JPH058482U - ビーム電流密度分布測定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 ビームコレクタ３は、Ｘ方向駆動機構部１３
とＹ方向駆動機構部１４とに駆動されてイオンビーム１
内を移動する。ビームコレクタ３にはＸ方向（Ｙ方向）
に所定距離を保って互いに近設されたコレクタ板Ｘ₁ ・
Ｘ₂ （Ｙ₁ ・Ｙ₂ ）が備えられている。コレクタ板Ｘ₁
・Ｘ₂ （Ｙ₁ ・Ｙ₂ ）に照射されたイオンビーム１のビ
ーム電流の差が、Ｘ方向差動アンプ１１（Ｙ方向差動ア
ンプ１２）で計測される。この差分をイオンビーム１の
全横断面について計測してビーム電流密度分布を得る。 【効果】 コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ のノイズはＸ方向差動
アンプ１１（Ｙ方向差動アンプ１２）で打ち消され、ノ
イズの影響が減少するのて、ビーム電流が微少な場合で
も誤差の少ない測定が安定して行える。コレクタ板Ｘ₁
・Ｘ₂ （Ｙ₁ ・Ｙ₂ ）の距離を短くすれば測定精度の向
上を図れる。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、例えばイオン注入装置等に供され、イオンビームのビーム電流密度 分布を測定するビーム電流密度分布測定装置に関し、特にビーム電流が微少な場 合のビーム電流密度分布を測定できるビーム電流密度分布測定装置に関するもの である。

【０００２】

【従来の技術】

イオン注入装置は、拡散したい不純物をイオン化し、この不純物イオンを磁界 を用いた質量分析法により選択的に取り出し、電界により加速してイオン照射対 象物に照射することで、イオン照射対象物内に不純物を注入するものである。そ して、このイオン注入装置は、半導体プロセスにおいてデバイスの特性を決定す る不純物を任意の量および深さに制御性良く注入できることから、現在の集積回 路の製造に重要な装置になっている。

【０００３】 上記イオン注入装置において、真空中をイオンが進行するとき、磁界あるいは 電界が設計どおりになっていれば、間違いなく設計どおりのイオンビームが得ら れる。しかし、実際のイオン注入装置においてこれを実現するのは困難であり、 実際のイオンビームの密度分布は不均一である。イオン注入装置においては、通 常、イオンビームは静電レンズ等のビーム収束系で収束された後、静電走査方式 やメカニカル走査方式等によりイオン照射対象物の全面に照射されるようになっ ており、このイオンビームが不均一な密度分布であれば、イオン照射対象物への 不純物の注入量にバラツキを生じさせることになると共に、イオン照射対象物の 特定部分に過剰な電荷を堆積させてチャージアップを生じさせる要因になる。

【０００４】 従って、イオンビームは、一般に、イオン照射対象物へ照射する前段階として 、ビーム収束系による収束を行わない状態で、ビーム電流密度分布測定装置によ りビーム電流密度分布（以下、プロファイルと称する）が測定され、この測定結 果を基に密度分布が調整されるようになっている。

【０００５】 上記ビーム電流密度分布測定装置には、例えば図９に示すように、ファラデカ ップ５２の前（イオンビーム５１の入射方向の上流側）に小さな入射制限絞り穴 ５３ａを有するマスク板５３を設け、このマスク板５３をＸ方向（例えば水平方 向）およびＹ方向（例えば垂直方向）に機械的に移動させるものがある。このビ ーム電流密度分布測定装置について、以下に説明する。

【０００６】 イオンビーム５１の入射経路には、マスク板５３とファラデカップ５２とが配 置されており、マスク板５３の入射制限絞り穴５３ａを通過したイオンビーム５ １のみがファラデカップ５２に入射される。そして、この入射イオンビーム５１ のビーム電流が電流測定装置５４で測定され、演算表示部５８に出力される。

