JPH0579679B2 - - Google Patents
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- JPH0579679B2 JPH0579679B2 JP1303460A JP30346089A JPH0579679B2 JP H0579679 B2 JPH0579679 B2 JP H0579679B2 JP 1303460 A JP1303460 A JP 1303460A JP 30346089 A JP30346089 A JP 30346089A JP H0579679 B2 JPH0579679 B2 JP H0579679B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/44—Amides thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/3804—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
- C07F9/3808—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
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- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、アミノメチルホスホネートの製造方
法に関する。特に、Ｎ−アシル−アミノメチルホ
スホン酸の製造方法に関する。 Ｎ−置換アミノメチルホスホン酸は、金属イオ
ン封鎖剤、及び除草剤を含む種々の化学物質の製
造において有用な中間体である。 したがつて、例えば、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−
ホスホノメチルグリシンのような、Ｎ−アルキル
−Ｎ−ホスホノメチルグリシンは、EPO特許出
願第86 870047.7号に開示された方法を用いてア
ルカリ性条件下で脱アルカリ化されて対応するＮ
−ホスホノメチルグリシンとなる。 一般名グリホセートとして知られているＮ−ホ
スホノメチルグリシンは、非常に有効かつ商業的
に重要な植物毒物であり、幅広い雑草の防除に有
用である。 これは多種類の一年生及び多年生イネ科植物及
び広葉植物の茎葉部に施用される。 産業的な使用分野としては、道端、水路、変電
所敷地中、及び他の非農業的領域での雑草防除が
ある。 通常、Ｎ−ホスホノメチルグリシンは、好まし
くは水である溶液にその種々の塩を溶液好ましく
は水溶液のかたちに調製して除草剤組成物とす
る。 本発明の製造方法は、Ｎ−ホスホノメチルグリ
シンの合成に有用なＮ−アシル−アミノメチルホ
スホン酸の製造に使用される。アミドのホスホノ
メチル化の種々の方法が当業者に公知である。 例えば、ミラー等の米国特許第4657705号には
置換アミドを水性酸性媒体中で亜リン酸及びホル
ムアルデヒドと反応させてＮ−置換アミノメチル
ホスホン酸の製造方法が開示されている。 これらの条件下ではアミドは、容易に加水分解
されて、ホスホノメチル化に先立つて遊離のアミ
ンとなる。 本発明のＮ−アシル−アミノメチルホスホン酸
は、これらの方法では単離又は形成されない。プ
ルワとバルサザ著Synthetic Communications，
16(7)，733−739，（1986）には、Ｎ−ヒドロキシ
メチルベンズアミドをホスホラストリクロライド
及びトリメチル亜リン酸塩の混合物と処理するこ
とによつてＮ−ベンゾイルアミノメチルホスホン
酸のジメチルエステルを製造する新規の処理方法
が報告されている。酸によるこのエステルの加水
分解によつてアミノメチルホスホン酸が生じる。
