重量部の間にある。
【0108】新規の除草剤は、解毒薬としてのナフタリ
ン誘導体Iおよびシクロヘキセノン誘導体IIの群から
の除草剤とともに、別の化学構造を有する他の除草作用
物質または成長調整作用物質を含有することができ、こ
の場合解毒効果は、そのまま保持されている。
ン誘導体Iおよびシクロヘキセノン誘導体IIの群から
の除草剤とともに、別の化学構造を有する他の除草作用
物質または成長調整作用物質を含有することができ、こ
の場合解毒効果は、そのまま保持されている。
【0109】本発明による薬剤あるいは分離散布の際の
除草性有効物質または解毒剤例えば直接的に噴霧可能な
溶液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性又は油性又
はその他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油性分散
液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、
ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用す
ることができる。適用形式は、完全に使用目的に基づい
て決定される;直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト
又は油分散液を製造するために、中位乃至高位の沸点の
鉱油留分例えば燈油又はディーゼル油、更にコールター
ル油等、並びに植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、
環状及び芳香族炭化水素例えばベンゾール、トルオー
ル、キシロール、パラフィン、テトラヒドロナフタリ
ン、アルキル置換ナフタリン又はその誘導体、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、クロロフ
ォルム、四塩化炭素、シクロヘキサノール、シクロヘキ
サノン、クロルベンゾール、イソフォロン等、強極性溶
剤例えばジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキ
シド、N−メチルピロリドン、水が使用される。
除草性有効物質または解毒剤例えば直接的に噴霧可能な
溶液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性又は油性又
はその他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油性分散
液、ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、
ミスト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用す
ることができる。適用形式は、完全に使用目的に基づい
て決定される;直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト
又は油分散液を製造するために、中位乃至高位の沸点の
鉱油留分例えば燈油又はディーゼル油、更にコールター
ル油等、並びに植物性又は動物性産出源の油、脂肪族、
環状及び芳香族炭化水素例えばベンゾール、トルオー
ル、キシロール、パラフィン、テトラヒドロナフタリ
ン、アルキル置換ナフタリン又はその誘導体、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、クロロフ
ォルム、四塩化炭素、シクロヘキサノール、シクロヘキ
サノン、クロルベンゾール、イソフォロン等、強極性溶
剤例えばジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフォキ
シド、N−メチルピロリドン、水が使用される。
【0110】水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト、湿
潤可能の粉末(噴射粉末)、油分散液より水の添加によ
り製造することができる。乳濁液、ペースト又は油分散
液を製造するためには、除草性有効物質及び/又は解毒
剤はそのまま又は油又は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接
着剤、分散剤又は乳化剤により水中に均質に混合される
ことができる。しかも除草性有効物質及び/又は解毒
剤、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合により
溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもでき、これ
は水にて希釈するのに適する。
潤可能の粉末(噴射粉末)、油分散液より水の添加によ
り製造することができる。乳濁液、ペースト又は油分散
液を製造するためには、除草性有効物質及び/又は解毒
剤はそのまま又は油又は溶剤中に溶解して、湿潤剤、接
着剤、分散剤又は乳化剤により水中に均質に混合される
ことができる。しかも除草性有効物質及び/又は解毒
剤、湿潤剤、接着剤、分散剤又は乳化剤及び場合により
溶剤又は油よりなる濃縮物を製造することもでき、これ
は水にて希釈するのに適する。
【0111】表面活性物質としては次のものが挙げられ
る:リグニンスルフォン酸、ナフタリンスルフォン酸、
フェノールスルフォン酸の各アルカリ塩、アルカリ土類
塩、アンモニウム塩、アルキルアリールスルフォナー
ト、アルキルスルファート、アルキルスルフォナート、
ジブチルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及び及び
アルカリ土類塩、ラウリルエーテルスルファート、脂肪
アルコールスルファート、脂肪酸のアルカリ塩、アルカ
リ土類塩、硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノール
及びオクタデカノールの塩、並びに硫酸化脂肪アルコー
ルグリコールエーテルの塩、スルフォン化ナフタリン及
びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒドとの縮合生成
物、ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸とフェノー
ル及びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシ
エチレン−オクチルフェノールエーテル、エトキシル化
イソオクチルフェノール、オクチルフェノール、ノニル
フェノール、アルキルフェノールポリグリコールエーテ
ル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アル
キルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシル
アルコール、脂肪アルコールエチレンオキシド−縮合
物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、エトキシル化ポリオキシプロピレン、ラウ
リルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソ
ルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチル繊
維素。
る:リグニンスルフォン酸、ナフタリンスルフォン酸、
フェノールスルフォン酸の各アルカリ塩、アルカリ土類
塩、アンモニウム塩、アルキルアリールスルフォナー
ト、アルキルスルファート、アルキルスルフォナート、
ジブチルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及び及び
アルカリ土類塩、ラウリルエーテルスルファート、脂肪
アルコールスルファート、脂肪酸のアルカリ塩、アルカ
リ土類塩、硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノール
及びオクタデカノールの塩、並びに硫酸化脂肪アルコー
ルグリコールエーテルの塩、スルフォン化ナフタリン及
びナフタリン誘導体とフォルムアルデヒドとの縮合生成
物、ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸とフェノー
ル及びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシ
エチレン−オクチルフェノールエーテル、エトキシル化
イソオクチルフェノール、オクチルフェノール、ノニル
フェノール、アルキルフェノールポリグリコールエーテ
ル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アル
キルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシル
アルコール、脂肪アルコールエチレンオキシド−縮合
物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル、エトキシル化ポリオキシプロピレン、ラウ
リルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソ
ルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液及びメチル繊
維素。
【0112】粉末、散布剤及び振りかけ剤は除草性有効
物質及び/又は解毒剤と固状担体物質とを混合又は一緒
に磨砕することにより製造することができる。
物質及び/又は解毒剤と固状担体物質とを混合又は一緒
に磨砕することにより製造することができる。
【0113】粒状体例えば被覆−、透浸−及び均質粒状
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は例えば鉱物土例え
ばシリカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリ
ン、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、
粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシ
ウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫
酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウ
ム、尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及
びクルミ穀粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質であ
る。
体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製
造することができる。固状担体物質は例えば鉱物土例え
ばシリカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩、滑石、カオリ
ン、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、
粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシ
ウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料例えば硫
酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウ
ム、尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及
びクルミ穀粉、繊維素粉末及び他の固状担体物質であ
る。
【0114】配合物は、除草作用物質0.1〜95重量
%、特に0.5〜90重量%および解毒薬を含有する。
除草作用物質の使用量は、0.05〜5kg/haであ
る。
%、特に0.5〜90重量%および解毒薬を含有する。
除草作用物質の使用量は、0.05〜5kg/haであ
る。
【0115】除草作用物質IIは、10〜20重量%の
濃厚乳濁液(EC)として配合され、また単独でもその
つど同量の溶剤系の添加下に噴霧処理液中に装入され、
この場合解毒作用物質は、表中に記載した使用量で散布
される。
濃厚乳濁液(EC)として配合され、また単独でもその
つど同量の溶剤系の添加下に噴霧処理液中に装入され、
この場合解毒作用物質は、表中に記載した使用量で散布
される。
【0116】全部の解毒作用を有する化合物は、溶剤8
0%(シクロヘキセノン)および界面活性剤20%(E
mulphor( 登録商標)EL =エトキシル化ヒ
マシ油)からなる混合物の形で作用物質10重量%で後
処理される。
0%(シクロヘキセノン)および界面活性剤20%(E
mulphor( 登録商標)EL =エトキシル化ヒ
マシ油)からなる混合物の形で作用物質10重量%で後
処理される。
【0117】試験容器を温室内に設け、この場合熱帯性
植物種には、18〜35℃が好ましく、かつ温帯性植物
種には、10〜25℃が好ましい。
植物種には、18〜35℃が好ましく、かつ温帯性植物
種には、10〜25℃が好ましい。
【0118】試験時間は、3〜5週間に及ぶ。この時間
の間、植物を栽培し、個々の処理に対する植物の反応を
評価する。化学的薬剤による損傷を0%〜100%の目
盛りにつき未処理の対照植物と比較して評価した。この
場合、0は植物の損傷なしを意味し、100は、植物の
完全な破壊を意味する。
の間、植物を栽培し、個々の処理に対する植物の反応を
評価する。化学的薬剤による損傷を0%〜100%の目
盛りにつき未処理の対照植物と比較して評価した。この
場合、0は植物の損傷なしを意味し、100は、植物の
完全な破壊を意味する。
【0119】試験植物のリスト エノコログサ (Setaria viridis) トウモロコシ (Zea mays) モロコシ (Sorghum vulgare) 次表は、実施例の化合物No.8.003および8.0
94の解毒作用ならびにシクロヘキノン誘導体No.