【０００７】 上記マスク板５３は、Ｘ方向駆動機構部５５およびＹ方向駆動機構部５６に駆 動されてＸおよびＹ方向に移動する。これにより、入射制限絞り穴５３ａがイオ ンビーム５１の全横断面を移動し、入射制限絞り穴５３ａの所定位置でのビーム 電流が測定されるようになっている。

【０００８】 上記Ｘ方向駆動機構部５５およびＹ方向駆動機構部５６は、駆動機構制御部５ ７により動作が制御されており、駆動機構制御部５７は、入射制限絞り穴５３ａ の位置を示す位置信号を演算表示部５８に出力する。そして、上記演算表示部５ ８では、上記位置信号と、この位置信号に対応したビーム電流の測定値に基づい た信号処理（演算）が行われ、図示しないモニタにプロファイルが表示されるよ うになっている。

【０００９】

【考案が解決しようとする課題】

上記従来の構成において、プロファイルの測定精度の向上を図るためには、マ スク板５３の入射制限絞り穴５３ａの大きさを小さくして、分解能を高める必要 がある。

【００１０】 しかしながら、入射制限絞り穴５３ａの大きさを小さくした場合、ファラデカ ップ５２に入射するイオンビーム５１が減少し、以下のような不都合が生じる。

【００１１】 即ち、ファラデカップ５２や、ファラデカップ５２と電流測定装置５４とを結 ぶ配線５９には、装置内の他の配線により生じる磁束の変化を受けて、電磁誘導 により僅かながら起電力が生じ、ビーム電流以外の電流が流れる。そして、ビー ム電流が微少な場合、上記のようなビーム電流以外の電流（ノイズ成分）は無視 することはできず、入射するイオンビーム５１が少なくなればその分ビーム電流 信号のＳＮ比が悪くなり、電流測定装置５４によるビーム電流の測定が困難にな る。即ち、上記従来のビーム電流密度分布測定装置では、所定以上の測定精度の 向上は望めない。

【００１２】 本考案は上記に鑑みなされたものであり、その目的は、ビーム電流が微少な場 合においても、誤差の少ないプロファイルの測定が安定して行えると共に、プロ ファイルの測定精度の向上を図ることができるビーム電流密度分布測定装置を提 供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】

本考案のビーム電流密度分布測定装置は、上記の課題を解決するために、被測 定ビームのビーム電流密度分布を測定するビーム電流密度分布測定装置において 、以下の手段を講じている。

【００１４】 即ち、被測定ビームと直交する方向に所定距離だけ離されて互いに近設された 第１ビームコレクタ部材および第２ビームコレクタ部材と、これら第１ビームコ レクタ部材および第２ビームコレクタ部材の被測定ビーム横断面上の測定位置を 制御する測定位置制御手段と、上記第１ビームコレクタ部材とは第１接続手段に より、上記第２ビームコレクタ部材とは第１接続手段に近設された第２接続手段 によりそれぞれ接続され、上記第１ビームコレクタ部材に照射された被測定ビー ムのビーム電流と、上記第２ビームコレクタ部材に照射された被測定ビームのビ ーム電流との差分を検出するビーム電流差検出手段とを備えている。

【００１５】

【作用】

上記の構成によれば、被測定ビームと直交（即ち被測定ビームの横断面と平行 ）する方向に所定距離だけ離されて互いに近設された第１ビームコレクタ部材お よび第２ビームコレクタ部材は、測定位置制御手段に制御されて被測定ビーム内 における測定位置を変え、被測定ビームの全横断面についての測定を行うように なっている。

【００１６】 第１ビームコレクタ部材および第２ビームコレクタ部材は、それぞれ第１接続 手段および第２接続手段によりビーム電流差検出手段と接続されており、被測定 ビーム横断面上の任意の測定位置において第１ビームコレクタ部材および第２ビ ームコレクタ部材に照射された被測定ビームのビーム電流は、それぞれ第１接続 手段および第２接続手段を伝わってビーム電流差検出手段に入力される。そして 、このビーム電流差検出手段において上記の入力ビーム電流の差分が検出される 。

