JPH0590380A - 成膜装置の基板搬送装置 - Google Patents
成膜装置の基板搬送装置Info
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- JPH0590380A JPH0590380A JP25124991A JP25124991A JPH0590380A JP H0590380 A JPH0590380 A JP H0590380A JP 25124991 A JP25124991 A JP 25124991A JP 25124991 A JP25124991 A JP 25124991A JP H0590380 A JPH0590380 A JP H0590380A
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Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 例えばプラズマＣＶＤ装置，スパッタリング
装置などの真空中で薄膜を形成する真空容器内へ例えば
ガラス，シリコンウエハー基板等を搬送する成膜装置の
基板搬送装置を提供する。 【構成】 加熱ヒータ及び電極を用いて基板に成膜を施
す真空容器内に該基板を自動搬送する装置において、真
空容器１１内で基板１５を加熱ヒータ１２及び電極と平
行なＸ軸方向に搬送する基板搬送台車２１と、該基板１
５をＸ軸方向と直交するＺ軸方向に昇降させる台車リフ
ター１８と、基板１５に成膜処理を施す設定位置までＸ
軸及びＺ軸と直交するＹ軸方向に移動するポジショナー
１３とを具備してなり、且つ基板１５を縦置にして搬送
する際、Ｘ軸，Ｙ軸及びＺ軸の各軸方向への移動を独立
して行う。これにより従来の基板ホルダーを使用するこ
となく、且つ真空容器１１内への不純物の混入を抑え、
処理時間の短縮が図れる。
装置などの真空中で薄膜を形成する真空容器内へ例えば
ガラス，シリコンウエハー基板等を搬送する成膜装置の
基板搬送装置を提供する。 【構成】 加熱ヒータ及び電極を用いて基板に成膜を施
す真空容器内に該基板を自動搬送する装置において、真
空容器１１内で基板１５を加熱ヒータ１２及び電極と平
行なＸ軸方向に搬送する基板搬送台車２１と、該基板１
５をＸ軸方向と直交するＺ軸方向に昇降させる台車リフ
ター１８と、基板１５に成膜処理を施す設定位置までＸ
軸及びＺ軸と直交するＹ軸方向に移動するポジショナー
１３とを具備してなり、且つ基板１５を縦置にして搬送
する際、Ｘ軸，Ｙ軸及びＺ軸の各軸方向への移動を独立
して行う。これにより従来の基板ホルダーを使用するこ
となく、且つ真空容器１１内への不純物の混入を抑え、
処理時間の短縮が図れる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばプラズマＣＶＤ
装置，スパッタリング装置などの真空中で薄膜を形成す
る真空容器内へ例えばガラス，シリコンウエハー基板等
を搬送する成膜装置の基板搬送装置に関する。
装置，スパッタリング装置などの真空中で薄膜を形成す
る真空容器内へ例えばガラス，シリコンウエハー基板等
を搬送する成膜装置の基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えばプラズマＣＶＤ装置，スパ
ッタリング装置などの真空容器への基板の出し入れを行
う場合、一般に基板を基板ホルダーに固定し、該基板ホ
ルダーを基板と一緒に搬送する方法が採用されている。
ッタリング装置などの真空容器への基板の出し入れを行
う場合、一般に基板を基板ホルダーに固定し、該基板ホ
ルダーを基板と一緒に搬送する方法が採用されている。
【０００３】この従来の成膜装置の一例を図１１に示し
説明する。同図に示すように、成膜は真空容器０１内で
行うようにしており、開閉自在の扉０２には電極０３が
設けられている。基板０４を搬送するためには、通常基
板ホルダー０５に複数の基板０４を取付け、この基板ホ
ルダー０５を真空容器０１内の上部に設けられた基板搬
送部０６に吊下げることによって図示しない移動装置に
よって基板搬送部０６と共に移動するようにしている。
説明する。同図に示すように、成膜は真空容器０１内で
行うようにしており、開閉自在の扉０２には電極０３が
設けられている。基板０４を搬送するためには、通常基
板ホルダー０５に複数の基板０４を取付け、この基板ホ