米国特許第2304156号は、メチロル化合物をホス
ホラストリハライドと処理し、その後密閉容器中
に長時間静置した後、中間体エステル化合物を水
処理してホスホン酸に変換することによつてＮ−
アシル−アミノメチルホスホン酸を製造する方法
を開示している。ベイル等は、ジヤナルオブオガ
ニツクケミストリ，27，pp2067−2070（1962年６
月）で一般的に多くのアミド型のＮ−メチロル誘
導体は、加熱によつてホルムアルデヒドを遊離す
る不安定な物質であるが、これらの誘導体のエス
テルは、もつと安定であると報告している。ポー
ランド特許出願第117780号にはホスホラストリク
ロライドをメチロルアミド溶液と酢酸中で反応さ
せ、反応混合物を加水分解することによつてアミ
ノメチルホスホン酸を製造する方法が開示されて
いる。 これには、メチロルアミド溶液をホスホラスト
リクロライドに添加して反応を行うことが報告さ
れている。 反応系を変えることはメチロルアミドの完全な
反応を来し、加水分解後のアミノメチルホスホン
酸の収率の低下を来す。 オレクシスジン等は、シンセシス（1978年６
月）p.479とp.480で、アミノアルカンホスホン酸
が、ホスホラストリクロライド又はジクロロホス
フイン、カルボニル化合物（アルデヒド又はケト
ン）及びアルキルカルバメートから直接製造され
る方法を報告している。 この文献はカルボニル化合物を対応するアセタ
ールに置き換えることは、カルバメトをアミド
（例えば、アセタミド又はベンズアミド）と置き
換えるのと同様低収率の結果を来すことが開示さ
れている。 先行技術からは低収率が予想され又不安定なメ
チロル誘導体を取り扱う問題を考慮するにもかか
わらず、本出願人は、Ｎ−アシル−アミノメチル
ホスホン酸が、アセタミド及びベンズアミドから
メチロル誘導体を事前形成することなしに本方法
によつて高収率及び高純度で製造され得ることを
見いだした。 式：【式】 （ここで、Ｒは、メチル、及びアリールからな
る群から選ばれる。） で示すＮ−アシル−アミノメチルホスホン酸にお
いて、 (a) 実質的に無水反応条件下で 式：【式】 （ここで、Ｒは、前記したとうりである。） で表されるアミドとパラホルムアルデヒドとを
接触させ、その後 (b) ホスホラストリハライドをこの反応混合物に
添加する ことを特徴とする Ｎ−アシル−アミノメチルホスホン酸の製造方
法をここに開示する。 メチル及びアリールの語は、当業者に知られて
いる通常の意味を有する。 アリール基は、置換されていてもいなくても良
い。 適当なアリール基は、 式：【式】 （ここで、Ｘは、水素、炭素数１から６を有す
るアルキル、ハロ、炭素数１から６を有するアル
コキシ、ニトロ、又はこの反応の妨げとならない
他のすべての基から選ばれる。） で表される。 満足すべき結果は、より少ない価のフエニル基
を使用して得られる。 本発明製造方法の有用な出発物質であるアセタ
ミド及びベンズアミドは、当業者に公知の技術に
よつて製造する。 例えば、アセチルクロライド又はベンジルクロ
ライドをアンモニアと反応させて対応するアミド
を形成する事ができる。 一方、酢酸又は安息香酸をアンモニア又は適当
な塩と縮合させて対応するアミドを形成すること
ができる。 本発明の製造方法によれば、実質的に無水反応
条件下でアセトアミド又はベンズアミドとパラホ
ルムアルデヒドとを接触させる。 これは、出発物質をギ酸、氷酢酸のような無水
有機酸中で接触させることによつて達成させられ
る。 氷酢酸が好ましい。 アセトアミド又はベンズアミドをパラホルムア
ルデヒドと実質的に等モル量無水有機酸溶媒中で
接触させた後、通常この混合物を短時間加熱し
て、溶液とすることが必要である。 一般的には、混合物を50℃から100℃で30分間
の加熱で十分である。溶液を形成するのに必要な