【００１７】 このビーム電流差検出手段により検出されるビーム電流の差分は、被測定ビー ム横断面上の任意の測定位置における、被測定ビームと直交する方向に所定距離 だけ離れた２点間のビーム電流の変化を示すものである。このビーム電流の変化 量が、被測定ビームの全横断面について測定されるので、これにより相対的なビ ーム電流密度分布がわかる。

【００１８】 ここで、第１ビームコレクタ部材と第２ビームコレクタ部材とは互いに近設し ているので、電磁誘導（装置内の他の配線により生じる磁束の変化を受けるため ）によりこれらに流れるノイズ成分の電流は略等しくなる。また、第１接続手段 と第２接続手段とは互いに近設しているので、上記同様のことが言える。即ち、 第１ビームコレクタ部材および第２ビームコレクタ部材からビーム電流差検出手 段に入力される電磁誘導による電流（ノイズ成分）は略等しくなる。そして、ビ ーム電流差検出手段では入力電流の差が取られるので電磁誘導による電流（ノイ ズ成分）の影響は殆どなくなる。これにより、被測定ビームのビーム電流が微少 な場合においても誤差の少ないビーム電流密度分布の測定が安定して行える。

【００１９】 また、第１ビームコレクタ部材と第２ビームコレクタ部材との成す距離を変化 させることにより、測定精度を調整することができる。例えば、上記の距離を短 くすれば、第１ビームコレクタ部材と第２ビームコレクタ部材に流れる電磁誘導 による電流（ノイズ成分）がさらに等しくなり、ノイズの影響がより減少すると 共に、より微少なビーム電流の変化量が検出できるので、上記の距離を短くすれ ば測定精度の向上を図ることができる。

【００２０】 尚、ビーム電流の絶対値は、上記とは別に被測定ビームの全ビーム電流を測定 し、この測定値により較正することにより求めることができる。

【００２１】

【実施例】

本考案の一実施例について図１ないし図８に基づいて説明すれば、以下の通り である。

【００２２】 本実施例のビーム電流密度分布測定装置は、図示しないイオン注入装置に具備 されており、図１に示すにように、被測定ビームとしてのイオンビーム１の照射 経路内に、イオンビーム１と直交する状態で設けられ、Ｘ方向およびＸ方向と直 交するＹ方向（Ｘ方向、Ｙ方向共にイオンビーム１と直交する）に移動可能なビ ームコレクタ３を備えている。

【００２３】 上記被測定ビームとしてのイオンビーム１は、イオン注入装置のイオン源（図 示せず）でイオン化され、質量分離部（図示せず）で選別された所定元素のイオ ン（例えば砒素イオン等）のビームであり、ビーム収束系による収束が行われて いない状態のものである。

【００２４】 上記ビームコレクタ３は、Ｘ方向駆動機構部１３およびＹ方向駆動機構部１４ に駆動されてＸおよびＹ方向に移動するようになっており、上記Ｘ方向駆動機構 部１３およびＹ方向駆動機構部１４は、駆動機構制御部１５によりその動作が制 御されるようになっている。これらＸ方向駆動機構部１３、Ｙ方向駆動機構部１ ４、および駆動機構制御部１５により測定位置制御手段が構成されている。

【００２５】 上記駆動機構制御部１５は、即ち上記Ｘ方向駆動機構部１３およびＹ方向駆動 機構部１４を制御することにより、イオンビーム１内におけるビームコレクタ３ の位置を制御し、このときのビームコレクタ３のイオンビーム１内の位置を示す 位置信号を後述の演算表示部１６に出力するようになっている。

【００２６】 上記ビームコレクタ３は、図２および図３に示すように、４枚のコレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ ・Ｙ₁ ・Ｙ₂ が、各々円筒状の絶縁部材から成る絶縁筒９を介して金属 製のベース板８上に設けられている構造である。