ルダー０５を真空容器０１内の上部に設けられた基板搬
送部０６に吊下げることによって図示しない移動装置に
よって基板搬送部０６と共に移動するようにしている。
【０００４】また、真空容器０１の中央には、加熱ヒー
タ０７が設けられており、搬送部０６に吊下げられた基
板ホルダー０５が加熱ヒータ０７と電極０３との間に移
動していき、停止中に基板０４上に成膜が施されること
になる。
タ０７が設けられており、搬送部０６に吊下げられた基
板ホルダー０５が加熱ヒータ０７と電極０３との間に移
動していき、停止中に基板０４上に成膜が施されること
になる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来技術に係る搬送方法では、基板ホルダー０５に基
板０４を取付けるのに手間がかかり、自動化するために
は非常に複雑なロボットが必要になるという問題があ
る。
た従来技術に係る搬送方法では、基板ホルダー０５に基
板０４を取付けるのに手間がかかり、自動化するために
は非常に複雑なロボットが必要になるという問題があ
る。
【０００６】また、基板０４の代表例としての例えばガ
ラスを真空中で加熱する場合、基板ホルダー０５も一緒
に加熱することとなり、搬送系のトラブルの原因になる
ばかりか、ガラスの割れる原因となる。
ラスを真空中で加熱する場合、基板ホルダー０５も一緒
に加熱することとなり、搬送系のトラブルの原因になる
ばかりか、ガラスの割れる原因となる。
【０００７】さらに、ガラスのみを加熱及び冷却する場
合に比べて、基板ホルダー０５に取付けて加熱等を行う
場合、長い処理時間を要する。
合に比べて、基板ホルダー０５に取付けて加熱等を行う
場合、長い処理時間を要する。
【０００８】また基板ホルダー０５が真空容器０１内を
移動するため、不純物の混入の原因となると共に、基板
を取付けた基板ホルダー０５を出口から入口へ戻さなけ
ればならないという問題がある。
移動するため、不純物の混入の原因となると共に、基板
を取付けた基板ホルダー０５を出口から入口へ戻さなけ
ればならないという問題がある。
【０００９】本発明は以上述べた事情に鑑み、基板ホル
ダーを不用とし、真空容器内への不純物の混入を防止し
且つ基板加熱及び冷却に要する時間の短縮を図った成膜
装置の基板搬送装置を提供することを目的とする。
ダーを不用とし、真空容器内への不純物の混入を防止し
且つ基板加熱及び冷却に要する時間の短縮を図った成膜
装置の基板搬送装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る成膜装置の基板搬送装置の構成は、加熱ヒータ
及び電極を用いて基板に成膜を施す真空容器内に該基板
を自動搬送する装置において、真空容器内で基板を加熱
ヒータ及び電極と平行なＸ軸方向に搬送する基板搬送台
車と、該基板をＸ軸方向と直交するＺ軸方向に昇降させ
る台車リフターと、基板に成膜処理を施す設定位置まで
Ｘ軸及びＺ軸と直交するＹ軸方向に移動するポジショナ
ーとを具備してなり、且つ基板を縦置にして搬送する
際、Ｘ軸，Ｙ軸及びＺ軸の各軸方向への移動を独立して
行うことを特徴とする。
明に係る成膜装置の基板搬送装置の構成は、加熱ヒータ
及び電極を用いて基板に成膜を施す真空容器内に該基板
を自動搬送する装置において、真空容器内で基板を加熱
ヒータ及び電極と平行なＸ軸方向に搬送する基板搬送台
車と、該基板をＸ軸方向と直交するＺ軸方向に昇降させ
る台車リフターと、基板に成膜処理を施す設定位置まで
Ｘ軸及びＺ軸と直交するＹ軸方向に移動するポジショナ
ーとを具備してなり、且つ基板を縦置にして搬送する
際、Ｘ軸，Ｙ軸及びＺ軸の各軸方向への移動を独立して
行うことを特徴とする。
【００１１】
【作用】前記構成において、台車リフター上に基板を立
てた状態で固定し、基板搬送台車を真空容器間内に移動
させ、基板だけを搬送する。基板を移動後、台車リフタ
ーを上方に上昇させて基板を保持するポジショナーに受
け渡し、該ポジショナーを移動させて成膜等の処理を行
うため加熱ヒータと密着させ基板処理を行う。これによ
り従来用いていた基板を配設するための基板ホルダーが
不用となる。
てた状態で固定し、基板搬送台車を真空容器間内に移動
させ、基板だけを搬送する。基板を移動後、台車リフタ
ーを上方に上昇させて基板を保持するポジショナーに受
け渡し、該ポジショナーを移動させて成膜等の処理を行
うため加熱ヒータと密着させ基板処理を行う。これによ
