JPH058074A - レーザビーム加工機 - Google Patents
レーザビーム加工機Info
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- JPH058074A JPH058074A JP3185297A JP18529791A JPH058074A JP H058074 A JPH058074 A JP H058074A JP 3185297 A JP3185297 A JP 3185297A JP 18529791 A JP18529791 A JP 18529791A JP H058074 A JPH058074 A JP H058074A
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- Japan
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- laser beam
- phase
- processing machine
- optical element
- optical axis
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大出力レーザ光を被加工材に照射して加工を
行う装置において、レーザー発振器窓の熱レンズ作用に
よるレーザビーム伝送光学系の損傷を防ぎ、装置の耐久
性を向上させる。 【構成】 ベントミラー３とコリメーションミラー４と
の間に光学素子８を設け、該素子８の凸部２０を通過し
たレーザ光の位相を遅らせる。
行う装置において、レーザー発振器窓の熱レンズ作用に
よるレーザビーム伝送光学系の損傷を防ぎ、装置の耐久
性を向上させる。 【構成】 ベントミラー３とコリメーションミラー４と
の間に光学素子８を設け、該素子８の凸部２０を通過し
たレーザ光の位相を遅らせる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレーザビームを用いて
金属などの加工を行うレーザビーム加工機に関するもの
である。
金属などの加工を行うレーザビーム加工機に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】図１０は従来のレーザビーム加工機の装
置構成を示す図である。図において、１はレーザ発振
器、２はレーザ発振器１前部に取付けられたレーザ発振
器窓であり、該発振器窓２を透過したレーザ光が、ベン
ドミラー３，コリメーションミラー４，加工ヘッド窓
５，放物面ミラー６からなるレーザビーム伝送光学系を
経て被加工物７へ照射されるように構成されている。
置構成を示す図である。図において、１はレーザ発振
器、２はレーザ発振器１前部に取付けられたレーザ発振
器窓であり、該発振器窓２を透過したレーザ光が、ベン
ドミラー３，コリメーションミラー４，加工ヘッド窓
５，放物面ミラー６からなるレーザビーム伝送光学系を
経て被加工物７へ照射されるように構成されている。
【０００３】次に動作について説明する。炭酸ガスレー
ザ等の連続発振型のレーザ発振器１から発振されたレー
ザビームは、発振器窓２を通過した後、ベンドミラー３
により方向を変えられ、さらにコリメーションミラー４
により発散を低減されて加工ヘッド窓５へと導かれる。
そして加工ヘッド窓５を通過したレーザビームは放物面
ミラー６へ伝送され、ここで被加工物７に適切に焦点を
結ぶように集光して投射される。これによって、被加工
物７が局所的、かつ瞬間的に加熱され、切断，溶接等の
加工がなされる。
ザ等の連続発振型のレーザ発振器１から発振されたレー
ザビームは、発振器窓２を通過した後、ベンドミラー３
により方向を変えられ、さらにコリメーションミラー４
により発散を低減されて加工ヘッド窓５へと導かれる。
そして加工ヘッド窓５を通過したレーザビームは放物面
ミラー６へ伝送され、ここで被加工物７に適切に焦点を
結ぶように集光して投射される。これによって、被加工
物７が局所的、かつ瞬間的に加熱され、切断，溶接等の
加工がなされる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザビーム加
工機は以上のように構成されており、そのレーザビーム
伝送光学系は発振器窓に熱レンズ作用がない状態を基に
して設計されているので、発振器窓がレーザビームをわ
ずかに吸収し、熱レンズ作用が起こった場合、レーザビ
ームが異常な位置で極度に集束し、レーザビーム伝送光
