JPH0584577B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0584577B2 JPH0584577B2 JP60147539A JP14753985A JPH0584577B2 JP H0584577 B2 JPH0584577 B2 JP H0584577B2 JP 60147539 A JP60147539 A JP 60147539A JP 14753985 A JP14753985 A JP 14753985A JP H0584577 B2 JPH0584577 B2 JP H0584577B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical disk
- adhesive
- recording film
- adhesive composition
- disc
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、レーザーを用いた光デイスクに関す
るものである。 従来の技術 レーザーを利用した光デイスク（以降、光デイ
スクと称する）は、直径30cm足らずの円盤上に
A4文書が数万枚分記憶できる程の大容量を持つ
メモリー媒体であり、このため、形成されるピツ
トはわずか1μm前後の寸法になつてしまう。ま
た、情報の書き込み、読み出しなどは、高速回転
しているデイスク上に、直径1μm前後に絞り込ん
だレーザー光を集光し、位置検出、焦点調節を行
ないながら実行されるものであるため、極く小さ
な傷、異物、基板の変形、ソリ、平行度のズレな
どが信号エラーとなつてしまう。それゆえに、光
デイスクの製造に際しては、半導体製造時に劣ら
ない程、細心の注意が要求されている。光デイス
クは従来、信頼性を高める目的から、第２図に断
面を示すように、レーザー記録用薄膜３を形成し
た透明基板２上に、ホツトメルト系の接着剤５を
用いてもう一枚の透明基板１を貼り合わせた構成
となつていた。（特開昭58−6536号公報および
「ビデオデイスクとDAD入門」岩村總−編著、コ
ロナ社に述べられている。） 発明が解決しようとする問題点 このような従来の接着法を用いた光デイスクで
は、高温乾燥雰囲気や高温多湿雰囲気に放置する
と、デイスクの接着面の剥離が生じたり、接着剤
中に含まれる不純物により光記録膜が腐食すると
いう問題を有していた。本発明はかかる点に鑑み
てなされたもので、信頼性の高い光デイスクを提
供することを目的とするものである。 問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するため、光デイス
クの接着を、組成中に、ビスフエノールＡ型や側
鎖型のエポキシプレポリマーを含有する光硬化性
アクリル系接着剤を用いて行なうというものであ
る。 作 用 この技術的手段による作用は次のようになる。 すなわち、光記録膜を形成した透明基板上にエ
ポキシプレポリマーを添加したアクリル系の光硬
化性接着剤を塗布し、この上に、保護の役割を有
する透明基板を貼り合わせ、２枚の基板の平行度
を保ちながら紫外線を照射して接着固化する。こ
のとき、硬化したアクリル系接着剤は着色が少な
く可塑性を有するため、硬化収縮による基板の変
形や、記録膜上への応力集中が起らず、かつエポ
キシプレポリマーの作用により高温多湿下での記
録膜の劣化を最低限に抑え得るなどの優れたデイ
スクを提供できるようになる。 実施例 以下、本発明を具体的に説明する。 第１図では、表面に光記録層３を形成した透明
基板２と、保護の役割を持つ透明基板１とを本発
明の防食性光硬化性接着剤４で接着した状態を断
面図で説明している。接着剤４の硬化は透明基板
１を透過する紫外線によつて行なう。高温多湿雰
囲気での腐食の進行形態は基板１と基板２の材質
によつて異り、各々の基板のいずれか一方でも透
湿性である場合には、腐食は光記録層の全面に発
生する。基板がいずれもガラスなどのように透湿
性がない場合には、接合の端部からの腐食が観測
される。実施例では、腐食の観察を加速した条件
で評価するため、メタクリル樹脂の透明基板を用
いた例を示しているが、実際には本発明の接着剤
はメタクリル樹脂基板以外に、ポリカーボネイト
樹脂基板、ポリエーテルイミド基板、エポキシ樹
脂基板、ガラス基板にも用いうることを述べてお
く。 （実施例 １） ポリエステル型多官能アクリレート（商品名；
KAYARAD HX−220，日本化薬(株)製）100gに
対しベンジルジメチルケタールを1g溶解し、塗
料用アクリル樹脂（ダイヤナールBR−64，三菱
レイヨン(株)製）を20g溶解したのち、これに、エ
ポキシ当量180〜200のビスフエノールＡ型汎用エ
ポキシプレポリマーを5g溶解させて製造した接
着剤を用い、直径200mm、1.2mm厚のメタクリル樹
