JPH0578761B2 - - Google Patents
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- JPH0578761B2 JPH0578761B2 JP60192164A JP19216485A JPH0578761B2 JP H0578761 B2 JPH0578761 B2 JP H0578761B2 JP 60192164 A JP60192164 A JP 60192164A JP 19216485 A JP19216485 A JP 19216485A JP H0578761 B2 JPH0578761 B2 JP H0578761B2
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- spectrophotometer
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/04—Measuring microscopes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、物体細部、例えば半導体工業におけ
る導体路の直線的寸法を測定する測定顕微鏡に関
する。
る導体路の直線的寸法を測定する測定顕微鏡に関
する。
[従来の技術]
半導体工業でウエーハ上のパターンの測定は順
次に行われる2つの異なる方法により実施され
る。
次に行われる2つの異なる方法により実施され
る。
パターンの横方向寸法、即ち導体路の幅は、例
えばLeitz−Mitteilungen fuer Wissenschaft
und Technik、第8巻 No.3/4、76〜81頁ま
たは米国特許第4373817号明細書に記載のように、
一般にいわゆるマイクロデンシトメータ上での物
体面内の強度分布を光度計による測定によつて求
められる。これらの装置は顕微鏡光度計から派生
され、中間像面に配置された数ミクロン幅の摺動
可能の測定スリツトと後置光電子増倍管を有す
る。物体面内の強度分布をここに要求される一般
に10〜100nmの分解能をもつて走査するため、該
スリツトは中間像面内に動かされ、このことは直
接物体面内の走査に比して、物体パターンが中間
像面内で対物レンズの倍率だけ拡大して結像して
いるので、ガイド、温度定数等の精度要求が低い
とう利点を有する。
えばLeitz−Mitteilungen fuer Wissenschaft
und Technik、第8巻 No.3/4、76〜81頁ま
たは米国特許第4373817号明細書に記載のように、
一般にいわゆるマイクロデンシトメータ上での物
体面内の強度分布を光度計による測定によつて求
められる。これらの装置は顕微鏡光度計から派生
され、中間像面に配置された数ミクロン幅の摺動
可能の測定スリツトと後置光電子増倍管を有す
る。物体面内の強度分布をここに要求される一般
に10〜100nmの分解能をもつて走査するため、該
スリツトは中間像面内に動かされ、このことは直
接物体面内の走査に比して、物体パターンが中間
像面内で対物レンズの倍率だけ拡大して結像して
いるので、ガイド、温度定数等の精度要求が低い
とう利点を有する。
パターンの層厚は多くはマイクロ分光光度計で
物体から反射された光線のスペクトル中の干渉最
小と最大の距離を測定して求められる。半導体工
業用のマイクロ分光光度計は、例えば米国特許第
4087689号明細書に記載されている。
物体から反射された光線のスペクトル中の干渉最
小と最大の距離を測定して求められる。半導体工
業用のマイクロ分光光度計は、例えば米国特許第
4087689号明細書に記載されている。
前記のように半導体工業の例えばウエーハ検査
にはそれぞれ国有の試料供給装置、固有の評価計
算機等を有する2種の装置が必要である。この場
合、検査すべきウエーハはそのカセツトとともに
2つの装置のそれぞれに導入し、新たに顕微鏡下
に位置決めしなければならない。これは比較的時
間を多く消費し、大きいスペースを必要とし、検
査ウエーハの汚染の危険が高い。
にはそれぞれ国有の試料供給装置、固有の評価計
算機等を有する2種の装置が必要である。この場
合、検査すべきウエーハはそのカセツトとともに
2つの装置のそれぞれに導入し、新たに顕微鏡下
に位置決めしなければならない。これは比較的時
間を多く消費し、大きいスペースを必要とし、検
査ウエーハの汚染の危険が高い。
2種の装置は基本的構造から顕微鏡を備えるけ
れど、そのまま前記装置をまとめ合わせることは
不可能である。というのは、マイクロデンシトメ
ータの中間像面に可動に支持されたスリツト構造
群によつて分光光度計の付加的導入が困難になる
からである。他面、マイクロ分光光度計の測定点
の位置決めに使用される走査テーブルの分解能は
マイクロデンシトメトリにおける走査運動の分解
能に必要な要求を充足しない。
れど、そのまま前記装置をまとめ合わせることは
不可能である。というのは、マイクロデンシトメ
ータの中間像面に可動に支持されたスリツト構造
群によつて分光光度計の付加的導入が困難になる
からである。他面、マイクロ分光光度計の測定点
の位置決めに使用される走査テーブルの分解能は
マイクロデンシトメトリにおける走査運動の分解
能に必要な要求を充足しない。
[発明が解決しようとする課題]
本発明の課題は、両方の検査、即ちマイクロデ
