JPH0588365A - 高速で水性溶媒によつて現像できる感光性重合体組成物 - Google Patents
高速で水性溶媒によつて現像できる感光性重合体組成物Info
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 アズラクトンから誘導された重合体を基本に
した新規な光感受性組成物の提供。 【構成】 ハイドロカルビル主鎖及びラジカル重合性官
能価を有するペンダントペプチド基を有し、更に少なく
とも1個のオキシアシド基又はその塩と任意には第4級
アンモニウム塩基を含んでいる。エネルギー感受性重合
体、ならびに熱または光開始剤を含有する組成物、それ
から得られる架橋組成物。下記重合体を例示。 【効果】 光開始剤と組み合せたこの重合体を含む高速
且つ耐久性印刷版は、温和なpH水性液で現像できる。こ
の重合体はグラフィックアートの分野における耐水性フ
ィルムとしても有用である。
した新規な光感受性組成物の提供。 【構成】 ハイドロカルビル主鎖及びラジカル重合性官
能価を有するペンダントペプチド基を有し、更に少なく
とも1個のオキシアシド基又はその塩と任意には第4級
アンモニウム塩基を含んでいる。エネルギー感受性重合
体、ならびに熱または光開始剤を含有する組成物、それ
から得られる架橋組成物。下記重合体を例示。 【効果】 光開始剤と組み合せたこの重合体を含む高速
且つ耐久性印刷版は、温和なpH水性液で現像できる。こ
の重合体はグラフィックアートの分野における耐水性フ
ィルムとしても有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は水性溶液に現像可能性、
高耐久性そしてアルミニウム支持体に良好な接着性を有
する光感光性重合体を含む組成物に関する。これらの重
合体はグラフィックアーツにおいて、特にフォトレジス
ト又は印刷版を使用する映像システムにおいて有用であ
る。
高耐久性そしてアルミニウム支持体に良好な接着性を有
する光感光性重合体を含む組成物に関する。これらの重
合体はグラフィックアーツにおいて、特にフォトレジス
ト又は印刷版を使用する映像システムにおいて有用であ
る。
【0002】
【従来の技術】ラジカル重合によってエネルギー感光性
組成物を架橋する映像システムは、グラフィックアート
において良く知られており、また例えば印刷版を提供し
ている。最高の感受性を得るために、従って版生産の高
速化のために、一般に重合反応を阻止する酸素を抑える
必要がある。このことは、一般に酸素を比較的通さない
ポリビニルアルコールの如き物質の遮断仕上げ層を設け
るか、不活性若しくは極めて低圧雰囲気にするか、又は
エネルギー感受性組成物に酸素の掃去剤を加えることに
よって達成される。
組成物を架橋する映像システムは、グラフィックアート
において良く知られており、また例えば印刷版を提供し
ている。最高の感受性を得るために、従って版生産の高
速化のために、一般に重合反応を阻止する酸素を抑える
必要がある。このことは、一般に酸素を比較的通さない
ポリビニルアルコールの如き物質の遮断仕上げ層を設け
るか、不活性若しくは極めて低圧雰囲気にするか、又は
エネルギー感受性組成物に酸素の掃去剤を加えることに
よって達成される。
【0003】米国特許第4,304,923号は、エチ
レン性不飽和ラジカル重合性基及びカルボン酸基の両者
を含む側鎖縮合ウレタン低重合体の印刷版組成物を開示
している。米国特許第3,448,089号は、複数の
ペンダントアクリルエステル基及びカルボン酸基を含
む、但しペプチド基は含んでいないが、塗料及び印刷版
に有用な共重合体を開示している。
レン性不飽和ラジカル重合性基及びカルボン酸基の両者
を含む側鎖縮合ウレタン低重合体の印刷版組成物を開示
している。米国特許第3,448,089号は、複数の
ペンダントアクリルエステル基及びカルボン酸基を含
む、但しペプチド基は含んでいないが、塗料及び印刷版
に有用な共重合体を開示している。
【0004】米国特許第3,583,950号及び同第
3,598,790号は、ビニルアズラクトン及びエチ
レン性不飽和単量体の共重合体を明らかにしている。共
重合体中にはラジカル重合性基は存在していない。米国
特許第4,378,411号及び同第4,304,70
5号は、ペンダントエチレン性不飽和基を有するビニル
アズラクトンの共重合体から誘導される放射線硬化性重
合体を開示している。これらの重合体は、酸性塩基又は
第4級アンモニウム塩基のいづれの結合したものを含ん
でいない。
3,598,790号は、ビニルアズラクトン及びエチ
レン性不飽和単量体の共重合体を明らかにしている。共
重合体中にはラジカル重合性基は存在していない。米国
特許第4,378,411号及び同第4,304,70
5号は、ペンダントエチレン性不飽和基を有するビニル
アズラクトンの共重合体から誘導される放射線硬化性重
合体を開示している。これらの重合体は、酸性塩基又は
第4級アンモニウム塩基のいづれの結合したものを含ん
でいない。
【0005】米国特許第4,737,560号は、
(i)ビニルアズラクトン単量体、(ii) 水溶性単量体
(酸性塩を含む単量体)及び(iii)架橋剤(例えば、多
官能ラジカル重合性単量体)の重合による重合体ビーズ
を開示している。同様に、米国特許第4,111,92
2号は、第4級アンモニウム単量体及びエチレン性不飽
和単量体から誘導された改良された水吸収性及び制菌性
を有する架橋親水性ランダム共重合体を明らかにしてい
る。いづれの場合にも、重合体は水不溶性、非塗布性、
架橋物質であって、感受性重合体映像に使用することは
不適当である。
(i)ビニルアズラクトン単量体、(ii) 水溶性単量体
(酸性塩を含む単量体)及び(iii)架橋剤(例えば、多
官能ラジカル重合性単量体)の重合による重合体ビーズ
を開示している。同様に、米国特許第4,111,92
2号は、第4級アンモニウム単量体及びエチレン性不飽
和単量体から誘導された改良された水吸収性及び制菌性
を有する架橋親水性ランダム共重合体を明らかにしてい
る。いづれの場合にも、重合体は水不溶性、非塗布性、
架橋物質であって、感受性重合体映像に使用することは
不適当である。
【0006】米国特許第4,451,619号は、アル
ケニルアズラクトン誘導重合体の親水性を改質する方法
を開示している。この記載された重合体は、ペンダント
エチレン性不飽和基を有していないので、ラジカル重合
架橋反応をすることができない。米国特許第4,28
8,523号は、ペンダント酸及びペプチド基を有する
重合体を明らかにしている。この場合、重合体はラジカ
ル重合性基を含んでいない。
ケニルアズラクトン誘導重合体の親水性を改質する方法
を開示している。この記載された重合体は、ペンダント
エチレン性不飽和基を有していないので、ラジカル重合
架橋反応をすることができない。米国特許第4,28
8,523号は、ペンダント酸及びペプチド基を有する
重合体を明らかにしている。この場合、重合体はラジカ
ル重合性基を含んでいない。
【0007】米国特許第4,914,165号は、ポリ
エーテル主鎖であって、そしてカルボキシ基と組み合せ
てエチレン性不飽和基を含む水性溶剤に分散性で、放射
線架橋化合物及び低重合体を明らかにしている。この化
合物及び低重合体はグラフィックアートにおいて有用な
ものである。
エーテル主鎖であって、そしてカルボキシ基と組み合せ
てエチレン性不飽和基を含む水性溶剤に分散性で、放射
線架橋化合物及び低重合体を明らかにしている。この化
合物及び低重合体はグラフィックアートにおいて有用な
ものである。
【0008】米国特許第4,547,449号は、第4
級アンモニウム塩単量体、酸単量体及び可溶化単量体の
付加共重合体を含む液状エレクトログラフィク現像剤を
開示している。米国特許第4,199,362号は、酸
含有単量体及びエチレン性不飽和単量体の共重合より得
られる重合体ラテックス化合物を明らかにしている。こ
れらの組成物はラジカル重合性ペンダント基を有してい
ない。
級アンモニウム塩単量体、酸単量体及び可溶化単量体の
付加共重合体を含む液状エレクトログラフィク現像剤を
開示している。米国特許第4,199,362号は、酸
含有単量体及びエチレン性不飽和単量体の共重合より得
られる重合体ラテックス化合物を明らかにしている。こ
れらの組成物はラジカル重合性ペンダント基を有してい
ない。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は簡単にいえ
ば、線状ハイドロカルビル主鎖、これに結合したラジカ
ル重合性官能価とペンダントペプチド基を有し、更に少
なくとも1個の有機オキシアシド基又はその塩を有する
新規なエネルギー感受性重合体を提供することにある。
この官能価は水溶性に関与し、そして支持体への接着性
に寄与する。任意には、第4級アンモニウム塩基も存在
することができる。
ば、線状ハイドロカルビル主鎖、これに結合したラジカ
ル重合性官能価とペンダントペプチド基を有し、更に少
なくとも1個の有機オキシアシド基又はその塩を有する
新規なエネルギー感受性重合体を提供することにある。
この官能価は水溶性に関与し、そして支持体への接着性
に寄与する。任意には、第4級アンモニウム塩基も存在
することができる。
【0010】他の側面は、本発明は印刷版及び耐水性フ
ィルムとして好適な支持体に塗布した感受性組成物を提
供することである。この印刷版は印刷寿命が長く、適切
なスピードを有し、そして酸素に対して不感受性であ
る。
ィルムとして好適な支持体に塗布した感受性組成物を提
供することである。この印刷版は印刷寿命が長く、適切
なスピードを有し、そして酸素に対して不感受性であ
る。
【0011】エネルギー感受性組成物の適当な支持体へ
の接着性は、また映像システムの遂行には大切であると
考えられており、そして特に印刷版の場合、実際の使用
における耐久性(例えば、印刷寿命)は極端に重要なこ
とである。更に、エネルギー感受性組成物が実質的に温
和なpHの水性溶液で現像でき、使用した現像剤の廃棄の
問題を削減できることは好ましいことである。
の接着性は、また映像システムの遂行には大切であると
考えられており、そして特に印刷版の場合、実際の使用
における耐久性(例えば、印刷寿命)は極端に重要なこ
とである。更に、エネルギー感受性組成物が実質的に温
和なpHの水性溶液で現像でき、使用した現像剤の廃棄の
問題を削減できることは好ましいことである。
【0012】本発明は、相当高いアルカリ性又は酸性の
現像剤のいづれかを使用する従来のシステムとは対照的
に、環境に許容な現像剤を提供することである。更に、
本発明の重合体は結合剤を使用することなく耐久性であ
り、そして非粘着性の塗膜を提供することができる。本
発明の重合体は、2,000から1,000,000、
好ましくは20,000から1,000,000、そし
てより好ましくは50,000から200,000の範
囲の数平均分子量を有する。
現像剤のいづれかを使用する従来のシステムとは対照的
に、環境に許容な現像剤を提供することである。更に、
本発明の重合体は結合剤を使用することなく耐久性であ
り、そして非粘着性の塗膜を提供することができる。本
発明の重合体は、2,000から1,000,000、
好ましくは20,000から1,000,000、そし
てより好ましくは50,000から200,000の範
囲の数平均分子量を有する。
【0013】本件において、“ペプチド基”は次に示す
基を意味し、
基を意味し、
【化5】 ここでR5 ,R6 ,R7 ,R8 及びnは下記に示す通り
であり、“実質的に水性”とは、少なくとも90重量%
の水を意味し、そしてアルケニルアズラクトンは式
(I)の2−オキサゾリン−5−オン基及び式(II)の
2−オキサジン−6−オン基を意味する。
であり、“実質的に水性”とは、少なくとも90重量%
の水を意味し、そしてアルケニルアズラクトンは式
(I)の2−オキサゾリン−5−オン基及び式(II)の
2−オキサジン−6−オン基を意味する。
【化6】
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明のエネルギー感受
性重合体は、ブロック又はランダムであって好ましくは
ランダム、そして単独重合体又は共重合体の主鎖であ
り、次に示す式(III)によって表わすことができる。
性重合体は、ブロック又はランダムであって好ましくは
ランダム、そして単独重合体又は共重合体の主鎖であ
り、次に示す式(III)によって表わすことができる。
【化7】
【0015】ここで、R1 は独立して水素又はメチル
基、R2 は次に示す式によって表わすことができ、
基、R2 は次に示す式によって表わすことができ、
【化8】 ここで、nは0又は1、R5 ,R6 ,R7 及びR8 は、
独立して1から12個の炭素原子を有するアルキル基、
5から12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6
から12個の炭素原子を有するアリール基又はアルアル
キル基であり、少なくともR5 及びR6 、R7 及びR8
のいづれか一組は炭素と共にその炭素と結合して5−又
