JPH0590341A - ボンデイング装置 - Google Patents

ボンデイング装置

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Publication number
JPH0590341A
JPH0590341A JP25133491A JP25133491A JPH0590341A JP H0590341 A JPH0590341 A JP H0590341A JP 25133491 A JP25133491 A JP 25133491A JP 25133491 A JP25133491 A JP 25133491A JP H0590341 A JPH0590341 A JP H0590341A
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JP
Japan
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axis
rotating body
rotating
rotation
curved surface
Prior art date
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JP25133491A
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English (en)
Inventor
Tsukasa Adachi
司 安立
Harumi Nonogaki
晴己 野々垣
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】リードを一括にボンディングするボンディング
装置に関し、リードと基板のパターンとの位置ズレを防
止して超精密な位置決めができ、むらのない平行な面接
触による加圧加熱を行うことを目的とする。 【構成】載置台2は基板3の中央点Oを通るX軸を中心
とする円筒面2bを下方に有し、回転台4の円筒内面4
aと円筒面2bとの間には載置台2をX軸の周りで回動
できるようにボール5が介装されている。引張バネ8は
載置台2のバランスをとって静止させる。回転台4は中
央点Oを通るY軸を中心とし、載置台2の円筒面2bの
半径よりも大きな半径の円筒面4bを下方に有す。固定
台9の円筒内面9aと円筒面4bとの間には回転台4が
Y軸の周りで回動できるようにボール10が介装されて
いる。引張バネ13は回転台4のバランスをとって静止
させている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板のパターンに半導
体のリードを、ミクロン単位の精度で位置決め及び平行
当接し、それを加圧加熱して一括にボンディング(ギャ
ングボンディング)する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、基板のパターンに半導体チップを
ボンディングする方式としては、ワイヤーボンディング
とタブボンディング(Tape Automated Bonding)の2通
りが一般的に行われているが、リード間のピッチ100
μ以下、リード数125〜250本以上のものは、タブ
ボンディングでなければ無理とされている。
【0003】タブボンディングは周知の如く、テープに
プリント及びエッチング加工によってリードを形成し、
該テープのインナーリードに半導体チップをボンディン
グし(ILB)、アウターリードを基板のパターンにボ
ンディング(OLB)するもので、図9のボンディング
装置30で行われる。
【0004】OLBを例に説明すると、基板33は、サ
ーモドツール34の加圧加熱面34aと平行な載置面3
2上に置かれている。基板33上にはILB処理後の半
導体チップ35が、予め光学的手段でリード36と基板
33のパターンを精密に位置合わせされ、サーモドツー
ル34でリード36を加圧加熱してボンディングを行
う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ステー
ジ31の載置面32とサーモドツール34の加圧面34
aは正確に平行であることはまずありえない。従って、
狭いピッチで並んだ細くて多数(例えば、コンピュータ
用半導体チップではリードピッチ50μ(ミクロン)以
下、リード幅40μ以下、リード数500本以上)のリ
ードを一括してボンディングする際、サーモドツール3
4の加圧面34aがリード36に当接したときに相互間
に微細な傾斜誤差が生じる。よって、そのまま加圧面3
4aをリード36に加圧すると、リード36と基板33
のパターンとの位置ズレが生じ、また、加圧力に部分的
強弱むらが生じる。
【0006】そのため、リード36と基板33のパター