時間と温度は、当業者であれば容易に決定するこ
とができる。 パラホルムアルデヒドとアミドの溶液を30℃未
満に冷却した後、やや過剰モルのホスホラストリ
ハライドを混合物に添加する。 典型的なホスホラストリハライドは、ホスホラ
ストリクロライド、ホスホラストリブロマイド、
及びホヒホラストリイオダイド又はこれらハライ
ドの混合物である。 利用し易いためホスホラトリクロライドが好ま
しい。 ホスホラストリハライドの添加の後、この溶液
を約80℃から約150℃で２から４時間加熱し、ホ
スホノメチル化を完成した。 約80℃から約120℃の温度が好ましい。 もし、温度が溶液の還流温度を越える場合は、
当業者が行うように、圧力を加えることが必要か
もしれない。 Ｎ−アシル基は、必要ならＮ−アシル−アミノ
メチルホスホン酸から硫酸又は塩酸のような強鉱
酸を用いて容易に分離させることができる。 酸加水分解には塩酸が好ましい。 一方、このアシル基は、アルカリ金属水酸化
物、炭酸塩のような強塩基を用いて分離させるこ
とができる。 水酸化ナトリウムが塩基加水分解として好まし
い。 塩基加水分解の後、生成物を塩酸又は硫酸のよ
うな強鉱酸を用いて酸性化する。 単離すれば高収率のアミノメチルホスホン酸が
得られる。 本発明を下記の実施例によつて詳細に述べる
が、しかしこれに限定されるものではない。 実施例 １ 100mlフラスコにアセトアミド（2.95g，0.05モ
ル）、パラホルムアルデヒド（1.65g，0.55モル）、
及び氷酢酸（35ml）を入れた。 この混合物を加熱して約100℃にし、溶液とし
た。 この溶液を冷却して室温とし、ホスホラストリ
クロライド（7.9g，0.058モル）を５分間以上に
わたつて添加した。 そして、この溶液を加熱して110℃とし、この
温度で約１時間維持した。 そして、この混合物を冷却して室温とし、水
（100ml）を加えた。 それから混合物を真空下60℃で蒸発させて油を
得た。 31P NMR分析は、Ｎ−アセチルアミノメチル
ホスホン酸の存在を示した。 この生成物質を水酸化ナトリウム（22g，0.275
モル）の50％水溶液を添加し、室温で72時間攪拌
することによつてアミノメチルホスホン酸に変換
した。 この溶液を濃縮塩酸で酸性化し、蒸発させて白
色固体を得た。 この残渣を取つて、濃塩酸（50ml）に入れ沈殿
した塩化ナトリウムを濾過して取り除いた。 濾過を蒸発させて白色固体を得、溶離液として
水を用いイオン交換クロマトグラフイー
（Dowex 50x8−400）で精製し、アミノメチルホ
スホン酸（4.71g，84.9％収率）を得た。 実施例 ２ Ｎ−アセチルアミノメチルホスホン酸を製造す
るため実施例１の手順を反復した。 水を加え、反応混合物を蒸発させて油にした
後、水（25ml）を加えた。そして残渣のホルムア
ルデヒド及びギ酸を取り除くため溶液を再び蒸発
させた。残留の油に濃塩酸（60ml）を加え、この
混合物を還流器で約16時間過熱した。 冷却後、この溶液を蒸発させて油とし、イオン
交換クロマトグラフイで精製し、アミノメチルス
ルホン酸（3.8g、収率68.6％）を得た。 実施例 ３ 250mlフラスコにベンズアミド（12.2g，0.10モ
ル）、パラホルムアルデヒド（3.2g，0.11モル）
及び氷酢酸（60ml）を入れた。 この混合物を90℃より高い温度で１時間加熱し
て溶液とした。 この溶液を室温まで冷却し、ホスホラス トリ
クロライド（16.4g，0.12モル）を一部分に加え
た。 そして、この溶液を110℃に加熱して、２時間
この温度に保つた。 この溶液を室温まで冷却後、水（50ml）をその
混合物に加えた。これはその後蒸発させて油状固
体とした。 31P NMR分析は、Ｎ−ベンゾイルアミノメチ
ルホスホン酸の存在を示した。 この生成物を、濃塩酸（100ml）を加え、還流