【００２７】 上記コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ ・Ｙ₁ ・Ｙ₂ は、例えばグラファイト等の導電材か ら形成されており、全て同面積である。図４に示すように、コレクタ板Ｘ₁ （第 １ビームコレクタ部材）とコレクタ板Ｘ₂ （第２ビームコレクタ部材）とは、Ｘ 方向に平行な軸上に微小な距離Ａだけ離されて近設されており、コレクタ板Ｙ₁ （第１ビームコレクタ部材）とコレクタ板Ｙ₂ （第２ビームコレクタ部材）とは 、Ｙ方向に平行な軸上に上記コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ 同様、距離Ａだけ離されて近 設されている。

【００２８】 上記コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ ・Ｙ₁ ・Ｙ₂ からは、図２および図３に示すように 、配線４〜７が各々独立に出ており、各配線４〜７は絶縁筒９内部およびベース 板８の貫通孔８ａを貫通して、後述のＸ方向差動アンプ１１およびＹ方向差動ア ンプ１２に以下に示すように接続されている。即ち、図５に示すように、コレク タ板Ｘ₁ から延びる第１接続手段としての配線４は、ビーム電流差検出手段とし てのＸ方向差動アンプ１１のプラス側入力端子に、コレクタ板Ｘ₂ から延びる第 ２接続手段としての配線５は、Ｘ方向差動アンプ１１のマイナス側入力端子にそ れぞれ接続されている。また、図６に示すように、コレクタ板Ｙ₁ から延びる第 １接続手段としての配線６は、ビーム電流差検出手段としてのＹ方向差動アンプ １２のプラス側入力端子に、コレクタ板Ｙ₂ から延びる第２接続手段としての配 線７は、Ｙ方向差動アンプ１２のマイナス側入力端子にそれぞれ接続されている 。そして、配線４と５、および配線６と７とは互いに近設されている。

【００２９】 上記Ｘ方向差動アンプ１１は、上記コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ からの各入力ビーム 電流の差分をＸ方向差信号として取り出し（検出し）、演算表示部１６に出力す る。同様に、上記Ｙ方向差動アンプ１２は、上記コレクタ板Ｙ₁ ・Ｙ₂ からの各 入力ビーム電流の差をＹ方向差信号として取り出し、演算表示部１６に出力する 。

【００３０】 また、ビーム電流密度分布測定装置は、イオンビーム１の照射経路に設けられ 、イオンビーム１の全ビーム電流を測定するためのファラデーカップ２と、ファ ラデーカップ２に接続される電流測定装置１７を備えている。上記ファラデーカ ップ２は、全イオンビーム１を取り込めるように、その開口部はイオンビーム１ の横断面より大きくなっている。また、上記電流測定装置１７により測定される 全ビーム電流は、演算表示部１６に出力されるようになっている。

【００３１】 上記演算表示部１６は、図７に示すＣＲＴ等のモニタ１８を有している。そし て、演算表示部１６は、上記駆動機構制御部１５からの位置信号と、上記Ｘ方向 およびＹ方向差動アンプ１１・１２からのＸ方向およびＹ方向差信号とに基づい て、イオンビーム１のビーム電流密度分布（以下、プロファイルと称する）を割 り出してモニタ１８に表示すると共に、電流測定装置１７からの全ビーム電流測 定結果に基づいて、各測定位置におけるビーム電流の絶対値を割り出すようにな っている。