り従来用いていた基板を配設するための基板ホルダーが
不用となる。
【００１２】
【実施例】本発明の好適な実施例を以下図面を参照して
説明する。図１は本実施例に係る成膜装置の基板搬送装
置の斜視図を示し、図２〜図５にはその詳細図を、そし
て図６〜図１０にはその作用説明図を各々示している。
説明する。図１は本実施例に係る成膜装置の基板搬送装
置の斜視図を示し、図２〜図５にはその詳細図を、そし
て図６〜図１０にはその作用説明図を各々示している。
【００１３】本実施例に係る成膜装置はプラズマＣＶＤ
装置等に応用する一例を示す。図１に示すように、真空
容器１１は、図示しない吸引装置にて真空に保てるよう
完全密閉であるが、内部に配置された各部分を説明する
ため切開き状態を示している。この真空容器１１の内部
中央には、両面に熱を伝える加熱ヒータ１２が、又その
両側に基板を保持するポジショナー１３が平行に配置さ
れている。
装置等に応用する一例を示す。図１に示すように、真空
容器１１は、図示しない吸引装置にて真空に保てるよう
完全密閉であるが、内部に配置された各部分を説明する
ため切開き状態を示している。この真空容器１１の内部
中央には、両面に熱を伝える加熱ヒータ１２が、又その
両側に基板を保持するポジショナー１３が平行に配置さ
れている。
【００１４】上記ポジショナー１３は、真空容器１１外
部の横送り装置１４に支持アーム１４ａを介して固定さ
れ、加熱ヒータ１２に近遠する方向（横方向：Ｙ軸）に
移動可能な平板状で中央部は基板１５より多少狭い孔が
設けられており、その下端部には基板１５を取付けるつ
め１６が２個突設されている。
部の横送り装置１４に支持アーム１４ａを介して固定さ
れ、加熱ヒータ１２に近遠する方向（横方向：Ｙ軸）に
移動可能な平板状で中央部は基板１５より多少狭い孔が
設けられており、その下端部には基板１５を取付けるつ
め１６が２個突設されている。
【００１５】又、上記加熱ヒータ１２には、ポジショナ
ー１３のつめ１６が当接する位置に窪み１７が設けられ
ており、基板１５を載置したポジショナー１３のつめ１
６を収納するようにして、基板１５が加熱ヒータ１２に
密着して全体が均一に加熱されることとなる。尚、横送
り装置１４は真空容器１１の外部より図示しない油圧シ
リンダー等にて移動可能となっている（図２参照）。
ー１３のつめ１６が当接する位置に窪み１７が設けられ
ており、基板１５を載置したポジショナー１３のつめ１
６を収納するようにして、基板１５が加熱ヒータ１２に
密着して全体が均一に加熱されることとなる。尚、横送
り装置１４は真空容器１１の外部より図示しない油圧シ
リンダー等にて移動可能となっている（図２参照）。
【００１６】次に基板１５は平板のガラス等が使用さ
れ、台車リフター１８の上方に伸びたアーム１９の上部
先端の溝２０に挾持され垂立した状態で着脱自在に固定
され、基板搬送台車２１に着脱自在に搭載された台車リ
フター１８と共に加熱ヒータ１２と平行なＸ軸方向に搬
送されるものである（図１，図２，図５参照）。
れ、台車リフター１８の上方に伸びたアーム１９の上部
先端の溝２０に挾持され垂立した状態で着脱自在に固定
され、基板搬送台車２１に着脱自在に搭載された台車リ
フター１８と共に加熱ヒータ１２と平行なＸ軸方向に搬
送されるものである（図１，図２，図５参照）。
【００１７】この基板搬送台車２１は図２に示すよう
に、真空容器１１内底部に設けられたガイドレール２２
上にガイドローラー（車輪等）２３を介して載置された
台で、その横方向には駆動伝達部２４が設けられ、真空
容器１１の底外部より貫通して立設された駆動装置２５
に接している。
に、真空容器１１内底部に設けられたガイドレール２２
上にガイドローラー（車輪等）２３を介して載置された
台で、その横方向には駆動伝達部２４が設けられ、真空
容器１１の底外部より貫通して立設された駆動装置２５
に接している。
【００１８】この駆動装置２４はガイドレール２２に従
って、複数個が一定の間隔（搬送台車２１の駆動伝達部
２４の長さよりせまい）で配置され、外部より回転力が
伝えられることにて、駆動装置２５が回転し、この回転
力が駆動伝達部２４に伝わり基板搬送台車２１を移動す
るようにしている。
って、複数個が一定の間隔（搬送台車２１の駆動伝達部
２４の長さよりせまい）で配置され、外部より回転力が
伝えられることにて、駆動装置２５が回転し、この回転
