JPH0579978B2 - - Google Patents
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- JPH0579978B2 JPH0579978B2 JP55099422A JP9942280A JPH0579978B2 JP H0579978 B2 JPH0579978 B2 JP H0579978B2 JP 55099422 A JP55099422 A JP 55099422A JP 9942280 A JP9942280 A JP 9942280A JP H0579978 B2 JPH0579978 B2 JP H0579978B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
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- Theoretical Computer Science (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
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Description
本発明は、オフセツト印刷用刷版の製造方法に
関する。 更に詳しくは、レイアウトスキヤナより得られ
る電気信号化された画像情報出力からリスフイル
ム等の製版用銀塩感光材料を使用せず直接にオフ
セツト印刷用刷版を得る新規な製版方法に関す
る。 近年、印刷のスピードの高速化と効率化は、た
かまる一方であり印刷作業の工程における製版に
ついても作業の高速化および効率化が望まれてい
る。この要望に答えるものとして、カラー原稿の
色分解、色修正および網撮り等の作業を一工程で
迅速に行うカラースキヤナが導入され版材への焼
付け用の網ネガ、あるいは、網ポジが高効率で得
られるようになつたが、商品宣伝印刷のように、
カラー原稿の他にイラスト、平アミ、マーク、文
字等を含んだ複雑なレイアウトを要する場合に
は、いわゆる貼り込みという煩雑な作業が必要と
なり、この作業が製版工程の効率化の妨げとなつ
ている。このような情況の中で、カラースキヤナ
あるいは単色スキヤナより得られる電気信号化さ
れたカラー原稿、イラスト、マーク、文字等の多
種類の原稿の画像情報出力を入力信号とし、更に
この入力信号を電子回路で処理することにより、
色分解、色修正、レタツチ、コンタクトプリン
ト、ストリツピング、塗り込み、貼り込み集版あ
るいは網撮り等の従来の製版工程の大部分の作業
を終えた画像情報を電気信号として出力すること
の可能なレイアウトスキヤナが出現している。 現在この種の機能をもつレイアウトスキヤナと
しては、クロスフイールド社のマグナスキヤン
570、ヘル社のクロマコム、サイテツクス社のレ
スポンス300等があるがいずれの機種も出力信号
でキセノンランプ光線あるいはレーザー光線を制
御してリスフイルム上に画像情報を走査露光して
いる。これらのシステムでは、オフセツト印刷用
刷版を得るのに、走査露光したリスフイルムを現
像、定着、水洗、乾燥処理した後、版材と密着さ
せメタルハライドランプ等の製版用光源で露光
し、更に露光済みの版材の現像処理を行わねばな
らないという煩雑な工程が必要である。 当然のことながら、オフセツト印刷を行なう上
で印刷用刷版は必要不可欠のものであるが、製版
工程上のレイアウトスキヤナ印刷用刷版との間に
存在する上記リスフイルムに係わる工程は、必ず
しも必要ではない。むしろ、該工程を除くことが
できれば、レイアウトスキヤナを使用して、原稿
から直接印刷用刷版を得ることができ、製版工程
の最大限の効率化が可能となるばかりでなく、リ
スフイルムを使用しないことによる製版コストの
低減もはかれる。また、製版工程において、従来
より多量に使用されている銀塩感光材料を原稿フ
イルム以外には全く使用しないですむことは、銀
のような貴金属の省資源にも貢献する。 そこで、本発明者は、本来不必要な上記リスフ
イルムに係わる工程を経ずに、レイアウトスキヤ
ナの出力から直接印刷用刷版を得ることのできる
製版方法を得るべく鋭意研究した結果、本発明に
いたつたもので、本発明は、エチレン性不飽和結
合を有する硬化性樹脂を含む電子線硬化性組成物
を施した版用基材上に、レイアウトスキヤナより
得られる電気信号化された画像情報出力で制御さ
れた電子ビームを走査照射することを特徴とする
オフセツト印刷用刷版の製造方法である。 本発明にて、基材としては、一般のオフセツト
印刷用刷版の製造に用いられると同様の基材を用
いることができるが、基材上に施された電子線硬
化性組成物が電子線照射により強固に硬化密着
し、これが、耐刷力をあげるように、また、刷版
とした後の印刷時の保水性を良くするために、基
材の表面は、極めて細かな凹凸になるように砂目
立をしアルミニウム、亜鉛、クロムメツキ板等か
らなるものが好ましい。 なお、砂目立の方法としては、適当な大きさの
研磨球（ガラス、陶器、スチール等）と研磨剤
（ガーネツト、カーボランダム、アランダム等）
および水を用い、振動をあたえて金属面に細かな
傷をつける玉とぎ法、ぬれた研磨剤を圧さく空気
で金属面に吹きつける方法、ブラツシ法、陽極酸
化法、ベーマイト処理およびこれらの併用法等が
あるが、印刷時の保水性および電子線照射により
硬化した電子硬化性組成物との密着性それに伴う
耐刷力の向上には、玉とぎ法またはブラツシ法等
の機械研磨後さらに陽極化あるいはベーマイト処
理する方法にて処理したものが好ましい。 更に好ましくは、電解研磨で粗面化したアルミ
板をさらに陽極酸化して用いると水調節のしやす
い、また、再現精度、耐刷力のすぐれた刷版をう
るうことができる。 本発明で、基材上に塗布する電子線硬化性組成
物としては、アクリレート系樹脂のようなエチレ
ン性不飽和結合を有し、電子線照射によりラジカ
ル重合を起して硬化する性質を有する樹脂を含む
ことが必須条件であるが同時に、該電子線硬化性
組成物は、次のような性質を有することも必要で
ある。 １ アルミニウム、クロムメツキ等の金属粗面を
はじめとする基材上に密着性が良好であるこ
と。 ２ 硬化固着後、インキ受理性が良好となるもの
であること。硬化固着後の該部分の耐刷力が良
好となるものであること。 ３ 電子線の照射により、急速に硬化固着するこ
と。 以上のような性質を充分に満足するために、電
子線硬化性組成物は、(A)硬化性樹脂30〜80重量
部、(B)反応性希釈剤５〜50重量部、(C)熱重合禁止
剤０〜１重量部、(D)必要に応じて顔料60重量部以
下よりなる組成とすることが本発明の目的達成の
ために好ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂のうち、(a)一般式
関する。 更に詳しくは、レイアウトスキヤナより得られ
る電気信号化された画像情報出力からリスフイル
ム等の製版用銀塩感光材料を使用せず直接にオフ
セツト印刷用刷版を得る新規な製版方法に関す
る。 近年、印刷のスピードの高速化と効率化は、た
かまる一方であり印刷作業の工程における製版に
ついても作業の高速化および効率化が望まれてい
る。この要望に答えるものとして、カラー原稿の
色分解、色修正および網撮り等の作業を一工程で
迅速に行うカラースキヤナが導入され版材への焼
付け用の網ネガ、あるいは、網ポジが高効率で得
られるようになつたが、商品宣伝印刷のように、
カラー原稿の他にイラスト、平アミ、マーク、文
字等を含んだ複雑なレイアウトを要する場合に
は、いわゆる貼り込みという煩雑な作業が必要と
なり、この作業が製版工程の効率化の妨げとなつ
ている。このような情況の中で、カラースキヤナ
あるいは単色スキヤナより得られる電気信号化さ
れたカラー原稿、イラスト、マーク、文字等の多
種類の原稿の画像情報出力を入力信号とし、更に
この入力信号を電子回路で処理することにより、
色分解、色修正、レタツチ、コンタクトプリン
ト、ストリツピング、塗り込み、貼り込み集版あ
るいは網撮り等の従来の製版工程の大部分の作業
を終えた画像情報を電気信号として出力すること
の可能なレイアウトスキヤナが出現している。 現在この種の機能をもつレイアウトスキヤナと
しては、クロスフイールド社のマグナスキヤン
570、ヘル社のクロマコム、サイテツクス社のレ
スポンス300等があるがいずれの機種も出力信号
でキセノンランプ光線あるいはレーザー光線を制
御してリスフイルム上に画像情報を走査露光して
いる。これらのシステムでは、オフセツト印刷用
刷版を得るのに、走査露光したリスフイルムを現
像、定着、水洗、乾燥処理した後、版材と密着さ
せメタルハライドランプ等の製版用光源で露光
し、更に露光済みの版材の現像処理を行わねばな
らないという煩雑な工程が必要である。 当然のことながら、オフセツト印刷を行なう上
で印刷用刷版は必要不可欠のものであるが、製版
工程上のレイアウトスキヤナ印刷用刷版との間に
存在する上記リスフイルムに係わる工程は、必ず
しも必要ではない。むしろ、該工程を除くことが