学系を構成する光学素子を破損するという問題点があっ
た。
工機は以上のように構成されており、そのレーザビーム
伝送光学系は発振器窓に熱レンズ作用がない状態を基に
して設計されているので、発振器窓がレーザビームをわ
ずかに吸収し、熱レンズ作用が起こった場合、レーザビ
ームが異常な位置で極度に集束し、レーザビーム伝送光
学系を構成する光学素子を破損するという問題点があっ
た。
【０００５】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、発振器窓に熱レンズ作用が起こ
った場合にもレーザビームの異常集束を解消することが
できるレーザビーム加工機を得ることを目的とする。
ためになされたもので、発振器窓に熱レンズ作用が起こ
った場合にもレーザビームの異常集束を解消することが
できるレーザビーム加工機を得ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るレーザビ
ーム加工機は、レーザビームの伝送光学系中に配設さ
れ、レーザビームの位相を、その光軸に垂直な平面にお
ける位相バラツキが低減するよう部分的にシフトさせる
位相調整手段を備えたものである。
ーム加工機は、レーザビームの伝送光学系中に配設さ
れ、レーザビームの位相を、その光軸に垂直な平面にお
ける位相バラツキが低減するよう部分的にシフトさせる
位相調整手段を備えたものである。
【０００７】
【作用】この発明においては、レーザビームの伝送光学
系中に位相調整手段を設け、レーザビームの位相を、そ
の光軸に垂直な平面における位相バラツキが低減するよ
う部分的にシフトさせるようにしたから、光学系を構成
する構成部材上でのレーザビームの異常集束を解消する
ことができる。
系中に位相調整手段を設け、レーザビームの位相を、そ
の光軸に垂直な平面における位相バラツキが低減するよ
う部分的にシフトさせるようにしたから、光学系を構成
する構成部材上でのレーザビームの異常集束を解消する
ことができる。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図１において、図１０と同一符号は同一または相
当部分を示し、８はコリメーションミラー４のレーザ発
振器１側のレーザビームの光路中、すなわちベンドミラ
ー３とコリメーションミラー４間に配設された光学素子
である。図２はこの光学素子８の構造を示す図であり、
図(a) はその平面図であり、同図(b) は図２(a) のＢ−
Ｂ線による断面図である。図において、２８は光学素子
８の透光性基板であり、２０はその一方の面に形成され
た円環状の凸部である。そしてこの透光性基板２８の両
面には２１〜２４で示す反射防止用の透光膜がコーティ
ングされている。
する。図１において、図１０と同一符号は同一または相
当部分を示し、８はコリメーションミラー４のレーザ発
振器１側のレーザビームの光路中、すなわちベンドミラ
ー３とコリメーションミラー４間に配設された光学素子
である。図２はこの光学素子８の構造を示す図であり、
図(a) はその平面図であり、同図(b) は図２(a) のＢ−
Ｂ線による断面図である。図において、２８は光学素子
８の透光性基板であり、２０はその一方の面に形成され
た円環状の凸部である。そしてこの透光性基板２８の両
面には２１〜２４で示す反射防止用の透光膜がコーティ
ングされている。
【０００９】次に動作について説明する。ここで、基本
的な動作は図１０に示した従来のものと同様であるた
め、ここではその説明を省略する。図３は光学素子８の
使用態様を示す説明図であり、レーザビームの進行方向
に対して、コリメーションミラー４の直前に光学素子８
を配設し、レーザビームはこの光学素子８の凸所２０及
び凸所２０以外の部分を透過して、位相の空間的分布を
変化せしめられた状態でコリメーションミラー４で発散
を低減されて加工ヘッド窓５に入射される。
的な動作は図１０に示した従来のものと同様であるた
め、ここではその説明を省略する。図３は光学素子８の
使用態様を示す説明図であり、レーザビームの進行方向
に対して、コリメーションミラー４の直前に光学素子８
を配設し、レーザビームはこの光学素子８の凸所２０及
び凸所２０以外の部分を透過して、位相の空間的分布を
変化せしめられた状態でコリメーションミラー４で発散
を低減されて加工ヘッド窓５に入射される。
【００１０】図４は、この光学素子８の入射前後におけ
るレーザビームの位相分布を示す説明図であり、横軸に
レーザビーム中心軸（光軸）からの距離を任意の目盛り