ンシトメトリもマイクロ分光光度測定もウエーハ
パターンの検査に十分な精度および分解能をもつ
て実施し得る前記方式の装置を提供することであ
る。更に、該装置は簡単な構造を有し、できるだ
け大きい改造なしに市販顕微鏡から少数の補助部
材の付加によつて製造し得なければならない。
ンシトメトリもマイクロ分光光度測定もウエーハ
パターンの検査に十分な精度および分解能をもつ
て実施し得る前記方式の装置を提供することであ
る。更に、該装置は簡単な構造を有し、できるだ
け大きい改造なしに市販顕微鏡から少数の補助部
材の付加によつて製造し得なければならない。
[課題を解決するための手段]
前記課題は、特許請求の範囲第1項または第1
0項の特徴部に記載の特徴を有する測定顕微鏡に
よつて解決される。
0項の特徴部に記載の特徴を有する測定顕微鏡に
よつて解決される。
特許請求の範囲第1項に記載の解決手段によれ
ば、マイクロデンシトメトリのための物体は例え
ば2座標軸上で調節可能の常用走査テーブルに設
置された、付加的微調整位置決め装置により動か
され、かつ中間像面内の測定スリツトは固定であ
る。この構成に基づき、測定スリツト後方に分光
光度計、詳細には可動部材なしに作動するいわゆ
るダイオード列分光光度計を配置することが可能
である。その際、固定絞りを直接分光光度計の入
射スリツトとして使用することができる。
ば、マイクロデンシトメトリのための物体は例え
ば2座標軸上で調節可能の常用走査テーブルに設
置された、付加的微調整位置決め装置により動か
され、かつ中間像面内の測定スリツトは固定であ
る。この構成に基づき、測定スリツト後方に分光
光度計、詳細には可動部材なしに作動するいわゆ
るダイオード列分光光度計を配置することが可能
である。その際、固定絞りを直接分光光度計の入
射スリツトとして使用することができる。
しかし、幅を調節し得る測定絞りの後方にもう
1つの絞りを瞳平面内に配置するのが有利であ
り、それによつて測定視野の大きさおよび分光光
度計の分解能を互いに無関係に選択することがで
きる。更に、この最後に挙げた実施態様によれば
スペクトル測定の際の感度が高いという利点が得
られる。それは測定絞りをマイクロデンシトメト
リの際必要な小さい寸法に比して広く開放するこ
とができ、分光光度計の多くの光線が得るからで
ある。
1つの絞りを瞳平面内に配置するのが有利であ
り、それによつて測定視野の大きさおよび分光光
度計の分解能を互いに無関係に選択することがで
きる。更に、この最後に挙げた実施態様によれば
スペクトル測定の際の感度が高いという利点が得
られる。それは測定絞りをマイクロデンシトメト
リの際必要な小さい寸法に比して広く開放するこ
とができ、分光光度計の多くの光線が得るからで
ある。
マイクロデンシトメトリに使用される信号を得
る検知器として、付加的な積分的に測定する受信
器、例えば光電子増幅管を選択することができ、
これに有利にはビームスプリツタまたは切換可能
のミラーを介して分光光度計の光路から分岐した
光線を送る。更に、分光光度計の格子自体をビー
ムスプリツタとして使用することもできる。その
際には、付加的受信器を該格子に対して、格子か
ら出るゼロ次回折光のみを受光するように配置す
る。
る検知器として、付加的な積分的に測定する受信
器、例えば光電子増幅管を選択することができ、
これに有利にはビームスプリツタまたは切換可能
のミラーを介して分光光度計の光路から分岐した
光線を送る。更に、分光光度計の格子自体をビー
ムスプリツタとして使用することもできる。その
際には、付加的受信器を該格子に対して、格子か
ら出るゼロ次回折光のみを受光するように配置す
る。
しかし、マイクロデンシトメトリのための信号
を得るため、ダイオード列の複数の、例えば全て
の素子の種々の波長に対応する信号を積分し、こ
れから積分測定信号を形成する電子装置を設ける
のが特に有利である。この手段によれば、ウエー
ハの厚さ測定のためのスペクトル測定からマイク
ロデンシトメトリによる幅測定への切換は、スペ
クトル測定の際の感度を上昇するため場合により
測定スリツトの幅を適合させることを無視すれ
ば、ほぼ純電子的に即ち機械的可動部分を必要と
せずに行われる。
を得るため、ダイオード列の複数の、例えば全て
の素子の種々の波長に対応する信号を積分し、こ
れから積分測定信号を形成する電子装置を設ける
のが特に有利である。この手段によれば、ウエー
ハの厚さ測定のためのスペクトル測定からマイク
ロデンシトメトリによる幅測定への切換は、スペ
クトル測定の際の感度を上昇するため場合により
測定スリツトの幅を適合させることを無視すれ
ば、ほぼ純電子的に即ち機械的可動部分を必要と
せずに行われる。
更に、マイクロデンシトメトリには付加的検出
器を必要とせず、むしろ同じダイオード列が両者
の測定目的に受信器として使用される。
器を必要とせず、むしろ同じダイオード列が両者
の測定目的に受信器として使用される。
ウエーハパターンのマイクロデンシトメトリに
十分な精度をもつて物体を微調整位置決めするた
め、例えば公知形式のピエゾ電気的に調節し得る
付加的テーブルを使用することができる。常用の
ステツプモータによつて例えば10μmのステツプ
幅で作動する、物体を粗く走査する走査テーブル
設置すると、該ピエゾテーブルにより、測定スリ
ツトによる走査の際要求される典型的には10nm
の分解能が物体視野全体内に得られる。