できれば、レイアウトスキヤナを使用して、原稿
から直接印刷用刷版を得ることができ、製版工程
の最大限の効率化が可能となるばかりでなく、リ
スフイルムを使用しないことによる製版コストの
低減もはかれる。また、製版工程において、従来
より多量に使用されている銀塩感光材料を原稿フ
イルム以外には全く使用しないですむことは、銀
のような貴金属の省資源にも貢献する。 そこで、本発明者は、本来不必要な上記リスフ
イルムに係わる工程を経ずに、レイアウトスキヤ
ナの出力から直接印刷用刷版を得ることのできる
製版方法を得るべく鋭意研究した結果、本発明に
いたつたもので、本発明は、エチレン性不飽和結
合を有する硬化性樹脂を含む電子線硬化性組成物
を施した版用基材上に、レイアウトスキヤナより
得られる電気信号化された画像情報出力で制御さ
れた電子ビームを走査照射することを特徴とする
オフセツト印刷用刷版の製造方法である。 本発明にて、基材としては、一般のオフセツト
印刷用刷版の製造に用いられると同様の基材を用
いることができるが、基材上に施された電子線硬
化性組成物が電子線照射により強固に硬化密着
し、これが、耐刷力をあげるように、また、刷版
とした後の印刷時の保水性を良くするために、基
材の表面は、極めて細かな凹凸になるように砂目
立をしアルミニウム、亜鉛、クロムメツキ板等か
らなるものが好ましい。 なお、砂目立の方法としては、適当な大きさの
研磨球（ガラス、陶器、スチール等）と研磨剤
（ガーネツト、カーボランダム、アランダム等）
および水を用い、振動をあたえて金属面に細かな
傷をつける玉とぎ法、ぬれた研磨剤を圧さく空気
で金属面に吹きつける方法、ブラツシ法、陽極酸
化法、ベーマイト処理およびこれらの併用法等が
あるが、印刷時の保水性および電子線照射により
硬化した電子硬化性組成物との密着性それに伴う
耐刷力の向上には、玉とぎ法またはブラツシ法等
の機械研磨後さらに陽極化あるいはベーマイト処
理する方法にて処理したものが好ましい。 更に好ましくは、電解研磨で粗面化したアルミ
板をさらに陽極酸化して用いると水調節のしやす
い、また、再現精度、耐刷力のすぐれた刷版をう
るうことができる。 本発明で、基材上に塗布する電子線硬化性組成
物としては、アクリレート系樹脂のようなエチレ
ン性不飽和結合を有し、電子線照射によりラジカ
ル重合を起して硬化する性質を有する樹脂を含む
ことが必須条件であるが同時に、該電子線硬化性
組成物は、次のような性質を有することも必要で
ある。 １ アルミニウム、クロムメツキ等の金属粗面を
はじめとする基材上に密着性が良好であるこ
と。 ２ 硬化固着後、インキ受理性が良好となるもの
であること。硬化固着後の該部分の耐刷力が良
好となるものであること。 ３ 電子線の照射により、急速に硬化固着するこ
と。 以上のような性質を充分に満足するために、電
子線硬化性組成物は、(A)硬化性樹脂30〜80重量
部、(B)反応性希釈剤５〜50重量部、(C)熱重合禁止
剤０〜１重量部、(D)必要に応じて顔料60重量部以
下よりなる組成とすることが本発明の目的達成の
ために好ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂のうち、(a)一般式
【式】（式中Ｒは炭素数１〜３の有機
残基を、ｎは０もしくは１〜６の整数を示す）で
表わされる２重結合を有する５員環化合物及び／
もしくはこれらのデイールス・アルダー反応生成
物と(b)同一分子内に重合性の２重結合と水酸基と
を共に有する化合物とを反応させて得られる水酸
基を有する樹脂もしくは該樹脂に必要に応じて水
素添加をした水酸基を有する樹脂にアクリル酸及
び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応して
えられる硬化性樹脂は(a)成分として、シクロペン
タジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペ
ンタジエン、テトラシクロペンタジエン、および
炭素数１〜３のそれらの低級アルキル置換体から
なる群から選ばれた１種ないし２種以上と、(b)成
分として、（メタ）アリルアルコール、２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ブテンジオ
ール等の群から選ばれた１種ないし２種以上を(a)
成分／(b)成分のモル比が30／70〜95／５、好まし
くは40／60〜80／20の間にてラジカル重合触媒の
存在下または無触媒で、所望ならばキシレン等の
溶媒の存在下において、150〜350℃で加熱反応さ
せ水酸基を有する樹脂を得、必要に応じては、該
水酸基を有する樹脂に水素添加を行い、大部分が
分子量300〜500のジオールの占めるいわゆるレジ
ナスポリオールとした後、アクリル酸および／も
しくはメタクリル酸をエステル化反応することに
より得られる。 上記過程において、水素添加条件は慎重に選ぶ
必要があり白金、パラジウム等の貴金属触媒を用
いて行うことが望ましく、室温〜250℃、常圧〜
100Kg／cm2の条件下で水酸基量を減少させること
なく水素化を行うことが好ましい。水素化の程度
は、通常、水酸基を有する樹脂（レジナスポリオ
ール）の炭素−炭素２重結合の40％以上、好まし
くは60％以上水素化すると色相の極めてきれい
な、電子線硬化後の安定性のよい硬化被膜を与え
るものが得られてる。また、水酸基を有する樹脂
とアクリル酸及び／もしくはメタクリル酸との反
応は、触媒の存在下または無触媒で通常のエステ
ル化反応条件で行なう。この際、水酸基を有する
樹脂の水酸基１に対して、アクリル酸および／も
しくはメタクリル酸を0.5〜１モル当量反応させ
ることが好ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例としては
ポリオールにアクリル酸及び／もしくはメタクリ
ル酸をエステル化反応して得られるアクリレート
および／もしくはメタクリレート〔これらを（メ
タ）アクリレート）と表示する。〕があるが、こ
れらは各種グリコール、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール、ポリペンタエリスリトールなどのポリオー
ルにアクリル酸及び／もしくはメタクリル酸をエ
ステル化反応して得られる。 そして、これらのポリオールにアクリル酸及
び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応して
得られる（メタ）アクリレートだけでは塗布の際
に必要な粘度、流動特性及び電子線硬化後の皮膜
の可撓性、強靱性が得られぬことがあるので、不
飽和ポリエステル樹脂、共役乾性油、エポキシ樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、アリルスルホン
アミド−ホルムアルデヒド樹脂、セチルビニール
エーテル、及びフタル酸ジアリルプレポリマーの
何れか、もしくはそれらの混合物を上記（メタ）
アクリレート30〜70重量部に対し、70〜30重量部
添加してそれらの欠点を補うことが望ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
ポリエステル樹脂系アクリレート及び／もしくは
メタクリレートがあるが、これらは従来インキ用
ビヒクルとして賞用されてきている変性アルキツ
ド、ポリエステルなどにアクリル酸及び／もしく
はメタクリル酸をエステル化反応して得られるも
のである。すなわち、粘度、溶解性、顔料に対す
る濡れ、皮膜の柔軟性などを調整する目的で油、
或いは脂肪酸変性した水酸基過剰のアルキツド、
或いは水酸基過剰ポリエステル樹脂にアクリル酸
及び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応す
ることで得られる。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
エポキシ基を有する化合物にアクリル酸及び／も
しくはメタクリル酸をエステル化反応した（メ
タ）アクリレートがあるが、これは例えば、ビス
フエノールＡ／エピクロルヒドリンより成るエポ
キシ樹脂やエポキシ化アマニ油にアクリル酸及
び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応する
ことで得られるもので、硬化特性がすれ、非常に
強靱な耐溶剤性のすぐれた皮膜を形成する点に特
徴がある。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
ウレタン変性アクリル樹脂及び／もしくはメタク
リル樹脂があるが、これは、水酸基過剰アルキツ
ド、或いはポリエステルと水酸基含有のアクリル
酸エステル及び／もしくは水酸基含有のメタクリ
ル酸エステルとを、トルエンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネートなどのジイソシアネ
ートで結合せしめることにより得られるものであ