ンとの位置ズレが生じると、リード36とパターンが接
続しなかったり、隣のリードに誤接続してしまったりす
るミスが発生する。又、加圧力の強弱むらによってリー
ド36の不溶接又は不完全溶接や、過度の加圧力による
リード36の溶断等が発生する。
【0007】このようにして、例え1本のリードの誤接
続や溶接不良でも、製品全体が不良品となるため、上記
は極めて重大な課題であり、よって正確なタブボンディ
ングを行なうために、平行当接(ズレがでない平均的面
接触)を得ることが従来からの課題であった。
【0008】上記課題を解決するため、従来、図10に
示すように弾性体37を介して載置台38を設けたステ
ージ39が特開昭62−149142号公報にて開示さ
れている。ところが、この構造では、サーモドツール
(図示略)により加圧された際、図11に示すように弾
性体37の弾性変形による横方向の微小ズレΔCを無く
すことはできない。例えば、傾斜角度θを0.3°とし
たとき、ズレ量は15μ〜25μと非常に大きくなり、
サーモドツールの加圧面と基板33とのズレ力で細いリ
ード13は変形してしまうという問題がある。
【0009】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、リードと基板のパターンとの位置ズ
レを防止して超精密な位置決めを行うことができるとと
もに、むらのない平行な面接触による加圧加熱を行うこ
とができることを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、基板又は半導体チップの載置面を有する
ステージと、テープに設けられたリードにより形成され
る非溶接側平面の中央点の両側にリードに当接する少な
くとも二辺部よりなる当接部を有し、リードを基板のパ
ターン又は半導体チップの電極部に加圧加熱して一括に
ボンディングするサーモドツールと、前記当接部を載置
面と平行になるようにリードに当接させる平行当接機構
とを備えたボンディング装置において、平行当接機構
を、前記中央点を通る非溶接側平面内の第1軸を中心と
した球面以外の回転曲面を少なくとも一部に有する第1
回動体と、第1回動体の回転曲面を支持して第1回動体
を前記第1軸の周りで回動させる第1支持体とを備えた
第1機構部と、非溶接側平面内において前記中央点を通
りかつ前記第1軸と交差する第2軸を中心とし、その最
大曲率半径が第1回動体における回転曲面の最大曲率半
径よりも大きい球面以外の回転曲面を少なくとも一部に
有する第2回動体と、第2回動体の回転曲面を支持して
第2回動体を前記第2軸の周りで回動させる第2支持体
とを備えた第2機構部とを備えて構成し、第1及び第2
機構部を前記ステージ及び/又はサーモドツールに設け
た。
【0011】又、本発明は、当接部を平面方形状とし、
第1回動体の第1軸と第2回動体の第2軸とを直交させ
ている。又、本発明は、第1機構部に第1回動体を初期
位置に復帰させるための第1復帰手段を設けるととも
に、第2機構部に第2回動体を初期位置に復帰させるた
めの第2復帰手段を設けた。
【0012】又、本発明は、第1支持体に第1回動体の
回転曲面を支持するコロを設け、第2支持体に第2回動
体の回転曲面を支持するコロを設けた。更に、本発明
は、第1機構部の第1支持体と第2機構部の第2回動体
とを一体に設けた。
【0013】
【作用】従って、本発明によれば、リードと基板のパタ
ーン又は半導体チップの電極部とをボンディングする際
に、まず、サーモドツールの当接部の1角が点接触する
と、第1回動体が第1軸を中心にして回動して該接触点
から始まる一辺が線接触し、一辺が線接触すると第2回
動体が第2軸を中心にして回動して該接触線から始まる
面(全面)が面接触し、サーモドツールの当接部がステ
ージの載置面と平行になるようにリードに当接される。
これにより、むらのない平行な面接触による加圧加熱を
行うことが可能となる。
【0014】
【実施例】以下、本発明をボンディング装置のステージ
に具体化した一実施例を図1〜図6に従って説明する。
【0015】尚、図1はステージの分解斜視図、図2は
ステージの平面図、図3は図2のA−A線断面図、図4
は図2のB−B線断面図、図5はズレを示す説明図、図
6は載置台と回転台の円筒面を同位相として示した拡大
断面図である。又、本実施例におけるサーモドツールの
当接部は、方形状の半導体チップの四方に延びるリード
を一括にボンディングできる平面方形状をなすものとし
て説明する。
【0016】図1に示すように、ステージ1の第1回動
体としての載置台2は、載置面2a上に載置された方形
状の基板3(正確にはリードにより形成される非溶接側
平面)の中央点Oを通りかつサーモドツールの当接部の
対向する一対の辺に平行な第1軸、即ち、X軸を中心と
する円筒面2bを下方に有している。