脂基板上に0.10μm厚に低酸化テルル化合物を蒸
着したものと、同一サイズのメタクリル樹脂基板
とを接着剤厚みが50〜100μmになるように貼り合
わせたのち、２枚の基板を平行に保ち、これに
500mJ／cm2の紫外光を照射して光デイスクを製造
した。この光デイスクを、80℃の乾燥雰囲気と、
70℃−80％RHの高温多湿雰囲気とに放置して変
化を観測した。200時間経過後のデイスクとして
のＣ／Ｎ低下および外観変化を表に示した。 （実施例 ２） ポリエステル型多官能アクリレート（商品名；
KAYARAD MANDA，日本化薬(株)製）50gに対
し、テトラヒドロフルフリルアクリレートを50gr
混合し、更にエポキシ当量450〜500のビスフエノ
ールＡ型汎用エポキシプレポリマーを5g、塗料
用アクリル樹脂（ダイヤナールBR−64，前出）
を20grおよびベンジルジメチルケタノール1grを
各々溶解混合させて製造した接着剤により、実施
例１と同じく、0.10μmの低酸化テルル化合物を
蒸着した直径200mm、厚さ１，２mmのメタクリル
基板と、同一形状の透明メタクリル基板を実施例
１と同一条件で接着して光デイスクを製造した。
この光デイスクの性能を表に示した。 （実施例 ３） ポリエステル型多官能アクリレート
（KAYARAD MANDA）70gr、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート30gr、エポキシ当量310〜
340の側鎖型エポキシプレポリマー（EP−4000、
旭電化工業(株)製）を5gr、さらに、塗料用アクリ
ル樹脂（ダイヤナールBR−64）を20gr、とベン
ジルジメチルケタノール1grとを溶解混合した接
着剤により、0.1μm厚の低酸化テルル化合物を蒸
着した直径200mm、厚さ1.2mmのメタクリル基板
と、同一形状の透明メタクリル基板を実施例１と
同一条件で接着して光デイスクを製造した。性能
を表に示す。 （実施例 ４） ポリエステル型多官能アクリレート
（KAYARAD MANDA）70gr、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート30gr、エポキシ当量450〜
500のビスフエノールＡ型汎用エポキシ樹脂10gr、
さらにベンジルジメチルチタールを1grを溶解混
合した接着剤により実施例１と同一の材料方法、
条件で光デイスクを製造した。性能を表に示す。 （比較例 １） ポリエステル型多官能アクリレート
（KAYARAD HX−220）を100gr、塗料用アク
リル樹脂（ダイヤナールBR−64）を20gr、ベン
ジルジメチルチタノール1grを溶解混合して接着
剤となし、実施例１に従つて光デイスクを作成し
た。性能を表に示す。 （比較例 ２） 市販のEVA系ホツトメルト接着剤を用いて、
0.1μmの低酸化テルル化合物を蒸着した直径200
mm、厚さ12mmのトタクリル樹脂基板と、同一形状
のメタクリル樹脂基板とを接着した光デイスクを
製造し性能を評価した。結果を表に示す。
るものである。 従来の技術 レーザーを利用した光デイスク（以降、光デイ
スクと称する）は、直径30cm足らずの円盤上に
A4文書が数万枚分記憶できる程の大容量を持つ
メモリー媒体であり、このため、形成されるピツ
トはわずか1μm前後の寸法になつてしまう。ま
た、情報の書き込み、読み出しなどは、高速回転
しているデイスク上に、直径1μm前後に絞り込ん
だレーザー光を集光し、位置検出、焦点調節を行
ないながら実行されるものであるため、極く小さ
な傷、異物、基板の変形、ソリ、平行度のズレな
どが信号エラーとなつてしまう。それゆえに、光
デイスクの製造に際しては、半導体製造時に劣ら
ない程、細心の注意が要求されている。光デイス
クは従来、信頼性を高める目的から、第２図に断
面を示すように、レーザー記録用薄膜３を形成し
た透明基板２上に、ホツトメルト系の接着剤５を
用いてもう一枚の透明基板１を貼り合わせた構成
となつていた。（特開昭58−6536号公報および
「ビデオデイスクとDAD入門」岩村總−編著、コ
ロナ社に述べられている。） 発明が解決しようとする問題点 このような従来の接着法を用いた光デイスクで
は、高温乾燥雰囲気や高温多湿雰囲気に放置する
と、デイスクの接着面の剥離が生じたり、接着剤
中に含まれる不純物により光記録膜が腐食すると
いう問題を有していた。本発明はかかる点に鑑み
てなされたもので、信頼性の高い光デイスクを提
供することを目的とするものである。 問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するため、光デイス
クの接着を、組成中に、ビスフエノールＡ型や側
鎖型のエポキシプレポリマーを含有する光硬化性
アクリル系接着剤を用いて行なうというものであ