十分な精度をもつて物体を微調整位置決めするた
め、例えば公知形式のピエゾ電気的に調節し得る
付加的テーブルを使用することができる。常用の
ステツプモータによつて例えば10μmのステツプ
幅で作動する、物体を粗く走査する走査テーブル
設置すると、該ピエゾテーブルにより、測定スリ
ツトによる走査の際要求される典型的には10nm
の分解能が物体視野全体内に得られる。
前記手段の特別の利点は、物体走査が顕微鏡の
光軸でのみ行われるので、対物レンズの歪曲収差
が測定精度に介入しないことである。更に、前記
構造によれば、固定測定スリツトを最小の散乱光
をもつて照明し、観測者のため顕微鏡の視野内に
見えるようにすることができる。
光軸でのみ行われるので、対物レンズの歪曲収差
が測定精度に介入しないことである。更に、前記
構造によれば、固定測定スリツトを最小の散乱光
をもつて照明し、観測者のため顕微鏡の視野内に
見えるようにすることができる。
特許請求の範囲第10項記載の手段は、物体平
面内の機械的走査の代わりに、付加的中間結像に
よつて第1中間像面後方にある像面内で強度分布
をそこに配置された第2ダイオード列によつて測
定する点で特許請求の範囲第1項の手段と異な
る。
面内の機械的走査の代わりに、付加的中間結像に
よつて第1中間像面後方にある像面内で強度分布
をそこに配置された第2ダイオード列によつて測
定する点で特許請求の範囲第1項の手段と異な
る。
例えばドイツ国特許第2211235号明細書から光
電的物体走査のためダイオード列を有する測定顕
微鏡は公知であるが、該公知装置ではダイオード
列は第1中間像面内にあり、そのためそのまま、
該公知マイクロデンシトメータを付加的に分光光
度計と前記のように組合わせることは不可能であ
る。
電的物体走査のためダイオード列を有する測定顕
微鏡は公知であるが、該公知装置ではダイオード
列は第1中間像面内にあり、そのためそのまま、
該公知マイクロデンシトメータを付加的に分光光
度計と前記のように組合わせることは不可能であ
る。
特許請求の範囲第10項に記載の手段でも、中
間像面に固定絞りは配置されるているが、この絞
りはデンシトメトリの際には取外し可能であり、
またはその寸法(スリツト幅)を変化することが
できる。絞りの取外しまたは挿入はダイオード列
分光光度計から付加的第2ダイオード列への光路
切換と連結するのが有利である。
間像面に固定絞りは配置されるているが、この絞
りはデンシトメトリの際には取外し可能であり、
またはその寸法(スリツト幅)を変化することが
できる。絞りの取外しまたは挿入はダイオード列
分光光度計から付加的第2ダイオード列への光路
切換と連結するのが有利である。
ここでも第2ダイオード列を格子に対しゼロ次
回折光線のみを検出するように配置すれば、分光
光度計の回析格子自体をビームスプリツタとして
使用することができる。この実施例の場合モノク
ロメータの入射スリツトを中間像面に配置し、デ
ンシトメトリ測定の際には取外さなければならな
い。
回折光線のみを検出するように配置すれば、分光
光度計の回析格子自体をビームスプリツタとして
使用することができる。この実施例の場合モノク
ロメータの入射スリツトを中間像面に配置し、デ
ンシトメトリ測定の際には取外さなければならな
い。
[実施例]
次に本発明を図示の実施例により詳細に説明す
る。
る。
第1図に示す測定顕微鏡は、常用反射光顕微鏡
の破線2で示す本体ならびにデンシトメトリおよ
び分光干渉計測定を実施するための、本体にアリ
溝6により取付けられた付加的ヘツドユニツト1
からなる。
の破線2で示す本体ならびにデンシトメトリおよ
び分光干渉計測定を実施するための、本体にアリ
溝6により取付けられた付加的ヘツドユニツト1
からなる。
反射光顕微鏡の光学系は、このような装置は公
知なので、簡単にしか説明しない。この系は対物
レンズ3、その後方に配置された、ランプ14か
ら出て収斂レンズ15によつてコリメートされ
た、ウエーハ7を反射照明する光線を反射する第
1半透ミラー4ならびに観測光路を接眼レンズ1
6とユニツト1へ分割する第2半透ミラー5を有
する。該顕微鏡は付加的に透過光ユニツトを備え
ており、半導体マスクを測定できるが、ここには
図面を簡単にするため反射光光路しか示されてい
ない。9はいわゆる走査テーブルであり、これは
ステツプモータ10および11を介して約10μm
の分解能をもつて粗くウエーハ7の全パターンに
わたつて摺動することができる。
知なので、簡単にしか説明しない。この系は対物
レンズ3、その後方に配置された、ランプ14か
ら出て収斂レンズ15によつてコリメートされ
た、ウエーハ7を反射照明する光線を反射する第
1半透ミラー4ならびに観測光路を接眼レンズ1
6とユニツト1へ分割する第2半透ミラー5を有
する。該顕微鏡は付加的に透過光ユニツトを備え
ており、半導体マスクを測定できるが、ここには
図面を簡単にするため反射光光路しか示されてい
ない。9はいわゆる走査テーブルであり、これは
ステツプモータ10および11を介して約10μm
の分解能をもつて粗くウエーハ7の全パターンに
わたつて摺動することができる。
ユニツト1内の、対物レンズ3によつて結像す
るウエーハ7の中間像が発生する位置に測定絞り
18が配置されている。該絞り18は幅数μmの
スリツトの形を有し、該スリツトの短辺は紙面内
にある。デンシトメトリのためには、中間像はウ