【0017】第1支持体及び第2回動体としての回転台
4はX軸を中心とする円筒内面4aを備え、円筒内面4
aと前記円筒面2bとの間には載置台2がX軸の周りを
小さな力で回動できるようにコロとしての多数のボール
5が介装され、これらのボール5は多数の収容孔6aを
有するリテーナ6により間隔が保持されている。回転台
4の対向する端面には規制板7が固着されており、載置
台2をX軸の周りでのみ回動させ、載置台2のX軸方向
への移動及び他の軸(Y軸)の周りでの回動を規制する
ようにしている。
【0018】載置台2のX軸と平行な対向する一対の側
面と回転台4の間には載置台2の初期位置を決めるため
の復帰手段として引張バネ8が介装され、載置台2のバ
ランスをとって静止させている。本実施例では載置台
2、回転台4、規制板7及び引張バネ8等で第1機構部
が構成されている。
【0019】又、回転台4は前記中央点Oを通りかつサ
ーモドツールの当接部の他の対向する一対の辺に平行な
第2軸、即ち、Y軸を中心とし、かつ載置台2の円筒面
2bの半径R1よりも大きな半径R2の円筒面4bを下
方に有している。
【0020】第2支持体としての固定台9はY軸を中心
とする円筒内面9aを備え、円筒内面9aと前記回転台
4の円筒面4bとの間には回転台4がY軸の周りを小さ
な力で回動できるようにコロとしての多数のボール10
が介装され、これらのボール10は多数の収容孔11a
を有するリテーナ11により間隔が保持されている。固
定台9の対向する端面には規制板12が固着されてお
り、回転台4をY軸の周りでのみ回動させ、回転台4の
Y軸方向への移動及び他の軸(X軸)の周りでの回動を
規制するようにしている。
【0021】又、回転台4に固着された一対の規制板7
と固定台9の間には回転台4の初期位置を決めるための
復帰手段として引張バネ13が介装され、回転台4のバ
ランスをとって静止させている。本実施例では回転台
4、固定台9、規制板12及び引張バネ13等で第2機
構部が構成されている。
【0022】さて、載置台2の載置面2a上に基板3の
各辺をX軸及びY軸に平行となるように載置した状態
で、図6に示すようにサーモドツール14を下降させ、
当接部15の1角が基板3の接触点D0 で点接触(正確
には、図示しないリードを介して接触)すると、ボール
5にサーモドツール14の押圧力Fgが働く。押圧力F
gは、載置台2下部の円筒面2bの点P1 と回転台4の
円筒面4aのP2 に作用して、それぞれ回転方向の分力
Fc1 ,Fc2 が発生しステージ1と回転台2を回転さ
せようとする。
【0023】この時、載置台2の円筒面2bの半径R1
と回転台4の円筒面4bの半径R2との関係は、
【0024】
【数1】R1<R2 となっているため、回転方向の分力Fc1 とFc2 との
関係は、
【0025】
【数2】Fc1 >Fc2 となる。さらに、載置台2の円筒面2bのころがり抵抗
1 と回転台4の円筒面4bのころがり抵抗f2 とを比
較すると、円筒面2bにかかる重量は載置台2の重量の
みであり、円筒面4bにかかる重量は載置台2及び回転
台4の重量であり、円筒面4bにかかる重量が大きいた
め、
【0026】
【数3】f1 <f2 になる。
【0027】従って、サーモドツール14の当接部15
の1角が基板3と点接触すると、まず動き易い載置台2
が引張バネ8の付勢力に抗してX軸を中心に回動し始
め、該接触点D0 から始まるY軸に平行な当接部15の
1辺が線接触すると、載置台2の回動が止まる。
【0028】更に、サーモドツール14を下降させて基
板3に押し当てていくと、今度は回転台4が引張バネ1
3の付勢力に抗してY軸を中心に回動し始め、前記接触
線から始まる面(サーモドツール14の当接部15の下
面全面)が面接触することになる。
【0029】サーモドツール14の当接部15に基板3
(正確にはリードにより形成される非溶接側平面)が平
行当接する際の回転中心(不動点)は中央点Oである
が、初期接触点D0 の平面方向のズレ量ΔDは、図5に
示すようにサーモドツール14の幅をW、載置台2の初
期位置からの傾斜角をθとすると、
【0030】
【数4】ΔD=W/2(1−cosθ) で表わされる。従って、例えばサーモドツール14のツ
ール幅W=15mm,傾斜角θ=0.3°とすると、ズ
レ量ΔD≒1×10-4mm=0.1μとなり、ゼロと考
えてよい。
【0031】このように、本実施例のボンディング装置
によるギャングボンディングでは最初にサーモドツール
14の当接部15の1角を基板3(正確にはリード)に
点接触させ、ついで該接触点から始まるY軸と平行な当
接部15の1辺を線接触させる際、初期接触点のズレが
ほとんど生じないように載置台2の円筒面2bと回転台
4の円筒内面4aとの間に介装したボール5によるころ
がりで行なうため、当接部15の1辺のリードへの線接