で、また縦軸に位相（度）を示してある。同図(a) は光
学素子８に入射する前の位相分布を示し、異常収束によ
りレーザビームの中心軸に向けて位相（度）が大きくな
っていることがわかる。また同図(b) は、光学素子８を
通過した後のレーザビームの位相分布を示している。こ
の光学素子を通過することにより、 （ｎ−１）・ｄ・２π／λ （ｎ：屈折率，ｄ：凸部２０と他の部分との肉厚差，
λ：光の波長）だけ凸部２０を透過した光の位相（図中
一点鎖線で示す区間）がその他の部分を透過した光の位
相よりも遅れることとなる。
るレーザビームの位相分布を示す説明図であり、横軸に
レーザビーム中心軸（光軸）からの距離を任意の目盛り
で、また縦軸に位相（度）を示してある。同図(a) は光
学素子８に入射する前の位相分布を示し、異常収束によ
りレーザビームの中心軸に向けて位相（度）が大きくな
っていることがわかる。また同図(b) は、光学素子８を
通過した後のレーザビームの位相分布を示している。こ
の光学素子を通過することにより、 （ｎ−１）・ｄ・２π／λ （ｎ：屈折率，ｄ：凸部２０と他の部分との肉厚差，
λ：光の波長）だけ凸部２０を透過した光の位相（図中
一点鎖線で示す区間）がその他の部分を透過した光の位
相よりも遅れることとなる。
【００１１】その結果、加工ヘッド窓５上での光強度分
布は図５に示すようになる。同図(a) は光学素子８を使
用しない場合であり、同図(b) は光学素子８を使用した
場合の光強度分布を示している。この図から明らかなよ
うに、光学素子８を用いると、加工ヘッド窓５上での光
のピーク強度を低減することができる。従って、加工ヘ
ッド窓５でのピーク光強度が低減されるので、加工ヘッ
ド窓５の破損等の問題がなくなり、装置の信頼性，耐久
性が向上する。
布は図５に示すようになる。同図(a) は光学素子８を使
用しない場合であり、同図(b) は光学素子８を使用した
場合の光強度分布を示している。この図から明らかなよ
うに、光学素子８を用いると、加工ヘッド窓５上での光
のピーク強度を低減することができる。従って、加工ヘ
ッド窓５でのピーク光強度が低減されるので、加工ヘッ
ド窓５の破損等の問題がなくなり、装置の信頼性，耐久
性が向上する。
【００１２】このように本実施例によれば、ベントミラ
ー３とコリメーションミラー４との間に光学素子８を設
け、該素子の凸部２０を通過したレーザ光の位相を遅ら
せるようにしたから、加工ヘッド窓５上における光のピ
ーク強度が低減され、換言するとレーザ光の異常収束が
緩和され、加工ヘッド窓５が破損することがない。
ー３とコリメーションミラー４との間に光学素子８を設
け、該素子の凸部２０を通過したレーザ光の位相を遅ら
せるようにしたから、加工ヘッド窓５上における光のピ
ーク強度が低減され、換言するとレーザ光の異常収束が
緩和され、加工ヘッド窓５が破損することがない。
【００１３】なお、上記実施例では、レーザビームの位
相の変化を透光性の光学素子８をコリメーションミラー
４の直前に設置することにより行ったが、図６の第２の
実施例に示すようにコリメーションミラー４自体に位相
変化を与える部分を設けてもよい。同図(a) は、位相変
化部が設けられたコリメーションミラー９の平面図であ
り、同図(b) は同図(a) のＢ−Ｂ線による断面図であ
る。図に示すように、コリメーションミラー９は銅等の
基板３２に金等の薄膜３１を張り合わせ、薄膜３１上に
円環状の凹部３０を形成したものである。この光学素子
９により反射されることにより、 ｄ・４π／λ （ｄ：凹部３０と他の部分との肉厚差，λ：光の波長）
だけ凹部３０を反射した光の位相がその他の部分を反射
した光の位相よりも遅れることとなり、前記の光学素子
８と同様の効果を奏する。
相の変化を透光性の光学素子８をコリメーションミラー
４の直前に設置することにより行ったが、図６の第２の
実施例に示すようにコリメーションミラー４自体に位相
変化を与える部分を設けてもよい。同図(a) は、位相変
化部が設けられたコリメーションミラー９の平面図であ
り、同図(b) は同図(a) のＢ−Ｂ線による断面図であ
る。図に示すように、コリメーションミラー９は銅等の
基板３２に金等の薄膜３１を張り合わせ、薄膜３１上に
円環状の凹部３０を形成したものである。この光学素子
９により反射されることにより、 ｄ・４π／λ （ｄ：凹部３０と他の部分との肉厚差，λ：光の波長）
だけ凹部３０を反射した光の位相がその他の部分を反射
した光の位相よりも遅れることとなり、前記の光学素子