器で約16時間加熱してアミノメチルホスホン酸に
変換した。 イオン交換クロマトグラフイで精製後、アミノ
メチルホスホン酸（9.2g、収率82.9％）を得た。 実施例 ４ この実施例は、カルバメトを使用して得られた
低収率の実施例である。 50mlフラスコにメチルカルバメト（1.98g，
0.025モル）、パラホルムアルデヒド（0.79g，
0.026モル）及び氷酢酸（20ml）を入れた。 この混合物を85℃に加熱して溶液とし、それか
ら氷浴中で約150℃に冷却した。 その後、ホスホラストリクロライド（4.11g，
0.03モル）を添加し、この溶液を１時間以上107
℃に加熱した。この温度で約１時間加熱後60℃真
空下で溶液を蒸発させ油を得た。それから、濃塩
酸（50ml）をこの溶液に加え、これを還流器で約
14時間加熱した。 この混合物を再び真空下60℃で蒸発させて重質
の油を得た。 イオン交換精製によつて、アミノメチルホスホ
ン酸（1.0g、収率36％）を得た。 この発明を特定の実施例に従つてここに詳細に
開示したけれども、これは例示の手段として示し
たのであつて、この代替的実施態様及び操作は、
上記開示から当業者にとつて自明のことである。 従つて、本発明の精神から逸脱しない限り変更
はなし得るものである。
法に関する。特に、Ｎ−アシル−アミノメチルホ
スホン酸の製造方法に関する。 Ｎ−置換アミノメチルホスホン酸は、金属イオ
ン封鎖剤、及び除草剤を含む種々の化学物質の製
造において有用な中間体である。 したがつて、例えば、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−
ホスホノメチルグリシンのような、Ｎ−アルキル
−Ｎ−ホスホノメチルグリシンは、EPO特許出
願第86 870047.7号に開示された方法を用いてア
ルカリ性条件下で脱アルカリ化されて対応するＮ
−ホスホノメチルグリシンとなる。 一般名グリホセートとして知られているＮ−ホ
スホノメチルグリシンは、非常に有効かつ商業的
に重要な植物毒物であり、幅広い雑草の防除に有
用である。 これは多種類の一年生及び多年生イネ科植物及
び広葉植物の茎葉部に施用される。 産業的な使用分野としては、道端、水路、変電
所敷地中、及び他の非農業的領域での雑草防除が
ある。 通常、Ｎ−ホスホノメチルグリシンは、好まし
くは水である溶液にその種々の塩を溶液好ましく
は水溶液のかたちに調製して除草剤組成物とす
る。 本発明の製造方法は、Ｎ−ホスホノメチルグリ
シンの合成に有用なＮ−アシル−アミノメチルホ
スホン酸の製造に使用される。アミドのホスホノ
メチル化の種々の方法が当業者に公知である。 例えば、ミラー等の米国特許第4657705号には
置換アミドを水性酸性媒体中で亜リン酸及びホル
ムアルデヒドと反応させてＮ−置換アミノメチル
ホスホン酸の製造方法が開示されている。 これらの条件下ではアミドは、容易に加水分解
されて、ホスホノメチル化に先立つて遊離のアミ
ンとなる。 本発明のＮ−アシル−アミノメチルホスホン酸
は、これらの方法では単離又は形成されない。プ
ルワとバルサザ著Synthetic Communications，
16(7)，733−739，（1986）には、Ｎ−ヒドロキシ
メチルベンズアミドをホスホラストリクロライド
及びトリメチル亜リン酸塩の混合物と処理するこ
とによつてＮ−ベンゾイルアミノメチルホスホン
酸のジメチルエステルを製造する新規の処理方法
が報告されている。酸によるこのエステルの加水
分解によつてアミノメチルホスホン酸が生じる。
米国特許第2304156号は、メチロル化合物をホス
ホラストリハライドと処理し、その後密閉容器中
に長時間静置した後、中間体エステル化合物を水
処理してホスホン酸に変換することによつてＮ−
アシル−アミノメチルホスホン酸を製造する方法