触を極めて正確かつスムーズに行うことができる。
【0032】次に、サーモドツール14の当接部15を
線接触した1辺からX方向の面接触へ移行させるにあた
り、まず載置台2の回動後に回転台4を回動させること
ができるので、当接部15の線接触からX方向の面接触
への移行を極めて自然にかつリードの位置ズレの恐れを
ほとんどなくして行なうことができる。
【0033】これによって、リードと基板3のパターン
との位置ズレを防止して超精密な位置決めを行うことが
できるとともに、むらのない平行な面接触による加圧加
熱を行うことができる。
【0034】尚、本実施例では基板3のパターンにリー
ドを一括してボンディングするアウターリードボンディ
ング(OLB)を例に説明したが、半導体チップの電極
部にリードを一括してボンディングするインナーリード
ボンディング(ILB)に実施しても同様の効果が得ら
れることはいうまでもない。
【0035】尚、本実施例では、サーモドツール14を
固定とし、ステージ1をサーモドツール14の当接部1
5にそわせる構成としたが、ステージ1を固定とし、サ
ーモドツール14側に本実施例と同様の機構を設け、サ
ーモドツール14の当接部15をステージ1にそわせる
構成としてもよい。
【0036】又、図7,図8に示すように、ステージ1
6に第1機構部を設け、サーモドツール20に第2機構
部を設けたボンディング装置としてもよい。即ち、ステ
ージ16の第1支持体としての固定台17は前記基板3
(正確にはリードにより形成される非溶接側平面)の中
央点Oを通るX軸(図7において紙面直交方向の軸)を
中心とする円筒内面17aを備え、円筒内面17aと載
置台2の円筒面2bとの間には載置台2がX軸の周りを
小さな力で回動できるように多数のボール18が介装さ
れている。尚、ボール18の間隔を保持するリテーナは
図示していない。固定台17の対向する端面には載置台
2をX軸の周りでのみ回動させ、載置台2の移動及びY
軸の周りでの回動を規制する規制板19が固着されてい
る。載置台2の対向する一対の側面と固定台17の間に
は載置台2の初期位置を決めるための引張バネ8が介装
されている。
【0037】サーモドツール20の第2回動体としての
ツール本体21は上部に中央点Oを通るY軸(図8にお
いて紙面直交方向の軸)を中心とし、かつ載置台2の円
筒面2bの半径R1よりも大きな半径R2の円筒面21
aを有し、下部に当接部15を有している。第2支持体
としての取付け台22は同じくY軸を中心とする円筒内
面22aを備え、円筒内面22aとツール本体21の円
筒面21aとの間にはツール本体21がY軸の周りを小
さな力で回動できるように多数のボール23が介装され
ている。尚、ボール23の間隔を保持するリテーナは図
示していない。取付け台22の対向する端面にはツール
本体21をY軸の周りでのみ回動させ、ツール本体21
の移動及びX軸の周りでの回動を規制する規制板24が
固着されている。ツール本体21と取付け台22の間に
はツール本体21の初期位置を決めるための引張バネ1
3が介装されている。
【0038】上記のように構成されたボンディング装置
にてギャングボンディングを行う際には、サーモドツー
ル20を下降させ、当接部15の1角が基板3に点接触
(正確には、図示しないリードを介して接触)すると、
まず動き易い載置台2が引張バネ8の付勢力に抗してX
軸を中心に回動し始め、当接部15の1辺が線接触して
載置台2の回動が止まる。更に、サーモドツール20を
下降させて基板3に押し当てていくと、今度はツール本
体21が引張バネ13の付勢力に抗してY軸を中心に回
動し始め、前記接触線から始まる面(ツール本体21の
当接部15全面)が面接触することになる。従って、本
実施例でも上記実施例と同様の作用、効果を得ることが
できる。
【0039】又、前記実施例では、載置台2の円筒面2
bと回転台4の円筒内面4aとの間、回転台4の円筒面
4bと固定台9の円筒内面9aとの間にコロとしてボー
ル5,10を介装してころがり摺動するように構成した
が、コロとしてローラを用いてもよい。又、載置台2と
回転台4との相対回動、及び回転台4と固定台9との相
対回動はコロ(ボール5,10)を省略したすべり摺動
としたり、空気層を利用したエアーガイド、又は磁気反
力を利用した磁気ガイド等としてもよい。
【0040】又、前記実施例では載置台2及び回転台4
の初期位置を決めるための復帰手段としてそれぞれ引張
バネ8,13を用いたが、これに限定されず、例えば、
圧縮バネ又は板バネとしてもよいし、エアーシリンダー
を用いてもよい。
【0041】又、前記実施例では載置台2及び回転台4
を円筒面2b,4bを備えたものとしたがこれに限定さ
れるものではなく、それぞれX軸,Y軸を中心とする回
転曲面、例えば円錐台の外周の曲面を一部に備えたもの