エーハ7自体をテーブル9に支持した高い分解能
を有するピエゾテーブル8により小さく動かすこ
とによつて測定絞りにわたつて動かされる。矢印
12および13は、走査テーブル9による粗い位
置決めに重なる物体の微調整ΔxおよびΔyを表わ
す。前記目的に適する10nmより高い分解能を有
するピエゾテーブルは、例えばワイクリークデザ
インズフレデリツクMD(Firma Wye−Creek
Designs,Frederic,MD)、USAからピエゾ−
フレツクス−ステージ(Peizo−Flex−Stage)
タイプIaの商標で供給される。このようなテーブ
ルはPrecision Engineering、3(1)、1981、14
およびReview of Scientific Instruments、49
(1978)、1735〜1740からも公知である。
るウエーハ7の中間像が発生する位置に測定絞り
18が配置されている。該絞り18は幅数μmの
スリツトの形を有し、該スリツトの短辺は紙面内
にある。デンシトメトリのためには、中間像はウ
エーハ7自体をテーブル9に支持した高い分解能
を有するピエゾテーブル8により小さく動かすこ
とによつて測定絞りにわたつて動かされる。矢印
12および13は、走査テーブル9による粗い位
置決めに重なる物体の微調整ΔxおよびΔyを表わ
す。前記目的に適する10nmより高い分解能を有
するピエゾテーブルは、例えばワイクリークデザ
インズフレデリツクMD(Firma Wye−Creek
Designs,Frederic,MD)、USAからピエゾ−
フレツクス−ステージ(Peizo−Flex−Stage)
タイプIaの商標で供給される。このようなテーブ
ルはPrecision Engineering、3(1)、1981、14
およびReview of Scientific Instruments、49
(1978)、1735〜1740からも公知である。
絞り18の後方に半透ミラー19が配置されて
いる。これに続いて該ミラーを透過した光線の分
割光路内に光学系23が配置され、該光学系によ
つて対物レンズ3の瞳が敏感な光電子増倍管24
へ結像される。この光電子増倍管24は取外し可
能の補助部材25に収容され、もう1つの交換ア
リ溝26を介してユニツト1と結合されている。
いる。これに続いて該ミラーを透過した光線の分
割光路内に光学系23が配置され、該光学系によ
つて対物レンズ3の瞳が敏感な光電子増倍管24
へ結像される。この光電子増倍管24は取外し可
能の補助部材25に収容され、もう1つの交換ア
リ溝26を介してユニツト1と結合されている。
光電子増倍管24は図示されていない評価装置
に接続されている。マイクロデンシトメトリ(線
幅)測定の場合、絞り18を通過した光線の信号
強度の経過はピエゾテーブル8の位置Δxまたは
Δyに応じて評価される。ピエゾテーブル8によ
る走査運動の間に中間像の線形パターンが絞り1
8にわたつて移動すると、例えば第5b図に示す
信号曲線46が得られ、これから線幅を測定する
ことができる。
に接続されている。マイクロデンシトメトリ(線
幅)測定の場合、絞り18を通過した光線の信号
強度の経過はピエゾテーブル8の位置Δxまたは
Δyに応じて評価される。ピエゾテーブル8によ
る走査運動の間に中間像の線形パターンが絞り1
8にわたつて移動すると、例えば第5b図に示す
信号曲線46が得られ、これから線幅を測定する
ことができる。
ビームスプリツタ19によつて反射された光線
は凹面反射格子20へ当り、その後方にダイオー
ド列21またはいわゆるCCD(電荷結合素子)ア
レーが検出器として配置されている。同様に記憶
オシログラフと結合したダイオード列21の信号
により、測定絞り18によつて制限られた物体領
域からの拡散反射光線のスペクトル組成が得られ
る。ウエーハパターンの厚さは、ダイオード列2
1の代表的出力信号を示す第5a図のグラフの干
渉最小と最大の位置から求められる。
は凹面反射格子20へ当り、その後方にダイオー
ド列21またはいわゆるCCD(電荷結合素子)ア
レーが検出器として配置されている。同様に記憶
オシログラフと結合したダイオード列21の信号
により、測定絞り18によつて制限られた物体領
域からの拡散反射光線のスペクトル組成が得られ
る。ウエーハパターンの厚さは、ダイオード列2
1の代表的出力信号を示す第5a図のグラフの干
渉最小と最大の位置から求められる。
更に、ヘツドユニツト1は光源22を収容し、
この光源は格子20によるゼロ次回折でスリツト
18の裏面へ結像する。背後から照明される測定
スリツト18は対物レンズ3によつて物体面へ結
像されるので、観測者17に見える。
この光源は格子20によるゼロ次回折でスリツト
18の裏面へ結像する。背後から照明される測定
スリツト18は対物レンズ3によつて物体面へ結
像されるので、観測者17に見える。
第2図には、第1図のヘツドユニツト1に対す
る選択的実施例35が示されている。ユニツト3
5内の測定絞り28の直後に光学系33があり、
該光学系は物体レンズ瞳の像をビームスプリツタ
29の反射光路内に配置された増倍管34の表面
に結像する。ビームスプリツタ29を透過した光
路内の瞳像の位置にもう1つの絞り32が配置さ
れており、該絞りは凹面格子30およびダイオー
ド列31からなる分光光度計の入射スリツトとし
て役立つ。両方の絞り28および32はスリツト
幅が調節可能である。この装置は、検査する物体
