JPH0588830B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0588830B2
JPH0588830B2 JP4244386A JP4244386A JPH0588830B2 JP H0588830 B2 JPH0588830 B2 JP H0588830B2 JP 4244386 A JP4244386 A JP 4244386A JP 4244386 A JP4244386 A JP 4244386A JP H0588830 B2 JPH0588830 B2 JP H0588830B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
naphthoquinonediazide
sulfonic acid
trihydroxybenzoate
quinonediazide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP4244386A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62198852A (ja
Inventor
Ikuo Nozue
Yukihiro Hosaka
Masashige Takatori
Mitsuo Kurokawa
Yoshuki Harita
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JSR Corp
Original Assignee
Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Japan Synthetic Rubber Co Ltd filed Critical Japan Synthetic Rubber Co Ltd
Priority to JP4244386A priority Critical patent/JPS62198852A/ja
Publication of JPS62198852A publication Critical patent/JPS62198852A/ja
Publication of JPH0588830B2 publication Critical patent/JPH0588830B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】
産業䞊の利甚分野 本発明はポゞ型感攟射線性暹脂組成物に関し、
さらに詳しくはアルカリ可溶性暹脂ず特定の
−キノンゞアゞド化合物からなる玫倖線、遠玫
倖線、線、電子線、分子線、γ線、シンクロト
ロン攟射線、プロトンビヌム等の攟射線に感応す
る、特に集積回路䜜補のためのレゞストずしお奜
適なポゞ型感攟射線性暹脂組成物に関する。 埓来の技術 埓来、集積回路䜜補甚ホトレゞストずしおは、
環化む゜ブレンゎムにビスアゞド化合物を配合し
たネガ型ホトレゞストが知られおいる。しかしな
がら、このネガ型ホトレゞストは解像床に限界が
あるため、集積回路の高集積化に十分察応できな
い欠点を有する。䞀方、このネガ型ホトレゞスト
に察し、ポゞ型ホトレゞストは、解像床が優れお
いるため、集積回路の高集積化に十分察応し埗る
ものであるず考えられおいる。 珟圚、この分野で䞀般的に䜿甚されおいるポゞ
型ホトレゞストは、アルカリ可溶性暹脂に
−キノンゞアゞド化合物を配合したものである。 しかしながら、埓来のポゞ型ホトレゞストで
は、感床、解像床、残膜率、耐熱性等の諞性胜に
おいお必ずしも満足な結果が埗られおいない。 発明が解決しようずする問題点 本発明の目的は、前蚘埓来技術の欠点を陀去
し、高感床、高解像床および高残膜率を有し、し
かも高耐熱性を有するポゞ型感攟射線性暹脂組成
物を提䟛するこずにある。 問題点を解決するための手段 本発明は、アルカリ可溶性暹脂100重量郚に察
し、䞋蚘䞀般匏およびたたはで衚
わされる−キノンゞアゞド化合物を〜
100重量郚配合しおなるこずを特城ずするポゞ型
感攟射線性暹脂組成物を提䟛するものである。
【化】
【化】 匏䞭、、およびは同䞀たたは異なる、
〜の敎数、、およびは同䞀たたは異な
る、たたは〜の敎数、−、−
および−は〜の敎数を意味し、R1、
R2およびR5は同䞀たたは異なる、−ナフ
トキノンゞアゞド−−スルホニル基、−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホニル基たたは
−ベンゟキノンゞアゞド−−スルホニル
基、R3、R4およびR6は同䞀たたは異なる、氎玠
原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリヌル基、
アラルキル基、アルコキシ基、アロキシル基、ア
ラルコキシ基、シアノ基たたはニトロ基、R7は
氎玠原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリヌル
基、アラルキル基、氎酞基、アルコキシ基、アロ
キシル基、アラルコキシ基、シアノ基たたはニト
ロ基を意味し、はアルキレン基、アリヌレン
基、アザアルキレン基たたはアザアリヌレン基を
意味する 前蚘匏䞭のR3、R4およびR6の意味するハロゲ
ン原子ずしおは、䟋えば塩玠原子、臭玠原子等
が、アルキル基ずしおは、䟋えばメチル基、゚チ
ル基、プロピル基等の炭玠数〜のアルキル基
が、アリヌル基ずしおは、䟋えばプニル基、ト
リル基、ナフチル基等の炭玠数〜12のアリヌル
基が、アラルキル基ずしおは、䟋えばベンゞル
基、プネチル基、ゞプニルメチル基等の炭玠
数〜20のアラルキル基が、アルコキシ基ずしお
は、䟋えばメトキシ基等の炭玠数〜のアルコ
キシ基が、アロキシル基ずしおは、䟋えばプノ
キシ基等の炭玠数〜のアロキシル基が、アラ
ルコキシ基ずしおは、䟋えばベンゞルオキシ基等
の炭玠数〜10のアラルコキシ基が挙げられる。 たた前蚘匏䞭のR7の意味するハロゲン原子ず
しおは、䟋えば塩玠原子、臭玠原子等が、アルキ
ル基ずしおは、䟋えばメチル基、゚チル基、プロ
ピル基、ヘキシル基等の炭玠数〜のアルキル
基が、アリヌル基ずしおは、䟋えばプニル基、
トリル基、ナフチル基等の炭玠数〜12のアリヌ
ル基が、アラルキル基ずしおは、䟋えばベンゞル
基、プネチル基、ゞプニルメチル基等の炭玠
数〜20のアラルキル基が、アルコキシ基ずしお
は、䟋えばメトキシ基等の炭玠数〜のアルコ
キシ基が、アロキシル基ずしおは、䟋えばプノ
キシ基等の炭玠数〜のアロキシル基が、アラ
ルコキシ基ずしおは、䟋えばベンゞルオキシ基等
の炭玠数〜10のアラルコキシ基が挙げられる。 さらに前蚘匏䞭のは、䟋えばアルキレン基、
たたは䟋えば゚チレンゞアミン、プロピレンゞア
ミン、ヘキサメチレンゞアミン、ゞ゚チレントリ
アミン、トリ゚チレンテトラミン、ポリ゚チレン
ポリアミン等における−CpH2pNHr――CpH2p−
匏䞭、は〜の敎数、はたたは〜10
の敎数を意味するで衚されるアザアルキレン
基、プニレンゞアミン、ナフチレンゞアミン、
4′−ゞアミノゞプニルアミン等におけるア
リヌレン基たたはアザアリヌレン基を意味する。 本発明の組成物においお、前蚘䞀般匏た
たはで衚わされる−キノンゞアゞド
化合物は、それぞれ䞋蚘䞀般匏たたは

【化】
【化】 匏䞭、、および、R3、R4、R6および
R7ならびには、前蚘の意味を有するで衚わ
される化合物の氎酞基の党郚たたは䞀郚に、䟋え
ば−ナフトキノンゞアゞド−−スルホニ
ルクロリド、−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホニルクロリド、−ベンゟキノンゞ
アゞド−−スルホニルクロリド、−ナフ
トキノンゞアゞド−−スルホニルフルオリド等
の−キノンゞアゞドスルホニルハラむド
を、塩基性觊媒の存圚䞋に瞮合反応させた埌に粟
補するこずにより埗られる。これらの−キ
ノンゞアゞドスルホニルハラむドは単独でたたは
皮以䞊組合わせお甚いられる。 前蚘䞀般匏で衚わされる化合物ずしお
は、䟋えば゚チレンゞアミン−ゞ−ヒドロキ
シベンゟ゚ヌト、゚チレンゞアミン−ゞ−
ヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚チレンゞアミン−
ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚チレンゞ
アミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト、゚チレンゞアミン−ゞ−ゞヒドロ
キシベンゟ゚ヌト、゚チレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚チレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚
ヌト、゚チレンゞアミン−ゞ−ニトロ−
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚チレ
ンゞアミン−ゞ−シアノ−−トリ
ヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚チレンゞアミン−
ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、
ゞ゚チレントリアミン−ゞ−ゞヒドロキ
シベンゟ゚ヌト、ゞ゚チレントリアミン−ゞ
−ヒドロキシ−−メチルベンゟ゚ヌト、ト
リ゚チレンテトラミン−ゞ−ヒドロキシ−
−メチルベンゟ゚ヌト、プロピレンゞアミン−
ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、プロピレン
ゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト、プロピレンゞアミン−ゞ−ト
リヒドロキシベンゟ゚ヌト、プロピレンゞアミ
ン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト、ヘキサメチレンゞアミン−ゞ−ヒドロ
キシベンゟ゚ヌト、ヘキサメチレンゞアミン−
ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、ヘキ
サメチレンゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト、ヘキサメチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、オ
クタメチレンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベン
ゟ゚ヌト、オクタメチレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、オクタメチレ
ンゞアミン−ゞ−トリヒドロキシベ
ンゟ゚ヌト、オルトプニレンゞアミン−ゞ
−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、オルトプニレ
ンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、
オルトプニレンゞアミン−ゞ−ゞヒド
ロキシベンゟ゚ヌト、オルトプニレンゞアミ
ン−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、オル
トプニレンゞアミン−ゞ−トリヒ
ドロキシベンゟ゚ヌト、オルトプニレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚
ヌト、メタプニレンゞアミン−ゞ−ヒド
ロキシベンゟ゚ヌト、メタプニレンゞアミン
−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、メ
タプニレンゞアミン−ゞ−トリヒ
ドロキシベンゟ゚ヌト、メタプニレンゞアミ
ン−ゞ−ヒドロキシ−−メトキシベンゟ゚
ヌト、−メチル−メタプニレンゞアミン−
ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、
パラプニレンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベ
ンゟ゚ヌト、パラプニレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、パラプニレ
ンゞアミン−ゞ−トリヒドロキシベ
ンゟ゚ヌト、パラプニレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、パラフ
゚ニレンゞアミン−ゞ−ブロム−−ヒドロ
キシベンゟ゚ヌト、パラプニレンゞアミン−
ゞ−ヒドロキシ−−ニトロベンゟ゚ヌト、
パラプニレンゞアミン−ゞ−シアノ−
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、
−ナフチレンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベン
ゟ゚ヌト、−ナフチレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、−
ナフチレンゞアミン−ゞ−トリヒド
ロキシベンゟ゚ヌト、−ナフチレンゞア
ミン−ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、
−ナフチレンゞアミン−ゞ−ゞヒドロ
キシベンゟ゚ヌト、−ナフチレンゞアミ
ン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト、−ナフチレンゞアミン
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト等が挙げられ
る。これらの化合物のうち゚チレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚チレン
ゞアミン−ゞ−トリヒドロキシベン
ゟ゚ヌト、プロピレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、ヘキサメチ
レンゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ
゚ヌト、メタプニレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、−メチル−メ
タプニレンゞアミン−ゞ−トリヒ
ドロキシベンゟ゚ヌトおよび−ナフチレ
ンゞアミン−ゞ−トリヒドロキシベ
ンゟ゚ヌトが奜たしい。 たた前蚘䞀般匏で衚わされる化合物ずし
おは、䟋えば゚タノヌルアミン−ヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト、゚タノヌルアミン−ヒドロ
キシベンゟ゚ヌト、゚タノヌルアミン
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚タノヌルアミ
ン−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚タ
ノヌルアミン−トリヒドロキシベン
ゟ゚ヌト、゚タノヌルアミン−ト
リヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚タノヌルアミン
−ニトロ−−トリヒドロキシベン
ゟ゚ヌト、゚タノヌルアミン−シアノ−
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚タノ
ヌルアミン−ヒドロキシ−−メトキシベン
ゟ゚ヌト、゚タノヌルアミン−ヒドロキシ
−−メチルベンゟ゚ヌト、メチルアミン
−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、プロピルアミン
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト、ブチルア
ミン−ヒドロキシベンゟ゚ヌト、ブチルア
ミン−トリヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト、ヘキシルアミン−ヒドロキシベンゟ゚
ヌト、ヘキシルアミン−トリヒド
ロキシベンゟ゚ヌト、ヘキシルアミン
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト等が挙げられ
る。これらの化合物のうち゚タノヌルアミン
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト、゚
タノヌルアミン−トリヒドロキシベ
ンゟ゚ヌトおよび゚タノヌルアミン−
ゞヒドロキシベンゟ゚ヌトが奜たしい。 これらの䞀般匏たたはで衚わされ
る化合物は、䟋えばR.B.WagnerおよびH.D.