3.34の栽培植物に対する認容性を証明する。
94の解毒作用ならびにシクロヘキノン誘導体No.
3.34の栽培植物に対する認容性を証明する。
【0120】
【表35】
【0121】
【表36】
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A01N 43/16 A 8930−4H 43/28 8930−4H 43/653 J 8930−4H 43/80 101 8930−4H 102 8930−4H 43/82 104 8930−4H (72)発明者 ウルフ、ミスリツツ ドイツ連邦共和国、6730、ノイシユタツ ト、アム、ヘルツエル、40 (72)発明者 ヘルムート、ハーゲン ドイツ連邦共和国、6710、フランケンター ル、マクス−スレーフオークト−シユトラ ーセ、17エー (72)発明者 ゲールハルト、ニルツ ドイツ連邦共和国、6701、ダンシユタツト −シヤウエルンハイム、ハールトシユトラ ーセ、13 (72)発明者 ユルゲン、プフイスター ドイツ連邦共和国、6720、シユパイヤー、 ツイーゲルオーフエンヴエーク、1 (72)発明者 ヘルムート、ヴアルター ドイツ連邦共和国、6719、オブリツヒハイ ム、グリユーンシユタツター、シユトラー セ、82 (72)発明者 アンドレアス、ランデス ドイツ連邦共和国、6703、リムブルガーホ ーフ、ウンテレ、ハルト、12
Claims (1)
- 【請求項1】 拮抗作用を有する化合物としての式I: 【化1】 [式中、RはC1〜C4−アルキル基、C1〜C4−アルキ
ルチオ基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル基、C1〜C4
−アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ニトロ
基またはベンジル基を表わし;mは0、1、2または3
を表わし、この場合R基は、mが2または3を表わす場
合には異なっていてもよく;R3は−CN基;−C(N
H2)NOH基;−C(Z)TR5基; 【化2】 を表わし;R4はハロゲン原子;−NR7R8基;−N=
CH−R7基;−NR7−SO2R9基;COOR5基;O
H基 【化3】 を表わし;Zは酸素原子または硫黄原子を表わし;Tは
酸素原子または−NR5を表わし;R5は水素原子、次の
置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミノ、ジ−
(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−アルコキシ
およびC1〜C4−アルキルチオを1〜3個有することが
できるC1〜C6−アルキル基;次の置換基:C1〜C4−
アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル
チオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、シアノ、ニトロ
および/またはハロゲンを1〜3個有することができる
フェニル基またはベンジル基を表わし;R6は次の置換
基:ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコ
キシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化
アルキル、シアノおよび/またはニトロを1または2個
有することができるフェニル基を表わし;R7は水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、フェニルおよび/
または(C1〜C4−アルキル)オキシカルボニルを1〜
3個有することができるC1〜C6−アルキル基;次の置
換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アル
コキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン
化アルキル、シアノおよび/またはニトロを1〜3個有
することができるフェニル基を表わし;R8は水素原
子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、C1〜C4−ア
ルコキシ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはフェ
ニルを1〜3個有することができるC1〜C6−アルキル
基を表わし;R9は次の置換基:C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルアミ
ノ、ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、フェニルおよ
び/または1〜5個のハロゲン原子を1〜3個有するこ
とができるC1〜C6−アルキル基;フェニル基または5
〜6員のヘテロアリール基を表わし、この場合これらの
環は次の基:C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化ア
ルキル、ニトロ、シアノおよび/またはハロゲンを1〜
3個有することができ;R10はC1〜C6−アルキル基ま
たはC2〜C6−アルケニル基を表わし、この場合これら
の基は、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルコキ
シ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはフェニル基
を1〜3個有することができ;次の基:C1〜C4−アル
キル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチ
オ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、ニトロ、シアノお
よび/またはハロゲンを1〜3個有することができるフ
ェニル基を表わし;R10... R10は一緒になってC