る。 本発明にて反応性希釈剤としては、ビニル化合
物が好ましく、また、反応性、溶解性、低粘度性
の要求から（メタ）アクリル酸誘導体が好まし
い。そしてこのようなアクリル酸誘導体としては
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリ
レート、ジペンタエリスリトール（メタ）アクリ
レート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アク
リレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）ア
クリレート、アルキル（メタ）アクリレート（炭
素数１〜18のアルキル基）、１価フエノールまた
は多価フエノールの水酸基にアルキレンオキサイ
ドを付加させたものにアクリル酸またはメタクリ
ル酸をエステル化反応したもの、スチレン、アリ
ルアルコールエステル、グリシジル（メタ）アク
リレート等の架橋性モノマーを使用できる。 本発明にて顔料は特に限定されるものではな
く、通常の塗料、印刷インキに使用されている有
機顔料、無機顔料を用いることができる。 顔料は必らずしも入れる必要はないが、基材に
施された時の状態を確認および修正するため、ま
た、版材を現像処理した時の画像の状態を確認お
よび修正するため、更には、印刷機あるいはコー
ターで施す際に基材上に良好な転移をするように
硬化性組成物のレオロジー的性質を調節するため
に用いる。 本発明にて、重合禁止剤は通常アクリル系及
び／もしくはメタクリル系化合物に有効なものを
そのまま用いることができるが、ハイドロキノン
及びその誘導体、テトラメチルチウラムジサルフ
アイド、Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミン
のアルミニウム塩などが特に有効である。 本発明にて電子線硬化性組成物を調製するに当
つては(1)硬化性樹脂を(2)反応性希釈剤でワニス化
し(3)熱重合禁止剤を加え、(4)必要に応じ顔料とと
もに三本ロールミル等で分散練肉する。分散方法
は場合によつてはいわゆるフラツシング法を用い
ることもできる。そして400r.p.m.30℃でのタツ
ク値を５〜20、25℃での60秒のフロー値を15〜20
に調整することで調製する。なお、他の有機溶
剤、充填剤、添加剤などを上記操作中に必要に応
じて加えることができるのはいうまでもない。 なお、上記硬化性樹脂を、ケトン系、エステル
系および芳香族系等の有機溶剤で溶解したものを
基材上に塗布した後、該有機溶剤を常法にて蒸発
除去し、基材上に固型状の硬化性樹脂層を形成さ
せて版材とすることもできる。また、この際必要
に応じて前記顔料を加えてもよい。 本発明で、基材上へ電子硬化性組成物を施す方
法としては、通常のオフセツト印刷機や、凸版印
刷機による、いわゆるベタ刷り印刷方式、あるい
は、通常のクリヤーコーテイングに使用されるグ
ラビアコーターやロールコーターによるコーテイ
ング方式を用いることが好ましいが、施す方法は
特に限定されるものではない。また、施された電
子線硬化性組成物の皮膜の厚さは、極端に薄いと
現像後の画像の再現精度が悪くなり、しかも耐刷
力が劣るようになる。また、逆に厚すぎると現像
処理の作業性が劣るようになるため、3μm〜
50μmの皮膜厚が好ましい。 本発明で、電子線照射装置は、高電圧発生装
置、電子銃、加速管、アパーチヤー、電子レン
ズ、コントローラ、プランキングユニツト及び真
空装置等よりなり、電子ビームは版材上に微小な
スポツトとして照射されるように電子レンズで集
束された後、チタン箔の窓を通して電子線照射装
置外に放射され、版材面上に到達する。なお、上
記チタン箔を用いない場合は、電子線照射装置及
び被走査照射部全体を高真空に保つ必要がある。 また、レイアウトスキヤナよりの電気信号化さ
れた画像情報出力は、インターフイエースを介し
てコントローラに入力され電子ビームをオン・オ
フさせる信号を発生させる。該コントローラで発
生したオン・オフ信号はブランキングユニツトを
作動させて電子ビーム電流を制御し走査照射中の
版材への電子ビーム照射線量を制御する。なお、
電子ビーム照射線量は基材上の電子線硬化性組成
物の厚さにもよるが得られた版材の現像後の画像
の再現精度及び耐刷力において優れた性能を具備
させる為に１〜20メガラドが好ましい。 本発明にて、版材上への電子ビームの走査方法
は特に限定されるものではなく、一般的には、版
材と電子ビームのどちらか一方のみを移動させる
方法と両者を移動させて行なう方法とがある。こ
の際、版材は平面状にするかあるいは円筒状ドラ
ムの表面に巻き付けて曲面状にすることができ
る。但し、走査機構の簡便さの点からは、版材を
円筒ドラムの表面に巻き付け、電子ビームは移動
させずに該円筒ドラムを円周方向に回転させると
同時に回転軸方向へも円筒ドラムを移動させ版材
上の全面を走査照射する方法が好ましい。 なお、電子線照射装置に電磁偏向器を備えて、
該偏向器により電子ビームを版材の一辺方向に走
査させ、同時に版材を該方向と直角方向に移動さ
せることにより版材上の全面を走査照射すること
もできる。ここで、硬化手段に電子線を用いるこ
との利点は、画像電気信号による制御性が紫外線
等の活性光線に比べはるかに良好でしかも容易で
あり、更に電子線の透過力が強いためたとえば紫
外線硬化性組成物を用いて紫外線照射した場合に
比べ深部まですみやかに固化硬化がすすみ、極め
て良好な基材への密着性を示すと同時に走査も速
化できる。そして紫外線硬化性組成物のように低
分子量の光重合開始剤を含有していないので本発
明にかかわる刷版を用いて印刷する際画線部であ
る電子線硬化性組成物のその硬化皮膜から印刷過
程にて使用するインキによつて抽出されるような
成分もないため、上述の硬化が内部にまで深く及
ぶ十分な効果とあいまつて、極めてすぐれた耐刷
力を発現する。また、硬化固着した部分はインキ
に対する親和性も十分である。すなわち、画線と
して一般油性印刷インキおよび一般紫外線硬化型
印刷インキに対するインキ受理性が良好で、画像
の再現性も優れた印刷物を与える刷版を与える。
なお、耐刷力の強く要求されるオフセツト輪転印
刷において多層金属版と同程度の耐刷力を有する
刷版を作製することができる。 本発明で、電子線照射後の版材の現像は、電子
線硬化性組成物の硬化部と未硬化部の溶剤への溶
解性の差を利用して行なう。現像溶剤としては一
般の有機溶剤を用いることができるが、現像性、
作業性等から、いわゆるケトン系、エステル系あ
るいは芳香族系の溶剤を用いることが好ましい。
また、上記有機溶剤による現像処理は、スポンジ
等の版材面を損傷する恐れのないものに有機溶剤
を含ませて版材を拭い未硬化部を除去するか、版
材上に有機溶剤をシヤワー状に噴射して未硬化部
を洗い流して除去する方式が好ましいが有機溶剤
を用いて現像する上で、未硬化部を除去する方式
は特に限定されない。尚、現像後の版材上の残留
現象溶剤を常法により蒸発除去した後、印刷用刷
版が得られる。 本発明によれば、したがつてレイアウトスキヤ
ナより電気信号化された画像情報出力からリスフ
イルム等の製版用銀塩材料を使用ぜず直接にしか
も耐刷力、画像再現精度の優れたオフセツト印刷
用刷版が製造される。 以下、比較例および実施例をもつて説明する。
（例中、部とは重量部を示す。） 比較例 抽象模様を有する複数のカラー透過原稿から、
カラースキヤナ（ヘル社製クロマグラフC299）
とレイアウトスキヤナ（サイテツクス社製レスポ
ンス300）を使用し、アルゴンレーザー用リスフ
イルム（デユポン社製CCSL−４）に、藍インキ
印刷刷版用のレイアウトされた画像を分解線数
150線で走査露光した後、該リスフイルムを自動
現像機にて現像、定着、水洗及び乾燥処理してポ
ジ画像を有するリスフイルムを得た。該処理した
リスフイルムをオフセツト印刷用ポジタイプPS
版（富士写真フイルム(株)製GAP−）と密着さ
せて常法により適正露光（ウシオ電気(株)製3kwメ
タルハライドランプより1.5ｍで45秒間露光）を
行ない、露光後の該PS版を自動現像機に適正現
像処理し、さららに乾燥処理して、藍インキ印刷
用刷版Ｐを得た。 実施例 １ 純度97％のジシクロペンタジエン132部、アリ
ルアルコール58部および市販混合キシレン110部
を攪拌機つきオートクレープに仕込み、温度260
℃で５時間反応させた反応終了後、オートクレー
プを冷却し内容物を蒸留して未反応モノマー、低
重合体およびキシレンを除去して、152部の樹脂
（）−１が得られた。この樹脂（）−１ 100部
を市販混合キシレンに溶解し、パラジウム濃度５
％のパラジウムカーボン（日本エンゲルハルト社
製５％Pdc標準品）１部を添加し、水素圧30Kg／
cm2、150℃、１時間水素化反応を行い、溶媒を留
去して水添加樹脂（）−１を得た。 樹脂（）−１及び樹脂（）−１の性状は次の
通りである。
表わされる２重結合を有する５員環化合物及び／
もしくはこれらのデイールス・アルダー反応生成
物と(b)同一分子内に重合性の２重結合と水酸基と