を開示している。ベイル等は、ジヤナルオブオガ
ニツクケミストリ，27，pp2067−2070（1962年６
月）で一般的に多くのアミド型のＮ−メチロル誘
導体は、加熱によつてホルムアルデヒドを遊離す
る不安定な物質であるが、これらの誘導体のエス
テルは、もつと安定であると報告している。ポー
ランド特許出願第117780号にはホスホラストリク
ロライドをメチロルアミド溶液と酢酸中で反応さ
せ、反応混合物を加水分解することによつてアミ
ノメチルホスホン酸を製造する方法が開示されて
いる。 これには、メチロルアミド溶液をホスホラスト
リクロライドに添加して反応を行うことが報告さ
れている。 反応系を変えることはメチロルアミドの完全な
反応を来し、加水分解後のアミノメチルホスホン
酸の収率の低下を来す。 オレクシスジン等は、シンセシス（1978年６
月）p.479とp.480で、アミノアルカンホスホン酸
が、ホスホラストリクロライド又はジクロロホス
フイン、カルボニル化合物（アルデヒド又はケト
ン）及びアルキルカルバメートから直接製造され
る方法を報告している。 この文献はカルボニル化合物を対応するアセタ
ールに置き換えることは、カルバメトをアミド
（例えば、アセタミド又はベンズアミド）と置き
換えるのと同様低収率の結果を来すことが開示さ
れている。 先行技術からは低収率が予想され又不安定なメ
チロル誘導体を取り扱う問題を考慮するにもかか
わらず、本出願人は、Ｎ−アシル−アミノメチル
ホスホン酸が、アセタミド及びベンズアミドから
メチロル誘導体を事前形成することなしに本方法
によつて高収率及び高純度で製造され得ることを
見いだした。 式：【式】 （ここで、Ｒは、メチル、及びアリールからな
る群から選ばれる。） で示すＮ−アシル−アミノメチルホスホン酸にお
いて、 (a) 実質的に無水反応条件下で 式：【式】 （ここで、Ｒは、前記したとうりである。） で表されるアミドとパラホルムアルデヒドとを
接触させ、その後 (b) ホスホラストリハライドをこの反応混合物に
添加する ことを特徴とする Ｎ−アシル−アミノメチルホスホン酸の製造方
法をここに開示する。 メチル及びアリールの語は、当業者に知られて
いる通常の意味を有する。 アリール基は、置換されていてもいなくても良
い。 適当なアリール基は、 式：【式】 （ここで、Ｘは、水素、炭素数１から６を有す
るアルキル、ハロ、炭素数１から６を有するアル
コキシ、ニトロ、又はこの反応の妨げとならない
他のすべての基から選ばれる。） で表される。 満足すべき結果は、より少ない価のフエニル基
を使用して得られる。 本発明製造方法の有用な出発物質であるアセタ
ミド及びベンズアミドは、当業者に公知の技術に
よつて製造する。 例えば、アセチルクロライド又はベンジルクロ
ライドをアンモニアと反応させて対応するアミド
を形成する事ができる。 一方、酢酸又は安息香酸をアンモニア又は適当
な塩と縮合させて対応するアミドを形成すること
ができる。 本発明の製造方法によれば、実質的に無水反応
条件下でアセトアミド又はベンズアミドとパラホ
ルムアルデヒドとを接触させる。 これは、出発物質をギ酸、氷酢酸のような無水
有機酸中で接触させることによつて達成させられ
る。 氷酢酸が好ましい。 アセトアミド又はベンズアミドをパラホルムア
ルデヒドと実質的に等モル量無水有機酸溶媒中で
接触させた後、通常この混合物を短時間加熱し
て、溶液とすることが必要である。 一般的には、混合物を50℃から100℃で30分間
の加熱で十分である。溶液を形成するのに必要な
時間と温度は、当業者であれば容易に決定するこ
とができる。 パラホルムアルデヒドとアミドの溶液を30℃未
満に冷却した後、やや過剰モルのホスホラストリ
ハライドを混合物に添加する。 典型的なホスホラストリハライドは、ホスホラ
ストリクロライド、ホスホラストリブロマイド、