領域を選択する測定スリツト(絞り28)の幅、
ひいては線幅のマイクロデンシトメトリ測定の分
解能および分光光度計30/31の分解能(絞り3
2)を互いに無関係に選択することができるとい
う利点を有する。
る選択的実施例35が示されている。ユニツト3
5内の測定絞り28の直後に光学系33があり、
該光学系は物体レンズ瞳の像をビームスプリツタ
29の反射光路内に配置された増倍管34の表面
に結像する。ビームスプリツタ29を透過した光
路内の瞳像の位置にもう1つの絞り32が配置さ
れており、該絞りは凹面格子30およびダイオー
ド列31からなる分光光度計の入射スリツトとし
て役立つ。両方の絞り28および32はスリツト
幅が調節可能である。この装置は、検査する物体
領域を選択する測定スリツト(絞り28)の幅、
ひいては線幅のマイクロデンシトメトリ測定の分
解能および分光光度計30/31の分解能(絞り3
2)を互いに無関係に選択することができるとい
う利点を有する。
第3図によるもう1つの選択的実施例によれ
ば、ヘツドユニツト37内のマイクロデンシトメ
トリの際の受信器として役立つ光電子増倍管44
は分光光度計の格子40に対し、格子40から出
るゼロ次回折光を受光し、一方ダイオード列41
は従来と同様に例えば1次回折光を受光するよう
に配置されている。この場合には、格子40自体
はビームスプリツタとして作用する。ヘツドユニ
ツト37内の絞り38は、分光光度計の入射スリ
ツトとして同時にデンシトメータの測定スリツト
として役立つ。絞り38の後方に10%透過ミラー
39が配置され、該ミラーはビーム偏向に役立
ち、更に光源42およびコンデンサ43により絞
り38の背面照明を可能にする。
ば、ヘツドユニツト37内のマイクロデンシトメ
トリの際の受信器として役立つ光電子増倍管44
は分光光度計の格子40に対し、格子40から出
るゼロ次回折光を受光し、一方ダイオード列41
は従来と同様に例えば1次回折光を受光するよう
に配置されている。この場合には、格子40自体
はビームスプリツタとして作用する。ヘツドユニ
ツト37内の絞り38は、分光光度計の入射スリ
ツトとして同時にデンシトメータの測定スリツト
として役立つ。絞り38の後方に10%透過ミラー
39が配置され、該ミラーはビーム偏向に役立
ち、更に光源42およびコンデンサ43により絞
り38の背面照明を可能にする。
第4図に示す有利な実施例の顕微鏡も、駆動装
置50により粗く動く走査テーブル49を備え、
この上に物体、例えばウエーハ47の微細位置決
めのためのピエゾテーブル48が支持されてい
る。ピエゾテーブルの駆動装置52は、走査テー
ブルの駆動装置50と同様に中央計算機ユニツト
56から制御される。顕微鏡本体の光学系は著し
く簡単に対物レンズ53だけで示される。照明光
路および目による観測光路に関しては、第1図の
相当部分を参照されたい。
置50により粗く動く走査テーブル49を備え、
この上に物体、例えばウエーハ47の微細位置決
めのためのピエゾテーブル48が支持されてい
る。ピエゾテーブルの駆動装置52は、走査テー
ブルの駆動装置50と同様に中央計算機ユニツト
56から制御される。顕微鏡本体の光学系は著し
く簡単に対物レンズ53だけで示される。照明光
路および目による観測光路に関しては、第1図の
相当部分を参照されたい。
組合せデンシトメトリおよびスペクトル測定ヘ
ツドは、前記実施例の場合と同様に51で囲まれ
たユニツトとして構成されている。
ツドは、前記実施例の場合と同様に51で囲まれ
たユニツトとして構成されている。
入射側の対物レンズ53によつて結像される中
間像の位置に計算機56で制御される作動器54
によつてその幅を調節し得るスリツト状測定絞り
58が配置されている。該絞りの後方に、対物レ
ンズ瞳を同様に計算機56により第2作動器55
を介してその幅を制御し得るもう1つの絞り62
が配置された位置に中間結像するための光学系6
3が設けられている。絞り62は凹面格子60お
よびダイオード列61からなる分光光度計の入射
スリツトとして役立つ。絞り62と格子60の間
の全反射ミラー59は、単にビーム偏向のみに使
用される。
間像の位置に計算機56で制御される作動器54
によつてその幅を調節し得るスリツト状測定絞り
58が配置されている。該絞りの後方に、対物レ
ンズ瞳を同様に計算機56により第2作動器55
を介してその幅を制御し得るもう1つの絞り62
が配置された位置に中間結像するための光学系6
3が設けられている。絞り62は凹面格子60お
よびダイオード列61からなる分光光度計の入射
スリツトとして役立つ。絞り62と格子60の間
の全反射ミラー59は、単にビーム偏向のみに使
用される。
測定ヘツドユニツト51は、ダイオード列61
の他には検知器を有していない。その代わり、ダ
イオード列と計算機56の間にスイツチ57で示
すようにスペクトル測定の際に機能を停止するこ
とができる積分器64が接続されている。記憶ユ
ニツト65およびモニタ66が計算機56と接続
されている。
の他には検知器を有していない。その代わり、ダ
イオード列と計算機56の間にスイツチ57で示
すようにスペクトル測定の際に機能を停止するこ
とができる積分器64が接続されている。記憶ユ
ニツト65およびモニタ66が計算機56と接続
されている。
分光干渉計による層厚測定を実施するには、計
算機56によつて測定絞り58を比較的大きく選