Zook著“Synthetic Organic Chemistry”John
Wiley  Sons瀟版1961第19章蚘茉の方法
により、察応するアミンずカルボン酞ずから補造
するこずができる。たたこれらの䞀般匏た
たはで衚わされる化合物は単独でたたは
皮以䞊組合わせお甚いられる。 瞮合反応における䞀般匏たたはで
衚わされる化合物に察する−キノンゞアゞ
ドスルホニルハラむドの䜿甚量は、−キノ
ンゞアゞドスルホニルハラむドを瞮合させる䞀般
匏たたはで衚わされる化合物の氎酞
基の数により適宜調敎するこずができ、通垞、該
氎酞基グラム圓量に察しお−キノンゞア
ゞドスルホニルハラむドモル以䞋、奜たしくは
0.2〜モル、特に奜たしくは0.4〜モルの割合
である。 瞮合反応に䜿甚する塩基性觊媒ずしおは、䟋え
ば氎酞化ナトリりム、氎酞化カリりム、炭酞ナト
リりム等の無機アルカリ類、ゞ゚チルアミン、ト
リ゚チルアミン等の有機アミン類が挙げられる。
これらの塩基性觊媒の䜿甚量は、䜿甚する
−キノンゞアゞドスルホニルハラむドモルに察
しお、通垞、0.8〜モル、奜たしくは〜1.5モ
ルである。瞮合反応は、通垞、溶媒の存圚䞋にお
いお行なわれる。この際甚いられる溶媒ずしお
は、䟋えば氎、ゞオキサン、ゞ゚チル゚ヌテル、
テトラヒドロフラン、アセトン、メチル゚チルケ
トン、γ−ブチロラクトン、−メチルピロリド
ン、−ゞメチルアセトアミド、−ゞ
メチルホルムアミド、炭酞゚チレン、炭酞プロピ
レン等が挙げられる。これらの溶媒の䜿甚量は、
通垞、䞀般匏たたはで衚わされる化
合物100重量郚に察しお100〜1000重量郚である。 瞮合反応の枩床は、䜿甚する溶媒により異なる
が、通垞、−20〜60℃、奜たしくは〜40℃であ
る。 瞮合反応埌の粟補法ずしおは、副成した塩酞塩
を濟過するか、たたは氎を添加しお塩酞塩を溶解
させた埌、倧量の垌塩酞氎溶液のような酞性氎で
再沈殿粟補した埌、也燥する方法を䟋瀺するこず
ができる。 このようにしお埗られる䞀般匏で衚わさ
れる−キノンゞアゞド化合物ずしおは、䟋
えば゚チレンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベン
ゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞ゞ゚ステル、゚チレンゞアミン−ゞ
−ヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフト
キノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、゚
チレンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト−−ベンゟキノンゞアゞド−−スル
ホン酞ゞ゚ステル、゚チレンゞアミン−ゞ−
ヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノ
ンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、゚チレ
ンゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚
ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞テトラ゚ステル、゚チレンゞアミン−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞トリ゚ス
テル、゚チレンゞアミン−ゞ−ゞヒドロ
キシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、゚チレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚
ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞ヘキサ゚ステル、゚チレンゞアミン−ゞ
−ニトロ−−トリヒドロキシベン
ゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞ヘキサ゚ステル、゚チレンゞアミン
−ゞ−シアノ−−トリヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞ヘキサ゚ステル、゚チレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚
ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞ペンタ゚ステル、゚チレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
テトラ゚ステル、゚チレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞トリ゚
ステル、゚チレンゞアミン−ゞ−ト
リヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキ
ノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、゚チ
レンゞアミン−ゞ−トリヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞モノ゚ステル、゚チレンゞアミ
ン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞ペンタ゚ステル、ゞ゚チレントリアミン−
ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚
ステル、ゞ゚チレントリアミン−ゞ−ヒドロ
キシ−−メチルベンゟ゚ヌト−−ナフ
トキノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、
トリ゚チレンテトラミン−ゞ−ヒドロキシ−
−メチルベンゟ゚ヌト−−ナフトキノ
ンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、プロピ
レンゞアミン−ゞ−クロル−−ヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞ゞ゚ステル、プロピレンゞアミ
ン−ゞ−ヒドロキシ−−ニトロベンゟ゚ヌ
ト−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞ゞ゚ステル、プロピレンゞアミン−ゞ
−ヒドロキシ−−メトキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚
ステル、テトラメチレンゞアミン−ゞ−ヒド
ロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞ
アゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、ヘキサメチ
レンゞアミン−ゞ−ブロム−−ヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞ゞ゚ステル、ヘキサメチレンゞ
アミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞テトラ゚ステル、ヘキサメチレンゞアミン
−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞テト
ラ゚ステル、ヘキサメチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ペンタ
゚ステル、オクタメチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ペンタ
゚ステル、オルトプニレンゞアミン−ゞ−
ヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノ
ンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステル、オルト
プニレンゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞テトラ゚ステル、オルトプニ
レンゞアミン−ゞ−トリヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞ペンタ゚ステル、メタプニレ
ンゞアミン−ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト
−−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン
酞ゞ゚ステル、メタプニレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
ヘキサ゚ステル、−メチル−メタプニレンゞ
アミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ
゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−−
スルホン酞ペンタ゚ステル、パラプニレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ゚
ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞ペンタ゚ステル、−ナフチレンゞ
アミン−ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚
ステル、−ナフチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞テトラ
゚ステル、−ナフチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
ペンタ゚ステル、−ナフチレンゞアミン−
ゞ−ヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナ
フトキノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステ
ル、−ナフチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナ
フトキノンゞアゞド−−スルホン酞テトラ゚ス
テル、−ナフチレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ペンタ
゚ステル等が挙げられる。 たた䞀般匏で衚わされる−キノン
ゞアゞド化合物ずしおは、䟋えば゚タノヌルアミ
ン−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト
−−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン
酞トリ゚ステル、゚タノヌルアミン
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフ
トキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、゚
タノヌルアミン−トリヒドロキシベ
ンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞トリ゚ステル、゚タノヌルアミン
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞トリ゚ス
テル、゚タノヌルアミン−ゞヒドロキシ
ベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞ゞ゚ステル、゚タノヌルアミン
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞ゞ゚ステ
ル、゚タノヌルアミン−トリヒドロ
キシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞テトラ゚ステル、プロピル
アミン−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
トリ゚ステル、ヘキシルアミン−ト
リヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキ
ノンゞアゞド−−スルホン酞テトラ゚ステル、
ヘキシルアミン−トリヒドロキシベ
ンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞トリ゚ステル等が挙げられる。 なお、䞀般匏たたはで衚わされる
化合物の氎酞基グラム圓量に察しお−キ
ノンゞアゞドスルホニルハラむドモル以䞋を䜿
甚した堎合には、䞀般匏たたはで衚
わされる−キノンゞアゞド化合物は、䜿甚
した−キノンゞアゞドスルホニルハラむド
の量に応じお、察応する䞀般匏たたは
で衚わされる化合物の−キノンゞア
ゞドスルホン酞のモノ゚ステル、ゞ゚ステル、ト
リ゚ステル等よりなる混合物ずしお埗られ、この
混合物も䞀般匏たたはで衚わされる
−キノンゞアゞド化合物ずしお甚いるこず
ができる。したが぀お、前蚘の䞀般匏たた
はで衚わされる−キノンゞアゞド化
合物の具䜓䟋は、平均的な組成ずしおの具䜓䟋を
瀺すものである。さらに前蚘の䞀般匏たた
はで衚わされる−キノンゞアゞド化
合物は、単独でたたは皮以䞊組合わせお甚いら
れる。 本発明の組成物は、アルカリ可溶性暹脂に前蚘
䞀般匏およびたたはで衚わされる
−キノンゞアゞド化合物を配合しおなる。 䞀般匏およびたたはで衚わされ
る−キノンゞアゞド化合物の配合量は、ア
ルカリ可溶性暹脂100重量郚に察しお〜100重量
郚、奜たしくは10〜50重量郚、特に奜たしくは15
〜40重量郚である。この配合量が重量郚未満の
堎合には−キノンゞアゞド化合物が攟射線
を吞収しお生成するカルボンン酞量が少ないた
め、パタヌニングが困難であり、たた100重量郹
を超える堎合には短時間の攟射線照射では加えた
−キノンゞアゞド化合物の総おを分解する
こずができず、アルカリ性氎溶液からなる珟像液
による珟像が困難ずなる。 本発明の組成物には本発明の効果を損ねない皋
床の量、䟋えば前蚘䞀般匏およびたたは
で衚わされる−キノンゞアゞド化合
物100重量郚に察しお100重量郚以䞋の他の
−キノンゞアゞド化合物を添加するこずができ
る。これらの−キノンゞアゞド化合物ずし
おは、䟋えば−クレゟヌル−−ベンゟキ
ノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、レゟル
シノヌル−−ナフトキノンゞアゞド−−
スルホン酞゚ステル、ピロガロヌル−−ナ
フトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル等
のポリヒドロキシベンれンの−キノン
ゞアゞドスルホン酞゚ステル類、−ゞヒド
ロキシプニル−プロピルケトン−−ベン
ゟキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−ゞヒドロキシプニル−−ヘキシルケ
トン−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞゚ステル、−ゞヒドロキシベンゟフ
゚ノン−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞゚ステル、−トリヒドロキシ
プニル−−ヘキシルケトン−−ナフト
キノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−トリヒドロキシベンゟプノン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステ
ル、−トリヒドロキシベンゟプノ
ン−−ナフトキノンゞアゞド−−スルホ
ン酞゚ステル、−トリヒドロキシベン
ゟプノン−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞゚ステル、−トリヒドロ
キシベンゟプノン−−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞゚ステル、3′
4′−テトラヒドロキシベンゟプノン−−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステ
ル、4′−テトラヒドロキシベンゟフ
゚ノン−−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホン酞゚ステル等のポリヒドロキシプニ
ルアルキルケトンたたはポリヒドロキシプ
ニルアリヌルケトンの−キノンゞアゞドス
ルホン酞゚ステル類、ビス−ヒドロキシプ
ニルメタン−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞゚ステル、ビス−ゞヒド
ロキシプニルメタン−−ナフトキノン
ゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、ビス
−トリヒドロキシプニルメタン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ス
テル、−ビス−ヒドロキシプニル
プロパン−−ナフトキノンゞアゞド−−
スルホン酞゚ステル、−ビス−ゞ
ヒドロキシプニルプロパン−−ナフト
キノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−ビス−トリヒドロキシプニ
ルプロパン−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞゚ステル等のビス〔ポリヒド
ロキシプニル〕アルカンの−キノンゞア
ゞドスルホン酞゚ステル類、−ゞヒドロキ
シ安息銙酞ラりリル−−ナフトキノンゞア
ゞド−−スルホン酞゚ステル、−ト
リヒドロキシ安息銙酞プニル−−ナフト
キノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、