は6−員環を形成し、又はnが1であるときにはいづれ
のR5 ,R 6 ,R7 及びR8 は水素であっても良く、そ
してnが0であるときには好ましくはR5 及びR6 はメ
チル基である。
独立して1から12個の炭素原子を有するアルキル基、
5から12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6
から12個の炭素原子を有するアリール基又はアルアル
キル基であり、少なくともR5 及びR6 、R7 及びR8
のいづれか一組は炭素と共にその炭素と結合して5−又
は6−員環を形成し、又はnが1であるときにはいづれ
のR5 ,R 6 ,R7 及びR8 は水素であっても良く、そ
してnが0であるときには好ましくはR5 及びR6 はメ
チル基である。
【0016】Wは−NH−,=NR20,−S−又は−O
−であり、ここでR20は1から12の炭素原子のアルキ
ル基であり、好ましくはWは−O−又は−NH−、最も
好ましくはWは−O−である。
−であり、ここでR20は1から12の炭素原子のアルキ
ル基であり、好ましくはWは−O−又は−NH−、最も
好ましくはWは−O−である。
【0017】Zは次に示す式によって表わされ
【化9】 ここでR5 ,R6 ,R7 ,R8 及びnは既に述べたとお
りである。
りである。
【0018】R3 は重合性エチレン不飽和基であって、
次のものから選ばれる。 (a)
次のものから選ばれる。 (a)
【化10】 ここでR9 は1から12個の炭素原子を有するアルキレ
ン基、6から10個の炭素原子を有するアリーレン基、
アルキレン基が2から4個の炭素原子であるオキシアル
キレン基又はポリ(オキシアルキレン)基であり、酸素
原子の数は4以下の整数であり、最も好ましいR9 は1
から4個の炭素原子であり、R10は水素、シアノ基、カ
ルボキシル基又は−CONH2 基、そしてR11は水素、
1から12個の炭素原子を有するアルキル基、又はフェ
ニル基若しくはナフチル基であって、例えばハロゲン、
1から4個の炭素原子のアルキル基、アルコキシ基で任
意に置換されていても良いか、
ン基、6から10個の炭素原子を有するアリーレン基、
アルキレン基が2から4個の炭素原子であるオキシアル
キレン基又はポリ(オキシアルキレン)基であり、酸素
原子の数は4以下の整数であり、最も好ましいR9 は1
から4個の炭素原子であり、R10は水素、シアノ基、カ
ルボキシル基又は−CONH2 基、そしてR11は水素、
1から12個の炭素原子を有するアルキル基、又はフェ
ニル基若しくはナフチル基であって、例えばハロゲン、
1から4個の炭素原子のアルキル基、アルコキシ基で任
意に置換されていても良いか、
【0019】(b)−R9 −W−T ここでR9 は(a)で述べた通りであり、Wも前述した
とおりあり、そしてTはアクリロイル基、メタクリロイ
ル基、シナモイル基、マレオイル基、フマロイル基、イ
タコノイル基及びクロトノイル基から成る群から選ばれ
たエチレン性不飽和基であり、好ましくはアクリロイル
基又はメタクリロイル基である。
とおりあり、そしてTはアクリロイル基、メタクリロイ
ル基、シナモイル基、マレオイル基、フマロイル基、イ
タコノイル基及びクロトノイル基から成る群から選ばれ
たエチレン性不飽和基であり、好ましくはアクリロイル
基又はメタクリロイル基である。
【0020】a,b,c及びdは独立して整数であっ
て、a及びbは少なくとも1、そしてa+b+c+dの
和は、2,000から1,000,000の範囲の数平
均分子量を有する重合体を提供するのに十分なものであ
る。
て、a及びbは少なくとも1、そしてa+b+c+dの
和は、2,000から1,000,000の範囲の数平
均分子量を有する重合体を提供するのに十分なものであ
る。
【0021】Gは−R9 −N+ R12R13R14X- によっ
て表わされ、R9は既に述べたとおりであり、R12,R
13及びR14は、独立して1から12個の炭素原子を有す
るアルキル基、5から12個の炭素原子を有するシクロ
アルキル基、6から12個の炭素原子を有するアリール
基若しくはアルアルキル基又はR12,R13及びR14のい
づれか2つ又は3つすべてが窒素原子と共に結合して5
から8員の複素環を形成することができ、そしてX- は
重合体の主鎖又は側鎖に存在する障害にならないアニオ
ンを表わす。障害にならないアニオンの例は映像分野に
おいては公知であって、限定するものではないが、塩化
物、臭化物、沃化物、アルキル及びアリールカルボキシ
レート、アルキル及びアリールスルホネート、重炭酸塩
等の1価の陰電荷のアニオン、並びにスルフェート、ホ
スフェート等の如き1価より大きい陰電荷のアニオンが
含まれる。好ましいアニオンは沃化物、塩化物及び臭化
物である。
て表わされ、R9は既に述べたとおりであり、R12,R
13及びR14は、独立して1から12個の炭素原子を有す
るアルキル基、5から12個の炭素原子を有するシクロ
アルキル基、6から12個の炭素原子を有するアリール
基若しくはアルアルキル基又はR12,R13及びR14のい
づれか2つ又は3つすべてが窒素原子と共に結合して5
から8員の複素環を形成することができ、そしてX- は
重合体の主鎖又は側鎖に存在する障害にならないアニオ
ンを表わす。障害にならないアニオンの例は映像分野に
おいては公知であって、限定するものではないが、塩化
物、臭化物、沃化物、アルキル及びアリールカルボキシ
レート、アルキル及びアリールスルホネート、重炭酸塩
等の1価の陰電荷のアニオン、並びにスルフェート、ホ
スフェート等の如き1価より大きい陰電荷のアニオンが
含まれる。好ましいアニオンは沃化物、塩化物及び臭化
物である。
【0022】Rは、6から30個の炭素原子を有するア
リール基、シアノ基、−CO2 H、2から40個の炭素
原子を有するカルボアルコキシ基、又はモノ−若しくは
ジアルキルアミノ基である。好ましくはRは−CO2 H
である。
リール基、シアノ基、−CO2 H、2から40個の炭素
原子を有するカルボアルコキシ基、又はモノ−若しくは
ジアルキルアミノ基である。好ましくはRは−CO2 H
である。
【0023】R4 は水素、若しくはナトリウム、カリウ
ム若しくは第4級アンモニウムの如き可溶性カチオン又
は−E−Aであり、ここでEは全体で約18個までの
C,N,S及び非過酸化性O原子を有する二価の有機結
合基、そしてAはカルボキシ基、スルホ基、ホスホ基又
はこれらの塩から成る群から選ばれた酸の基である。R
4 は1個以上のAを有する多官能であってもよい。Eの
例としては、アルキレン基及びアリーレン基(例えば、
プロパン−1,3−ジイル、メチレン、ドデカン−1,
12−ジイル、p−フェニレン)、オキサ置換アルキレ
ン基(例えば、2−オキサプロパン−1,3−ジイル、
3−オキサペンタン−1,5−ジイル)、アゾア置換ア
ルキレン基(例えば、2−アザプロパン−1,3−ジイ
ル、3−メチル−3−アザペンタン−1,5−ジイル)
等が含まれる。Aの例としては、カルボキシ基(−CO
OH)、ホスホ基(−PO3 H2 )、及びスルホ基(−
SO 3 H)であって、またアルカリ金属(例えば、ナト
リウム、リチウム、カリウム)、モノ−、ジ−、トリ−
及びテトラ置換アンモニウム塩(例えば、アンモニウ
ム、テトラブチルアンモニウム、フェニルジプロピルア
ンモニウム)との塩であっても良い。好ましいAは、カ
ルボキシル基、スルホ基、若しくはホスホ基又はこれら
のアルカリ金属若しくはテトラ置換アンモニウム塩であ
る。
ム若しくは第4級アンモニウムの如き可溶性カチオン又
は−E−Aであり、ここでEは全体で約18個までの
C,N,S及び非過酸化性O原子を有する二価の有機結
合基、そしてAはカルボキシ基、スルホ基、ホスホ基又
はこれらの塩から成る群から選ばれた酸の基である。R
4 は1個以上のAを有する多官能であってもよい。Eの
例としては、アルキレン基及びアリーレン基(例えば、
プロパン−1,3−ジイル、メチレン、ドデカン−1,
12−ジイル、p−フェニレン)、オキサ置換アルキレ
ン基(例えば、2−オキサプロパン−1,3−ジイル、
3−オキサペンタン−1,5−ジイル)、アゾア置換ア
ルキレン基(例えば、2−アザプロパン−1,3−ジイ
ル、3−メチル−3−アザペンタン−1,5−ジイル)
等が含まれる。Aの例としては、カルボキシ基(−CO
OH)、ホスホ基(−PO3 H2 )、及びスルホ基(−
SO 3 H)であって、またアルカリ金属(例えば、ナト
リウム、リチウム、カリウム)、モノ−、ジ−、トリ−
及びテトラ置換アンモニウム塩(例えば、アンモニウ
ム、テトラブチルアンモニウム、フェニルジプロピルア
ンモニウム)との塩であっても良い。好ましいAは、カ
ルボキシル基、スルホ基、若しくはホスホ基又はこれら
のアルカリ金属若しくはテトラ置換アンモニウム塩であ
る。
【0024】本発明の重合体は、アルケニルアズラクト
ン単量体を、任意には更にラジカル重合性コモノマーの
存在下、通常のラジカル重合によって得られる、実質的
に機能ラジカル重合性基に由来する重合体である。10
から100重量%のアルケニルアズラクトン単量体及び
0から90重量%のコモノマー、より好ましくは50か
ら100重量%のアルケニルアズラクトン及び50重量
%以下のコモノマーを使用するのが好適である。この手
順は重合体主鎖の形成の過程でペンダントラジカル重合
性基の重合という問題が避けられる。ビニルジメチルア
ズラクトンは市場において入手できる。
ン単量体を、任意には更にラジカル重合性コモノマーの
存在下、通常のラジカル重合によって得られる、実質的
に機能ラジカル重合性基に由来する重合体である。10
から100重量%のアルケニルアズラクトン単量体及び
0から90重量%のコモノマー、より好ましくは50か
ら100重量%のアルケニルアズラクトン及び50重量
%以下のコモノマーを使用するのが好適である。この手
順は重合体主鎖の形成の過程でペンダントラジカル重合
性基の重合という問題が避けられる。ビニルジメチルア
ズラクトンは市場において入手できる。
【0025】2−アルケニルアズラクトンは公知であっ
て、この合成、物理的及び化学的性質、ホモ−及び共重
合の挙動、製造並びに応用については、重合体の科学及
び技術に関する事典(第2版、第11巻、第558−5
71頁、1988年)に含まれているポリアズラクトン
(ラスムーゼン等)の最近の概観という項で検討されて
いる。
て、この合成、物理的及び化学的性質、ホモ−及び共重
合の挙動、製造並びに応用については、重合体の科学及
び技術に関する事典(第2版、第11巻、第558−5
71頁、1988年)に含まれているポリアズラクトン
(ラスムーゼン等)の最近の概観という項で検討されて
いる。
【0026】本発明における有用な2−アルケニルアズ
ラクトンは、2−ビニル−4,4−ジメチル−2−オキ
シアゾリン−5−オン、2−イソプロペニル−4,4−
ジメチル−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニル
−4−エチル−4−メチル−2−オキシアゾリン−5−
オン、2−ビニル−4,4−ジメチル−2−オキシアゾ
リン−5−オン、2−ビニル−4−エチル−4−メチル
−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニル−4,4
−ジエチル−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニ
ル−4−メチル−4−フェニル−2−オキシアゾリン−
5−オン、2−イソプロペニル−4,4−テトラメチレ
ン−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニル−4,
4−ペンタメチレン−2−オキシアゾリン−5−オン及
び2−ビニル−4,4−ジメチル−2−オキサジン−6
−オンである。
ラクトンは、2−ビニル−4,4−ジメチル−2−オキ
シアゾリン−5−オン、2−イソプロペニル−4,4−
ジメチル−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニル
−4−エチル−4−メチル−2−オキシアゾリン−5−
オン、2−ビニル−4,4−ジメチル−2−オキシアゾ
リン−5−オン、2−ビニル−4−エチル−4−メチル
−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニル−4,4
−ジエチル−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニ
ル−4−メチル−4−フェニル−2−オキシアゾリン−
5−オン、2−イソプロペニル−4,4−テトラメチレ
ン−2−オキシアゾリン−5−オン、2−ビニル−4,
4−ペンタメチレン−2−オキシアゾリン−5−オン及
び2−ビニル−4,4−ジメチル−2−オキサジン−6
−オンである。
【0027】代表的なコモノマーは、アクリル酸及びメ
タクリル酸、一機能アクリレート及びメタクリレート、
アクリルアミド及びメタクリルアミド、アクリロニトリ
ル及びメタクリロニトリル、スチレン並びにN−ビニル