択し(破線位置)、観測者によつて検査するパタ
ーンに位置決めする。入射スリツト62は十分な
スペクトル分解能を達成するため縮小し(破線位
置)、積分回路64は機能外に置く。それゆえモ
ニタ66に駆動装置50および52が停止した状
態で例えば選択した試料点の第5a図に示すスペ
クトル45が現れる。
算機56によつて測定絞り58を比較的大きく選
択し(破線位置)、観測者によつて検査するパタ
ーンに位置決めする。入射スリツト62は十分な
スペクトル分解能を達成するため縮小し(破線位
置)、積分回路64は機能外に置く。それゆえモ
ニタ66に駆動装置50および52が停止した状
態で例えば選択した試料点の第5a図に示すスペ
クトル45が現れる。
続いてマイクロデンシトメトリ線幅測定に切換
る際に、測定スリツト58を著しく縮小し(実線
位置)、入射スリツト62を拡大し(実線位置)、
ダイオード列61の個々の素子の信号を加算する
積分回路64を機能させる。引続くピエゾ駆動装
置52による物体47の走査の際には、ダイオー
ド列61の全ての素子の和信号を物体位置に応じ
て記憶器65に記憶させ、かつモニタ66に表示
する(第5b図)。
る際に、測定スリツト58を著しく縮小し(実線
位置)、入射スリツト62を拡大し(実線位置)、
ダイオード列61の個々の素子の信号を加算する
積分回路64を機能させる。引続くピエゾ駆動装
置52による物体47の走査の際には、ダイオー
ド列61の全ての素子の和信号を物体位置に応じ
て記憶器65に記憶させ、かつモニタ66に表示
する(第5b図)。
第4図に示す実施例は、線幅測定にも厚さ測定
にもただ1つの検知器としてのダイオード列61
を必要とするだけである。デンシトメトリのため
の高い感度は、ダイオード列61の非常に多数の
個々の素子の信号を加算することにより達成され
る。この場合には、絞り62はそのまま広く開く
か、または完全に除去することができる。それは
デンシトメトリの際検出する光線のスペクトル分
布に関する情報は問題とならないからである。
にもただ1つの検知器としてのダイオード列61
を必要とするだけである。デンシトメトリのため
の高い感度は、ダイオード列61の非常に多数の
個々の素子の信号を加算することにより達成され
る。この場合には、絞り62はそのまま広く開く
か、または完全に除去することができる。それは
デンシトメトリの際検出する光線のスペクトル分
布に関する情報は問題とならないからである。
これに反し分光干渉計法による厚さ測定の際に
は、絞り62は格子分光光度計60のための入射
スリツトとしての特性から代表的には幅50μmに
縮小する。同時に、デンシトメトリのために代表
的に幅10μmの測定スリツト58(物体面内の約
10nmに相当)は幅約200μmに拡大する。それに
よつて分光光度計法の場合も、感度の高い測定の
ため十分に光線が得られる。
は、絞り62は格子分光光度計60のための入射
スリツトとしての特性から代表的には幅50μmに
縮小する。同時に、デンシトメトリのために代表
的に幅10μmの測定スリツト58(物体面内の約
10nmに相当)は幅約200μmに拡大する。それに
よつて分光光度計法の場合も、感度の高い測定の
ため十分に光線が得られる。
対物レンズ53の下の物体47の機械的または
熱的ドリフトのため、またはマイクロデンシトメ
トリの際に物体47を走査する間のピエゾ駆動装
置52のヒステリシス効果のため測定誤差が発生
するのを避けるため、ピエゾ駆動装置52は低い
周波数で約10μmの振幅によつて変調する。幅を
測定する線パターンが変調ストローク内にある場
合には、それぞれの信号を第6図に示すように互
いにずらす。時間的に前後して現れる信号A,B
およびC等から線パターンの幅を求めるためは、
それぞれ変調運動のそれぞれ相対するフランクで
エツジ距離ΔaおよびΔbないしはΔbおよびΔcを
測定し、それから平均値を求めるのが有利であ
る。それによつて前記ドリフト運動の線幅測定へ
の影響が除去される。
熱的ドリフトのため、またはマイクロデンシトメ
トリの際に物体47を走査する間のピエゾ駆動装
置52のヒステリシス効果のため測定誤差が発生
するのを避けるため、ピエゾ駆動装置52は低い
周波数で約10μmの振幅によつて変調する。幅を
測定する線パターンが変調ストローク内にある場
合には、それぞれの信号を第6図に示すように互
いにずらす。時間的に前後して現れる信号A,B
およびC等から線パターンの幅を求めるためは、
それぞれ変調運動のそれぞれ相対するフランクで
エツジ距離ΔaおよびΔbないしはΔbおよびΔcを
測定し、それから平均値を求めるのが有利であ
る。それによつて前記ドリフト運動の線幅測定へ
の影響が除去される。
ウエーハの線幅および層厚を測定する測定顕微
鏡の第7図に示す実施例は、微調整位置決めのた
めのピエゾテーブルを必要としない。本体を82
で示す顕微鏡は、対物レンズ83の下のウエーハ
87を粗く位置決めするためステツプモータ80
および81を有する走査テーブル89のみを備え
る。84〜88で示すその他の部材は第1図によ
る実施例と同じである。
鏡の第7図に示す実施例は、微調整位置決めのた
めのピエゾテーブルを必要としない。本体を82
で示す顕微鏡は、対物レンズ83の下のウエーハ
87を粗く位置決めするためステツプモータ80
および81を有する走査テーブル89のみを備え
る。84〜88で示すその他の部材は第1図によ