−トリヒドロキシ安息銙酞プロピル−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ス
テル、−トリヒドロキシ安息銙酞プ
ニル−−ナフトキノンゞアゞド−−スル
ホン酞゚ステル等のポリヒドロキシ安息銙酞
アルキル゚ステルたたはポリヒドロキシ安息
銙酞アリヌル゚ステルの−キノンゞアゞド
スルホン酞゚ステル類、ビス−ゞヒドロ
キシベンゟむルメタン−−ナフトキノン
ゞアゞド−−スルホン酞゚ステル、ビス
−トリヒドロキシベンゟむルメタン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル、ビス−トリヒドロキシベ
ンゟむルメタン−−ナフトキノンゞアゞ
ド−−スルホン酞゚ステル、−ビス
−ゞヒドロキシベンゟむルベンれン−−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステ
ル、−ビス−トリヒドロキシベン
ゟむルベンれン−−ナフトキノンゞアゞ
ド−−スルホン酞゚ステル、−ビス
−トリヒドロキシベンゟむルベンれン−
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞
゚ステル等のビス〔ポリヒドロキシベンゟむ
ル〕アルカンたたはビス〔ポリヒドロキシベ
ンゟむル〕ベンれンの−キノンゞアゞドス
ルホン酞゚ステル類、゚チレングリコヌル−ゞ
−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト−−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステ
ル、ポリ゚チレングリコヌル−ゞ−
トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフト
キノンゞアゞド−−スルホン酞゚ステル等の
ポリ゚チレングリコヌル−ゞ〔ポリヒドロ
キシベンゟ゚ヌト〕の−キノンゞアゞドス
ルホン酞゚ステル類、氎酞基を有するα−ピロン
系倩然色玠の−キノンゞアゞドスルホン酞
゚ステル類、氎酞基を有するγ−ピロン系倩然色
玠の−キノンゞアゞドスルホン酞゚ステル
類、氎酞基を有するゞアゞン系倩然色玠の
−キノンゞアゞドスルホン酞゚ステル類等が挙げ
られる。 さらにこれらの−キノンゞアゞド化合物
の他に、J.Kosar著“Light−Sensitive
Systems”339〜3521965、John Wiley 
Sons瀟New YorkやW.S.De Forest著
“Photoresist”501975、McGraw−Hill
Inc.New Yorkに掲茉されおいる−
キノンゞアゞド化合物を甚いるこずもできる。 本発明に甚いられるアルカリ可溶性暹脂ずしお
は、䟋えばアルカリ可溶性ノボラツク暹脂以
䞋、単に「ノボラツク暹脂」ずいうを挙げるこ
ずができる。ノボラツク暹脂は、プノヌル類ず
アルデヒド類ずを酞觊媒の存圚䞋に重瞮合しお埗
られる。 この際甚いられるプノヌル類ずしおは、䟋え
ばプノヌル、−クレゟヌル、−クレゟヌ
ル、−クレゟヌル、−゚チルプノヌル、
−゚チルプノヌル、−゚チルプノヌル、
−ブチルプノヌル、−ブチルプノヌル、
−ブチルプノヌル、−キシレノヌル、
−キシレノヌル、−キシレノヌル、
−キシレノヌル、−キシレノヌル、
−トリメチルプノヌル、−プニ
ルプノヌル、ヒドロキノン、カテコヌル、レゟ
ルシノヌル、−メチルレゟルシノヌル、ピロガ
ロヌル、α−ナフトヌル、ビスプノヌル、ゞ
ヒドロキシ安息銙酞゚ステル、没食子酞゚ステル
が挙げられる。これらのプノヌル類のうちプ
ノヌル、−クレゟヌル、−クレゟヌル、−
クレゟヌル、−キシレノヌル、−キ
シレノヌル、−トリメチルプノヌ
ル、レゟルシノヌル、−メチルレゟルシノヌル
およびビスプノヌルが奜たしい。これらのフ
゚ノヌル類は、単独でたたは皮以䞊組合わせお
甚いられる。 アルデヒド類ずしおは、䟋えばホルムアルデヒ
ド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
プロピルアルデヒド、ベンズアルデヒド、プニ
ルアセトアルデヒド、α−プニルプロピルアル
デヒド、β−プニルプロピルアルデヒド、−
ヒドロキシベンズアルデヒド、−ヒドロキシベ
ンズアルデヒド、−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、−クロロベンズアルデヒド、−クロロベ
ンズアルデヒド、−クロロベンズアルデヒド、
−ニトロベンズアルデヒド、−ニトロベンズ
アルデヒド、−−ニトロベンズアルデヒド、
−メチルベンズアルデヒド、−メチルベンズア
ルデヒド、−メチルベンズアルデヒド、−゚
チルベンズアルデヒド、−−ブチルベンズア
ルデヒド等が挙げられ、これらのアルデヒド類の
うちホルムアルデヒド、アセトアルデヒドおよび
ベンズアルデヒドが奜たしい。これらのアルデヒ
ド類は、単独でたたは皮以䞊組合わせお䜿甚す
るこずができる。アルデヒド類の䜿甚量は、プ
ノヌル類モル圓たり、奜たしくは0.7〜モル、
特に奜たしくは0.7〜モルである。 酞觊媒ずしおは、塩酞、硝酞、硫酞等の無機
酞、たたは蟻酞、シナり酞、酢酞等の有機酞が甚
いられる。これらの酞觊媒の䜿甚量は、プノヌ
ル類モル圓たり、奜たしくは×10-4〜×
10-1モルである。 瞮合反応においおは、通垞、反応媒質ずしお氎
を甚いるが、瞮合反応においお䜿甚するプノヌ
ル類がアルデヒド類の氎溶液に溶解せず、反応初
期から䞍均䞀系になる堎合には、反応媒質ずしお
芪氎性溶媒を䜿甚するこずもできる。この際甚い
られる芪氎性溶媒ずしおは、䟋えばメタノヌル、
゚タノヌル、プロパノヌル、ブタノヌル等のアル
コヌル類、たたはテトラヒドロフラン、ゞオキサ
ン等の環状゚ヌテル類が挙げられる。 これらの反応媒質の䜿甚量は、通垞、反応原料
100重量郚圓たり、20〜1000重量郚である。 瞮合反応の反応枩床は、反応原料の反応性に応
じお適宜調敎するこずができるが、通垞、10〜
200℃、奜たしくは70〜150℃である。 瞮合反応終了埌、系内に存圚する未反応原料、
酞觊媒および反応媒質を陀去するため、䞀般的に
は内枩を130〜230℃に䞊昇させ、枛圧䞋に揮発分
を留去し、次いで溶融したノボラツク暹脂をスチ
ヌル補ベルト等の䞊に流涎しお回収する。 たた瞮合反応終了埌に前蚘芪氎性溶媒に反応混
合物を溶解し、氎、−ヘキサン、−ヘプタン
等の沈殿剀に添加するこずにより、ノボラツク暹
脂を析出させ、析出物を分離し加熱也燥する方法
によ぀おも回収するこずができる。 本発明に甚いられるノボラツク暹脂以倖のアル
カリ可溶性暹脂ずしおは、䟋えばポリヒドロキシ
スチレンたたはその誘導䜓、スチレン−無氎マレ
むン酞共重合䜓、ポリビニルヒドロキシベンゟ゚
ヌト、カルボキシル基含有メタアクリル系暹脂等
が甚いられる。 これらのアルカリ可溶性暹脂は単独でたたは
皮以䞊組合わせお䜿甚するこずができる。 本発明の組成物には、レゞストずしおの感床を
向䞊させるため、増感剀を配合するこずができ
る。増感剀ずしおは、䟋えば2H−ピリド〔
−〕−−オキサゞン−〔4H〕オン類、
10H−ピリド〔−〕〔〕−ベンゟチ
アゞン類、りラゟヌル類、ヒダントむン類、バル
ビツヌル酞類、グリシン無氎物類、−ヒドロキ
シベンゟトリアゟヌル類、アロキサン類、マレむ
ミド類、および特公昭48−12242号公報、特公昭
48−35402号公報、特開昭58−37641号公報、特開
昭58−149042号公報等に蚘茉されおいる増感剀を
挙げるこずができる。増感剀の配合量は、
−キノンゞアゞド化合物100重量郚に察し、通垞、
100重量郚以䞋、奜たしくは〜60重量郚である。 さらに本発明の組成物には、塗垃性、䟋えばス
トリ゚ヌシペンや也燥塗膜圢成埌の攟射線照射郚
の珟像性を改良するため、界面掻性剀を配合する
こずができる。界面掻性剀ずしおは、䟋えばポリ
オキシ゚チレンラりリル゚ヌテル、ポリオキシ゚
チレンステアリル゚ヌテル、ポリオキシ゚チレン
オレむル゚ヌテル等のポリオキシ゚チレンアルキ
ル゚ヌテル類、ポリオキシ゚チレンオクチルプ
ノヌル゚ヌテル、ポリオキシ゚チレンノニルプ
ノヌル゚ヌテル等のポリオキシ゚チレンアルキル
プノヌル゚ヌテル類、およびポリ゚チレングリ
コヌルゞラりレヌト、ポリ゚チレングリコヌルゞ
ステアレヌト等のポリ゚チレングリコヌルゞアル
キル゚ヌテル類のノニオン系界面掻性剀、゚フト
ツプEF301、EF303、EF352新秋田化成(æ ª)補、
メガフアツクF171、F173倧日本むンキ(æ ª)補、
特開昭57−178242号公報に䟋瀺されるフツ化アル
キル基たたはパヌフルオロアルキル基を有する盎
鎖状のフツ玠系界面掻性剀、フロラヌドFC430、
FC431䜏友スリヌ゚ム(æ ª)補、アサヒガヌド
AG710、サヌフロン−382、SC101、SC102、
SC103、SC104、SC105、SC106旭硝子(æ ª)補等
のフツ玠系界面掻性剀、オルガノシロキサンポリ
マヌKP341信越化孊工業(æ ª)補やアクリル酞系
たたはメタクリル酞系共重合䜓ポリフロヌNo.