８と同様の効果を奏する。
【００１４】図７は本発明の第１の実施例による光学素
子の変形例を示す図である。この実施例では、レーザビ
ーム加工機の伝送光路中のコリメーションミラー４のレ
ーザ光源１側のレーザビームの光路中に配設される光学
素子の凸部の上端面を素子中心に向けて傾斜させたもの
であり、図において、４７は当該光学素子１０の透光性
基板であり、４０はその一方の面に形成された凸部であ
り、その肉厚は光軸側の方が周辺側よりも薄くなってい
る。即ち、前記透光性基板４７の凸部４０の光軸側の肉
厚ｄ1 及び周辺側の肉厚ｄ2 は、ｄ1 ≦ｄ2 の範囲で設
定されている。なお４１〜４４はこの透光性基板４７の
両面にコーティングされた反射防止用の透光膜である。
子の変形例を示す図である。この実施例では、レーザビ
ーム加工機の伝送光路中のコリメーションミラー４のレ
ーザ光源１側のレーザビームの光路中に配設される光学
素子の凸部の上端面を素子中心に向けて傾斜させたもの
であり、図において、４７は当該光学素子１０の透光性
基板であり、４０はその一方の面に形成された凸部であ
り、その肉厚は光軸側の方が周辺側よりも薄くなってい
る。即ち、前記透光性基板４７の凸部４０の光軸側の肉
厚ｄ1 及び周辺側の肉厚ｄ2 は、ｄ1 ≦ｄ2 の範囲で設
定されている。なお４１〜４４はこの透光性基板４７の
両面にコーティングされた反射防止用の透光膜である。
【００１５】次に動作について説明する。この光学素子
１０に入射する前と、光学素子１０を透過した後のレー
ザビームの位相分布は、図８に示すものとなる。この光
学素子を通過することにより、図８(b) の一点鎖線に示
すように、凸部４０の光軸側を透過する光の位相は、 （ｎ−１）・ｄ1 ・２π／λ （ｎ：屈折率，ｄ1 ：凸部４０の光軸側部分のと他の部
分との肉厚差，λ：光の波長）だけ、また凸部の周辺側
を透過する光の位相は、 （ｎ−１）・ｄ2 ・２π／λ （ｎ：屈折率，ｄ2 ：凸部４０の周辺側部分のと他の部
分との肉厚差，λ：光の波長）だけ、凸部４０が形成さ
れていない部分を透過した光の位相よりも遅れることと
なり、第１の実施例に比べて凸部における位相の変化度
合いが緩慢となり加工ヘッド窓５上での光強度ピークも
より分散し第１の実施例よりもやや低減したものとな
り、その結果、装置の信頼性，耐久性が向上する。
１０に入射する前と、光学素子１０を透過した後のレー
ザビームの位相分布は、図８に示すものとなる。この光
学素子を通過することにより、図８(b) の一点鎖線に示
すように、凸部４０の光軸側を透過する光の位相は、 （ｎ−１）・ｄ1 ・２π／λ （ｎ：屈折率，ｄ1 ：凸部４０の光軸側部分のと他の部
分との肉厚差，λ：光の波長）だけ、また凸部の周辺側
を透過する光の位相は、 （ｎ−１）・ｄ2 ・２π／λ （ｎ：屈折率，ｄ2 ：凸部４０の周辺側部分のと他の部
分との肉厚差，λ：光の波長）だけ、凸部４０が形成さ
れていない部分を透過した光の位相よりも遅れることと
なり、第１の実施例に比べて凸部における位相の変化度
合いが緩慢となり加工ヘッド窓５上での光強度ピークも
より分散し第１の実施例よりもやや低減したものとな
り、その結果、装置の信頼性，耐久性が向上する。
【００１６】つぎに本発明の第２の実施例の変形例につ
いて説明する。この実施例では銅等の基板５２と金等の
薄膜５１を張り合わせてコリメーションミラー１１を構
成し、薄膜５１に凹部を形成しコリメーションミラー自
体に位相変化を与える部分を設けたものにおいて、凹部
５０の深さを光軸側の方が周辺側よりも浅くなるように
したものである。即ち、薄膜５１上の凹部５０の光軸側
の深さｄ1 及び周辺側の深さｄ2 は、ｄ1 ≦ｄ2 の範囲
で設定されている。
いて説明する。この実施例では銅等の基板５２と金等の
薄膜５１を張り合わせてコリメーションミラー１１を構
成し、薄膜５１に凹部を形成しコリメーションミラー自
体に位相変化を与える部分を設けたものにおいて、凹部
５０の深さを光軸側の方が周辺側よりも浅くなるように
したものである。即ち、薄膜５１上の凹部５０の光軸側
の深さｄ1 及び周辺側の深さｄ2 は、ｄ1 ≦ｄ2 の範囲
で設定されている。
【００１７】この光学素子１１により反射されることに
より、凹部５０の光軸側を反射する光の位相は、 ｄ1 ・４π／λ （ｄ1 ：凹部５０の光軸側部分と他の部分との肉厚差，
λ：光の波長）だけ、また凹部５０の周辺側を反射する
光の位相は、 ｄ2 ・４π／λ （ｄ2 ：凹部５０の周辺側部分と他の部分との肉厚差，