ピロリドンが含まれる。好ましいコモノマーは、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート及びそのアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチレン
オキシドアクリレート、イタコン酸、イソオクチルメタ
クリレート、ラウリルメタクリレート又はこれらの塩
で、好ましくは4から25個の炭素原子、より好ましく
は10から25個の炭素原子を有する第4級アンモニウ
ム塩である。
タクリル酸、一機能アクリレート及びメタクリレート、
アクリルアミド及びメタクリルアミド、アクリロニトリ
ル及びメタクリロニトリル、スチレン並びにN−ビニル
ピロリドンが含まれる。好ましいコモノマーは、ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート及びそのアクリレート、
メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチレン
オキシドアクリレート、イタコン酸、イソオクチルメタ
クリレート、ラウリルメタクリレート又はこれらの塩
で、好ましくは4から25個の炭素原子、より好ましく
は10から25個の炭素原子を有する第4級アンモニウ
ム塩である。
【0028】好ましい第4級アンモニウム塩の例は、限
定するためのものではないが、エチルトリメチルアンモ
ニウム、テトラブチルアンモニウム、ヘキサトリブチル
アンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、メチルト
リブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム等が含まれる。アニオンは可溶性アニオンである。
定するためのものではないが、エチルトリメチルアンモ
ニウム、テトラブチルアンモニウム、ヘキサトリブチル
アンモニウム、テトラヘキシルアンモニウム、メチルト
リブチルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウ
ム等が含まれる。アニオンは可溶性アニオンである。
【0029】単独重合体又は共重合体を製造するための
重合体主鎖の重合は、公知の方法である熱手段(例えば
アシルパーオキシド、ジアルキルパーカーボネート、ア
ゾアルカン等の分解によって)、又は光化学的手段(ビ
スイミダゾール、ベンゾインエーテル、芳香族ケトン、
ハロメチル−s−トリアジン、感受性ヨードニウム又は
スルホニウム塩等の光分解の如き)のいづれかによって
遂行される。熱による開始が好ましい。開始剤の量は、
全組成物の0.01から10重量%の範囲である。
重合体主鎖の重合は、公知の方法である熱手段(例えば
アシルパーオキシド、ジアルキルパーカーボネート、ア
ゾアルカン等の分解によって)、又は光化学的手段(ビ
スイミダゾール、ベンゾインエーテル、芳香族ケトン、
ハロメチル−s−トリアジン、感受性ヨードニウム又は
スルホニウム塩等の光分解の如き)のいづれかによって
遂行される。熱による開始が好ましい。開始剤の量は、
全組成物の0.01から10重量%の範囲である。
【0030】本発明の重合体が線状ヒドロカルビル主鎖
及びペンダントペプチド基であってラジカル重合性官能
価を有する場合で、更に有機オキシ酸残基を有するとき
には、上述したように更に第4級アンモニウム基が存在
するのが好ましい。多くの場合、アルミニウム支持体の
如き金属に接着性が改善されるのは、重合体の中にこの
ような基が含まれたときに観察される。第4級アンモニ
ウム塩基は、第4級アンモニウム塩含有単量体の共重
合、カップリング反応(アズラクトン基を求核性置換第
4級アンモニウム塩でカップリングを行うが如き)、又
は重合体に結合した第3級アミンの4級化によって、重
合体の中に導入できる。
及びペンダントペプチド基であってラジカル重合性官能
価を有する場合で、更に有機オキシ酸残基を有するとき
には、上述したように更に第4級アンモニウム基が存在
するのが好ましい。多くの場合、アルミニウム支持体の
如き金属に接着性が改善されるのは、重合体の中にこの
ような基が含まれたときに観察される。第4級アンモニ
ウム塩基は、第4級アンモニウム塩含有単量体の共重
合、カップリング反応(アズラクトン基を求核性置換第
4級アンモニウム塩でカップリングを行うが如き)、又
は重合体に結合した第3級アミンの4級化によって、重
合体の中に導入できる。
【0031】本発明の光架橋性組成物は、ラジカル重合
性化合物、例えば式(III) のものを約1から20重量
%、好ましくは5から10重量%の濃度の適当な溶媒に
溶解して得られる。この式(III) の重合体が溶媒中で製
造された場合には、わずかに適当な濃度になるように、
更に溶剤を加えれば良い。使用することができる溶剤の
例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、エチルアセテート、ベンゼン、トルエン、トリクロ
ロエチレン等が含まれる。好ましい溶剤は水性アルコー
ルである。
性化合物、例えば式(III) のものを約1から20重量
%、好ましくは5から10重量%の濃度の適当な溶媒に
溶解して得られる。この式(III) の重合体が溶媒中で製
造された場合には、わずかに適当な濃度になるように、
更に溶剤を加えれば良い。使用することができる溶剤の
例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノー
ル、エチルアセテート、ベンゼン、トルエン、トリクロ
ロエチレン等が含まれる。好ましい溶剤は水性アルコー
ルである。
【0032】本発明の組成物の塗布重量は、通常0.3
から9g/m2 、好ましくは0.5から5g/m2 、そ
して最も好ましくは0.8から2.4g/m2 である。
好ましい支持体は、樹脂を被覆した紙、透明若しくは不
透明のプラスチック板又はフィルム、金属板及びホイル
(好ましくは、粒子で処理しそして電解被覆を付したア
ルミニウム支持体)が含まれる。塗布した支持体は、通
常の光の範囲外の電磁波分光の狹い範囲に感光性である
場合を除いて、暗所に保存し、そして通常の可視光を排
除するような、フィルター層で覆われる。
から9g/m2 、好ましくは0.5から5g/m2 、そ
して最も好ましくは0.8から2.4g/m2 である。
好ましい支持体は、樹脂を被覆した紙、透明若しくは不
透明のプラスチック板又はフィルム、金属板及びホイル
(好ましくは、粒子で処理しそして電解被覆を付したア
ルミニウム支持体)が含まれる。塗布した支持体は、通
常の光の範囲外の電磁波分光の狹い範囲に感光性である
場合を除いて、暗所に保存し、そして通常の可視光を排
除するような、フィルター層で覆われる。
【0033】本発明の重合体は公知の手段によって、映
像の用途に応じて支持体に塗布される。支持体は透明又
は不透明であっても良い。本発明の組成物が塗布される
好ましい支持体は、金属板(例えば、鋼板、シリケート
又はポリアクリル酸等の如き親水化剤で処理したアルミ
ニウム板、シート及びホイル)、付加重合体(例えば、
ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリスチレン、ポリイソブチレンの重合体及び共重
合体)及び線状縮合物(例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチ
レンアジピアミド/アジペート)を含むフィルム形成重
合体から成るフィルム又は板が含まれる。
像の用途に応じて支持体に塗布される。支持体は透明又
は不透明であっても良い。本発明の組成物が塗布される
好ましい支持体は、金属板(例えば、鋼板、シリケート
又はポリアクリル酸等の如き親水化剤で処理したアルミ
ニウム板、シート及びホイル)、付加重合体(例えば、
ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニ
ル、ポリスチレン、ポリイソブチレンの重合体及び共重
合体)及び線状縮合物(例えばポリエチレンテレフタレ
ート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリヘキサメチ
レンアジピアミド/アジペート)を含むフィルム形成重
合体から成るフィルム又は板が含まれる。
【0034】本発明の像形成層は、本発明の必須成分を
組み合せた種々の物質を含んで良い。例えば、顔料、染
料、可塑剤、塗装補助剤、抗酸化剤(例えばアスコルビ
ン酸、ヒンダードフェノール、フェニドン等)で事前の
架橋反応を阻止するには十分な量であるが、しかしエネ
ルギー付加しエネルギー感受性の重合体が架橋するのを
阻止するには不十分な量であり、他に界面活性剤、静電
防止剤、ワックス、紫外線吸収剤、温和な酸化剤及び増
白剤も、本発明を実施するのに不利な影響を与えないも
のは使用しても良い。これらの補助剤は、塗布組成分
(100%の固体)に対して0.01から5.0重量%
の範囲で加えることができる。
組み合せた種々の物質を含んで良い。例えば、顔料、染
料、可塑剤、塗装補助剤、抗酸化剤(例えばアスコルビ
ン酸、ヒンダードフェノール、フェニドン等)で事前の
架橋反応を阻止するには十分な量であるが、しかしエネ
ルギー付加しエネルギー感受性の重合体が架橋するのを
阻止するには不十分な量であり、他に界面活性剤、静電
防止剤、ワックス、紫外線吸収剤、温和な酸化剤及び増
白剤も、本発明を実施するのに不利な影響を与えないも
のは使用しても良い。これらの補助剤は、塗布組成分
(100%の固体)に対して0.01から5.0重量%
の範囲で加えることができる。
【0035】本発明の光架橋性組成物は、光開始剤を含
む組成物を活性光線又は電子ビームにさらして架橋され
る。光開始剤は、光にさらしてラジカルを発生する単一
の化合物、又はこれの二種以上の組み合せの、いづれか
であっても良い。好ましい光開始剤は、感光性又は非感
光性ハロメチルトリアジン(例えば米国特許第3,77
5,113号に記載されている)、及び感光性ジアリー
ルヨードニウム塩(例えば米国特許第3,729,31
3号、同第4,058,400号、同第4,058,4
01号及び同第4,921,827号に記載されてい
る)である。光開始剤に対する好ましい増感剤は、前掲
の参考文献に開示されている。開始剤の効果量は前記の
特許文献に開示されている。
む組成物を活性光線又は電子ビームにさらして架橋され
る。光開始剤は、光にさらしてラジカルを発生する単一
の化合物、又はこれの二種以上の組み合せの、いづれか
であっても良い。好ましい光開始剤は、感光性又は非感
光性ハロメチルトリアジン(例えば米国特許第3,77
5,113号に記載されている)、及び感光性ジアリー
ルヨードニウム塩(例えば米国特許第3,729,31
3号、同第4,058,400号、同第4,058,4
01号及び同第4,921,827号に記載されてい
る)である。光開始剤に対する好ましい増感剤は、前掲
の参考文献に開示されている。開始剤の効果量は前記の
特許文献に開示されている。
【0036】本発明の実施に際し光開始剤として有用な
ジアリールヨードニウム塩は、米国特許第4,460,
154号に一般式が開示され、それは次のものである。
ジアリールヨードニウム塩は、米国特許第4,460,
154号に一般式が開示され、それは次のものである。
【化11】
【0037】ここで、R15及びR16はいづれも4から2
0個の炭素原子を有する芳香族基(例えば置換又は非置
換フェニル基、ナフチル基、チエニル基及びフラニル
基)から選ばることができ、所期の反応を妨害しない置
換基を有しても良い。
0個の炭素原子を有する芳香族基(例えば置換又は非置
換フェニル基、ナフチル基、チエニル基及びフラニル
基)から選ばることができ、所期の反応を妨害しない置
換基を有しても良い。
【0038】Jは炭素−炭素結合、酸素、硫黄、
【化12】 から選ばれたもの、ここでR17はアリール基(例えば6
から20個の炭素原子)又はアシル基(例えば2から2
0個の炭素原子)、R18及びR19は水素、1から4個の
炭素原子のアルキル基及び2から4個の炭素原子のアル
ケニル基から独立して選ぶことができ、
から20個の炭素原子)又はアシル基(例えば2から2
0個の炭素原子)、R18及びR19は水素、1から4個の
炭素原子のアルキル基及び2から4個の炭素原子のアル
ケニル基から独立して選ぶことができ、
【0039】D- はアニオンであって、好ましくはヘキ
サフルオロホスヘート、ヘキサフルオロアルセネート、
ヘキサフルオロアンチモネート等の如き金属ハライド錯
体である。
サフルオロホスヘート、ヘキサフルオロアルセネート、
ヘキサフルオロアンチモネート等の如き金属ハライド錯
体である。
【0040】本発明の実施に有用な好ましいジアリール
ヨードニウムの例は、ジフェニルヨードニウム、ジ(4
−クロロフェニル)ヨードニウム、4−トリフルオロメ
チルフェニルフェニルヨードニウム、4−エチルフェニ
ルフェニルヨードニウム、ジ(4−アセチルフェニル)
ヨードニウム、トリルフェニルヨードニウム、アニシル