及びホヒホラストリイオダイド又はこれらハライ
ドの混合物である。 利用し易いためホスホラトリクロライドが好ま
しい。 ホスホラストリハライドの添加の後、この溶液
を約80℃から約150℃で２から４時間加熱し、ホ
スホノメチル化を完成した。 約80℃から約120℃の温度が好ましい。 もし、温度が溶液の還流温度を越える場合は、
当業者が行うように、圧力を加えることが必要か
もしれない。 Ｎ−アシル基は、必要ならＮ−アシル−アミノ
メチルホスホン酸から硫酸又は塩酸のような強鉱
酸を用いて容易に分離させることができる。 酸加水分解には塩酸が好ましい。 一方、このアシル基は、アルカリ金属水酸化
物、炭酸塩のような強塩基を用いて分離させるこ
とができる。 水酸化ナトリウムが塩基加水分解として好まし
い。 塩基加水分解の後、生成物を塩酸又は硫酸のよ
うな強鉱酸を用いて酸性化する。 単離すれば高収率のアミノメチルホスホン酸が
得られる。 本発明を下記の実施例によつて詳細に述べる
が、しかしこれに限定されるものではない。 実施例 １ 100mlフラスコにアセトアミド（2.95g，0.05モ
ル）、パラホルムアルデヒド（1.65g，0.55モル）、
及び氷酢酸（35ml）を入れた。 この混合物を加熱して約100℃にし、溶液とし
た。 この溶液を冷却して室温とし、ホスホラストリ
クロライド（7.9g，0.058モル）を５分間以上に
わたつて添加した。 そして、この溶液を加熱して110℃とし、この
温度で約１時間維持した。 そして、この混合物を冷却して室温とし、水
（100ml）を加えた。 それから混合物を真空下60℃で蒸発させて油を
得た。 31P NMR分析は、Ｎ−アセチルアミノメチル
ホスホン酸の存在を示した。 この生成物質を水酸化ナトリウム（22g，0.275
モル）の50％水溶液を添加し、室温で72時間攪拌
することによつてアミノメチルホスホン酸に変換
した。 この溶液を濃縮塩酸で酸性化し、蒸発させて白
色固体を得た。 この残渣を取つて、濃塩酸（50ml）に入れ沈殿
した塩化ナトリウムを濾過して取り除いた。 濾過を蒸発させて白色固体を得、溶離液として
水を用いイオン交換クロマトグラフイー
（Dowex 50x8−400）で精製し、アミノメチルホ
スホン酸（4.71g，84.9％収率）を得た。 実施例 ２ Ｎ−アセチルアミノメチルホスホン酸を製造す
るため実施例１の手順を反復した。 水を加え、反応混合物を蒸発させて油にした
後、水（25ml）を加えた。そして残渣のホルムア
ルデヒド及びギ酸を取り除くため溶液を再び蒸発
させた。残留の油に濃塩酸（60ml）を加え、この
混合物を還流器で約16時間過熱した。 冷却後、この溶液を蒸発させて油とし、イオン
交換クロマトグラフイで精製し、アミノメチルス
ルホン酸（3.8g、収率68.6％）を得た。 実施例 ３ 250mlフラスコにベンズアミド（12.2g，0.10モ
ル）、パラホルムアルデヒド（3.2g，0.11モル）
及び氷酢酸（60ml）を入れた。 この混合物を90℃より高い温度で１時間加熱し
て溶液とした。 この溶液を室温まで冷却し、ホスホラス トリ
クロライド（16.4g，0.12モル）を一部分に加え
た。 そして、この溶液を110℃に加熱して、２時間
この温度に保つた。 この溶液を室温まで冷却後、水（50ml）をその
混合物に加えた。これはその後蒸発させて油状固
体とした。 31P NMR分析は、Ｎ−ベンゾイルアミノメチ
ルホスホン酸の存在を示した。 この生成物を、濃塩酸（100ml）を加え、還流
器で約16時間加熱してアミノメチルホスホン酸に
変換した。 イオン交換クロマトグラフイで精製後、アミノ
メチルホスホン酸（9.2g、収率82.9％）を得た。 実施例 ４ この実施例は、カルバメトを使用して得られた