を共に有する化合物とを反応させて得られる水酸
基を有する樹脂もしくは該樹脂に必要に応じて水
素添加をした水酸基を有する樹脂にアクリル酸及
び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応して
えられる硬化性樹脂は(a)成分として、シクロペン
タジエン、ジシクロペンタジエン、トリシクロペ
ンタジエン、テトラシクロペンタジエン、および
炭素数１〜３のそれらの低級アルキル置換体から
なる群から選ばれた１種ないし２種以上と、(b)成
分として、（メタ）アリルアルコール、２−ヒド
ロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシプロピル（メタ）アクリレート、ブテンジオ
ール等の群から選ばれた１種ないし２種以上を(a)
成分／(b)成分のモル比が30／70〜95／５、好まし
くは40／60〜80／20の間にてラジカル重合触媒の
存在下または無触媒で、所望ならばキシレン等の
溶媒の存在下において、150〜350℃で加熱反応さ
せ水酸基を有する樹脂を得、必要に応じては、該
水酸基を有する樹脂に水素添加を行い、大部分が
分子量300〜500のジオールの占めるいわゆるレジ
ナスポリオールとした後、アクリル酸および／も
しくはメタクリル酸をエステル化反応することに
より得られる。 上記過程において、水素添加条件は慎重に選ぶ
必要があり白金、パラジウム等の貴金属触媒を用
いて行うことが望ましく、室温〜250℃、常圧〜
100Kg／cm2の条件下で水酸基量を減少させること
なく水素化を行うことが好ましい。水素化の程度
は、通常、水酸基を有する樹脂（レジナスポリオ
ール）の炭素−炭素２重結合の40％以上、好まし
くは60％以上水素化すると色相の極めてきれい
な、電子線硬化後の安定性のよい硬化被膜を与え
るものが得られてる。また、水酸基を有する樹脂
とアクリル酸及び／もしくはメタクリル酸との反
応は、触媒の存在下または無触媒で通常のエステ
ル化反応条件で行なう。この際、水酸基を有する
樹脂の水酸基１に対して、アクリル酸および／も
しくはメタクリル酸を0.5〜１モル当量反応させ
ることが好ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例としては
ポリオールにアクリル酸及び／もしくはメタクリ
ル酸をエステル化反応して得られるアクリレート
および／もしくはメタクリレート〔これらを（メ
タ）アクリレート）と表示する。〕があるが、こ
れらは各種グリコール、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリト
ール、ポリペンタエリスリトールなどのポリオー
ルにアクリル酸及び／もしくはメタクリル酸をエ
ステル化反応して得られる。 そして、これらのポリオールにアクリル酸及
び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応して
得られる（メタ）アクリレートだけでは塗布の際
に必要な粘度、流動特性及び電子線硬化後の皮膜
の可撓性、強靱性が得られぬことがあるので、不
飽和ポリエステル樹脂、共役乾性油、エポキシ樹
脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、アリルスルホン
アミド−ホルムアルデヒド樹脂、セチルビニール
エーテル、及びフタル酸ジアリルプレポリマーの
何れか、もしくはそれらの混合物を上記（メタ）
アクリレート30〜70重量部に対し、70〜30重量部
添加してそれらの欠点を補うことが望ましい。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
ポリエステル樹脂系アクリレート及び／もしくは
メタクリレートがあるが、これらは従来インキ用
ビヒクルとして賞用されてきている変性アルキツ
ド、ポリエステルなどにアクリル酸及び／もしく
はメタクリル酸をエステル化反応して得られるも
のである。すなわち、粘度、溶解性、顔料に対す
る濡れ、皮膜の柔軟性などを調整する目的で油、
或いは脂肪酸変性した水酸基過剰のアルキツド、
或いは水酸基過剰ポリエステル樹脂にアクリル酸
及び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応す
ることで得られる。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
エポキシ基を有する化合物にアクリル酸及び／も
しくはメタクリル酸をエステル化反応した（メ
タ）アクリレートがあるが、これは例えば、ビス
フエノールＡ／エピクロルヒドリンより成るエポ
キシ樹脂やエポキシ化アマニ油にアクリル酸及
び／もしくはメタクリル酸をエステル化反応する
ことで得られるもので、硬化特性がすれ、非常に
強靱な耐溶剤性のすぐれた皮膜を形成する点に特
徴がある。 本発明にかかわる硬化性樹脂の他の例として、
ウレタン変性アクリル樹脂及び／もしくはメタク
リル樹脂があるが、これは、水酸基過剰アルキツ
ド、或いはポリエステルと水酸基含有のアクリル
酸エステル及び／もしくは水酸基含有のメタクリ
ル酸エステルとを、トルエンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネートなどのジイソシアネ
ートで結合せしめることにより得られるものであ
る。 本発明にて反応性希釈剤としては、ビニル化合
物が好ましく、また、反応性、溶解性、低粘度性
の要求から（メタ）アクリル酸誘導体が好まし
い。そしてこのようなアクリル酸誘導体としては
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリ
レート、ジペンタエリスリトール（メタ）アクリ
レート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アク
リレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）ア
クリレート、アルキル（メタ）アクリレート（炭
素数１〜18のアルキル基）、１価フエノールまた
は多価フエノールの水酸基にアルキレンオキサイ
ドを付加させたものにアクリル酸またはメタクリ
ル酸をエステル化反応したもの、スチレン、アリ
ルアルコールエステル、グリシジル（メタ）アク
リレート等の架橋性モノマーを使用できる。 本発明にて顔料は特に限定されるものではな
く、通常の塗料、印刷インキに使用されている有
機顔料、無機顔料を用いることができる。 顔料は必らずしも入れる必要はないが、基材に
施された時の状態を確認および修正するため、ま
た、版材を現像処理した時の画像の状態を確認お
よび修正するため、更には、印刷機あるいはコー
ターで施す際に基材上に良好な転移をするように
硬化性組成物のレオロジー的性質を調節するため
に用いる。 本発明にて、重合禁止剤は通常アクリル系及
び／もしくはメタクリル系化合物に有効なものを
そのまま用いることができるが、ハイドロキノン
及びその誘導体、テトラメチルチウラムジサルフ
アイド、Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミン
のアルミニウム塩などが特に有効である。 本発明にて電子線硬化性組成物を調製するに当
つては(1)硬化性樹脂を(2)反応性希釈剤でワニス化
し(3)熱重合禁止剤を加え、(4)必要に応じ顔料とと
もに三本ロールミル等で分散練肉する。分散方法
は場合によつてはいわゆるフラツシング法を用い
ることもできる。そして400r.p.m.30℃でのタツ
ク値を５〜20、25℃での60秒のフロー値を15〜20
に調整することで調製する。なお、他の有機溶
剤、充填剤、添加剤などを上記操作中に必要に応
じて加えることができるのはいうまでもない。 なお、上記硬化性樹脂を、ケトン系、エステル
系および芳香族系等の有機溶剤で溶解したものを
基材上に塗布した後、該有機溶剤を常法にて蒸発
除去し、基材上に固型状の硬化性樹脂層を形成さ
せて版材とすることもできる。また、この際必要
に応じて前記顔料を加えてもよい。 本発明で、基材上へ電子硬化性組成物を施す方
法としては、通常のオフセツト印刷機や、凸版印
刷機による、いわゆるベタ刷り印刷方式、あるい
は、通常のクリヤーコーテイングに使用されるグ
ラビアコーターやロールコーターによるコーテイ
ング方式を用いることが好ましいが、施す方法は
特に限定されるものではない。また、施された電
子線硬化性組成物の皮膜の厚さは、極端に薄いと
現像後の画像の再現精度が悪くなり、しかも耐刷
力が劣るようになる。また、逆に厚すぎると現像
処理の作業性が劣るようになるため、3μm〜
50μmの皮膜厚が好ましい。 本発明で、電子線照射装置は、高電圧発生装
置、電子銃、加速管、アパーチヤー、電子レン
ズ、コントローラ、プランキングユニツト及び真
空装置等よりなり、電子ビームは版材上に微小な
スポツトとして照射されるように電子レンズで集
束された後、チタン箔の窓を通して電子線照射装