フェニルヨードニウム、4−ブトキシフェニルフェニル
ヨードニウム、ジ(4−フェニルフェニル)ヨードニウ
ム、ジ(カルボメトキシフェニル)ヨードニウム等であ
る。他のヨードニウムカチオンの例は、米国特許第3,
729,313号、同第4,076,705号及び同第
4,386,154号に記載されている。
ヨードニウムの例は、ジフェニルヨードニウム、ジ(4
−クロロフェニル)ヨードニウム、4−トリフルオロメ
チルフェニルフェニルヨードニウム、4−エチルフェニ
ルフェニルヨードニウム、ジ(4−アセチルフェニル)
ヨードニウム、トリルフェニルヨードニウム、アニシル
フェニルヨードニウム、4−ブトキシフェニルフェニル
ヨードニウム、ジ(4−フェニルフェニル)ヨードニウ
ム、ジ(カルボメトキシフェニル)ヨードニウム等であ
る。他のヨードニウムカチオンの例は、米国特許第3,
729,313号、同第4,076,705号及び同第
4,386,154号に記載されている。
【0041】本発明の実施において光開始剤として有用
な置換ハロメチルトリアジンの例は、2,4−ビス(ト
リクロロメチル)−6−メチル−s−トリアジン、2,
4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン
並びに2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4′
−メトキシスチリル)−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−(p−ジメチルアミノスチ
リル)−s−トリアジン、及び2,4−ビス(トリクロ
ロメチル)−6−(2′,4′−ジエトキシスチリル)
−s−トリアジン等の如きスチリル置換トリアジンであ
る。これらの化合物は、米国特許第3,515,552
号、同第3,536,489号、同第3,617,28
8号、同第3,640,718号、同第3,779,7
78号、同第4,386,154号、同第3,954,
475号及び同第3,987,037号に記載されてい
る。
な置換ハロメチルトリアジンの例は、2,4−ビス(ト
リクロロメチル)−6−メチル−s−トリアジン、2,
4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン
並びに2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4′
−メトキシスチリル)−s−トリアジン、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−(p−ジメチルアミノスチ
リル)−s−トリアジン、及び2,4−ビス(トリクロ
ロメチル)−6−(2′,4′−ジエトキシスチリル)
−s−トリアジン等の如きスチリル置換トリアジンであ
る。これらの化合物は、米国特許第3,515,552
号、同第3,536,489号、同第3,617,28
8号、同第3,640,718号、同第3,779,7
78号、同第4,386,154号、同第3,954,
475号及び同第3,987,037号に記載されてい
る。
【0042】置換基と記載されて用いられている“基”
の用語の意味は、重合反応を阻止することがないと考え
られる置換基である。例えば、アルキル基は、エーテル
基(例えばCH3 −CH2 −CH2 −O−CH2 −)、
ハロアルキル基、ニトロアルキル基、カルボキシアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、スルホアルキル基等が含
まれ、ここでのアルキル基は1から20個の炭素原子の
炭化水素を含む。大変強い還元性又は酸化性置換基の如
き活性成分と反応する置換基は、勿論感受性としては不
活性又は無害ではないので除かれる。
の用語の意味は、重合反応を阻止することがないと考え
られる置換基である。例えば、アルキル基は、エーテル
基(例えばCH3 −CH2 −CH2 −O−CH2 −)、
ハロアルキル基、ニトロアルキル基、カルボキシアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、スルホアルキル基等が含
まれ、ここでのアルキル基は1から20個の炭素原子の
炭化水素を含む。大変強い還元性又は酸化性置換基の如
き活性成分と反応する置換基は、勿論感受性としては不
活性又は無害ではないので除かれる。
【0043】本発明の組成物の光重合は、紫外線及び可
視光スペクトル域内の波長の化学線を発生する放射線源
に組成物をさらして行われる。電子ビームもまた使用す
ることができる。好ましい放射線源は、水銀、キセノ
ン、炭素アーク、タングステン線ランプ、レーザー、太
陽光等が含まれるが、これらに限定されるものではな
い。照射は約1ミクロセカンド以下から10分の間であ
り、そして使用される光開始剤、放射線源の種類、線源
からの距離、及び硬化する塗膜の厚さによって変る。光
開始剤は、塗布乾燥した光感受性組成物の固体成分の
0.01から10重量%の濃度において使用される。
視光スペクトル域内の波長の化学線を発生する放射線源
に組成物をさらして行われる。電子ビームもまた使用す
ることができる。好ましい放射線源は、水銀、キセノ
ン、炭素アーク、タングステン線ランプ、レーザー、太
陽光等が含まれるが、これらに限定されるものではな
い。照射は約1ミクロセカンド以下から10分の間であ
り、そして使用される光開始剤、放射線源の種類、線源
からの距離、及び硬化する塗膜の厚さによって変る。光
開始剤は、塗布乾燥した光感受性組成物の固体成分の
0.01から10重量%の濃度において使用される。
【0044】重合体の性質を改善しようと望む場合に
は、光感受性組成物中の式(III) の重合体について、
0.05から2.0部の共重合性エチレン不飽和単量体
を含ませることは、本発明の範囲内である。使用するこ
とができる好ましい単量体は、例えばエチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、n−オクチルアクリレート、
アリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、N
−メチルカルバモイルオキシエチルアクリレートの如き
アクリル酸エステル及び相応するメタクリル酸エステ
ル、並びにネオペンチルグリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアシレート、ペンタエリスリトールテト
ラアシレート、1,3,5−トリ(2−アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレートの如き多機能アクリレー
ト及び相応するメタクリレートである。
は、光感受性組成物中の式(III) の重合体について、
0.05から2.0部の共重合性エチレン不飽和単量体
を含ませることは、本発明の範囲内である。使用するこ
とができる好ましい単量体は、例えばエチルアクリレー
ト、ブチルアクリレート、n−オクチルアクリレート、
アリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、N
−メチルカルバモイルオキシエチルアクリレートの如き
アクリル酸エステル及び相応するメタクリル酸エステ
ル、並びにネオペンチルグリコールジアクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアシレート、ペンタエリスリトールテト
ラアシレート、1,3,5−トリ(2−アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレートの如き多機能アクリレー
ト及び相応するメタクリレートである。
【0045】本発明の実施において、任意には結合剤を
用いても良い。天然又は合成水性溶剤可溶性の重合体結
合剤(非水性溶剤可溶性も好ましくは20重量%まで)
は、本発明において使用することができる。有機重合体
樹脂を使用しても良い。熱可塑性樹脂は一般に好まし
い。好ましい結合剤の例は、スルホン化ポリスチレン、
ポリビニルアルコール、澱粉、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリビニルアセテート等である。最低要件として
も、結合剤の選択は絶対的なものではない。事実、望ま
しいことではあるが、透明又は半透明であることは、要
件ではない。一般に30重量%までの範囲が結合剤とし
て有用であるが、好ましくは2から15重量%である。
用いても良い。天然又は合成水性溶剤可溶性の重合体結
合剤(非水性溶剤可溶性も好ましくは20重量%まで)
は、本発明において使用することができる。有機重合体
樹脂を使用しても良い。熱可塑性樹脂は一般に好まし
い。好ましい結合剤の例は、スルホン化ポリスチレン、
ポリビニルアルコール、澱粉、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリビニルアセテート等である。最低要件として
も、結合剤の選択は絶対的なものではない。事実、望ま
しいことではあるが、透明又は半透明であることは、要
件ではない。一般に30重量%までの範囲が結合剤とし
て有用であるが、好ましくは2から15重量%である。
【0046】本発明の光重合性組成物の好ましい実用化
は、リス乾板(lithographic plate) の作製における如
き印刷作業において使用される予備感光板としてであ
る。この構成体は、粗粒処理し陽極酸化したアルミニウ
ム支持体に、本発明の組成物を0.3から9g/cm2 塗
布したものである。粗粒処理した支持体は、表面が肌理
され又は粗面になっている。この処理は公知であって、
ブラシグレイング(研磨剤で粗面にする)、化学的エッ
チング又は電解グレイングによって行われる。陽極酸は
公知の金属表面の陽極酸化である。
は、リス乾板(lithographic plate) の作製における如
き印刷作業において使用される予備感光板としてであ
る。この構成体は、粗粒処理し陽極酸化したアルミニウ
ム支持体に、本発明の組成物を0.3から9g/cm2 塗
布したものである。粗粒処理した支持体は、表面が肌理
され又は粗面になっている。この処理は公知であって、
ブラシグレイング(研磨剤で粗面にする)、化学的エッ
チング又は電解グレイングによって行われる。陽極酸は
公知の金属表面の陽極酸化である。
【0047】本発明の目的及び優利な点は、次に示す実
施例によって更に明らかになるが、これらの例に示され
る特定の物質及び量は、他の条件及び詳細な記述と同様
に、本発明を不当に限定されるべきものではない。
施例によって更に明らかになるが、これらの例に示され
る特定の物質及び量は、他の条件及び詳細な記述と同様
に、本発明を不当に限定されるべきものではない。
【0048】
【実施例】下記において使用される物質は、特に記述が
ない限り、アルトリッヒ社から入手したものである。こ
れらの物質は、H1 核磁気共鳴、赤外線分析、質量分
析、ゲル相クロマトグラフィー及び示差走査熱量計のい
づれか一種以上の手段によって分析し、そしてその構造
を確認した。
ない限り、アルトリッヒ社から入手したものである。こ
れらの物質は、H1 核磁気共鳴、赤外線分析、質量分
析、ゲル相クロマトグラフィー及び示差走査熱量計のい
づれか一種以上の手段によって分析し、そしてその構造
を確認した。
【0049】MEKと表示する用語は、メチルエチルケ
トンを意味する。下記で用いるソリッド段階(solid st
ep) という用語は、肉眼で判定して現像後完全に覆われ
ている√2段階ウェッジにおける最高数値の工程に関す
る。ゴースト段階(ghost step) という用語は、肉眼で
判定して現像後部分的に版に付着する最高数値の工程に
関する。選定した露出条件で、ソリッド段階がより高け
れば、より高い光感受性と相互に関係する(すなわち、
スピード)。
トンを意味する。下記で用いるソリッド段階(solid st
ep) という用語は、肉眼で判定して現像後完全に覆われ
ている√2段階ウェッジにおける最高数値の工程に関す
る。ゴースト段階(ghost step) という用語は、肉眼で
判定して現像後部分的に版に付着する最高数値の工程に
関する。選定した露出条件で、ソリッド段階がより高け
れば、より高い光感受性と相互に関係する(すなわち、
スピード)。
【0050】例1 ここでの例は2−ジメチルアミノエチルメタクリレート
(DMAEMA)から第4級アンモニウム塩の製法を示
す。250mlの丸底フラスコに、25.0グラム(0.
159モル)のDMAEMA及び60.0グラムのアセ
トンを入れた。0.159モルの第1級アルキル又は置
換第1級アルキルハライドを加え、そしてこの混合物を
35℃で16時間攪拌し、次いで室温に冷却した。固体
として沈殿したアルキル(2−メタクリルオキシエチ
ル)ジメチルアンモニウムハライドを濾過し、そしてエ
ーテル/エチルアセテート(1:1)から再結晶した。
(DMAEMA)から第4級アンモニウム塩の製法を示
す。250mlの丸底フラスコに、25.0グラム(0.