る。 作 用 この技術的手段による作用は次のようになる。 すなわち、光記録膜を形成した透明基板上にエ
ポキシプレポリマーを添加したアクリル系の光硬
化性接着剤を塗布し、この上に、保護の役割を有
する透明基板を貼り合わせ、２枚の基板の平行度
を保ちながら紫外線を照射して接着固化する。こ
のとき、硬化したアクリル系接着剤は着色が少な
く可塑性を有するため、硬化収縮による基板の変
形や、記録膜上への応力集中が起らず、かつエポ
キシプレポリマーの作用により高温多湿下での記
録膜の劣化を最低限に抑え得るなどの優れたデイ
スクを提供できるようになる。 実施例 以下、本発明を具体的に説明する。 第１図では、表面に光記録層３を形成した透明
基板２と、保護の役割を持つ透明基板１とを本発
明の防食性光硬化性接着剤４で接着した状態を断
面図で説明している。接着剤４の硬化は透明基板
１を透過する紫外線によつて行なう。高温多湿雰
囲気での腐食の進行形態は基板１と基板２の材質
によつて異り、各々の基板のいずれか一方でも透
湿性である場合には、腐食は光記録層の全面に発
生する。基板がいずれもガラスなどのように透湿
性がない場合には、接合の端部からの腐食が観測
される。実施例では、腐食の観察を加速した条件
で評価するため、メタクリル樹脂の透明基板を用
いた例を示しているが、実際には本発明の接着剤
はメタクリル樹脂基板以外に、ポリカーボネイト
樹脂基板、ポリエーテルイミド基板、エポキシ樹
脂基板、ガラス基板にも用いうることを述べてお
く。 （実施例 １） ポリエステル型多官能アクリレート（商品名；
KAYARAD HX−220，日本化薬(株)製）100gに
対しベンジルジメチルケタールを1g溶解し、塗
料用アクリル樹脂（ダイヤナールBR−64，三菱
レイヨン(株)製）を20g溶解したのち、これに、エ
ポキシ当量180〜200のビスフエノールＡ型汎用エ
ポキシプレポリマーを5g溶解させて製造した接
着剤を用い、直径200mm、1.2mm厚のメタクリル樹
脂基板上に0.10μm厚に低酸化テルル化合物を蒸
着したものと、同一サイズのメタクリル樹脂基板
とを接着剤厚みが50〜100μmになるように貼り合
わせたのち、２枚の基板を平行に保ち、これに
500mJ／cm2の紫外光を照射して光デイスクを製造
した。この光デイスクを、80℃の乾燥雰囲気と、
70℃−80％RHの高温多湿雰囲気とに放置して変
化を観測した。200時間経過後のデイスクとして
のＣ／Ｎ低下および外観変化を表に示した。 （実施例 ２） ポリエステル型多官能アクリレート（商品名；
KAYARAD MANDA，日本化薬(株)製）50gに対
し、テトラヒドロフルフリルアクリレートを50gr
混合し、更にエポキシ当量450〜500のビスフエノ
ールＡ型汎用エポキシプレポリマーを5g、塗料
用アクリル樹脂（ダイヤナールBR−64，前出）
を20grおよびベンジルジメチルケタノール1grを
各々溶解混合させて製造した接着剤により、実施
例１と同じく、0.10μmの低酸化テルル化合物を
蒸着した直径200mm、厚さ１，２mmのメタクリル
基板と、同一形状の透明メタクリル基板を実施例
１と同一条件で接着して光デイスクを製造した。
この光デイスクの性能を表に示した。 （実施例 ３） ポリエステル型多官能アクリレート
（KAYARAD MANDA）70gr、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート30gr、エポキシ当量310〜
340の側鎖型エポキシプレポリマー（EP−4000、
旭電化工業(株)製）を5gr、さらに、塗料用アクリ
ル樹脂（ダイヤナールBR−64）を20gr、とベン
ジルジメチルケタノール1grとを溶解混合した接
着剤により、0.1μm厚の低酸化テルル化合物を蒸
着した直径200mm、厚さ1.2mmのメタクリル基板
と、同一形状の透明メタクリル基板を実施例１と
同一条件で接着して光デイスクを製造した。性能
を表に示す。 （実施例 ４） ポリエステル型多官能アクリレート
（KAYARAD MANDA）70gr、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート30gr、エポキシ当量450〜
500のビスフエノールＡ型汎用エポキシ樹脂10gr、
さらにベンジルジメチルチタールを1grを溶解混
合した接着剤により実施例１と同一の材料方法、
条件で光デイスクを製造した。性能を表に示す。 （比較例 １） ポリエステル型多官能アクリレート
（KAYARAD HX−220）を100gr、塗料用アク
リル樹脂（ダイヤナールBR−64）を20gr、ベン
ジルジメチルチタノール1grを溶解混合して接着
剤となし、実施例１に従つて光デイスクを作成し
た。性能を表に示す。 （比較例 ２） 市販のEVA系ホツトメルト接着剤を用いて、
0.1μmの低酸化テルル化合物を蒸着した直径200