置外に放射され、版材面上に到達する。なお、上
記チタン箔を用いない場合は、電子線照射装置及
び被走査照射部全体を高真空に保つ必要がある。 また、レイアウトスキヤナよりの電気信号化さ
れた画像情報出力は、インターフイエースを介し
てコントローラに入力され電子ビームをオン・オ
フさせる信号を発生させる。該コントローラで発
生したオン・オフ信号はブランキングユニツトを
作動させて電子ビーム電流を制御し走査照射中の
版材への電子ビーム照射線量を制御する。なお、
電子ビーム照射線量は基材上の電子線硬化性組成
物の厚さにもよるが得られた版材の現像後の画像
の再現精度及び耐刷力において優れた性能を具備
させる為に１〜20メガラドが好ましい。 本発明にて、版材上への電子ビームの走査方法
は特に限定されるものではなく、一般的には、版
材と電子ビームのどちらか一方のみを移動させる
方法と両者を移動させて行なう方法とがある。こ
の際、版材は平面状にするかあるいは円筒状ドラ
ムの表面に巻き付けて曲面状にすることができ
る。但し、走査機構の簡便さの点からは、版材を
円筒ドラムの表面に巻き付け、電子ビームは移動
させずに該円筒ドラムを円周方向に回転させると
同時に回転軸方向へも円筒ドラムを移動させ版材
上の全面を走査照射する方法が好ましい。 なお、電子線照射装置に電磁偏向器を備えて、
該偏向器により電子ビームを版材の一辺方向に走
査させ、同時に版材を該方向と直角方向に移動さ
せることにより版材上の全面を走査照射すること
もできる。ここで、硬化手段に電子線を用いるこ
との利点は、画像電気信号による制御性が紫外線
等の活性光線に比べはるかに良好でしかも容易で
あり、更に電子線の透過力が強いためたとえば紫
外線硬化性組成物を用いて紫外線照射した場合に
比べ深部まですみやかに固化硬化がすすみ、極め
て良好な基材への密着性を示すと同時に走査も速
化できる。そして紫外線硬化性組成物のように低
分子量の光重合開始剤を含有していないので本発
明にかかわる刷版を用いて印刷する際画線部であ
る電子線硬化性組成物のその硬化皮膜から印刷過
程にて使用するインキによつて抽出されるような
成分もないため、上述の硬化が内部にまで深く及
ぶ十分な効果とあいまつて、極めてすぐれた耐刷
力を発現する。また、硬化固着した部分はインキ
に対する親和性も十分である。すなわち、画線と
して一般油性印刷インキおよび一般紫外線硬化型
印刷インキに対するインキ受理性が良好で、画像
の再現性も優れた印刷物を与える刷版を与える。
なお、耐刷力の強く要求されるオフセツト輪転印
刷において多層金属版と同程度の耐刷力を有する
刷版を作製することができる。 本発明で、電子線照射後の版材の現像は、電子
線硬化性組成物の硬化部と未硬化部の溶剤への溶
解性の差を利用して行なう。現像溶剤としては一
般の有機溶剤を用いることができるが、現像性、
作業性等から、いわゆるケトン系、エステル系あ
るいは芳香族系の溶剤を用いることが好ましい。
また、上記有機溶剤による現像処理は、スポンジ
等の版材面を損傷する恐れのないものに有機溶剤
を含ませて版材を拭い未硬化部を除去するか、版
材上に有機溶剤をシヤワー状に噴射して未硬化部
を洗い流して除去する方式が好ましいが有機溶剤
を用いて現像する上で、未硬化部を除去する方式
は特に限定されない。尚、現像後の版材上の残留
現象溶剤を常法により蒸発除去した後、印刷用刷
版が得られる。 本発明によれば、したがつてレイアウトスキヤ
ナより電気信号化された画像情報出力からリスフ
イルム等の製版用銀塩材料を使用ぜず直接にしか
も耐刷力、画像再現精度の優れたオフセツト印刷
用刷版が製造される。 以下、比較例および実施例をもつて説明する。
（例中、部とは重量部を示す。） 比較例 抽象模様を有する複数のカラー透過原稿から、
カラースキヤナ（ヘル社製クロマグラフC299）
とレイアウトスキヤナ（サイテツクス社製レスポ
ンス300）を使用し、アルゴンレーザー用リスフ
イルム（デユポン社製CCSL−４）に、藍インキ
印刷刷版用のレイアウトされた画像を分解線数
150線で走査露光した後、該リスフイルムを自動
現像機にて現像、定着、水洗及び乾燥処理してポ
ジ画像を有するリスフイルムを得た。該処理した
リスフイルムをオフセツト印刷用ポジタイプPS
版（富士写真フイルム(株)製GAP−）と密着さ
せて常法により適正露光（ウシオ電気(株)製3kwメ
タルハライドランプより1.5ｍで45秒間露光）を
行ない、露光後の該PS版を自動現像機に適正現
像処理し、さららに乾燥処理して、藍インキ印刷
用刷版Ｐを得た。 実施例 １ 純度97％のジシクロペンタジエン132部、アリ
ルアルコール58部および市販混合キシレン110部
を攪拌機つきオートクレープに仕込み、温度260
℃で５時間反応させた反応終了後、オートクレー
プを冷却し内容物を蒸留して未反応モノマー、低
重合体およびキシレンを除去して、152部の樹脂
（）−１が得られた。この樹脂（）−１ 100部
を市販混合キシレンに溶解し、パラジウム濃度５
％のパラジウムカーボン（日本エンゲルハルト社
製５％Pdc標準品）１部を添加し、水素圧30Kg／
cm2、150℃、１時間水素化反応を行い、溶媒を留
去して水添加樹脂（）−１を得た。 樹脂（）−１及び樹脂（）−１の性状は次の
通りである。
【表】
次に樹脂（）−１ 80部、アクリル酸20部、
パラトルエンスルフオン酸1.0部、ハイドロキノ
ン0.1部をサイドアーム付冷却機及び攪拌機付４
つ口フラスコに仕込み、ベンゼン／メチルイソブ
チルケトン（MIBK）混合溶媒の還流下100℃で
12時間反応後、120℃でベンゼン、MIBKを留去
し、樹脂(A)−１を得た。樹脂（）−１について
も、樹脂（）−１と同時にメタクリル酸と反応
させた樹脂(A)−２を得た。次に得られた樹脂(A)−
１、(A)−２それぞれ70部をトリメチロールプロパ
ントリアクリレート30部で溶解しワニスＡ、ワニ
スＢとする。 さらに、上記ワニスＡを用いて以下の処方で三
本ロールを用いて電子線硬化性組成物Ａを調製し
た。なお、以下でいうタツク値は400r.p.m.30℃
での値、フロー値は25℃での60秒を意味する。 ワニスＡ 52部 ビスフエノールＡエチレンオキサイド 付加体のジアクリレート 33.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)製紅顔料） 13部 有機ペントナイト １部 Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミン アルミニウム塩 0.1部 タツク値12.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子硬化性組成物Ａを
いわゆるPS版のメクラ版を原版として用い金属
板印刷用オフセツト印刷機で、電解研磨で砂目立
をした後、陽極酸化処理した厚さ300μmのアルミ
板に皮膜厚5μmでベタ刷印刷し版材Ａとした。 次に、比較例で使用した複数のカラー透過原稿
から、カラースキヤナ（ヘル社製クロマグラフ
C299）とレイアウトスキヤナ（サイ・テツクス
社製レスポンス300）によりレイアウト済みの藍
インキ印刷版用の電気信号化された画像情報出力
を得、該電気信号をインターフエースを介して電
子線照射装置に入力させて電子ビームをチタン箔
の窓を通して電子線照射装置外に放射させ、走査
用の円筒ドラム表面上に固定された上記版材Ａを
線量５メガラドにて走査照射した。なお、電子ビ
ームが照射される版材表面はいわゆるエアーイン
ヒビションを防ぐために窒素ガス置換した。 次に、セロソルプアセテートを含ませたスポン
ジを用いて、電子ビームを走査照射した版材Ａの
表面を拭い、未硬化の電子線硬化性組成物を除去
した後、常法にて残留現像溶剤を蒸発除去させ藍
インキ印刷用刷版Ａを製造した。 実施例 ２ 実施例１で得たワニスＢを用いて、以下の処方
で実施例１と同様に電子線硬化性組成物Ｂを調製
した。 ワニスＢ 40部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 31.9部 リオノールブルーKL （東洋インキ製造(株)製藍顔料） ３部 白艶華−Ｏ（体質顔料） 25部 テトラメチルチラウムジサルフアイド 0.1部 タツク値10.0 フロー値16.0 このようにして得られた、電子線硬化性組成物
Ｂを玉研ぎ法で粗面化した厚さ300μmのアルミ板
に実施例１と同様に皮膜厚5μmで印刷し、版材Ｂ
とした。 次に実施例１と同様に版材Ｂを線量10メガラド
にて走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｂを
現像、乾燥して刷版Ｂを製造した。 実施例 ３ フタル酸ジアリルプレポリマー60部をジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート39.5部、Ｎ−
ニトロソフエニルヒドロキシアミンのアルミニウ
ム塩0.5部と混合攪拌し90℃に１時間加熱保持し
て粘度60ポイズ（25℃）のワニスＣを得た。この
ワニスＣを用いて以下の処方で実施例１と同様に