159モル)のDMAEMA及び60.0グラムのアセ
トンを入れた。0.159モルの第1級アルキル又は置
換第1級アルキルハライドを加え、そしてこの混合物を
35℃で16時間攪拌し、次いで室温に冷却した。固体
として沈殿したアルキル(2−メタクリルオキシエチ
ル)ジメチルアンモニウムハライドを濾過し、そしてエ
ーテル/エチルアセテート(1:1)から再結晶した。
【0051】この手法を用いて分離したアルキルハライ
ド又はアルアリールハライドは、1−ブロモデカン、1
−ブロモヘキサデカン、1−ブロモオクタデカン、1−
ブロモ−2−エチルヘキサン、9−(クロロメチル)ア
ントラセン、及び1−(クロロメチル)ナフタレンであ
って、これらは処理の結果、(2−メタクリルオキシエ
チル)−1−デシルジメチルアンモニウムブロミド、
(2−メタクリルオキシエチル)−1−ヘキサデシルジ
メチルアンモニウムブロミド(DMAEMA−C 16)、
(2−メタクリルオキシエチル)ジメチル−1−オクタ
デシルアンモニウムブロミド、2−(メタクリルオキシ
エチル)−(1−(2−エチルヘキシル))ジメチルア
ンモニウムブロミド、2−(メタクリルオキシエチル)
−(9−アントリルメチル)ジメチルアンモニウムクロ
リド、(2−メタクリルオキシエチル)−(2−ナフチ
ルメチル)ジメチルアンモニウムクロリドにそれぞれ製
造される。
ド又はアルアリールハライドは、1−ブロモデカン、1
−ブロモヘキサデカン、1−ブロモオクタデカン、1−
ブロモ−2−エチルヘキサン、9−(クロロメチル)ア
ントラセン、及び1−(クロロメチル)ナフタレンであ
って、これらは処理の結果、(2−メタクリルオキシエ
チル)−1−デシルジメチルアンモニウムブロミド、
(2−メタクリルオキシエチル)−1−ヘキサデシルジ
メチルアンモニウムブロミド(DMAEMA−C 16)、
(2−メタクリルオキシエチル)ジメチル−1−オクタ
デシルアンモニウムブロミド、2−(メタクリルオキシ
エチル)−(1−(2−エチルヘキシル))ジメチルア
ンモニウムブロミド、2−(メタクリルオキシエチル)
−(9−アントリルメチル)ジメチルアンモニウムクロ
リド、(2−メタクリルオキシエチル)−(2−ナフチ
ルメチル)ジメチルアンモニウムクロリドにそれぞれ製
造される。
【0052】例2 ここでの例は4,4−ジメチル−2−ビニル−2−オキ
サゾリン−5−オン(VDM)及びDMAEMA−C16
の製法を示す。1リットル(32オンス)の黄色褐色の
ビンに、95.0グラムのVDM、5.0グラムのDM
AEMA−C16(例1)、2.0グラムの商品名バゾ6
4の熱ラジカル開始剤(デュポン社、ウェルミントン,
デラウェア州)及び200グラムのMEKを加え、この
混合物に窒素ガスを10分間注入し、そしてビンを密封
した。ビンを65℃で10時間加熱すると、モノマーが
定量的に変換し、VDM/DMAEMA−C16(95:
5重量%)を与え、このものはスペクトル分析により5
5,300の数平均分子量を有するものと確認された。
サゾリン−5−オン(VDM)及びDMAEMA−C16
の製法を示す。1リットル(32オンス)の黄色褐色の
ビンに、95.0グラムのVDM、5.0グラムのDM
AEMA−C16(例1)、2.0グラムの商品名バゾ6
4の熱ラジカル開始剤(デュポン社、ウェルミントン,
デラウェア州)及び200グラムのMEKを加え、この
混合物に窒素ガスを10分間注入し、そしてビンを密封
した。ビンを65℃で10時間加熱すると、モノマーが
定量的に変換し、VDM/DMAEMA−C16(95:
5重量%)を与え、このものはスペクトル分析により5
5,300の数平均分子量を有するものと確認された。
【0053】例3 アスパラギン酸モノ−テトラブチルアンモニウム塩(A
SATBA)の合成 250mlのフラスコに、アスパラギン酸(13.8グラ
ム)、テトラブチルアンモニウム水酸化物(67.5グ
ラム、40容積%の水溶液)及び水(18.7グラム)
を加えた。50℃で15分間攪拌すると、すべてのアス
パラギン酸が溶解した。50℃で真空下、回転蒸発器を
使用して水を除去した。ワックス状の粘性アスパラギン
酸のモノ塩が得られた。
SATBA)の合成 250mlのフラスコに、アスパラギン酸(13.8グラ
ム)、テトラブチルアンモニウム水酸化物(67.5グ
ラム、40容積%の水溶液)及び水(18.7グラム)
を加えた。50℃で15分間攪拌すると、すべてのアス
パラギン酸が溶解した。50℃で真空下、回転蒸発器を
使用して水を除去した。ワックス状の粘性アスパラギン
酸のモノ塩が得られた。
【0054】例4−15 この例では、例2で得られたVDM/DMAEMA−C
16(95:5重量%)を2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、ASATBA及びH2 Oによって官能化するこ
とを示す。例2において得られたVDM/DMAEMA
−C16共重合体(95:5重量%)(55.8グラムで
あって、33%のMEK溶液)を、磁気攪拌機及び温度
計を有する三口フラスコに加えた。この溶液に、11.
56グラムの2−ヒドロキシエチルメタクリレート(H
EMA,VDMに対して70等量%)、100ミリグラ
ムの3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン
(BHT、熱安定剤)、0.7グラムの1.8−ジアザ
ビシクロ〔5.4.0〕ウンデシ−7−エン(DBU、
塩基性触媒)、及び23.1グラムのMEKを加えた。
16(95:5重量%)を2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、ASATBA及びH2 Oによって官能化するこ
とを示す。例2において得られたVDM/DMAEMA
−C16共重合体(95:5重量%)(55.8グラムで
あって、33%のMEK溶液)を、磁気攪拌機及び温度
計を有する三口フラスコに加えた。この溶液に、11.
56グラムの2−ヒドロキシエチルメタクリレート(H
EMA,VDMに対して70等量%)、100ミリグラ
ムの3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエン
(BHT、熱安定剤)、0.7グラムの1.8−ジアザ
ビシクロ〔5.4.0〕ウンデシ−7−エン(DBU、
塩基性触媒)、及び23.1グラムのMEKを加えた。
【0055】この溶液を50−55℃で約4時間加熱し
た。この得られた溶液を室温に冷却し、そして4.7グ
ラムのアスパラギン酸モノ−テトラブチルアンモニウム
塩(ASATBA、例3において得られたもので、9.
4グラムのMEKに溶解したVDMに対して10等量
%)を加えた。この溶液を室温で約4時間攪拌すると、
組成VDM(95%)/DMAEMA−C16(5%)を
有する重合体を生成した。ここでVDM留分はHEMA
(70%)/ASATBA(10%)と機能化している
ので、20%のVDM単位が未反応で残っている。
た。この得られた溶液を室温に冷却し、そして4.7グ
ラムのアスパラギン酸モノ−テトラブチルアンモニウム
塩(ASATBA、例3において得られたもので、9.
4グラムのMEKに溶解したVDMに対して10等量
%)を加えた。この溶液を室温で約4時間攪拌すると、
組成VDM(95%)/DMAEMA−C16(5%)を
有する重合体を生成した。ここでVDM留分はHEMA
(70%)/ASATBA(10%)と機能化している
ので、20%のVDM単位が未反応で残っている。
【0056】未反応VDM基は水及びDBUで50℃で
3時間加水分解した。92,300の分子量(Mn)が
質量分析によって確認された。この方法に従って、更に
重合体(例5−15)を製造し、表1に示した。例4の
ランダム共重合体は次に示す構造式を有する。
3時間加水分解した。92,300の分子量(Mn)が
質量分析によって確認された。この方法に従って、更に
重合体(例5−15)を製造し、表1に示した。例4の
ランダム共重合体は次に示す構造式を有する。
【0057】
【化13】
【0058】
【表1】
【0059】ここで、EOAはエチレンオキシドアクリ
レート(Mn=750)、BAはブチルアクリレート、
DMAEMAはジメチルアミノエチルメタクリレート、
LAは乳酸、TAはトロパ酸、CSはサルチル酸コリン
である。表1のデータは、例2及び4に記載した方法に
従って製造した重合体の組成物を示す。
レート(Mn=750)、BAはブチルアクリレート、
DMAEMAはジメチルアミノエチルメタクリレート、
LAは乳酸、TAはトロパ酸、CSはサルチル酸コリン
である。表1のデータは、例2及び4に記載した方法に
従って製造した重合体の組成物を示す。
【0060】例16−26 ここでの例は上述した方法によって得られた重合体を印
刷版に適用した実用性を示す。例4−15によって得ら
れた重合体の塗布液は、次に示す化合物を混合して得
た。n−プロパノール/水共沸混合物(72/28)中
の50重量%溶液としての0.3グラムのペンタエリス
リトールテトラアクリレート(商品名SR−295、サ
ルトマー社、ウェストチェスター,ペンシルバニア
州)、MEKの33重量%溶液とされる1.0グラムの
重合体、3.0グラムのn−プロパノール/水共沸混合
物(72/28)、0.025グラムのジフェニルヨー
ドニウムヘキサフルオロホスフェート(米国特許第4,
026,705号(発明者、クリベロ、1977年5月
31日)の方法によって製造した)、及び増感剤として
0.001グラムの下記の構造式(1)(2)又は
(3)を有する化合物(ブリスコーン等、ケミカルベル
ヒテ、1970年103(2)、第363−8頁、及び
オロムッキー等、フランス化学会誌、1976年9−1
0、第2部第1467−8頁。ここには化合物(1)及
び(2)の製法が記載されており、化合物(3)につい
てはアルドリッヒ社のミッシューラケトンである。)で
ある。
刷版に適用した実用性を示す。例4−15によって得ら
れた重合体の塗布液は、次に示す化合物を混合して得
た。n−プロパノール/水共沸混合物(72/28)中
の50重量%溶液としての0.3グラムのペンタエリス
リトールテトラアクリレート(商品名SR−295、サ
ルトマー社、ウェストチェスター,ペンシルバニア
州)、MEKの33重量%溶液とされる1.0グラムの
重合体、3.0グラムのn−プロパノール/水共沸混合
物(72/28)、0.025グラムのジフェニルヨー
ドニウムヘキサフルオロホスフェート(米国特許第4,
026,705号(発明者、クリベロ、1977年5月
31日)の方法によって製造した)、及び増感剤として
0.001グラムの下記の構造式(1)(2)又は
(3)を有する化合物(ブリスコーン等、ケミカルベル
ヒテ、1970年103(2)、第363−8頁、及び
オロムッキー等、フランス化学会誌、1976年9−1
0、第2部第1467−8頁。ここには化合物(1)及
び(2)の製法が記載されており、化合物(3)につい
てはアルドリッヒ社のミッシューラケトンである。)で
ある。
【0061】
【化14】
【0062】上記において得られた重合体溶液を含む密
封した小びんを、光を遮断するためにアルミ箔で包み、
30分間揺動し、次いで22番ワイヤーの棒(Rアンド
Dスペシャリティ社、ウェブスター,ニューヨーク州)
を使用して、次の各支持体に塗布した。 (i)支持体Bは、機械的に粗粒処理し、陽極酸化しそ
して珪素化アルミニウムを被覆した支持体(アノコイル
社から入手した)、及び (ii)支持体Aは、アンモニウム重弗化物で処理し、陽
極酸化しそして珪素化アルミニウムを被覆した支持体
(ワーニック等著、アルミニウム及びその合金の表面処
理及び仕上げ、第5版、ASMインタナショナル社19
87年発行、第178−81頁に記載されている。)。
封した小びんを、光を遮断するためにアルミ箔で包み、
30分間揺動し、次いで22番ワイヤーの棒(Rアンド
Dスペシャリティ社、ウェブスター,ニューヨーク州)
を使用して、次の各支持体に塗布した。 (i)支持体Bは、機械的に粗粒処理し、陽極酸化しそ
して珪素化アルミニウムを被覆した支持体(アノコイル
社から入手した)、及び (ii)支持体Aは、アンモニウム重弗化物で処理し、陽
極酸化しそして珪素化アルミニウムを被覆した支持体
(ワーニック等著、アルミニウム及びその合金の表面処
理及び仕上げ、第5版、ASMインタナショナル社19
87年発行、第178−81頁に記載されている。)。
【0063】塗膜は加熱器による温風で乾燥し(乾燥塗
量は1.20−1.40g/m2 )、次いでポリビニル
アルコール(ゲルバトール 20/30 モンサント
社、セントルイス,ミズーリ)及び0.05重量%トリ
トンX−100界面活性剤(ローム アンド ハス社、
フィラデルフィア,ペンシルバニア)を水に溶かした5
重量%水性溶液からの仕上塗を、16番ワイヤー棒によ
り行い、そして上記と同様にして乾燥した。
量は1.20−1.40g/m2 )、次いでポリビニル
アルコール(ゲルバトール 20/30 モンサント
社、セントルイス,ミズーリ)及び0.05重量%トリ
トンX−100界面活性剤(ローム アンド ハス社、
フィラデルフィア,ペンシルバニア)を水に溶かした5
重量%水性溶液からの仕上塗を、16番ワイヤー棒によ
り行い、そして上記と同様にして乾燥した。
【0064】この塗布物のストリップを、2kWアスコー
ルアダルックスランプ No 1406−01を有する2kW
のバーキィアスコール真空枠露出器(バーキィ社)の内
部に、√2 21ステップ感受性ガイド(ストッハー
グラフィック アート社)又はプレートコントロールウ
ェッジ(ウルガ社、スイス)を組み込んで露出し、又は
3M社のモデル70(M−70)の露出器(米国特許第
4,228,232号第18欄第4行に記載されている
16,000フットキャンドルのタングステン照明源)
によって露出した。この露光した板を0.1N重炭酸ナ
トリウム水性溶液(pH8.4)に浸し、綿製のパッドで
軽くこすって現像を行った。ソリッド段階の数と露出時
間を表2に示した。
ルアダルックスランプ No 1406−01を有する2kW
のバーキィアスコール真空枠露出器(バーキィ社)の内
部に、√2 21ステップ感受性ガイド(ストッハー
グラフィック アート社)又はプレートコントロールウ
ェッジ(ウルガ社、スイス)を組み込んで露出し、又は
3M社のモデル70(M−70)の露出器(米国特許第
4,228,232号第18欄第4行に記載されている
16,000フットキャンドルのタングステン照明源)
によって露出した。この露光した板を0.1N重炭酸ナ
トリウム水性溶液(pH8.4)に浸し、綿製のパッドで
軽くこすって現像を行った。ソリッド段階の数と露出時
間を表2に示した。
【0065】
【表2】
【0066】
【表3】
【0067】NDは現像不能、Aはアンモニウム重弗化
物処理のシリケート化アルミニウムベース、Bは機械的
に粒子で処理したシリケート化アルミニウム(アノコイ
ル社から入手)、バーキィはバーキィアスコール露光
器、M−70は3M社のモデル70の露光器である。
物処理のシリケート化アルミニウムベース、Bは機械的
に粒子で処理したシリケート化アルミニウム(アノコイ
ル社から入手)、バーキィはバーキィアスコール露光
器、M−70は3M社のモデル70の露光器である。
【0068】表2のデータは、印刷版に用いたときに高
速度且つ温和なpHで現像ができるという重合体の実用性
を示している。
速度且つ温和なpHで現像ができるという重合体の実用性
を示している。
【0069】例27 ここでの例は本発明のエネルギー感受性組成物が酸素遮
断仕上塗がなくても使用することができることを示す。
次に示す成分から溶液を準備した。1.05グラムのペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、MEKに溶解
した例5の7.0グラムの33%重合体溶液(VDM
(95%)/DMAEMA−C16(5%)を70等量%
のHEMA、10等量%のASATBAで機能化し、残
りのアズラクトンで加水分解して相応するカルボン酸
に)、21.0グラムのn−プロパノール、14.0グ
ラムのMEK、0.105グラムのs−トリアジン2
(米国特許第4,476,215号第6欄第2行参
照)、0.042グラムのミシュラーケトン及び0.1
42グラムのジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェート。
断仕上塗がなくても使用することができることを示す。
次に示す成分から溶液を準備した。1.05グラムのペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、MEKに溶解
した例5の7.0グラムの33%重合体溶液(VDM
(95%)/DMAEMA−C16(5%)を70等量%
のHEMA、10等量%のASATBAで機能化し、残
りのアズラクトンで加水分解して相応するカルボン酸
に)、21.0グラムのn−プロパノール、14.0グ
ラムのMEK、0.105グラムのs−トリアジン2
(米国特許第4,476,215号第6欄第2行参
照)、0.042グラムのミシュラーケトン及び0.1
42グラムのジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホ
スフェート。
【0070】この溶液を15番ワイヤ棒を用いて(1.