mm、厚さ12mmのトタクリル樹脂基板と、同一形状
のメタクリル樹脂基板とを接着した光デイスクを
製造し性能を評価した。結果を表に示す。
【表】
発明の効果
本発明による光デイスクは、寿命試験後も基板
の剥離や記録膜の腐食などという致命的欠陥がな
く、Ｃ／Ｎの変化も±1dB以内であるなど従来例
と違い高い信頼性を有している。 すなわち本発明は、高性能で高信頼性の光デイ
スクの提供を可能ならしめるものである。
の剥離や記録膜の腐食などという致命的欠陥がな
く、Ｃ／Ｎの変化も±1dB以内であるなど従来例
と違い高い信頼性を有している。 すなわち本発明は、高性能で高信頼性の光デイ
スクの提供を可能ならしめるものである。
第１図は本発明の一実施例の光デイスクの拡大
断面図、第２図は従来例の光デイスクの拡大断面
図である。 １，２……透明基板、３……光記録膜、４……
防食性接着剤、５……ホツトメルト接着剤。
断面図、第２図は従来例の光デイスクの拡大断面
図である。 １，２……透明基板、３……光記録膜、４……
防食性接着剤、５……ホツトメルト接着剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ レーザー光により書き込み、読み出しが出来
る記録膜を有する円盤と、これと同一形状で記録
膜を有しない透明基板からなる円盤とを、エポキ
シプレポリマーを含有することで硬化後も可塑性
を有する光硬化性アクリル系接着剤組成物で貼り
合わせてなる光デイスク。 ２ 光硬化性アクリル系接着剤組成物が、アクリ
ルモノマー単独、もしくは高分子増粘剤とアクリ
ルモノマーとの組成物に、紫外線開始剤を添加し
たものである特許請求の範囲第１項記載の光デイ
スク。 ３ アクリルモノマーが、ポリエステル型多官能
アクリレート単独、もしくはこれとテトラヒドロ
フルフリルアクリレートとの混合物である特許請
求の範囲第２記載の光デイスク。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60147539A JPS628342A (ja) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | 光デイスク |
| EP86305118A EP0208503B1 (en) | 1985-07-04 | 1986-07-01 | Signal recording disc |
| DE8686305118T DE3669800D1 (de) | 1985-07-04 | 1986-07-01 | Platte zur aufzeichnung von signalen. |
| KR1019860005380A KR900004756B1 (ko) | 1985-07-04 | 1986-07-03 | 신호 기록판 |
| US07/091,349 US4760012A (en) | 1985-07-04 | 1987-08-28 | Signal recording disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60147539A JPS628342A (ja) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS628342A JPS628342A (ja) | 1987-01-16 |
| JPH0584577B2 true JPH0584577B2 (ja) | 1993-12-02 |
Family
ID=15432601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60147539A Granted JPS628342A (ja) | 1985-07-04 | 1985-07-04 | 光デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS628342A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2637739B2 (ja) * | 1987-09-02 | 1997-08-06 | 株式会社 日立製作所 | 磁気光学ヘッド |
| JP6137023B2 (ja) | 2014-03-31 | 2017-05-31 | 住友大阪セメント株式会社 | 光導波路素子 |
-
1985
- 1985-07-04 JP JP60147539A patent/JPS628342A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS628342A (ja) | 1987-01-16 |
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