【００３２】 上記の構成において、上記ビーム電流密度分布測定装置の動作を以下に説明す る。

【００３３】 ビームコレクタ３がイオンビーム１横断面上のある測定位置に存在している場 合、各コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ ・Ｙ₁ ・Ｙ₂ に照射されるイオンビーム１のビーム 電流が、配線４〜７を介してＸ方向およびＹ方向差動アンプ１１・１２に入力さ れる。そして、上記Ｘ方向差動アンプ１１では、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ からの各 入力ビーム電流の差分からＸ方向差信号が生成され、このＸ方向差信号が演算表 示部１６に出力される。このＸ方向差信号は、イオンビーム１横断面上の任意の 測定位置における、Ｘ方向に距離Ａ（図４）だけ離れた２点間のビーム電流の変 化を示すものである。また、上記Ｙ方向差動アンプ１２では、コレクタ板Ｙ₁ ・ Ｙ₂ からの各入力ビーム電流の差分からＹ方向差信号が生成され、このＹ方向差 信号が演算表示部１６に出力される。この差信号は、イオンビーム１横断面上の ある測定位置における、Ｙ方向に距離Ａだけ離れた２点間のビーム電流の変化を 示すものである。

【００３４】 このとき、駆動機構制御部１５からは、ビームコレクタ３のイオンビーム１横 断面上の測定位置を示す位置信号が演算表示部１６に出力される。

【００３５】 そして、上記ビームコレクタ３は、駆動機構制御部１５に制御されるＸ方向駆 動機構部１３およびＹ方向駆動機構部１４に駆動されて、イオンビーム１の横断 面上をＸおよびＹ方向に移動して行く。このビームコレクタ３の移動に伴って、 駆動機構制御部１５からは、ビームコレクタ３の測定位置を示す位置信号が演算 表示部１６に出力されると共に、Ｘ方向およびＹ方向差動アンプ１１・１２から はＸ方向およびＹ方向差信号が演算表示部１６に出力される。

【００３６】 そして、上記演算表示部１６では、上記駆動機構制御部１５からの位置信号と 、Ｘ方向およびＹ方向差動アンプ１１・１２からのＸ方向およびＹ方向差信号と に基づいて演算（Ｘ方向およびＹ方向の各変化量の積分）が行われ、モニタ１８ に、例えば図７に示すようなビーム電流の等強度分布が表示される。同図中の曲 線は等強度線である。

【００３７】 本実施例においては、上記のようにＸ・Ｙ両方向とも同様に測定することがで きるので、上記のような２次元的なプロファイルがわかる。

【００３８】 一方、ファラデーカップ２には、全イオンビーム１が入射され、電流測定装置 １７によりイオンビーム１の全ビーム電流の測定が行われて演算表示部１６に出 力される。そして、演算表示部１６は、上記により得られた相対的なプロファイ ルから、上記イオンビーム１の全ビーム電流の測定値を基にして、ビームコレク タ３の各測定位置におけるビーム電流の絶対値を割り出す（較正する）ようにな っている。

【００３９】 尚、上記の各コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ ・Ｙ₁ ・Ｙ₂ および配線４〜７には、装置 内の他の配線により生じる磁束の変化を受けて、電磁誘導により僅かながら起電 力が生じ、ビーム電流以外の電流が流れる。ここで、上記の構成によれば上記コ レクタ板Ｘ₁ とＸ₂ とは互いに近設されており、それぞれに作用する磁束の変化 は略同じである。即ち、電磁誘導によりコレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ に流れる電流量（ ノイズ成分）も略同じとなる。また、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ から延びる配線４・ ５も互いに近設されているため、上記同様、電磁誘導により配線４・５に流れる 電流量（ノイズ成分）は略同じである。そして、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ および配 線４・５を流れる電流（実際のイオンビーム１のビーム電流と、それ以外の電磁 誘導による電流等のノイズ成分を含めたもの）は、Ｘ方向差動アンプ１１でその 差がとられるため、電磁誘導による電流の影響は殆どなくなる。即ち、従来では ノイズがそのまま測定誤差になっていたが、本ビーム電流密度分布測定装置では 、ノイズの及ぼす悪影響は大幅に低減される。また、上記の構成によれば上記コ レクタ板Ｙ₁ とＹ₂ 、および配線６と７とは上記同様互いに近設されており、上 記同様のことが言える。