83g/m2 の塗布量)二つの粗粒化、陽極酸化そして
シリケート化のアルミニウム支持体に塗布し65℃で2
分間乾燥し、次いでバーキィアスコール5kWの真空露出
器で7秒間テスト用ネガを通して露出した。露出した映
像を98.7%の水、0.8%の重炭酸ナトリウム及び
0.5%のペレックスNBL(ナトリウムアルキルナフ
タレンスルホネート界面活性剤、花王社 東京)から成
るpH8.5の水溶液で現像した。
83g/m2 の塗布量)二つの粗粒化、陽極酸化そして
シリケート化のアルミニウム支持体に塗布し65℃で2
分間乾燥し、次いでバーキィアスコール5kWの真空露出
器で7秒間テスト用ネガを通して露出した。露出した映
像を98.7%の水、0.8%の重炭酸ナトリウム及び
0.5%のペレックスNBL(ナトリウムアルキルナフ
タレンスルホネート界面活性剤、花王社 東京)から成
るpH8.5の水溶液で現像した。
【0071】一方の板は、3M社のモデル1332後露
出器(2kW中圧水銀ランプ、20ワット/糎の出力)を
用い91cm/min の速度で、更に光重合体映像を硬化し
た。後露出を行った印刷版(版A)及び後露出を行わな
い版(版B)の両者について、印刷試験を行った。版B
は、実際に150,000枚の鮮明なコピーを印刷でき
るが、一方版Aは、150,000枚印刷後はすりへっ
て区別けができなかった。このことは、本発明の希釈水
性溶液で現像できる印刷版は、長い期間使用することが
できることを示している。
出器(2kW中圧水銀ランプ、20ワット/糎の出力)を
用い91cm/min の速度で、更に光重合体映像を硬化し
た。後露出を行った印刷版(版A)及び後露出を行わな
い版(版B)の両者について、印刷試験を行った。版B
は、実際に150,000枚の鮮明なコピーを印刷でき
るが、一方版Aは、150,000枚印刷後はすりへっ
て区別けができなかった。このことは、本発明の希釈水
性溶液で現像できる印刷版は、長い期間使用することが
できることを示している。
【0072】例28−38 ここでの例は、本発明のエネルギー感受性組成物が酸素
遮断仕上塗がなくても高速で使用できることを示す。次
に示す成分から溶液を準備した。0.48グラムのペン
タエリスリトールテトラアクリレート(50%のMEK
溶液)、MEKに溶解した2.2グラムの33%溶液
(例1−4の手法に従って製造した重合体で表3に表
示)、6.0グラムのMEK、0.06グラムのs−ト
リアジン2(すなわち、2−(p−2−ヒドロキシエト
キシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
1,3,5−トリアジン)、MEKに溶解した0.70
グラムの17.5%顔料分散溶液で、5:1のサンバス
トブルー(サンケミカル社)及び酸基が存在するビニル
アセテート/ビニルクロライド共重合体(商品名VYN
S−3、ユニオンカーバイド社、タゥリータウン,ペン
シルバニア州)。
遮断仕上塗がなくても高速で使用できることを示す。次
に示す成分から溶液を準備した。0.48グラムのペン
タエリスリトールテトラアクリレート(50%のMEK
溶液)、MEKに溶解した2.2グラムの33%溶液
(例1−4の手法に従って製造した重合体で表3に表
示)、6.0グラムのMEK、0.06グラムのs−ト
リアジン2(すなわち、2−(p−2−ヒドロキシエト
キシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
1,3,5−トリアジン)、MEKに溶解した0.70
グラムの17.5%顔料分散溶液で、5:1のサンバス
トブルー(サンケミカル社)及び酸基が存在するビニル
アセテート/ビニルクロライド共重合体(商品名VYN
S−3、ユニオンカーバイド社、タゥリータウン,ペン
シルバニア州)。
【0073】この溶液を9番のワイヤー棒を使用して、
表2に示した支持体Aに塗布し、そして65℃で2分間
乾燥した(1.20−1.40g/m2 の塗布量)。こ
の版を5kWバーキィアスコール露出器により7.5秒、
21段階中性密度√2ステップウェッジを通して露出
し、そして1N.重炭酸ソーダ現像液を使用して現像し
た。露出現像後のステップ数を表3に示す。
表2に示した支持体Aに塗布し、そして65℃で2分間
乾燥した(1.20−1.40g/m2 の塗布量)。こ
の版を5kWバーキィアスコール露出器により7.5秒、
21段階中性密度√2ステップウェッジを通して露出
し、そして1N.重炭酸ソーダ現像液を使用して現像し
た。露出現像後のステップ数を表3に示す。
【0074】
【表4】
【0075】例39−41は、アルカリ金属カルボキシ
レートをラジカル架橋性重合体に加えると、有機溶剤の
溶解度が保留されて水性処理ができることを明らかにし
ている。
レートをラジカル架橋性重合体に加えると、有機溶剤の
溶解度が保留されて水性処理ができることを明らかにし
ている。
【0076】例39 ここでの例はMEK中のポリ(VDM)/70%のHE
MAと30%の水)溶液の製法を示す。ポリ(VDM)
は次のようにして製造した。10.2kgのビニルジメチ
ルアズラクトン(SNPE社、プリンストン ニュージ
ャージ州)、23.8kgのMEK及び51グラムのアゾ
ビス(イソブチロニトリル)を含む溶液を窒素雰囲気で
18時間60℃に加熱し、透明な無色のポリ(VDM)
のMEK溶液が得られた。
MAと30%の水)溶液の製法を示す。ポリ(VDM)
は次のようにして製造した。10.2kgのビニルジメチ
ルアズラクトン(SNPE社、プリンストン ニュージ
ャージ州)、23.8kgのMEK及び51グラムのアゾ
ビス(イソブチロニトリル)を含む溶液を窒素雰囲気で
18時間60℃に加熱し、透明な無色のポリ(VDM)
のMEK溶液が得られた。
【0077】濃塩酸(0.21グラム、2.0mg当量)
を、ポリ(VDM)(MEKに26.65グラム溶けて
いる31.3%溶液、60mg当量のアズラクトン)、
5.46グラムのHEMA(42mg当量、アルコラック
社)、0.01グラムのBHT及び13.89グラムの
MEKを含む攪拌溶液に加え、直ちに発熱して溶液の温
度が30℃に上昇した。0.32グラムの水(18mg当
量)及び0.75グラムのMEKを、この溶液に加えて
70℃に2時間加熱し、そして冷却すると目的とする重
合体の溶液が得られる。
を、ポリ(VDM)(MEKに26.65グラム溶けて
いる31.3%溶液、60mg当量のアズラクトン)、
5.46グラムのHEMA(42mg当量、アルコラック
社)、0.01グラムのBHT及び13.89グラムの
MEKを含む攪拌溶液に加え、直ちに発熱して溶液の温
度が30℃に上昇した。0.32グラムの水(18mg当
量)及び0.75グラムのMEKを、この溶液に加えて
70℃に2時間加熱し、そして冷却すると目的とする重
合体の溶液が得られる。
【0078】例40 ここでの例はMEKに溶解したポリ(VDM)/(60
%のHEMA、25%の水、15%の水酸化ナトリウ
ム)の溶液の製造を示す。15%の水酸化ナトリウム
(1.60グラム、6.0mg当量)のメタノール溶液
を、29.89グラムであって30重量%のポリ(VD
M)(70%HEMAと30%の水)の溶液(16mg当
量のカルボン酸残渣)に滴下し、そして前の例に従って
処理を行うと、均質なMEK溶液が得られる。この得ら
れた重合体は水に可溶である。
%のHEMA、25%の水、15%の水酸化ナトリウ
ム)の溶液の製造を示す。15%の水酸化ナトリウム
(1.60グラム、6.0mg当量)のメタノール溶液
を、29.89グラムであって30重量%のポリ(VD
M)(70%HEMAと30%の水)の溶液(16mg当
量のカルボン酸残渣)に滴下し、そして前の例に従って
処理を行うと、均質なMEK溶液が得られる。この得ら
れた重合体は水に可溶である。
【0079】 例41ここでの例はMEKに溶解したポリ(VDM)/
(80%HEMA、10%水酸化ナトリウム、10%
1−ヘキサデカノール)の溶液の製造を示す。10.4
0グラムのHEMA(80mg当量)、0.23グラムの
塩酸(2.8mg当量のHCl、10mg当量の水)及び
3.00グラムのMEKを含む溶液を、ポリ(VDM)
(44.41グラム、31.3%のMEK溶液、100
mg当量のアズラクトン残渣)、0.03グラムのBH
T、2.42グラムの1−ヘキサデカノール及び29.
26グラムのMEKを含む攪拌溶液に加えた。この溶液
を1時間70℃に加熱し、次いで室温に冷却した。
(80%HEMA、10%水酸化ナトリウム、10%
1−ヘキサデカノール)の溶液の製造を示す。10.4
0グラムのHEMA(80mg当量)、0.23グラムの
塩酸(2.8mg当量のHCl、10mg当量の水)及び
3.00グラムのMEKを含む溶液を、ポリ(VDM)
(44.41グラム、31.3%のMEK溶液、100
mg当量のアズラクトン残渣)、0.03グラムのBH
T、2.42グラムの1−ヘキサデカノール及び29.
26グラムのMEKを含む攪拌溶液に加えた。この溶液
を1時間70℃に加熱し、次いで室温に冷却した。
【0080】15重量%の水酸化ナトリウム(0.80
グラム、3.0mg当量の水酸化ナトリウム)のメタノー
ル溶液を、前記において得られた重合体(26.90グ
ラム、3mg当量のカルボン酸残渣)及び107.9グラ
ムのMEKを含む攪拌溶液に急速に滴下すると、目的と
する重合体を含む透明な粘性の溶液が得られた。
グラム、3.0mg当量の水酸化ナトリウム)のメタノー
ル溶液を、前記において得られた重合体(26.90グ
ラム、3mg当量のカルボン酸残渣)及び107.9グラ
ムのMEKを含む攪拌溶液に急速に滴下すると、目的と
する重合体を含む透明な粘性の溶液が得られた。
【0081】例42−49は、有機又は無機のカンター
イオンを有するスルホン酸塩が水性溶液で処理できる光
硬化性重合体の有機溶液を製造するのに有用であること
を示す。 例42 ここでの例はポリ(VDM)/(50%HEMA、33
%の水、17%の3−ヒドロキシプロパンスルホン酸)
のMEK溶液の製造を示す。26.00グラムのHEM
A(0.20等量)、2.08グラムの80重量%の3
−ヒドロキシプロパンスルホン酸(HPSA、フイルカ
社 ロンコンコマ,ニューヨーク州、12mg当量のHP
SA、23mg当量の水)水溶液、及び45.00グラム
のMEKを含む溶液を、177.64グラムの31.3
重量%のアセトン溶液(0.40mg当量のアズラクト
ン)、0.06グラムのBHT、及び100.00グラ
ムのMEKを含む攪拌溶液に、急速に加えた。
イオンを有するスルホン酸塩が水性溶液で処理できる光
硬化性重合体の有機溶液を製造するのに有用であること
を示す。 例42 ここでの例はポリ(VDM)/(50%HEMA、33
%の水、17%の3−ヒドロキシプロパンスルホン酸)
のMEK溶液の製造を示す。26.00グラムのHEM
A(0.20等量)、2.08グラムの80重量%の3
−ヒドロキシプロパンスルホン酸(HPSA、フイルカ
社 ロンコンコマ,ニューヨーク州、12mg当量のHP
SA、23mg当量の水)水溶液、及び45.00グラム
のMEKを含む溶液を、177.64グラムの31.3
重量%のアセトン溶液(0.40mg当量のアズラクト
ン)、0.06グラムのBHT、及び100.00グラ
ムのMEKを含む攪拌溶液に、急速に加えた。
【0082】この溶液を2時間65℃に加熱し、次いで
室温に冷却し、そして106.93グラムのMEKで希
釈した。更に水性液のHPSA(9.81グラム、56
mg当量のHPSA、109mg当量の水)を激しく攪拌し
ながら加えた。この溶液を30分間65℃に加熱しそし
て室温に冷却すると、目的とする重合体を含む特に粘性
の溶液が得られた。
室温に冷却し、そして106.93グラムのMEKで希
釈した。更に水性液のHPSA(9.81グラム、56
mg当量のHPSA、109mg当量の水)を激しく攪拌し
ながら加えた。この溶液を30分間65℃に加熱しそし
て室温に冷却すると、目的とする重合体を含む特に粘性
の溶液が得られた。
【0083】例43 ここでの例はポリ(VDM)/(88%のHEMA、8
%の水酸化ナトリウム、4%の3−ヒドロキシプロパン
スルホネートナトリウム)のMEK溶液の製法を示す。
メタノール−水酸化ナトリウム(15重量%、1.29
グラム、4.8mg当量の水酸化ナトリウム)を、35.