とし、回転台4及び固定台9は対応する回転曲面を支持
できるものであればよい。
【0042】更に、前記実施例ではサーモドツール14
の当接部15を平面方形状としたが、これに限定され
ず、例えば方形状の半導体チップの対向する一対の辺か
ら延びるリードを一括にボンディングできる2辺部を備
えた当接部としてもよいし、3辺部からなる平面コ字状
の当接部としてもよい。
【0043】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
リードと基板のパターンとの位置ズレを防止して超精密
な位置決めを行うことができるとともに、むらのない平
行な面接触による加圧加熱を行うことができる優れた効
果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明をステージに具体化した一実施例を示す
斜視図である。
【図2】ステージを示す平面図である。
【図3】図2のA−A線断面図である。
【図4】図2のB−B線断面図である。
【図5】ズレ量の算出を示す図である。
【図6】載置台と回転台の円筒面を同位相として示した
拡大断面図である。
【図7】別の実施例を示す正断面図である。
【図8】図7の側断面図である。
【図9】従来のボンディング装置を示す正面図である。
【図10】従来のボンディング装置を示す正面図であ
る。
【図11】従来例のズレを示す説明図である。
【符号の説明】
1 ステージ 2 第1回動体としての載置台 2a 載置面 3 基板 4 第1支持体及び第2回動体としての回転台 14,20 サーモドツール 15 当接部 17 第1支持体としての固定台 21 第2回動体としてのツール本体 22 第2支持体としての取付け台 O 中央点

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板(3)又は半導体チップの載置面
    (2a)を有するステージ(1)と、 テープに設けられたリードにより形成される非溶接側平
    面の中央点(O)の両側にリードに当接する少なくとも
    二辺部よりなる当接部(15)を有し、リードを基板
    (3)のパターン又は半導体チップの電極部に加圧加熱
    して一括にボンディングするサーモドツール(14,2
    0)と、 前記当接部(15)を載置面(2a)と平行になるよう
    にリードに当接させる平行当接機構とを備えたボンディ
    ング装置において、 平行当接機構を、前記中央点(O)を通る非溶接側平面
    内の第1軸を中心とした球面以外の回転曲面を少なくと
    も一部に有する第1回動体(2)と、第1回動体(2)
    の回転曲面を支持して第1回動体(2)を前記第1軸の
    周りで回動させる第1支持体(4,17)とを備えた第
    1機構部と、 前記非溶接側平面内において前記中央点(O)を通りか
    つ前記第1軸と交差する第2軸を中心とし、その最大曲
    率半径が第1回動体(2)における回転曲面の最大曲率
    半径よりも大きい球面以外の回転曲面を少なくとも一部
    に有する第2回動体(4,21)と、第2回動体(4,
    21)の回転曲面を支持して第2回動体(4,21)を
    前記第2軸の周りで回動させる第2支持体(9,22)
    とを備えた第2機構部とを備えて構成し、 第1及び第2機構部を前記ステージ(1)及び/又はサ
    ーモドツール(14,20)に設けたことを特徴とする
    ボンディング装置。
  2. 【請求項2】 当接部は平面方形状であり、第1回動体
    の第1軸と第2回動体の第2軸とは直交していることを
    特徴とする請求項1に記載のボンディング装置。
  3. 【請求項3】 第1機構部は第1回動体を初期位置に復
    帰させるための第1復帰手段を備えるとともに、第2機
    構部は第2回動体を初期位置に復帰させるための第2復
    帰手段を備えることを特徴とする請求項1に記載のボン
    ディング装置。
  4. 【請求項4】 第1支持体は第1回動体の回転曲面を支
    持するコロを備え、第2支持体は第2回動体の回転曲面
    を支持するコロを備えることを特徴とする請求項1に記
    載のボンディング装置。
  5. 【請求項5】 第1機構部の第1支持体と第2機構部の
    第2回動体とを一体に設けたことを特徴とする請求項1
    に記載のボンディング装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025110098A1 (ja) * 2023-11-21 2025-05-30 オイレス工業株式会社 調整装置及びそれを備えた加工装置

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