電子線硬化性組成物Ｃを調製した。 ワニスＣ 60部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12部 三菱カーボンブラツクMA8 （三菱化成工業(株)製カーボンブラツク） 10部 白艶華Ｏ（体質顔料） 18部 タツク値8.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｃ
をブラシ研磨で粗面化した300μmの厚みのアルミ
板に実施例１と同様に皮膜厚10μmで印刷し、版
材Ｃとした。 次に実施例１と同様に版材Ｃを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｃを現
像、乾燥して刷版Ｃを製造した。 実施例 ４ オレイン酸20部、トリメチロールプロパン47部
を４つ口フラスコ中、炭酸ガス気流下で240℃で
酸価５以下まで反応させる。その後無水フタル酸
33部を加え、同温度で反応し、酸価５以下に水酸
基当量180のアルキツド樹脂を得る。次にこのア
ルキツド樹脂71.5部、ベンゼン10.0部を還流器、
撹拌機付４つ口フラスコに仕込み、90℃に加熱
し、アクリル酸28.5部、ｐ−トルエンスルフオン
酸1.0部、ハイドロキノン0.1部を85〜95℃で空気
を吹き込みながら滴下し、滴下後徐々に昇温し
100〜120℃で反応し、酸価５以下の時点でベンゼ
ンを除去し、汲み出した。これをワニスＤとす
る。 このワニスＤを用いて以下の処方で実施例１と
同様に電子線硬化性組成物Ｄを調製した。 ワニスＤ 51部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 35.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） 13部 ハイドロキノン 0.1部 タツク値11.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｄ
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例１と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Ｄとした。 次に実施例１と同様に版材Ｄを線量20メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｄを現
像乾燥して刷版Ｄを製造した。 実施例 ５ エピコート828（シエル石油(株)製エポキシ樹脂）
71.7部、アクリル酸28.3部、ハイドロキノン0.1
部、トリエチレンジアミン0.1部を還流管、攪拌
機付４つ口フラスコに仕込み、空気を吹きこみな
がら90〜110℃で15〜20時間反応させ酸価１以下
になつた時点で汲み出した。これをワニスＥとす
る。 このワニスＥを用いて以下の処方で実施例１と
同様に電子線硬化性組成物Ｅを調製した。 ワニスＥ 54部 ビスフエノールＡエチレンオキサイド 付加体ジアクリレート 32.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） 13部 テトラメチルチウラムジサルフアイト 0.1部 タツク値11.0 フロー値16.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｅ
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例１と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Ｅとした。 次に実施例１と同様に版材Ｅを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｅを現
像、乾燥して刷版Ｅを製造した。 実施例 ６ ペンタエリスリトールトリアクリレート63.1部
を還流管付４つ口フラスコに仕込み、38〜40℃に
保ち、トルエンジイソシアネート36.9部を１時間
かけ滴下加える。残留イソシアネート基8.7％前
後で一定となつた時反応をやめ汲みだした。これ
をアクリル化イソシアネートＡと称する。 次にオレイン酸20部、トリメチロールプロパン
47部を攪拌機付４つ口フラスコ中で、炭酸ガス気
流下240℃で酸価５以下になるまで反応させた。
その後無水フタル酸33部を加え同温度で３時間反
応させ、酸価５以下、水酸基当量180のアルキツ
ドを得た。 この水酸基当量180のアルキツド90部とトリメ
チロールプロパントリアクリレート40部とハイド
ロキノン0.1部を混合溶解し、上記アクリル化イ
ソシアネートA104.4部を添加し60〜70℃で７〜
９時間反応させ、残留イソシアネート基が0.27以
下になつた時汲みだした。これをワニスＦとす
る。このワニスＦを用いて以下の処方で実施例１
と同様に電子線硬化性組成物Ｆを調製した。 ワニスＦ 47部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 39.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） 13部 Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミ
ニウム塩 0.1部 タツク値8.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｆ
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例１と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Ｆとした。 次に実施例１と同様に版材Ｆを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｆを現
像、乾燥して刷版Ｆを製造した。 実施例 ７ 実施例１で得られた樹脂(A)−１を48.5部とメチ
ルエチルケトン51.5部を常法にて溶解してワニス
Ｇとする。このワニスＧを用い以下の処方でボー
ルミルを用いて顔料の最大粒子が10μmとなるま
で練肉して電子線硬化性組成物Ｇを調製した。 ワニスＧ 96.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） ３部 Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミ
ニウム塩 0.1部 得られた電子線硬化性組成物Ｇを粘度は、ザン
カツプ粘度計（No.４カツプ25℃）にて20秒を示し
た。 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｇ
を玉研ぎ法で粗面化した厚さ300μmのアルミ板
に、ロールコーターを用いて皮膜厚20μmとなる
ように塗布した。 塗布後の版材より常法によりメチルエチルケト
ンを蒸発除去し版材上に皮膜厚10μmの固型状の
電子線硬化性組成物を形成させ版材Ｇを製造し
た。 次に実施例１と同様に版材Ｇを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｇを現
像、乾燥して刷版Ｇを製造した。 実施例 ８ 実施例７と同様にして版材上に皮膜厚10μmの
固型状の電子線硬化性組成物を形成させた版材Ｈ
を製造した。 次に、版材Ｈを走査用の円筒ドラム表面に固定
し、電子線照射装置にチタン箔の窓を使用せずに
電子線照射装置内部と被走査照射部全体を同一の
高真空系に保ち、実施例７と同様に版材Ｈを線量
10メガラドで走査照射し、更に実施例７と同様に
版材Ｈを現像、乾燥して刷版Ｈを製造した。 次に比較例と実施例１〜８で得られた刷版Ｐ及
びＡ〜Ｈの網点再現性の比較を行つた結果と上記
刷版ＰおよびＡ〜Ｈを三菱重工製BBタイプ・オ
フ輪印刷機により印刷テストした結果を示す。 網点再現性：原稿のグレースケールよりアミ分解
されている比較例で得られた刷版Ｐ上のアミ
点スケールのアミ点％を各ステツプごとに測
定し同様に実施例１〜８で得られた刷版Ａ〜
Ｈ上のアミ点スケールのアミ点％をステツプ
ごとに測定した。ここでアミ点スケールの同
一ステツプに関し刷版Ｐと刷版Ａ〜Ｈのアミ
点％測定値を各ステツプごとに比較して従来
の製造方法により得られた刷版Ｐと本発明に
より得られた刷版Ａ〜Ｈのアミ点再現性を比
較した。 なお、アミ点測定にはビユーバツク（東洋イン
キ製造(株)製）を使用した。 印刷テスト使用インキ：WK LTD藍Ａ（東洋イ
ンキ製造(株)製オフ輪インキ） 紙：オフ輪用トツプコート紙（神崎製紙(株)製）Ｂ
サイズ66.5K 耐刷力：三菱重工製BBタイプ・オフ輪印刷機で
刷版Ｐ及びＡ〜Ｇを使用して印刷した結果で
示す。 インキ着肉性：上記のWK LTD藍Ａで印刷した
場合の印刷物のインキの転を肉眼した判断し
た。
パラトルエンスルフオン酸1.0部、ハイドロキノ
ン0.1部をサイドアーム付冷却機及び攪拌機付４
つ口フラスコに仕込み、ベンゼン／メチルイソブ