00グラム(4.8mg当量の酸の残渣全部)のポリ(V
DM)/(88%HEMA、8%の水酸化ナトリウム、
4%の3−ヒドロキシプロパンスルホン酸)のMEK溶
液に攪拌しながら急速に加え、例42の手法に従って製
造し、そして115グラムのMEKを加えるとMEKに
可溶の水溶性重合体が得られた。
%の水酸化ナトリウム、4%の3−ヒドロキシプロパン
スルホネートナトリウム)のMEK溶液の製法を示す。
メタノール−水酸化ナトリウム(15重量%、1.29
グラム、4.8mg当量の水酸化ナトリウム)を、35.
00グラム(4.8mg当量の酸の残渣全部)のポリ(V
DM)/(88%HEMA、8%の水酸化ナトリウム、
4%の3−ヒドロキシプロパンスルホン酸)のMEK溶
液に攪拌しながら急速に加え、例42の手法に従って製
造し、そして115グラムのMEKを加えるとMEKに
可溶の水溶性重合体が得られた。
【0084】例44 ここでの例はポリ(VDM)/(50%HEMA、33
%のテトラブチルアンモニウムカルボキシレート、17
%のテトラブチルアンモニウム3−ヒドロキシプロパン
スルホネート)のMEK溶液の製法を示す。テトラブチ
ルアンモニウムハイドロキシド(4.14グラム 25
%メタノール溶液、4.0mg当量のテトラブチルアンモ
ニウム)を、23.00グラムの30%ポリ(VDM)
/(50%HEMA、33%の水、17%の3−ヒドロ
キシプロパンスルホン酸)の攪拌溶液に加え、例42の
如く処理し、そして34.22グラムのMEKを加える
と目的とする重合体を含む低粘性溶液が得られた。
%のテトラブチルアンモニウムカルボキシレート、17
%のテトラブチルアンモニウム3−ヒドロキシプロパン
スルホネート)のMEK溶液の製法を示す。テトラブチ
ルアンモニウムハイドロキシド(4.14グラム 25
%メタノール溶液、4.0mg当量のテトラブチルアンモ
ニウム)を、23.00グラムの30%ポリ(VDM)
/(50%HEMA、33%の水、17%の3−ヒドロ
キシプロパンスルホン酸)の攪拌溶液に加え、例42の
如く処理し、そして34.22グラムのMEKを加える
と目的とする重合体を含む低粘性溶液が得られた。
【0085】例45 ここでの例はポリ(VDM)/(50%HEMA、33
%の水、13%のローダミンB 3−ヒドロキシプロパ
ンスルホネート、4%のテトラブチルアンモニウム3−
ヒドロキシプロピルスルホネート)のMEK溶液の製法
を示す。ローダミンB塩基(アメリカンサィアナミド
社、4.24グラム、10mg当量)及び1.18グラム
のテトラブチルアンモニウムアセテート(3.3mg当
量)を、例42の重合体を含む溶液に溶解し、そして5
0.88グラムのMEKを加えると目的とする重合体を
含む透明なマゼンタ色の溶液が得られた。
%の水、13%のローダミンB 3−ヒドロキシプロパ
ンスルホネート、4%のテトラブチルアンモニウム3−
ヒドロキシプロピルスルホネート)のMEK溶液の製法
を示す。ローダミンB塩基(アメリカンサィアナミド
社、4.24グラム、10mg当量)及び1.18グラム
のテトラブチルアンモニウムアセテート(3.3mg当
量)を、例42の重合体を含む溶液に溶解し、そして5
0.88グラムのMEKを加えると目的とする重合体を
含む透明なマゼンタ色の溶液が得られた。
【0086】例46 ここの例はポリ(VDM)/(60%HEMA、27%
の水、17%のクリスタルバイオレット3−ヒドロキシ
プロパンスルホネート)のMEK溶液の製造を示す。ク
リスタルバイオレットベース(BASF社、14.00
グラム、36ミリモル)を、ポリ(VDM)/(60%
HEMA、27%の水、13%の3−ヒドロキシプロパ
ンスルホン酸)(116.7グラム、37mg当量のスル
ホン酸残渣、30重量%のMEK)を含む溶液に加え、
例42の手法に従って製造し、そして164.35グラ
ムのMEKを加えた。この結果、目的とする重合体を含
む極度に紫色の粘性溶液が得られた。
の水、17%のクリスタルバイオレット3−ヒドロキシ
プロパンスルホネート)のMEK溶液の製造を示す。ク
リスタルバイオレットベース(BASF社、14.00
グラム、36ミリモル)を、ポリ(VDM)/(60%
HEMA、27%の水、13%の3−ヒドロキシプロパ
ンスルホン酸)(116.7グラム、37mg当量のスル
ホン酸残渣、30重量%のMEK)を含む溶液に加え、
例42の手法に従って製造し、そして164.35グラ
ムのMEKを加えた。この結果、目的とする重合体を含
む極度に紫色の粘性溶液が得られた。
【0087】例47 ここでの例はポリ(VDM)/(50%HEMA、33
%のリチウムカルボキシレート、17%のリチウム3−
ヒドロキシプロパンスルホネート)のMEK溶液の製造
を示す。5重量%のリチウムアセテート二水和物(4.
68グラム、23mg当量のリチウムアセテート)のエタ
ノール性溶液を、48.30グラムのエタノール及び
5.37グラムのMEKの混合物内で、例42での重合
体(10.73グラム、2.3mg当量のスルホン酸残
渣)の溶液に加えた。目的とする重合体を含む透明な溶
液が得られた。
%のリチウムカルボキシレート、17%のリチウム3−
ヒドロキシプロパンスルホネート)のMEK溶液の製造
を示す。5重量%のリチウムアセテート二水和物(4.
68グラム、23mg当量のリチウムアセテート)のエタ
ノール性溶液を、48.30グラムのエタノール及び
5.37グラムのMEKの混合物内で、例42での重合
体(10.73グラム、2.3mg当量のスルホン酸残
渣)の溶液に加えた。目的とする重合体を含む透明な溶
液が得られた。
【0088】例48 ここでの例は、ポリ(VDM)/(30%HEMA、6
%の水、3%の3−ヒドロキシプロパンスルホン酸、6
1%の1−ブタノール)のMEK溶液の製造を示す。8
0重量%の水性HPSA(0.53グラム、6mg当量の
水、3mg当量のHPSA)、3.90グラムのHEMA
(30mg当量)及び3.0グラムのMEKを含む溶液
を、ポリ(VDM)(31.3%のMEK、44.41
グラム、100mg当量のアズラクトン残渣)、4.51
グラムの1−ブタノール(61mg当量)、9ミリグラム
のBHT、及び19.78グラムのMEKを含む攪拌溶
液に急速に加えた。この溶液を1時間70℃に加熱し、
次いで室温に冷却した。この溶液は目的とする重合体を
含んでいた。
%の水、3%の3−ヒドロキシプロパンスルホン酸、6
1%の1−ブタノール)のMEK溶液の製造を示す。8
0重量%の水性HPSA(0.53グラム、6mg当量の
水、3mg当量のHPSA)、3.90グラムのHEMA
(30mg当量)及び3.0グラムのMEKを含む溶液
を、ポリ(VDM)(31.3%のMEK、44.41
グラム、100mg当量のアズラクトン残渣)、4.51
グラムの1−ブタノール(61mg当量)、9ミリグラム
のBHT、及び19.78グラムのMEKを含む攪拌溶
液に急速に加えた。この溶液を1時間70℃に加熱し、
次いで室温に冷却した。この溶液は目的とする重合体を
含んでいた。
【0089】例49 ここでの例はポリ(VDM)/(30%HEMA,6%
の水酸化ナトリウム、3%のナトリウム3−ヒドロキシ
プロパンスルホネート、61%の1−ブタノール)のM
EK溶液の製法を示す。メタノール性NaOH(15重
量%、1.60グラム、6mg当量)を前の例で得られた
重合体(50グラムの30重量%のMEK、6mg当量の
酸残渣の全量)及び100グラムのMEKに加えた。得
られた溶液は目的とする重合体を含んでいた。
の水酸化ナトリウム、3%のナトリウム3−ヒドロキシ
プロパンスルホネート、61%の1−ブタノール)のM
EK溶液の製法を示す。メタノール性NaOH(15重
量%、1.60グラム、6mg当量)を前の例で得られた
重合体(50グラムの30重量%のMEK、6mg当量の
酸残渣の全量)及び100グラムのMEKに加えた。得
られた溶液は目的とする重合体を含んでいた。
【0090】本発明の範囲及び精神から逸脱することな
くして、当業者において本発明の改良及び改変すること
は明らかであろう、そして本発明は本明細書において具
体的に説明した態様に不当にも限定されることはないこ
とは理解されるべきである。
くして、当業者において本発明の改良及び改変すること
は明らかであろう、そして本発明は本明細書において具
体的に説明した態様に不当にも限定されることはないこ
とは理解されるべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08F 220/60 MNH 7242−4J 299/00 MRN 7442−4J H01L 21/027 (72)発明者 マーフザ ベグム.アリ アメリカ合衆国,ミネソタ 55144−1000, セント ポール,スリーエム センター (番地なし) (72)発明者 デイーン マイケル モレン アメリカ合衆国,ミネソタ 55144−1000, セント ポール,スリーエム センター (番地なし)
Claims (3)
- 【請求項1】 ハイドロカルビル主鎖及びペンダントペ
プチド基を有し、これらにラジカル重合性官能価(funct
ionality) が結合した新規なエネルギー感受性重合体で
あって、該重合体は更に少なくとも1個のオキシ酸基又
はその塩を含み、該重合体は次に示す式を有する重合
体。 【化1】 ここでR1 は水素又はメチル基、 R2 は次に示す式によって表わされ、 【化2】 ここでnは0又は1、R5 ,R6 ,R7 、及びR8 は、
独立して1から12個の炭素原子を有するアルキル基、
5から12個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6
から12個の炭素原子を有するアリール基又はアルアル
キル基若しくは少なくともR5 とR6 、及びR7 とR8
の一組みが結合している炭素原子と共に5−又は6−員
環を形成しており、又はnが1のときR5 ,R6 ,R7
及びR8 は水素であっても良い、 Wは−NH−,−NR20,−S−又は−O−であり、こ
こでR20は1から12個の炭素原子であり、 Zは次に示す式によって表わされ 【化3】 ここでR5 ,R6 ,R7 ,R8 、及びnは前に述べたと
同じであり、 R3 は重合性のエチレン性不飽和基で、次の(a)又は
(b)から選ばれ、 (a)次に示す式によって表わされ、 【化4】 ここでR9 は1から12個の炭素原子を有するアルキレ
ン基、6から10個の炭素原子を有するアリーレン基、
2から4個の炭素原子であるアルキレン基であるオキシ
アルキレン基若しくはポリ(オキシアルキレン)基で酸
素原子の数は4以下の正の整数、R10は水素、シアノ
基、カルボキシル基又は−C(=O)NH2 、そしてR
11は水素、1から12個の炭素原子を有するアルキル
基、フェニル基若しくはナフチル基、又は(b)−R9
−W−Tで表わされ、ここでR9 は(a)の項で述べた
と同じであり、Wもすでに述べたと同じであり、そして
Tはアクリロイル基、メタクリロイル基、シナモイル
基、マレオイル基、フマロイル基、イタコノイル基、及
びクロトノイル基から成る群から選ばれたエチレン性不
飽和基であって、好ましくはアクリロイル基又はメタク
リロイル基であり、 a,b,c、及びdは独立して整数であり、ここでa及
びbは少なくとも1であり、そしてa+b+c+dの和
は2,000から1,000,000の範囲の数平均分
子量を有する重合体を提供するのに十分な値であり、 Gは−R9 −N+ R12R13R14X- であって、ここでR
9 はすでに述べたと同じであり、R12−R14は独立して
1から12個の炭素原子を有するアルキル基、5から1
2個の炭素原子を有するシクロアルキル基、6から12
個の炭素原子を有するアリール基若しくはアルアルキル
基、又はR12−R14の2個若しくは3個全部が結合して
いる窒素原子と共に複素環の5−から8−員環を形成
し、そしてX- は重合体主鎖若しくは側鎖の他の位置に
も存在するアニオンを含む阻害しないアニオンであり、 Rは6から30個の炭素原子を有するアリール基、シア
ノ基、−COOH、2から40個の炭素原子を有するカ
ルボアルコキシ基、又は2から40個の炭素原子を有す
るモノ若しくはジアルキルアミド基であり、 R4 は水素、可溶性カチオン、又は−E−Aであり、こ
こでEは全体で約18個までのC,N,S、及び非過酸
化性のOを有する有機の2価の結合基であり、そしてA
はカルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸及びこれらの塩
から選ばれた酸である。 - 【請求項2】 熱又は光開始剤を更に含有する請求項1
記載の重合体を含む組成物。 - 【請求項3】 請求項2記載の架橋組成物。
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| Publication Number | Publication Date |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007506838A (ja) * | 2003-09-26 | 2007-03-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反応性を有する親水性オリゴマー |
| JP2015184575A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 株式会社日本触媒 | アルカリ可溶性樹脂を含むレジスト組成物及びその保存方法 |
Families Citing this family (60)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5374501A (en) * | 1992-08-17 | 1994-12-20 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Alkali soluble photopolymer in color proofing constructions |
| US5362812A (en) * | 1993-04-23 | 1994-11-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Reactive polymeric dyes |
| JP2608383B2 (ja) * | 1994-03-16 | 1997-05-07 | アルテック株式会社 | 静電誘導防止性接着プライマー |
| US5460918A (en) * | 1994-10-11 | 1995-10-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Thermal transfer donor and receptor with silicated surface for lithographic printing applications |
| US5576146A (en) * | 1995-01-17 | 1996-11-19 | Imation Corp. | Photosensitive polymer-containing systems with increased shelf-lives |
| US5910395A (en) * | 1995-04-27 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Negative-acting no-process printing plates |
| US5830545A (en) * | 1996-04-29 | 1998-11-03 | Tetra Laval Holdings & Finance, S.A. | Multilayer, high barrier laminate |
| US5786127A (en) * | 1996-08-15 | 1998-07-28 | Western Litho Plate & Supply Co. | Photosensitive element having an overcoat which increases photo-speed and is substantially impermeable to oxygen |
| US6242155B1 (en) * | 1998-08-14 | 2001-06-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of making lithographic printing plate and photopolymer composition |
| US6156478A (en) | 1998-10-30 | 2000-12-05 | 3M Innovative Properties Company | Photocurable and photopatternable hydrogel matrix based on azlactone copolymers |
| CA2353506A1 (en) | 1998-11-02 | 2000-05-11 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays |
| SG116487A1 (en) * | 1998-12-16 | 2005-11-28 | Silverbrook Res Pty Ltd | Duplex inkjet printing system. |
| JP4472922B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2010-06-02 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 多光子光化学プロセスを使用したマルチカラー画像化 |
| US7265161B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-09-04 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures |
| JP4786858B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2011-10-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 封入光学素子を提供するための多光子硬化 |
| US6852766B1 (en) | 2000-06-15 | 2005-02-08 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| EP1295180B1 (en) * | 2000-06-15 | 2013-05-22 | 3M Innovative Properties Company | Process for producing microfluidic articles |
| JP4965052B2 (ja) * | 2000-06-15 | 2012-07-04 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 3次元光学素子の加工方法 |
| AU2001266918A1 (en) * | 2000-06-15 | 2001-12-24 | 3M Innovative Properties Company | Multidirectional photoreactive absorption method |