【００４０】 上記のように、本ビーム電流密度分布測定装置は、ノイズの及ぼす影響が僅か であるため、イオンビーム１のビーム電流が微少な場合においても、誤差の少な いプロファイルの測定が安定して行える。

【００４１】 さらに、本ビーム電流密度分布測定装置では、ビーム電流の絶対値は、上記の 正確なプロファイルから、イオンビーム１のビーム電流が微少な場合でもノイズ の影響の少ない全ビーム電流の測定値を基にして割り出されるので、誤差の少な いビーム電流の絶対値が得られる。

【００４２】 また、本ビーム電流密度分布測定装置では、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ 、およびコ レクタ板Ｙ₁ ・Ｙ₂ の距離Ａを変化させることにより、プロファイルの測定精度 を調整することができる。例えば、上記の距離Ａを短くすれば、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ （コレクタ板Ｙ₁ ・Ｙ₂ ）に生じる電磁誘導による起電力がさらに等しく なり、ノイズの影響がより減少すると共に、より微少なビーム電流の変化量が検 知できるので、距離Ａをより短くすればプロファイルの測定精度の向上を図るこ とができる。

【００４３】 尚、本実施例においては、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ ・Ｙ₁ ・Ｙ₂ は、図４に示す ようにベース板８上に配置されているが、これに限定されるものではなく、例え ば図８に示すような配置であってもよい。また、Ｘ方向に配置されたコレクタ板 Ｘ₁ ・Ｘ₂ のみで、コレクタ板Ｙ₁ ・Ｙ₂ を用いない構成、その逆にＹ方向に配 置されたコレクタ板Ｙ₁ ・Ｙ₂ のみで、コレクタ板Ｘ₁ ・Ｘ₂ を用いない構成と しても、共に本考案の要旨に包含される。

【００４４】 また、本実施例においては、ビームコレクタ３は、駆動機構制御部１５に制御 されるＸ方向駆動機構部１３およびＹ方向駆動機構部１４に駆動されてイオンビ ーム１内を所定速度で移動し、連続した測定値からプロファイルを得ているが、 以下の動作によるものでもよい。

【００４５】 例えば、１ステップの移動距離を距離Ａとして、ビームコレクタ３が１ステッ プずつＸ方向およびＹ方向に移動するようにして全イオンビーム１横断面の測定 を行う。このとき、駆動機構制御部１５からは各ステップ毎の位置信号が演算表 示部１６に出力されると共に、各ステップ毎のＸ方向およびＹ方向差信号がＸ方 向およびＹ方向差動アンプ１１・１２から演算表示部１６に出力される。そして 、上記演算表示部１６では、上記駆動機構制御部１５からの位置信号と、Ｘ方向 およびＹ方向差動アンプ１１・１２からのＸ方向差信号およびＹ方向差信号とに 基づいて演算（Ｘ方向およびＹ方向の各変化量が加算される）が行われ、モニタ １８にプロファイルが表示される。

【００４６】 また、本実施例では、ビームコレクタ３を駆動するＸ方向駆動機構部１３、Ｙ 方向駆動機構部１４、及びこれらの動作を制御する駆動機構制御部１５により構 成された測定位置制御手段により、ビームコレクタ３がイオンビーム１内を機械 的に移動するようになっているが、ビームコレクタ３を固定して、図示しないビ ーム偏向機構によりイオンビーム１を電気的に偏向してもよい。この場合、ビー ム偏向機構が測定位置制御手段となる。

【００４７】 また、本実施例のビーム電流密度分布測定装置は、イオン注入装置に具備され てイオンビーム１のプロファイルを測定するものであるが、これに限定されるも のではなく、電子ビームのプロファイルを測定することもできる。