チルケトン（MIBK）混合溶媒の還流下100℃で
12時間反応後、120℃でベンゼン、MIBKを留去
し、樹脂(A)−１を得た。樹脂（）−１について
も、樹脂（）−１と同時にメタクリル酸と反応
させた樹脂(A)−２を得た。次に得られた樹脂(A)−
１、(A)−２それぞれ70部をトリメチロールプロパ
ントリアクリレート30部で溶解しワニスＡ、ワニ
スＢとする。 さらに、上記ワニスＡを用いて以下の処方で三
本ロールを用いて電子線硬化性組成物Ａを調製し
た。なお、以下でいうタツク値は400r.p.m.30℃
での値、フロー値は25℃での60秒を意味する。 ワニスＡ 52部 ビスフエノールＡエチレンオキサイド 付加体のジアクリレート 33.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)製紅顔料） 13部 有機ペントナイト １部 Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミン アルミニウム塩 0.1部 タツク値12.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子硬化性組成物Ａを
いわゆるPS版のメクラ版を原版として用い金属
板印刷用オフセツト印刷機で、電解研磨で砂目立
をした後、陽極酸化処理した厚さ300μmのアルミ
板に皮膜厚5μmでベタ刷印刷し版材Ａとした。 次に、比較例で使用した複数のカラー透過原稿
から、カラースキヤナ（ヘル社製クロマグラフ
C299）とレイアウトスキヤナ（サイ・テツクス
社製レスポンス300）によりレイアウト済みの藍
インキ印刷版用の電気信号化された画像情報出力
を得、該電気信号をインターフエースを介して電
子線照射装置に入力させて電子ビームをチタン箔
の窓を通して電子線照射装置外に放射させ、走査
用の円筒ドラム表面上に固定された上記版材Ａを
線量５メガラドにて走査照射した。なお、電子ビ
ームが照射される版材表面はいわゆるエアーイン
ヒビションを防ぐために窒素ガス置換した。 次に、セロソルプアセテートを含ませたスポン
ジを用いて、電子ビームを走査照射した版材Ａの
表面を拭い、未硬化の電子線硬化性組成物を除去
した後、常法にて残留現像溶剤を蒸発除去させ藍
インキ印刷用刷版Ａを製造した。 実施例 ２ 実施例１で得たワニスＢを用いて、以下の処方
で実施例１と同様に電子線硬化性組成物Ｂを調製
した。 ワニスＢ 40部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 31.9部 リオノールブルーKL （東洋インキ製造(株)製藍顔料） ３部 白艶華−Ｏ（体質顔料） 25部 テトラメチルチラウムジサルフアイド 0.1部 タツク値10.0 フロー値16.0 このようにして得られた、電子線硬化性組成物
Ｂを玉研ぎ法で粗面化した厚さ300μmのアルミ板
に実施例１と同様に皮膜厚5μmで印刷し、版材Ｂ
とした。 次に実施例１と同様に版材Ｂを線量10メガラド
にて走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｂを
現像、乾燥して刷版Ｂを製造した。 実施例 ３ フタル酸ジアリルプレポリマー60部をジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート39.5部、Ｎ−
ニトロソフエニルヒドロキシアミンのアルミニウ
ム塩0.5部と混合攪拌し90℃に１時間加熱保持し
て粘度60ポイズ（25℃）のワニスＣを得た。この
ワニスＣを用いて以下の処方で実施例１と同様に
電子線硬化性組成物Ｃを調製した。 ワニスＣ 60部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12部 三菱カーボンブラツクMA8 （三菱化成工業(株)製カーボンブラツク） 10部 白艶華Ｏ（体質顔料） 18部 タツク値8.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｃ
をブラシ研磨で粗面化した300μmの厚みのアルミ
板に実施例１と同様に皮膜厚10μmで印刷し、版
材Ｃとした。 次に実施例１と同様に版材Ｃを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｃを現
像、乾燥して刷版Ｃを製造した。 実施例 ４ オレイン酸20部、トリメチロールプロパン47部
を４つ口フラスコ中、炭酸ガス気流下で240℃で
酸価５以下まで反応させる。その後無水フタル酸
33部を加え、同温度で反応し、酸価５以下に水酸
基当量180のアルキツド樹脂を得る。次にこのア
ルキツド樹脂71.5部、ベンゼン10.0部を還流器、
撹拌機付４つ口フラスコに仕込み、90℃に加熱
し、アクリル酸28.5部、ｐ−トルエンスルフオン
酸1.0部、ハイドロキノン0.1部を85〜95℃で空気
を吹き込みながら滴下し、滴下後徐々に昇温し
100〜120℃で反応し、酸価５以下の時点でベンゼ
ンを除去し、汲み出した。これをワニスＤとす
る。 このワニスＤを用いて以下の処方で実施例１と
同様に電子線硬化性組成物Ｄを調製した。 ワニスＤ 51部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 35.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） 13部 ハイドロキノン 0.1部 タツク値11.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｄ
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例１と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Ｄとした。 次に実施例１と同様に版材Ｄを線量20メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｄを現
像乾燥して刷版Ｄを製造した。 実施例 ５ エピコート828（シエル石油(株)製エポキシ樹脂）
71.7部、アクリル酸28.3部、ハイドロキノン0.1
部、トリエチレンジアミン0.1部を還流管、攪拌
機付４つ口フラスコに仕込み、空気を吹きこみな
がら90〜110℃で15〜20時間反応させ酸価１以下
になつた時点で汲み出した。これをワニスＥとす
る。 このワニスＥを用いて以下の処方で実施例１と
同様に電子線硬化性組成物Ｅを調製した。 ワニスＥ 54部 ビスフエノールＡエチレンオキサイド 付加体ジアクリレート 32.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） 13部 テトラメチルチウラムジサルフアイト 0.1部 タツク値11.0 フロー値16.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｅ
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例１と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Ｅとした。 次に実施例１と同様に版材Ｅを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｅを現
像、乾燥して刷版Ｅを製造した。 実施例 ６ ペンタエリスリトールトリアクリレート63.1部
を還流管付４つ口フラスコに仕込み、38〜40℃に
保ち、トルエンジイソシアネート36.9部を１時間
かけ滴下加える。残留イソシアネート基8.7％前
後で一定となつた時反応をやめ汲みだした。これ
をアクリル化イソシアネートＡと称する。 次にオレイン酸20部、トリメチロールプロパン
47部を攪拌機付４つ口フラスコ中で、炭酸ガス気
流下240℃で酸価５以下になるまで反応させた。
その後無水フタル酸33部を加え同温度で３時間反
応させ、酸価５以下、水酸基当量180のアルキツ
ドを得た。 この水酸基当量180のアルキツド90部とトリメ
チロールプロパントリアクリレート40部とハイド
ロキノン0.1部を混合溶解し、上記アクリル化イ
ソシアネートA104.4部を添加し60〜70℃で７〜
９時間反応させ、残留イソシアネート基が0.27以
下になつた時汲みだした。これをワニスＦとす
る。このワニスＦを用いて以下の処方で実施例１
と同様に電子線硬化性組成物Ｆを調製した。 ワニスＦ 47部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 39.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） 13部 Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミ
ニウム塩 0.1部 タツク値8.0 フロー値17.0 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｆ
を、ブラシ研磨して砂目立をした後、陽極酸化処
理した厚さ300μmのアルミ板に実施例１と同様に
皮膜厚10μmで印刷し版材Ｆとした。 次に実施例１と同様に版材Ｆを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｆを現
像、乾燥して刷版Ｆを製造した。 実施例 ７ 実施例１で得られた樹脂(A)−１を48.5部とメチ
ルエチルケトン51.5部を常法にて溶解してワニス
Ｇとする。このワニスＧを用い以下の処方でボー
ルミルを用いて顔料の最大粒子が10μmとなるま
で練肉して電子線硬化性組成物Ｇを調製した。 ワニスＧ 96.9部 カーミン6B（Ｔ） （東洋インキ製造(株)紅顔料） ３部 Ｎ−ニトロソフエニルヒドロキシアミンアルミ
ニウム塩 0.1部 得られた電子線硬化性組成物Ｇを粘度は、ザン
カツプ粘度計（No.４カツプ25℃）にて20秒を示し
た。 このようにして得られた電子線硬化性組成物Ｇ
を玉研ぎ法で粗面化した厚さ300μmのアルミ板
に、ロールコーターを用いて皮膜厚20μmとなる
ように塗布した。 塗布後の版材より常法によりメチルエチルケト
ンを蒸発除去し版材上に皮膜厚10μmの固型状の
電子線硬化性組成物を形成させ版材Ｇを製造し
た。 次に実施例１と同様に版材Ｇを線量10メガラド
で走査照射し、更に実施例１と同様に版材Ｇを現
像、乾燥して刷版Ｇを製造した。 実施例 ８ 実施例７と同様にして版材上に皮膜厚10μmの
固型状の電子線硬化性組成物を形成させた版材Ｈ
を製造した。 次に、版材Ｈを走査用の円筒ドラム表面に固定
し、電子線照射装置にチタン箔の窓を使用せずに
電子線照射装置内部と被走査照射部全体を同一の
高真空系に保ち、実施例７と同様に版材Ｈを線量
10メガラドで走査照射し、更に実施例７と同様に
版材Ｈを現像、乾燥して刷版Ｈを製造した。 次に比較例と実施例１〜８で得られた刷版Ｐ及
びＡ〜Ｈの網点再現性の比較を行つた結果と上記
刷版ＰおよびＡ〜Ｈを三菱重工製BBタイプ・オ
フ輪印刷機により印刷テストした結果を示す。 網点再現性：原稿のグレースケールよりアミ分解
されている比較例で得られた刷版Ｐ上のアミ
点スケールのアミ点％を各ステツプごとに測
定し同様に実施例１〜８で得られた刷版Ａ〜
Ｈ上のアミ点スケールのアミ点％をステツプ
ごとに測定した。ここでアミ点スケールの同
一ステツプに関し刷版Ｐと刷版Ａ〜Ｈのアミ
点％測定値を各ステツプごとに比較して従来
の製造方法により得られた刷版Ｐと本発明に
より得られた刷版Ａ〜Ｈのアミ点再現性を比
較した。 なお、アミ点測定にはビユーバツク（東洋イン
キ製造(株)製）を使用した。 印刷テスト使用インキ：WK LTD藍Ａ（東洋イ
ンキ製造(株)製オフ輪インキ） 紙：オフ輪用トツプコート紙（神崎製紙(株)製）Ｂ
サイズ66.5K 耐刷力：三菱重工製BBタイプ・オフ輪印刷機で
刷版Ｐ及びＡ〜Ｇを使用して印刷した結果で
示す。 インキ着肉性：上記のWK LTD藍Ａで印刷した
場合の印刷物のインキの転を肉眼した判断し
た。
【表】
【表】
以上により本発明にて実施して製造した刷版
は、通常使用されている市販のPS版と比較して、
耐刷力、アミ点再現性インキ着肉性において、遜
色のない性能を有していることがわかる。
は、通常使用されている市販のPS版と比較して、
耐刷力、アミ点再現性インキ着肉性において、遜
色のない性能を有していることがわかる。
第１図は、本発明の刷版の製造工程のうち、原
稿から、版材への電子ビーム走査照射部までを示
した構成概略図である。第２図は、電子線照射装
置にチタン箔の窓を使用せず、電子線照射装置と
被走査照射部全体を同一の高真空系に保ち製版す
る場合の本発明の構成概略図である。 図中の各記号は次のとおりである。１……カラ
ースキヤナ、２……原稿走査部、３……原稿、４
……画像処理部、５……レイアウトスキヤナ画像
処理部、６……インターフエース、７……コント
ローラー、８……ブランキングユニツト、９……
電子レンズ、１０……高電圧発生装置、１１……
電子線銃、１２……加速管部、１３……真空ポン
プ、１４……チタン箔、１５……電子ビーム、１
６……走査照射部、１７……版材、１８……窒素
ガス循環装置。
稿から、版材への電子ビーム走査照射部までを示
した構成概略図である。第２図は、電子線照射装
置にチタン箔の窓を使用せず、電子線照射装置と
被走査照射部全体を同一の高真空系に保ち製版す
る場合の本発明の構成概略図である。 図中の各記号は次のとおりである。１……カラ
ースキヤナ、２……原稿走査部、３……原稿、４
……画像処理部、５……レイアウトスキヤナ画像
処理部、６……インターフエース、７……コント
ローラー、８……ブランキングユニツト、９……
電子レンズ、１０……高電圧発生装置、１１……
電子線銃、１２……加速管部、１３……真空ポン
プ、１４……チタン箔、１５……電子ビーム、１
６……走査照射部、１７……版材、１８……窒素
ガス循環装置。
Claims (1)
- １ エチレン性不飽和結合を有する硬化性樹脂を
含む電子線硬化性組成物を施した版用基材上に、
レイアウトスキヤナより得られた電気信号化され
た画像情報出力で制御された電子ビームを走査照
射することを特徴とするオフセツト印刷用刷版の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9942280A JPS5724944A (en) | 1980-07-22 | 1980-07-22 | Printing plate making method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9942280A JPS5724944A (en) | 1980-07-22 | 1980-07-22 | Printing plate making method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5724944A JPS5724944A (en) | 1982-02-09 |
| JPH0579978B2 true JPH0579978B2 (ja) | 1993-11-05 |
Family
ID=14247022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9942280A Granted JPS5724944A (en) | 1980-07-22 | 1980-07-22 | Printing plate making method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5724944A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0749913Y2 (ja) * | 1984-11-01 | 1995-11-13 | 住友特殊金属株式会社 | 圧電磁器振動子 |
| JPH0811004Y2 (ja) * | 1984-11-01 | 1996-03-29 | 住友特殊金属株式会社 | 圧電バイモルフ振動子 |
| JP4305934B2 (ja) * | 2000-04-05 | 2009-07-29 | 荒川化学工業株式会社 | アクリル系重合体組成物の製造方法および粘・接着剤組成物 |
| US8376013B2 (en) | 2008-03-11 | 2013-02-19 | Duke University | Plasmonic assisted systems and methods for interior energy-activation from an exterior source |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2340323C2 (de) * | 1973-08-09 | 1984-09-13 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen |
| US4002829A (en) * | 1974-08-29 | 1977-01-11 | W. R. Grace & Co. | Autosynchronous optical scanning and recording laser system with fiber optic light detection |
| JPS5369702A (en) * | 1976-11-30 | 1978-06-21 | Hitachi Ltd | Device for etching by laser |
-
1980
- 1980-07-22 JP JP9942280A patent/JPS5724944A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5724944A (en) | 1982-02-09 |
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