| US7166409B2 (en) * | 2000-06-15 | 2007-01-23 | 3M Innovative Properties Company | Multipass multiphoton absorption method and apparatus |
| US7118845B2 (en) * | 2000-06-15 | 2006-10-10 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photochemical process and articles preparable thereby |
| US7381516B2 (en) * | 2002-10-02 | 2008-06-03 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| US7005229B2 (en) * | 2002-10-02 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization method |
| US6627309B2 (en) * | 2001-05-08 | 2003-09-30 | 3M Innovative Properties Company | Adhesive detackification |
| US20040012872A1 (en) * | 2001-06-14 | 2004-01-22 | Fleming Patrick R | Multiphoton absorption method using patterned light |
| US6750266B2 (en) * | 2001-12-28 | 2004-06-15 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton photosensitization system |
| US7147873B2 (en) * | 2002-01-16 | 2006-12-12 | 3M Innovative Properties Company | Antiseptic compositions and methods |
| US7005031B2 (en) * | 2002-01-16 | 2006-02-28 | 3M Innovative Properties Company | Pressure sensitive adhesives having quaternary ammonium functionality, articles, and methods |
| US6838078B2 (en) | 2002-01-16 | 2005-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Film-forming compositions and methods |
| US7232650B2 (en) * | 2002-10-02 | 2007-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Planar inorganic device |
| US7285576B2 (en) * | 2003-03-12 | 2007-10-23 | 3M Innovative Properties Co. | Absorbent polymer compositions, medical articles, and methods |
| US7745509B2 (en) * | 2003-12-05 | 2010-06-29 | 3M Innovative Properties Company | Polymer compositions with bioactive agent, medical articles, and methods |
| US20050123590A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-09 | 3M Innovative Properties Company | Wound dressings and methods |
| US20050123621A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-09 | 3M Innovative Properties Company | Silver coatings and methods of manufacture |
| US7863485B2 (en) * | 2004-12-10 | 2011-01-04 | Omnitech Environmental, Llc | Additive and vehicle for inks, paints, coatings and adhesives |
| US7893410B2 (en) * | 2005-12-21 | 2011-02-22 | 3M Innovative Properties Company | Method and apparatus for processing multiphoton curable photoreactive compositions |
| US7583444B1 (en) * | 2005-12-21 | 2009-09-01 | 3M Innovative Properties Company | Process for making microlens arrays and masterforms |
| EP1998844A4 (en) * | 2006-03-24 | 2017-03-01 | 3M Innovative Properties Company | Process for making microneedles, microneedle arrays, masters, and replication tools |
| EP2018263B1 (en) * | 2006-05-18 | 2017-03-01 | 3M Innovative Properties Company | Process for making light guides with extraction structures |
| US7939578B2 (en) * | 2007-02-23 | 2011-05-10 | 3M Innovative Properties Company | Polymeric fibers and methods of making |
| EP1975706A3 (en) * | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
| US8513322B2 (en) * | 2007-05-31 | 2013-08-20 | 3M Innovative Properties Company | Polymeric beads and methods of making polymeric beads |
| US9440376B2 (en) * | 2007-09-06 | 2016-09-13 | 3M Innovative Properties Company | Methods of forming molds and methods of forming articles using said molds |
| WO2009032815A1 (en) * | 2007-09-06 | 2009-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Tool for making microstructured articles |
| CN101796443A (zh) | 2007-09-06 | 2010-08-04 | 3M创新有限公司 | 具有提供输出光区域控制的光提取结构的光导装置 |
| WO2009048808A1 (en) | 2007-10-11 | 2009-04-16 | 3M Innovative Properties Company | Chromatic confocal sensor |
| US8362106B2 (en) | 2007-12-04 | 2013-01-29 | E I Du Pont De Nemours And Company | Decarboxylating block copolymers |
| US8455846B2 (en) * | 2007-12-12 | 2013-06-04 | 3M Innovative Properties Company | Method for making structures with improved edge definition |
| CA2709289A1 (en) | 2007-12-12 | 2009-06-18 | 3M Innovative Properties Company | Hydrophilic gel materials and methods of making |
| BRPI0820704A2 (pt) * | 2007-12-12 | 2015-06-16 | 3M Innovative Proferties Company | Métodos de fabricação de materiais poliméricos moldados |
| US8605256B2 (en) * | 2008-02-26 | 2013-12-10 | 3M Innovative Properties Company | Multi-photon exposure system |
| IL196690A0 (en) * | 2008-05-29 | 2011-08-01 | Plasan Sasa Ltd | Interchangeable door |
| JP5563589B2 (ja) | 2008-12-05 | 2014-07-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 非線形熱重合を使用した三次元物品 |
| CN102834121A (zh) | 2010-03-26 | 2012-12-19 | 3M创新有限公司 | 消毒伤口敷料的方法 |
| EP3467300A1 (en) | 2011-02-02 | 2019-04-10 | 3M Innovative Properties Co. | Nozzle |
| CN103492951A (zh) | 2011-04-22 | 2014-01-01 | 3M创新有限公司 | 增大多光子成像分辨率的方法 |
| JP5995963B2 (ja) | 2011-06-08 | 2016-09-21 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | ポリマー連結ナノ粒子を含有するフォトレジスト |
| EP2820480A1 (en) | 2012-02-28 | 2015-01-07 | 3M Innovative Properties Company | Multiphoton curing methods using negative contrast compositions |
| WO2022212557A1 (en) | 2021-03-31 | 2022-10-06 | Quadratic 3D, Inc. | Photohardenable compositions, methods, and a stabilizer |
| KR20230012889A (ko) * | 2021-07-16 | 2023-01-26 | 주식회사 엘지화학 | 항균성 공중합체 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3448089A (en) * | 1966-03-14 | 1969-06-03 | Du Pont | Photopolymerizable polymers containing free acid or acid anhydride groups reacted with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate |
| US3598790A (en) * | 1966-07-01 | 1971-08-10 | Roehm & Haas Gmbh | Azlactone copolymers |
| DE1745348A1 (de) * | 1967-12-01 | 1971-09-09 | Roehm Gmbh | Azlactongruppen enthaltende Mischpolymerisate |
| AU494547B2 (en) * | 1972-07-10 | 1977-10-20 | Johnson & Johnson | Hydrophilic random interpolymer compositions and method for making same |
| JPS6029103B2 (ja) * | 1976-12-10 | 1985-07-09 | 富士写真フイルム株式会社 | カラ−拡散転写法用写真要素 |
| US4304923A (en) * | 1979-02-27 | 1981-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Photopolymerizable oligomer |
| US4378411A (en) * | 1980-01-02 | 1983-03-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable polymers |
| US4304705A (en) * | 1980-01-02 | 1981-12-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation-curable polymers containing pendant unsaturated peptide groups derived from azlactone polymers |
| US4288523A (en) * | 1980-03-14 | 1981-09-08 | Polaroid Corporation | Diffusion control layers in diffusion transfer photographic products |
| US4996243A (en) * | 1981-10-29 | 1991-02-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Curable acrylamido oligomer compositions with initiator, and cured products |
| US4451619A (en) * | 1982-09-30 | 1984-05-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method of hydrophilizing or hydrophobizing polymers |
| US4547449A (en) * | 1983-02-11 | 1985-10-15 | Eastman Kodak Company | Liquid electrographic developers containing quaternary ammonium charge-control polymers having acidic monomers |
| US4737560A (en) * | 1987-03-13 | 1988-04-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Polymer beads |
| US4902569A (en) * | 1987-10-29 | 1990-02-20 | Kendall Company | Novel adhesives and tapes including same |
| US4914165A (en) * | 1988-02-03 | 1990-04-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Radiation crosslinkable compositions |
-
1991
- 1991-02-21 US US07/658,983 patent/US5235015A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-02-10 CA CA002060944A patent/CA2060944A1/en not_active Abandoned
- 1992-02-18 DE DE69218817T patent/DE69218817T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-18 EP EP92301322A patent/EP0500321B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-20 JP JP4033018A patent/JPH0588365A/ja active Pending
-
1994
- 1994-05-13 US US08/242,367 patent/US5437932A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-06-26 HK HK98107040A patent/HK1007807A1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007506838A (ja) * | 2003-09-26 | 2007-03-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反応性を有する親水性オリゴマー |
| JP2015184575A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 株式会社日本触媒 | アルカリ可溶性樹脂を含むレジスト組成物及びその保存方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5235015A (en) | 1993-08-10 |
| DE69218817D1 (de) | 1997-05-15 |
| CA2060944A1 (en) | 1992-08-22 |
| DE69218817T2 (de) | 1997-10-02 |
| HK1007807A1 (en) | 1999-04-23 |
| EP0500321A1 (en) | 1992-08-26 |
| US5437932A (en) | 1995-08-01 |
| EP0500321B1 (en) | 1997-04-09 |
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