る実施例と同じである。
同様個別の構造ユニツトとして構成され、顕微
鏡スタンド82にアリ溝76で固定される測定ヘ
ツドユニツト75内の、対物レンズ83によつて
結像される第1中間像の位置に、同時に分光光度
計の入射スリツトとして役立つ測定絞り78が配
置されている。分光光度計は、凹面格子70およ
びダイオード列71からなる。格子70と入射ス
リツト78の間にビーム偏向のためのプリズム7
9が配置されている。スリツト78とプリズム7
9は1つのユニツト72として形成され、矢印7
7で示されるように一緒に光路から除去すること
ができる。
鏡スタンド82にアリ溝76で固定される測定ヘ
ツドユニツト75内の、対物レンズ83によつて
結像される第1中間像の位置に、同時に分光光度
計の入射スリツトとして役立つ測定絞り78が配
置されている。分光光度計は、凹面格子70およ
びダイオード列71からなる。格子70と入射ス
リツト78の間にビーム偏向のためのプリズム7
9が配置されている。スリツト78とプリズム7
9は1つのユニツト72として形成され、矢印7
7で示されるように一緒に光路から除去すること
ができる。
スリツト78およびプリズム79を取外すと、
物体87の中間像は光学系73によつてもう1度
第2ダイオード列74の表面の結像される。この
第2ダイオード列74は、物体面内の強度分布を
表わす信号を放出する、それゆえマイクロデンシ
トメトリ測定に使用される。
物体87の中間像は光学系73によつてもう1度
第2ダイオード列74の表面の結像される。この
第2ダイオード列74は、物体面内の強度分布を
表わす信号を放出する、それゆえマイクロデンシ
トメトリ測定に使用される。
これに反しユニツト72を光路へ投入すると、
第1ダイオード列71は分光干渉計法厚さ測定で
評価する信号を放出する。
第1ダイオード列71は分光干渉計法厚さ測定で
評価する信号を放出する。
ダイオード列71および74は、素子数、素子
サイズ等がそれぞれの測定目的に適した異なるタ
イプであつてよい。2つのダイオード列は共通の
計算機に接続されており、それによつて信号が評
価され、測定結果が形成され、グラフイツク表示
される。
サイズ等がそれぞれの測定目的に適した異なるタ
イプであつてよい。2つのダイオード列は共通の
計算機に接続されており、それによつて信号が評
価され、測定結果が形成され、グラフイツク表示
される。
第1図は顕微鏡と結合した第1実施例の光学系
の光路図、第2図は第1図のヘツドユニツトの代
わりに使用する第2実施例の光学系の光路図、第
3図は第1図のヘツドユニツトの代わりに使用す
る第3実施例の光学系の光路図、第4図は第4実
施例による測定顕微鏡の光学系の光路図、第5a
図および第5b図は第1図または第4図による顕
微鏡から出る測定信号を示す図、第6図は第4図
測定顕微鏡の1実施例による第5b図の測定信号
の時間的挙動を示す図、第7図は顕微鏡と結合し
た第5実施例の光学系の光路図である。 1,35,37,51,75……ヘツドユニツ
ト、2,82……顕微鏡、3,53,83……対
物レンズ、6,36,76……アリ溝、7,4
7,87……ウエーハ、8,48……ピエゾテー
ブル、9,49,89……走査テーブル、10,
11,80,81……ステツプモータ、18,2
8,32,38,58,62,78……絞り、2
0,30,40,60,70……格子、21,3
1,41,61,71,74……ダイオード列、
24,34,44……光電子増倍管、52……ビ
エゾ駆動装置。
の光路図、第2図は第1図のヘツドユニツトの代
わりに使用する第2実施例の光学系の光路図、第
3図は第1図のヘツドユニツトの代わりに使用す
る第3実施例の光学系の光路図、第4図は第4実
施例による測定顕微鏡の光学系の光路図、第5a
図および第5b図は第1図または第4図による顕
微鏡から出る測定信号を示す図、第6図は第4図
測定顕微鏡の1実施例による第5b図の測定信号
の時間的挙動を示す図、第7図は顕微鏡と結合し
た第5実施例の光学系の光路図である。 1,35,37,51,75……ヘツドユニツ
ト、2,82……顕微鏡、3,53,83……対
物レンズ、6,36,76……アリ溝、7,4
7,87……ウエーハ、8,48……ピエゾテー
ブル、9,49,89……走査テーブル、10,
11,80,81……ステツプモータ、18,2
8,32,38,58,62,78……絞り、2
0,30,40,60,70……格子、21,3
1,41,61,71,74……ダイオード列、
24,34,44……光電子増倍管、52……ビ
エゾ駆動装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 横方向寸法を測定するために物体面内の強度
分布を光度計により測定する形式の、物体細部の
直線的寸法を測定する測定顕微鏡において、顕微
鏡2にヘツドユニツト1,35,37,51が設
置されており、該ヘツドユニツトは、横方向寸法
を測定するために設けられた手段の他に、中間像
面に配置された固定絞り18,28,38,58
の後方に検出器としてダイオード列分光光度計2
0,21,30,31,40,41,60,61
を有していることにより、選択した物点から出発
する光線のスペクトル組成を測定して物体パター
ンの厚さを検出する装置を備え、かつ2座標軸で
調節し得る物体テーブル9,49が物体を微調整
位置決めするための付加的装置8,48を備えて