2〜C4−アルキレン鎖またはC2〜C4−アルケニレン鎖
を形成し、この場合これらの橋は、次の置換基:C1〜
C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ア
ルキルチオ、ハロゲンおよび/またはフェニルを1〜3
個有することができるか、またはハロゲン原子1〜4個
および/または、次の基:C1〜C4−アルキル、C1〜
C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4
−ハロゲン化アルキル、シアノ、ニトロおよび/または
フェニルを1〜3個有することができる縮合環化したベ
ンゼン環を形成し;R11,R12はC1〜C4−アルキル基
を表わすかまたはC原子と一緒になってC原子を含んで
結合したC3〜C6−シクロアルキルを表わし;Bは水素
原子、次の置換基:ハロゲン、C1〜C4−アルコキシ、
C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルアミノ、
ジ−(C1〜C4−アルキル)アミノ、フェニルおよび/
またはC1〜C4−アルコキシカルボニルを1〜3個有す
ることができるC1〜C6−アルキル基;C1〜C4−アル
コキシカルボニル基;−NR7R8−基またはハロゲン原
子1〜5個および/または次の置換基:C1〜C4−アル
キル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−ハロゲン化ア
ルキル、シアノおよび/またはニトロ1〜3個を有する
ことができるフェニル基を表わす]で示される少なくと
も1つのナフタリン誘導体および式II: 【化4】 [式中、R1はC1〜C6−アルキル基を表わし;AはC4
−アルキレン鎖またはC4−アルケニレン鎖を表わし、
この場合これらの鎖は、C1〜C3−アルキル基および/
またはハロゲン原子を1〜3個有することができ;Xは
水素原子、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子、C1〜
C4−アルキル基、C1〜C4−アルコキシ基、C1〜C4
−アルキルチオ基、C1〜C4−ハロゲン化アルキル基、
C1〜C4−ハロゲン化アルコキシ基、カルボキシル基、
C1〜C4−アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカ
ルボニル基および/またはフェニル基を表わし、この場
合芳香族基は、次の置換基:ニトロ、シアノ、ハロゲ
ン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1
〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキ
ル、C1〜C4−ハロゲン化アルコキシ、カルボキシル、
C1〜C4−アルコキシカルボニルおよび/またはベンジ
ルオキシカルボニルを1〜3個有することができ;nは
1〜3であるかまたはXがハロゲンを表わす場合には1
〜5であり;R2はC1〜C4−アルコキシ−C1〜C6−
アルキル基またはC1〜C4−アルキルチオ−C1〜C6−
アルキル基;C3〜C7−シクロアルキル基またはC5〜
C7−シクロアルケニル基、但し、これらの基は、次の
置換基:C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、
C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキ
ル、ヒドロキシおよび/またはハロゲンを1〜3個有す
ることができ;1もしくは2個の酸素原子および/また
は硫黄原子をヘテロ原子として有しかつ次の置換基:C
1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−
アルキルチオおよび/またはC1〜C4−ハロゲン化アル
キルを1〜3個有することができる5員の飽和複素環式
基;1もしくは2個の酸素原子および/または硫黄原子
および2個までの二重結合を有する6または7員の複素
環式基、但し、これらの環は、次の置換基:ヒドロキ
シ、ハロゲン、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコ
キシ、C1〜C4−アルキルチオおよび/またはC1〜C4
−ハロゲン化アルキルを1〜3個有することができるも
のとし;1〜2個の窒素原子および1個の酸素原子また
は硫黄原子を有する5員のヘテロ芳香族基、但し、この
環は、次の置換基:ハロゲン、シアノ、C1〜C4−アル
キル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチ
オ、C1〜C4−ハロゲン化アルキル、C2〜C6−アルケ
ニル、C2〜C6−アルケニルオキシ、C2〜C6−ハロゲ
ン化アルケニルおよび/またはC1〜C4−アルコキシ−
C1〜C4−アルキルを1〜3個有することができるもの
とし;フェニル基またはピリジル基を表わし、この場合
これらの基は、次の置換基:ハロゲン、ニトロ、シア
ノ、C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1
〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−ハロゲン化アルキ
ル、C3〜C6−アルケニルオキシ、C3〜C6−アルキニ
ルオキシ、C1〜C4−アルコキシ−C1〜C4−アルキ
ル、C1〜C4−アルキルチオ−C1〜C4−アルキルおよ
び/または−NR13R14を1〜3個有することができ、
その際R13は水素原子、C1〜C4−アルキル基、C3〜
C6−アルケニル基またはC3〜C6−アルキニル基を表
わし、かつR14は水素原子、C1〜C4−アルキル基、C
3〜C6−アルケニル基、C3〜C6−アルキニル基、C1
〜C6−アシル基またはベンゾイル基を表わし、この場
合芳香環は、次の置換基:ニトロ、シアノ、ハロゲン、
C1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、 C1〜