低収率の実施例である。 50mlフラスコにメチルカルバメト（1.98g，
0.025モル）、パラホルムアルデヒド（0.79g，
0.026モル）及び氷酢酸（20ml）を入れた。 この混合物を85℃に加熱して溶液とし、それか
ら氷浴中で約150℃に冷却した。 その後、ホスホラストリクロライド（4.11g，
0.03モル）を添加し、この溶液を１時間以上107
℃に加熱した。この温度で約１時間加熱後60℃真
空下で溶液を蒸発させ油を得た。それから、濃塩
酸（50ml）をこの溶液に加え、これを還流器で約
14時間加熱した。 この混合物を再び真空下60℃で蒸発させて重質
の油を得た。 イオン交換精製によつて、アミノメチルホスホ
ン酸（1.0g、収率36％）を得た。 この発明を特定の実施例に従つてここに詳細に
開示したけれども、これは例示の手段として示し
たのであつて、この代替的実施態様及び操作は、
上記開示から当業者にとつて自明のことである。 従つて、本発明の精神から逸脱しない限り変更
はなし得るものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式：【式】 （ここで、Ｒは、メチル、及びアリールからな
る群から選ばれる） で示すＮ−アシル−アミノメチルホスホン酸の製
造方法において、 (a) 式：【式】 （ここで、Ｒは、前記したとおりのもの及び
パラホルムアルデヒドである。） で表されるアミドと無水有機酸とを接触させ、
その後 (b) ホスホラストリハライドをその反応混合物に
添加する ことを特徴とするＮ−アシルアミノメチルホスホ
ン酸の製造方法。 ２ 上記アミド、上記パラホルムアルデヒド及び
上記ホスホラストリハライドを80℃から150℃の
あいだの温度で加熱する特許請求の範囲第１項記
載の製造方法。 ３ 上記アミド、上記パラホルムアルデヒド及び
上記ホスホラストリハライドを80℃から120℃の
あいだの温度で加熱する工程を更に含む特許請求
の範囲第２項記載の製造方法。 ４ 上記無水有機酸が、氷酢酸又はギ酸である特
許請求の範囲第１項記載の製造方法。 ５ 上記Ｎ−アシルアミノメチルホスホン酸を加
水分解してアミノメチルホスホン酸を形成する工
程を更に含む特許請求の範囲第１項記載の製造方
法。 ６ 上記加水分解に水性アルカリ金属水酸化物を
使用する特許請求の範囲第５項記載の製造方法。 ７ 上記アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウ
ムである特許請求の範囲第６項記載の製造方法。 ８ 上記加水分解に水性強鉱酸を使用する特許請
求の範囲第５項記載の製造方法。 ９ 上記鉱酸が塩酸又は硫酸である特許請求の範
囲第８項記載の製造方法。 １０ 式：【式】 （ここで、Ｒは、メチル、及びアリールからな
る群から選ばれる。） で示すＮ−アシルアミノメチルホスホン酸の製造
方法において、 (a) パラホルムアルデヒドと 式：【式】 （ここで、Ｒは、前記したとおりのもの及び
パラホルムアルデヒドである。） で表されるアミドとを氷酢酸に添加し、 (b) 上記アミドと上記パラホルムアルデヒドを含
む上記氷酢酸を加熱して溶液を形成し、 (c) ホスホラストリハライドをこの反応混合物に
添加し、 (d) 上記溶液をホスホラストリクロライドととも
に80℃から120℃に加熱する ことを特徴とするＮ−アシルアミノメチルホスホ
ン酸の製造方法。 １１ 上記Ｎ−アシルアミノメチルホスホン酸を
水性アルカリ金属水酸化物で加水分解してアミノ
メチルホスホン酸とする工程を更に含む特許請求
の範囲第１０項記載の製造方法。 １２ 上記Ｎ−アシルアミノメチルホスホン酸を
水性強鉱酸で加水分解する工程を更に含む特許請
求の範囲第１０項記載の製造方法。
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