λ：光の波長）だけ、凹部５０を反射した光の位相が他
の部分を反射した光の位相よりも遅れることとなり、第
２の実施例に比べて凹部における位相の変化度合いが緩
慢となり加工ヘッド窓５上での光強度ピークも分散し第
２の実施例よりもやや低減したものとなる。
より、凹部５０の光軸側を反射する光の位相は、 ｄ1 ・４π／λ （ｄ1 ：凹部５０の光軸側部分と他の部分との肉厚差，
λ：光の波長）だけ、また凹部５０の周辺側を反射する
光の位相は、 ｄ2 ・４π／λ （ｄ2 ：凹部５０の周辺側部分と他の部分との肉厚差，
λ：光の波長）だけ、凹部５０を反射した光の位相が他
の部分を反射した光の位相よりも遅れることとなり、第
２の実施例に比べて凹部における位相の変化度合いが緩
慢となり加工ヘッド窓５上での光強度ピークも分散し第
２の実施例よりもやや低減したものとなる。
【００１８】なお上記実施例では加工ヘッド窓５の前段
のベントミラー３とコリメーションミラー４との間に光
学素子８を設け、あるいはコリメーションミラー自体に
光学素子を設け、レーザ発振器１から出射されるレーザ
光の位相を制御することで、加工ヘッド窓５の損傷を防
止するようにしたが、レーザ光の位相を制御する光学素
子を設ける場所はここに限られるものでなく、要はレー
ザ光の異常収束により破壊される恐れのある光学系構成
部材の前段に設ければよく、またその設置箇所も複数で
あってもよい。
のベントミラー３とコリメーションミラー４との間に光
学素子８を設け、あるいはコリメーションミラー自体に
光学素子を設け、レーザ発振器１から出射されるレーザ
光の位相を制御することで、加工ヘッド窓５の損傷を防
止するようにしたが、レーザ光の位相を制御する光学素
子を設ける場所はここに限られるものでなく、要はレー
ザ光の異常収束により破壊される恐れのある光学系構成
部材の前段に設ければよく、またその設置箇所も複数で
あってもよい。
【００１９】さらに上記実施例ではレーザ発振器として
炭酸ガスレーザ等の連続発振型のものを例として挙げた
が、ルビーレーザやガラスレーザ等のパルスレーザを用
いてもよいことは言うまでもない。
炭酸ガスレーザ等の連続発振型のものを例として挙げた
が、ルビーレーザやガラスレーザ等のパルスレーザを用
いてもよいことは言うまでもない。
【００２０】
【発明の効果】以上のように、この発明に係るレーザビ
ーム加工機によれば、レーザビームの伝送光学系中に位
相調整手段を設け、レーザビームの位相を、その光軸に
垂直な平面における位相バラツキが低減するよう部分的
にシフトさせるようにしたから、光学系を構成する構成
部材上でのレーザビームの異常集束を低減でき、装置の
信頼性，耐久性を向上させることができるという効果が
ある。
ーム加工機によれば、レーザビームの伝送光学系中に位
相調整手段を設け、レーザビームの位相を、その光軸に
垂直な平面における位相バラツキが低減するよう部分的
にシフトさせるようにしたから、光学系を構成する構成
部材上でのレーザビームの異常集束を低減でき、装置の
信頼性，耐久性を向上させることができるという効果が
ある。
【図１】この発明の第１の実施例によるレーザビーム加
工機を示す構成図。
工機を示す構成図。
【図２】この発明の第１の実施例によるレーザビーム加
工機の光学素子の構造を示す図。
工機の光学素子の構造を示す図。
【図３】この発明の第１の実施例によるレーザビーム加
工機の光学素子の使用態様を示す図。
工機の光学素子の使用態様を示す図。
【図４】この発明の第１の実施例によるレーザビーム加
工機の光学素子入射前後におけるレーザビームの位相分
布を示す図。
工機の光学素子入射前後におけるレーザビームの位相分
布を示す図。
【図５】この発明の第１の実施例によるレーザビーム加
工機の光学素子を用いた場合の加工ヘッド窓上でレーザ
ビームの光強度分布の変化を示す図。
工機の光学素子を用いた場合の加工ヘッド窓上でレーザ
ビームの光強度分布の変化を示す図。
【図６】この発明の第２の実施例によるレーザビーム加
工機の光学素子の構造を示す図。
工機の光学素子の構造を示す図。
【図７】この発明の第１の実施例のレーザビーム加工機
の光学素子の変形例を示す図。
の光学素子の変形例を示す図。
【図８】この発明の第１の実施例のレーザビーム加工機
の光学素子入射前後におけるレーザビームの位相分布を
示す図。
の光学素子入射前後におけるレーザビームの位相分布を
示す図。
【図９】この発明の第２の実施例のレーザビーム加工機
の光学素子の変形例を示す図。