75、No.95共栄瀟油脂化孊工業(æ ª)補等を挙げる
こずができる。これらの界面掻性剀の配合量は、
本発明の組成物䞭のノボラツク暹脂および
−キノンゞアゞド化合物100重量郚圓たり、通垞、
重量郚以䞋、奜たしくは重量郚以䞋である。 さらに本発明の組成物には、攟射線照射郚の朜
像を可芖化させたり、攟射線照射時のハレヌシペ
ンの圱響を少なくするため、着色剀を、たた接着
性を改良するため、接着助剀を配合するこずもで
きる。 このような着色剀ずしおは、䟋えばメチルバむ
オレツト2BCINo.42555、マラカむトグリヌン
CINo.42000、ビクトリアブルヌCINo.44045、
ニナヌトラルレツドCINo.50040、゜ルベント
む゚ロヌCINo.11020、゜ルベントむ゚ロヌ
CINo.11390、゜ルベントむ゚ロヌ14CINo.
12055、゜ルベントむ゚ロヌ15CINo.18820、゜
ルベントむ゚ロヌ16CINo.12700、゜ルベントむ
゚ロヌ21CINo.18690、゜ルベントむ゚ロヌ−
33CINo.47000、゜ルベントむ゚ロヌ56CINo.
11021、゜ルベントオレンゞCINo.11920、゜
ルベントオレンゞCINo.12100、゜ルベントオ
レンゞ14CINo.26020、゜ルベントオレンゞ40、
゜ルベントレツドCINo.12010、゜ルベントレ
ツドCINo.12715、゜ルベントレツド23CINo.
26100゜ルベントレツド24CINo.26105、゜ル
ベントレツド25CINo.26110、゜ルベントレツド
27CINo.26125、゜ルベントレツドCINo.
45170B、デむスパヌスレツドCINo.60505、
オむルスカヌレツト308CINo.21260、゜ルベン
トブラりンCINo.12020、デむスパヌスむ゚ロ
ヌCINo.10345、デむスパヌスむ゚ロヌCI
No.11855、デむスパヌスむ゚ロヌCINo.
12770、デむスパヌスむ゚ロヌCINo.27090、
デむスパヌスむ゚ロヌ42CINo.10338、デむスパ
ヌスオレンゞCINo.11080、デむスパヌスオレ
ンゞCINo.11005、デむスパヌスオレンゞ
CINo.11100、デむスパヌスオレンゞ11CINo.
60700、デむスパヌスレツドCINo.11110、デ
むスパヌスレツドCINo.60755、デむスパヌス
レツド11CINo.62015、デむスパヌスレツド15
CINo.60710、デむスパヌスレツド58CINo.
11135等の油溶染料、分散染料たたは塩基性染
料、ミケトン・フアスト・む゚ロヌ7G、ミケト
ン・フアスト・オレンゞ5R䞉井東圧染料(æ ª)補、
ホロンサンド瀟補、マクロレツクスむ゚ロヌ
6Gバむ゚ル瀟補等のメチン系染料、スチルベ
ン、−ゞアミノスチルベンスルホン酞誘導
䜓、クマリン誘導䜓、ピラゟリン誘導䜓等の螢光
増癜剀、および特開昭59−142538号公報に蚘茉さ
れたヒドロキシアゟ系染料が挙げられる。これら
着色剀の配合量は、本発明の組成物䞭のノボラツ
ク暹脂および−キノンゞアゞド化合物100
重量郚圓たり、通垞、重量郚以䞋、奜たしくは
重量郚以䞋である。 接着助剀ずしおは、䟋えば−アミノプロピル
トリ゚トキシシラン、ビニルトリクロロシラン、
−−゚ポキシシクロヘキシル゚チル
トリメトキシシラン等のシリコン化合物が甚いら
れる。これら接着助剀の配合量は、本発明の組成
物䞭のノボラツク暹脂および−キノンゞア
ゞド化合物100重量郚圓たり、通垞、重量郚以
䞋、奜たしくは重量郚以䞋である。 さらに本発明の組成物には、必芁に応じお保存
安定剀、消泡剀等も配合するこずができる。 本発明の組成物は、前蚘アルカリ可溶性暹脂、
前蚘−キノンゞアゞド化合物および前蚘各
皮配合剀を溶剀に所定量ず぀溶解させ、䟋えば孔
埄0.2ÎŒm皋床のフむルタで濟過するこずにより、
調補される。 この際に甚いられる溶剀ずしおは、䟋えばシク
ロペンタノン、シクロヘキサノン、ゞアセトンア
ルコヌル等のケトン類、−ブタノヌル等のアル
コヌル類、ゞオキサン、゚チレングリコヌルゞメ
チル゚ヌテル、゚チレングリコヌルゞ゚チル゚ヌ
テル等の゚ヌテル類、゚チレングリコヌルモノメ
チル゚ヌテル、゚チルグリコヌルモノ゚チル゚ヌ
テル等のアルコヌル゚ヌテル類、酢酞ブチル、゚
チルセロ゜ルブアセテヌト、メトキシ゚チルアセ
テヌト等の゚ステル類、−オキシプロピオン酞
メチル、−オキシプロピオン酞゚チル等のアル
コヌル゚ステル類、−トリクロル゚チ
レン等のハロゲン化炭化氎玠類、ゞメチルアセト
アミド、ゞメチルスルホキシド、ゞメチルホルム
アミド、−メチルピロリドン等の極性溶媒が挙
げられる。これらの溶剀は単独でたたは皮以䞊
組合わせお甚いられる。 たた必芁に応じベンゞル゚チル゚ヌテル、ゞヘ
キシル゚ヌテル等の゚ヌテル類、ゞ゚チレングリ
コヌルモノメチル゚ヌテル、ゞ゚チレングリコヌ
ルモノ゚チル゚ヌテル等のグリコヌル゚ヌテル
類、アセトニルアセトン、む゜ホロン等のケトン
類、カプロン酞、カプリル酞等の脂肪酞類、−
オクタノヌル、−ノナノヌル、ベンゞルアルコ
ヌル等のアルコヌル類、酢酞ベンゞル、安息銙酞
゚チル、シナり酞ゞ゚チル、マレむン酞ゞ゚チ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酞゚チレン、炭酞プ
ロピレン、プニルセロ゜ルブアセテヌト等の゚
ステル類のような高沞点溶剀を添加䜿甚するこず
もできる。 本発明の組成物をシリコンり゚ハヌ等の基板に
塗垃する方法ずしおは、本発明の組成物を、䟋え
ば濃床が〜50重量ずなるように前蚘の溶剀に
溶解し、これを回転塗垃、流し塗垃、ロヌル塗垃
等により塗垃する方法が挙げられる。 本発明の組成物の珟像液ずしおは、䟋えば氎酞
化ナトリりム、氎酞化カリりム、炭酞ナトリり
ム、珪酞ナトリりム、メタ珪酞ナトリりム、アン
モニア氎等の無機アルカリ類、゚チルアミン、
−プロピルアミン等の第玚アミン類、ゞ゚チル
アミン、ゞ−−プロピルアミン等の第玚アミ
ン類、トリ゚チルアミン、メチルゞ゚チルアミン
等の第玚アミン類、ゞメチル゚タノヌルアミ
ン、トリ゚タノヌルアミン等のアルコヌルアミン
類、テトラメチルアンモニりムヒドロキシド、テ
トラ゚チルアンモニりムヒドロキシド等の第玚
アンモニりム塩、たたはピロヌル、ピペリゞン、
−ゞアザビシクロ−−り
ンデセン、−ゞアザビシクロ
−−ノナン等の環状アミン類を溶解しおな
るアルカリ性氎溶液が甚いられる。金属を含有す
る珟像液の䜿甚が問題ずなる集積回路䜜補時に
は、第玚アンモニりム塩や環状アミン類の氎溶
液を䜿甚するこずが奜たしい。 たた氎溶性有機溶媒、䟋えばメタノヌル、゚タ
ノヌル等のアルコヌル類や界面掻性剀を適量添加
したアルカリ性氎溶液を珟像液ずしお䜿甚するこ
ずもできる。 実斜䟋 以䞋、実斜䟋により本発明を詳しく説明する。
なお実斜䟋における䞀般匏たたはで
衚わされる−キノンゞアゞド化合物は、生
成物の平均的な組成で瀺されおいる。 実斜䟋  (1) −キノンゞアゞド化合物の合成 遮光䞋に、撹拌噚、滎䞋ロヌトおよび枩床蚈を
備えた300ml䞉぀口フラスコに、゚タノヌルアミ