C4−アルキルチオおよび/またはC1〜C4−ハロゲン
化アルキルを1〜3個有することができる]で示される
シクロヘキセノン誘導体の群からの少なくとも1つの除
草作用物質を含有する除草剤。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4014985.4 | 1990-05-09 | ||
| DE4014985A DE4014985A1 (de) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | Herbizide mittel, die cyclohexenonderivate als herbizide wirkstoffe und naphthalinderivate als antidots enthalten |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0578210A true JPH0578210A (ja) | 1993-03-30 |
Family
ID=6406107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3096846A Withdrawn JPH0578210A (ja) | 1990-05-09 | 1991-04-26 | 除草作用物質としてのシクロヘキセノン誘導体および解毒薬としてのナフタリン誘導体を含有する除草剤 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0456090B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0578210A (ja) |
| KR (1) | KR910019504A (ja) |
| AT (1) | ATE108301T1 (ja) |
| CA (1) | CA2042111A1 (ja) |
| DE (2) | DE4014985A1 (ja) |
| ES (1) | ES2056517T3 (ja) |
| HU (1) | HU212702B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7413540B2 (en) | 1997-02-13 | 2008-08-19 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Devices for minimally invasive pelvic surgery |
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|---|---|---|---|---|
| TW221367B (ja) * | 1991-11-15 | 1994-03-01 | Dunlena Pty Ltd |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3564768A (en) * | 1968-10-25 | 1971-02-23 | Gulf Research Development Co | Coated corn seed |
| US3749566A (en) * | 1968-10-25 | 1973-07-31 | Gulf Research Development Co | Improving resistance of rice seed to preemergence herbicides |
| AT368678B (de) * | 1980-08-05 | 1982-10-25 | Nitrokemia Ipartelepek | Antidotum zum schutz von kulturpflanzen gegen die schaedigende wirkung von herbiziden |
| CA1202498A (en) * | 1983-10-28 | 1986-04-01 | Karl H. Heier | Safener compositions |
| DE3808355A1 (de) * | 1987-03-21 | 1988-09-29 | Basf Ag | 1-naphthoesaeure und deren funktionelle verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als pflanzenschutzmittel |
| DE3838309A1 (de) * | 1988-11-11 | 1990-05-31 | Basf Ag | Cyclohexenonoximether, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als herbizid |
| DE3837926A1 (de) * | 1988-11-09 | 1990-05-17 | Basf Ag | Herbizide mittel, die 2-(4-heteroaryloxy)- oder 2-(4-aryloxy)-phenoxyessig- oder -propionsaeurederivate und/oder cyclohexenonderivate als herbizide wirkstoffe und naphthalinderivate als antidots enthalten, sowie ihre verwendung zur bekaempfung unerwuenschten pflanzenwuchses |
-
1990
- 1990-05-09 DE DE4014985A patent/DE4014985A1/de not_active Withdrawn
-
1991
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