いることを特徴とする、物体細部の直線的寸法を
測定する測定顕微鏡。 2 ヘツドユニツト1,35,37に別の積分的
に測定する受信器24,34,44が接続されて
いるか、または該ヘツドユニツト内に組み込まれ
ている、特許請求の範囲第1項記載の物体細部の
直線的寸法を測定する測定顕微鏡。 3 物体面内の強度分布を測定するため、ダイオ
ード列分光光度計61の多数の素子の種々の波長
に対応する信号から積分測定信号を形成する電子
装置64を有する、特許請求の範囲第1項記載の
物体細部の直線的寸法を測定する測定顕微。 4 絞り58の寸法が可変である、特許請求の範
囲第1項から第3項までのいずれか1項記載の物
体細部の直線的寸法を測定する測定顕微鏡。 5 測定絞り58の後方に調節可能の寸法を有す
るもう1つの絞り62が瞳面内に配置され、この
絞りがダイオード列分光光度計60,61の入射
スリツトとして役立つ、特許請求の範囲第1項か
ら第4項までのいずれか1項記載の物体細部の直
線的寸法を測定する測定顕微鏡。 6 分光光度計20,21,30,31および積
分的に測定する受信器24,34へ測定光線を分
割するためビームスプリツタ19,29または切
換可能のミラーを有する、特許請求の範囲第2項
記載の物体細部の直線的寸法を測定する測定顕微
鏡。 7 積分的に測定する受信器44が分光光度計の
格子40に対し、該格子から出るゼロ次回折光を
受信するように配置されている、特許請求の範囲
第2項記載の物体細部の直線的寸法を測定する測
定顕微鏡。 8 微調整位置決めのための付加的装置が、テー
ブル9,49に設置可能な、ピエゾ駆動装置1
2,13,52によつて調節される物体ホルダ
8,48として形成されている、特許請求の範囲
第1項記載の物体細部の直線的寸法を測定する測
定顕微鏡。 9 物体面内の強度分布測定の間ピエゾ駆動装置
52を周期的に振動させる、特許請求の範囲第8
項記載の物体細部の直線的寸法を測定する測定顕
微鏡。 10 横方向寸法を測定するために物体面内の強
度分布を光度計により測定する形式の、物体細部
の直線的寸法を測定する測定顕微鏡において、顕
微鏡2にヘツドユニツト75が設置されており、
該ヘツドユニツトは、横方向寸法を測定するため
に設けられた手段の他に、第1中間像面に配置さ
れた、取外し可能であるか、または寸法が可変の
絞り78の後方に、ダイオード列分光光度計計7
0,71と、第2中間像面に配置された、物体面
内の強度分布を検出する別のダイオード列74と
を有していることにより、選択した物点から出発
する光線のスペクトル組成を測定して物体パター
ンの厚さを検出する装置を備えていることを特徴
とする、物体細部の直線的寸法を測定する測定顕
微鏡。 11 測定光線を分光光度計70,71またはも
う1つのダイオード列へ分割するためビームスプ
リツタまたは切換可能のミラー79を有する、特
許請求の範囲第10項記載の物体細部の直線的寸
法を測定する測定顕微鏡。 12 絞り78およびミラー79が、ミラーおよ
び絞りの切換がいつしよに行われるように互いに
連結されている、特許請求の範囲第11項記載の
物体細部の直線的寸法を測定する測定顕微鏡。 13 第2ダイオード列が分光光度計の格子に対
して、該格子から出るゼロ次回折光を受信するよ
うに配置されている、特許請求の範囲第10項記
載の物体細部の直線的寸法を測定する測定顕微
鏡。 14 絞り18の背面照明のため分光光度計の格
子20を介して絞りへ結像する光源22を使用し
ている、特許請求の範囲第11項から第14項ま
でのいずれか1項記載の物体細部の直線的寸法を
測定する測定顕微鏡。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3432252.3 | 1984-09-01 | ||
| DE19843432252 DE3432252A1 (de) | 1984-09-01 | 1984-09-01 | Messmikroskop |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61129506A JPS61129506A (ja) | 1986-06-17 |
| JPH0578761B2 true JPH0578761B2 (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=6244471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60192164A Granted JPS61129506A (ja) | 1984-09-01 | 1985-09-02 | 物体細部の直線的寸法を測定する測定顕微鏡 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4674883A (ja) |
| JP (1) | JPS61129506A (ja) |
| DE (1) | DE3432252A1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0557160U (ja) * | 1992-01-13 | 1993-07-30 | 日本化学産業株式会社 | 軒樋取付構造 |
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