ン−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト
14.6、−ナフトキノンゞアゞド−−ス
ルホニルクロリド37、γ−ブチロラクトン100
mlおよびテトラヒドロフラン100mlを仕蟌み、撹
拌しお溶解させた。埗られた反応液を氎济により
30℃に保぀た埌、滎䞋ロヌトよりトリ゚チルアミ
ン25.3を内枩が35℃を超えないようにゆ぀くり
ず滎加した。滎加終了埌、30℃で時間撹拌反応
させ、次いで生成したトリ゚チルアミン塩酞塩を
濟過により陀去埌、濟液を倧量の塩酞酞性氎䞭に
泚いで−キノンゞアゞド化合物を析出させ
た。濟別しお埗られた−キノンゞアゞド化
合物を真空也燥噚䞭、40℃で䞀昌倜也燥しお
−キノンゞアゞド化合物〔゚タノヌルアミン
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホン酞テト
ラ゚ステル〕46を埗た。 (2) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物の調補ず評䟡 遮光䞋に、撹拌噚を備えた300mlセパラブルフ
ラスコに、−クレゟヌル336、−クレゟヌ
ル224、37重量ホルムアルデヒド氎溶液400
およびシナり酞0.24を甚いお重瞮合させお埗ら
れたノボラツク暹脂20、前蚘−キノンゞ
アゞド化合物A5、゚チルセロ゜ルブアセテヌ
ト53およびγ−ブチロラクトン22を加え、宀
枩でよく撹拌しお溶解させた。埗られた溶液を孔
埄0.2ÎŒmのメンブランフむルタで濟過し、本発明
の組成物の溶液を調補した。この溶液をシリコン
酞化膜り゚ヌハ䞊にスピンナヌで回転塗垃埌、90
℃、分間プレベヌクしお1.2ÎŒm厚のレゞスト局
を圢成させた。次いでステツパヌを甚いパタヌン
マスクを介し、高圧氎銀灯を線源ずした玫倖線で
0.47秒露光し、テトラメチルアンモニりムヒドロ
キシド1.9重量氎溶液で60秒間珟像した。埗ら
れたレゞストパタヌンを走査電子顕埮鏡で芳察し
たずころ、基板ずレゞストパタヌンずの接合郚に
珟像しきれない郚分、すなわち珟像残りは認めら
れず、線幅0.8ÎŒmレゞストパタヌンが鮮明に解像
できた。さらに残膜率は91であ぀た。 たた珟像埌のレゞストパタヌンをホツトプレヌ
ト䞊で160℃、分間加熱したが、レゞストパタ
ヌンの厩れは芳察されなか぀た。 比范䟋  −キノンゞアゞド化合物の代わりに、
公知の−キノンゞアゞド化合物〔
−トリヒドロキシベンゟプノン−−ナ
フトキノンゞアゞド−−スルホン酞トリ゚ステ
ル〕を甚い、その他は実斜䟋(2)ず同様にしおレ
ゞスト組成物の溶液を調補した。以䞋、実斜䟋
(2)ず同様にステツパヌを甚いパタヌンマスクを介
し0.63秒露光し、テトラメチルアンモニりムヒド
ロキシド2.4重量氎溶液で珟像した。埗られた
レゞストパタヌンを走査電子顕埮鏡で芳察したず
ころ、線幅1.1ÎŒmたでは解像できおいたが、レゞ
ストパタヌン基板が接する郚分に珟像残りが認め
られ、残膜率は85であ぀た。 たた珟像埌のレゞストパタヌンをホツトプレヌ
ト䞊で130℃、分間加熱したずころ、レゞスト
パタヌンの厩れが芳察された。 実斜䟋 〜 実斜䟋(1)ず同様にしお䞋蚘−キノンゞ
アゞド化合物〜を合成した。埗られた
−キノンゞアゞド化合物を甚い、第衚に瀺す溶
剀および珟像液を甚い、その他は実斜䟋(2)ず同
様にしお本発明の組成物の溶液を調補した。この
溶液を甚い、実斜䟋(2)ず同様にステツパヌを甚
いパタヌンマスクを介し第衚に瀺す露光秒数で
露光し、第衚に瀺す濃床のテトラメチルアンモ
ニりムヒドロキシト氎溶液で珟像した。埗られた
レゞストパタヌンの評䟡結果を第衚に瀺す。 −キノンゞアゞド化合物゚タノヌルア
ミン−ゞヒドロキシベンゟ゚ヌト
24.1ず−ナフトキノンゞアゞド−−
スルホニルクロリド65.6ずの反応生成物であ
る゚タノヌルアミン−ゞヒドロキシベ
ンゟ゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド
−−スルホン酞トリ゚ステル −キノンゞアゞド化合物゚タノヌルア
ミン−トリヒドロキシベンゟ゚ヌ
ト21.3ず−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホニルクロリド80.6ずの反応生成物
である゚タノヌルアミン−トリヒ
ドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキノ
ンゞアゞド−−スルホン酞トリ゚ステル −キノンゞアゞド化合物゚チレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ
゚ヌト12.1ず−ナフトキノンゞアゞ
ド−−スルホニルクロリド35.8ずの反応生
成物である゚チレンゞアミン−ゞ
−トリヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナ
フトキノンゞアゞド−−スルホン酞テトラ゚
ステル −キノンゞアゞド化合物ヘキサメチレ
ンゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ
゚ヌト12.9、−ナフトキノンゞアゞ
ド−−スルホニルクロリド17.9および
−ナフトキノンゞアゞド−−スルホニルク
ロリド17.9の反応生成物であるヘキサメチレ
ンゞアミン−ゞ−ゞヒドロキシベンゟ
゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−
−および−−スルホン酞テトラ゚ステル −キノンゞアゞド化合物−メチル−
メタプニレンゞアミン−ゞ−ト
リヒドロキシベンゟ゚ヌト14.2ず−
ナフトキノンゞアゞド−−スルホニルクロリ
ド44.8ずの反応生成物である−メチル−メ
タプニレンゞアミン−ゞ−トリ
ヒドロキシベンゟ゚ヌト−−ナフトキ
ノンゞアゞド−−スルホン酞ペンタ゚ステル −キノンゞアゞド化合物−ナフ
チレンゞアミン−ゞ−トリヒドロ
キシベンゟ゚ヌト15.4ず−ナフトキ
ノンゞアゞド−−スルホニルクロリド35.8
ずの反応生成物である−ナフチレンゞア
ミン−ゞ−トリヒドロキシベンゟ
゚ヌト−−ナフトキノンゞアゞド−
−スルホン酞テトラ゚ステル
【衚】 第衚の結果から、本発明の組成物は高解像
床、高残膜率および高耐熱性を有するこずがわか
る。 実斜䟋 10〜12 実斜䟋(2)においお甚いたノボラツク暹脂の代
わりに、第衚に瀺す混合比の混合クレゟヌル、
37重量ホルムアルデヒド氎溶液400およびシ
ナり酞0.24を甚いお重瞮合させお埗られたノボ
ラツク暹脂を甚い、その他は実斜䟋(2)ず同様に
しお本発明の組成物の溶液を調補した。以䞋、実
斜䟋(2)ず同様にステツパヌを甚いパタヌンマス
クを介し第衚に瀺す露光秒数で露光し、テトラ
メチルアンモニりムヒドロキシド1.9重量氎溶
液で珟像した。埗られたレゞストパタヌンの評䟡
結果を第衚に瀺す。
【衚】 第衚の結果から、本発明の組成物は高解像
床、高残膜率および高耐熱性を有するこずがわか
る。 発明の効果 本発明によれば、アルカリ可溶性暹脂に特定の