【００４８】

【考案の効果】

本考案のビーム電流密度分布測定装置は、以上のように、被測定ビームと直交 する方向に所定距離だけ離されて互いに近設された第１ビームコレクタ部材およ び第２ビームコレクタ部材と、これら第１ビームコレクタ部材および第２ビーム コレクタ部材の被測定ビーム横断面上の測定位置を制御する測定位置制御手段と 、上記第１ビームコレクタ部材とは第１接続手段により、上記第２ビームコレク タ部材とは第１接続手段に近設された第２接続手段によりそれぞれ接続され、上 記第１ビームコレクタ部材に照射された被測定ビームのビーム電流と、上記第２ ビームコレクタ部材に照射された被測定ビームのビーム電流との差分を検出する ビーム電流差検出手段とを備えている構成である。

【００４９】 それゆえ、電磁誘導による電流（ノイズ成分）の影響が大幅に減少され、被測 定ビームのビーム電流が微少な場合においても誤差の少ないビーム電流密度分布 の測定が安定して行える。

【００５０】 また、第１ビームコレクタ部材と第２ビームコレクタ部材との成す距離を変化 させることにより、プロファイルの測定精度を調整することができ、この距離を より短くすれば測定精度の向上を図ることができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示すものであり、ビーム電
流密度分布測定装置の要部の構成を示す説明図である。

【図２】上記ビーム電流密度分布測定装置のビームコレ
クタを示す概略の斜視図である。

【図３】図２に示したビームコレクタの概略の縦断面図
である。

【図４】図２に示したビームコレクタの概略の平面図で
ある。

【図５】上記ビーム電流密度分布測定装置のコレクタ板
Ｘ₁ ・Ｘ₂ とＸ方向差動アンプとの接続状態を示す回路
図である。

【図６】上記ビーム電流密度分布測定装置のコレクタ板
Ｙ₁ ・Ｙ₂ とＹ方向差動アンプとの接続状態を示す回路
図である。

【図７】上記ビーム電流密度分布測定装置のモニタによ
る表示の一例を示す説明図である。

【図８】上記ビーム電流密度分布測定装置のビームコレ
クタにおけるコレクタ板の配置の一例を示す説明図であ
る。

【図９】従来例を示すものであり、ビーム電流密度分布
測定装置の要部の構成を示す説明図である。

【符号の説明】

１ イオンビーム（被測定ビーム） ２ ファラデーカップ ３ ビームコレクタ ４ 配線（第１接続手段） ５ 配線（第２接続手段） ６ 配線（第１接続手段） ７ 配線（第２接続手段） １１ Ｘ方向差動アンプ（ビーム電流差検出手段） １２ Ｙ方向差動アンプ（ビーム電流差検出手段） １３ Ｘ方向駆動機構部（測定位置制御手段） １４ Ｙ方向駆動機構部（測定位置制御手段） １５ 駆動機構制御部（測定位置制御手段） １６ 演算表示部 Ｘ₁ コレクタ板（第１ビームコレクタ部材） Ｘ₂ コレクタ板（第２ビームコレクタ部材） Ｙ₁ コレクタ板（第１ビームコレクタ部材） Ｙ₂ コレクタ板（第２ビームコレクタ部材）

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 【請求項１】被測定ビームのビーム電流密度分布を測定
   するビーム電流密度分布測定装置において、 被測定ビームと直交する方向に所定距離だけ離されて互
   いに近設された第１ビームコレクタ部材および第２ビー
   ムコレクタ部材と、 これら第１ビームコレクタ部材および第２ビームコレク
   タ部材の被測定ビーム横断面上の測定位置を制御する測
   定位置制御手段と、 第１ビームコレクタ部材とは第１接続手段により、上記
   第２ビームコレクタ部材とは第１接続手段に近設された
   第２接続手段によりそれぞれ接続され、上記第１ビーム
   コレクタ部材に照射された被測定ビームのビーム電流
   と、上記第２ビームコレクタ部材に照射された被測定ビ
   ームのビーム電流との差分を検出するビーム電流差検出
   手段とを備えていることを特徴とするビーム電流密度分
   布測定装置。