の光学素子の変形例を示す図。
【図１０】従来のレーザビーム加工機を示す構成図。
１ レーザ発振器
２ レーザ発振器窓
３ ベンドミラー
４ コリメーションミラー
５ 加工ヘッド窓
６ 放物面ミラー
７ 被加工物
８ 光学素子（位相調整手段）
９ 光学素子（位相調整手段）
１０ 光学素子（位相調整手段）
１１ 光学素子（位相調整手段）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 頭本 信行
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三
菱電機株式会社生産技術研究所内
(72)発明者 内山 淑惠
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三
菱電機株式会社生産技術研究所内
(72)発明者 田中 正明
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三
菱電機株式会社生産技術研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 レーザビームを集光光学系を用いて集光
して被加工部材の加工を行うレーザビーム加工機におい
て、前記レーザビームの伝送光路中に配設され、レーザ
ビームの位相を、その光軸に垂直な平面における位相バ
ラツキが低減するよう部分的にシフトさせる位相調整手
段を備えたことを特徴とするレーザビーム加工機。 - 【請求項２】 上記位相調整手段は、上記レーザビーム
の光軸に対して円環状の位相変化領域を形成するもので
あることを特徴とする請求項１記載のレーザビーム加工
機。 - 【請求項３】 上記円環状の位相変化領域における位相
変化量が、光軸周辺部と光軸近傍において一定であるこ
とを特徴とする請求項２記載のレーザビーム加工機。 - 【請求項４】 上記円環状の位相変化領域における位相
変化量が、光軸周辺部の方が光軸近傍よりも大きいこと
を特徴とする請求項２記載のレーザビーム加工機。 - 【請求項５】 上記位相調整手段は、上記集光光学系を
構成する光学部材に具設されたものであることを特徴と
する請求項１記載のレーザビーム加工機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3185297A JPH058074A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | レーザビーム加工機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3185297A JPH058074A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | レーザビーム加工機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH058074A true JPH058074A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=16168397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3185297A Pending JPH058074A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | レーザビーム加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH058074A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113894411A (zh) * | 2020-07-07 | 2022-01-07 | 住友重机械工业株式会社 | 光束整形光学装置及圆度调整方法 |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP3185297A patent/JPH058074A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113894411A (zh) * | 2020-07-07 | 2022-01-07 | 住友重机械工业株式会社 | 光束整形光学装置及圆度调整方法 |
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