−キノンゞアゞド化合物を配合するこずに
より高感床、高解像床、高残膜率および高耐熱性
を有するポゞ型感攟射線性暹脂組成物を埗るこず
ができる。 本発明のポゞ型感攟射線性暹脂組成物は、玫倖
線、遠玫倖線、線、電子線、分子線、γ線、シ
ンクロトロン攟射線、プロトンビヌム等の攟射線
に感応し、集積回路䜜補甚レゞストずしお奜適な
ものである。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  アルカリ可溶性暹脂100重量郚に察し、䞋蚘
    䞀般匏およびたたはで衚わされる
    −キノンゞアゞド化合物を〜100重量郹
    配合しおなるこずを特城ずするポゞ型感攟射線性
    暹脂組成物。 【化】 【化】 匏䞭、、およびは同䞀たたは異なる、
    〜の敎数、、およびは同䞀たたは異な
    る、たたは〜の敎数、−、−
    および−は〜の敎数を意味し、R1、
    R2およびR5は同䞀たたは異なる、−ナフ
    トキノンゞアゞド−−スルホニル基、−
    ナフトキノンゞアゞド−−スルホニル基たたは
    −ベンゟキノンゞアゞド−−スルホニル
    基、R3、R4およびR6は同䞀たたは異なる、氎玠
    原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリヌル基、
    アラルキル基、アルコキシ基、アロキシル基、ア
    ラルコキシ基、シアノ基たたはニトロ基、R7は
    氎玠原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリヌル
    基、アラルキル基、氎酞基、アルコキシ基、アロ
    キシル基、アラルコキシ基、シアノ基たたはニト
    ロ基を意味し、はアルキレン基、アリヌレン
    基、アザアルキレン基たたはアザアリヌレン基を
    意味する。
JP4244386A 1986-02-27 1986-02-27 ポゞ型感攟射線性暹脂組成物 Granted JPS62198852A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4244386A JPS62198852A (ja) 1986-02-27 1986-02-27 ポゞ型感攟射線性暹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4244386A JPS62198852A (ja) 1986-02-27 1986-02-27 ポゞ型感攟射線性暹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62198852A JPS62198852A (ja) 1987-09-02
JPH0588830B2 true JPH0588830B2 (ja) 1993-12-24

Family

ID=12636218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4244386A Granted JPS62198852A (ja) 1986-02-27 1986-02-27 ポゞ型感攟射線性暹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62198852A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NO891063L (no) * 1988-03-31 1989-10-02 Thiokol Morton Inc Novolakharpikser av blandede aldehyder og positive fotoresistmaterialer fremstilt fra slike harpikser.
FR2806951B1 (fr) * 2000-03-31 2002-06-14 Aro Dispositif de motorisation electrique pour pince d'outillage
CN114436910B (zh) * 2020-11-02 2024-01-26 北京錎材科技有限公叞 重氮萘醌磺酞酯化合物、树脂组合物

Also Published As

Publication number Publication date
JPS62198852A (ja) 1987-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5087548A (en) Positive type radiation-sensitive resin composition
US5238775A (en) Radiation-sensitive resin composition
JPH0322619B2 (ja)
JPS62150245A (ja) 集積回路䜜補甚ポゞ型レゞスト
JPS62153950A (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JPH0654386B2 (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JPH02108054A (ja) 感攟射線性暹脂組成物
JP2536600B2 (ja) ノボラック暹脂䞭の䜎栞䜓の陀去方法
JPH0648382B2 (ja) 半導䜓デバむス補造甚ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JPH0778157B2 (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物の補造方法
JP3562673B2 (ja) ポゞ型フォトレゞスト組成物
JP3662341B2 (ja) ポゞ型感光性組成物
JPH03279958A (ja) ポゞ型フオトレゞスト組成物
JPS62198852A (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JP3452206B2 (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JP3472994B2 (ja) 感攟射線性暹脂組成物
JPH0792669A (ja) 感攟射線性暹脂組成物
JP2715328B2 (ja) ポゞ型フオトレゞスト組成物
JPH06202317A (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JP2775833B2 (ja) 感攟射線性暹脂組成物
JPH0486665A (ja) 感攟射線性暹脂組成物
JP2626468B2 (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物
JPH05303197A (ja) ポゞ型フオトレゞスト組成物
JPH05297581A (ja) ポゞ型フオトレゞスト組成物
JP2629814B2 (ja) ポゞ型感攟射線性暹脂組成物