力が駆動伝達部２４に伝わり基板搬送台車２１を移動す
るようにしている。
【００１９】本実施例においては、駆動装置２５にはロ
ーラー、又駆動伝達部２４には平板等を使用した場合を
示しているが、これらは特にラック・ピニオンに変えて
もよく、又必要に応じてその他の伝達手段を使用しても
よい。
ーラー、又駆動伝達部２４には平板等を使用した場合を
示しているが、これらは特にラック・ピニオンに変えて
もよく、又必要に応じてその他の伝達手段を使用しても
よい。
【００２０】一方、基板搬送台車２１に搭載された台車
リフター１８は、加熱ヒータ１２の幅より広い間隔を保
った二列のアーム１９が垂直に立設され、アーム１９の
先端に設けた溝２０で基板１５を挾持するようにしてお
り、その状態で搬送台車２１と共にＸ軸方向に移動し、
この基板１５が加熱ヒータ１２とポジショナー１３との
間の所定位置に達したとき停止するようにしている。
リフター１８は、加熱ヒータ１２の幅より広い間隔を保
った二列のアーム１９が垂直に立設され、アーム１９の
先端に設けた溝２０で基板１５を挾持するようにしてお
り、その状態で搬送台車２１と共にＸ軸方向に移動し、
この基板１５が加熱ヒータ１２とポジショナー１３との
間の所定位置に達したとき停止するようにしている。
【００２１】次いで真空容器１１底外部より貫通して立
設された上下動装置２６の上部に設けられた支持枠２７
が上昇して、基板搬送台車２１の中央穴部（図示せず）
を抜けて台車リフター１８をＺ軸方向へ持ち上げるよう
にしている。
設された上下動装置２６の上部に設けられた支持枠２７
が上昇して、基板搬送台車２１の中央穴部（図示せず）
を抜けて台車リフター１８をＺ軸方向へ持ち上げるよう
にしている。
【００２２】基板１５は台車リフター１８上にそれぞれ
１枚づつ支持され、両面加熱用のヒータ１２の両面に位
置しているポジショナー１３に受け渡されヒータ１２に
押しあてられ基板１５が加熱される。このときポジショ
ナー１３のつめ１６はヒータ１２に設けられた窪み１７
に収納されるようになっている（図２〜図４参照）。
１枚づつ支持され、両面加熱用のヒータ１２の両面に位
置しているポジショナー１３に受け渡されヒータ１２に
押しあてられ基板１５が加熱される。このときポジショ
ナー１３のつめ１６はヒータ１２に設けられた窪み１７
に収納されるようになっている（図２〜図４参照）。
【００２３】この状態で基板１５に成膜が施されること
となり、プラズマＣＶＤ装置にこの搬送手段を用いるこ
とにより、基板１５への不純物の混入を最少限に抑える
ことが可能となり、加熱冷却時間の短縮から処理速度が
上げることができる。
となり、プラズマＣＶＤ装置にこの搬送手段を用いるこ
とにより、基板１５への不純物の混入を最少限に抑える
ことが可能となり、加熱冷却時間の短縮から処理速度が
上げることができる。
【００２４】次に動作手順について説明する。
【００２５】基板搬送台車２１上に台車リフター１８が
載せられており、該台車リフター１８には基板１５を支
持するためのアーム１９が設けられている。このアーム
１９にきばん１５を支持した状態で基板搬送台車２１が
真空容器１１間Ｘ軸方向に移動する（図１，２参照）。
載せられており、該台車リフター１８には基板１５を支
持するためのアーム１９が設けられている。このアーム
１９にきばん１５を支持した状態で基板搬送台車２１が
真空容器１１間Ｘ軸方向に移動する（図１，２参照）。
【００２６】基板１５を移動し、目的の成膜室へ到着し
たとき、台車リフター１８が上昇し、ポジショナー１３
に付いているつめ１６の高さより高い位置まで基板１５
をＺ軸方向へ押し上げる（図６，７参照）。
たとき、台車リフター１８が上昇し、ポジショナー１３
に付いているつめ１６の高さより高い位置まで基板１５
をＺ軸方向へ押し上げる（図６，７参照）。
【００２７】Ｚ軸方向への基板１５を押し上げた後、基
板１５と近接するＹ軸方向にポジショナー１３を移動
し、ポジショナー１３が基板１５に接する位置まで移動
する（図８参照）。
板１５と近接するＹ軸方向にポジショナー１３を移動
し、ポジショナー１３が基板１５に接する位置まで移動
する（図８参照）。
【００２８】この状態で台車リフター１８を下降させる
と基板１５はポジショナー１３に受け渡される（図９参
照）。ポジショナー１３をいったん元の位置に戻し、基
板搬送台車２１ごとに台車リフター１８も他の真空容器
に移動し、その後ポジショナー１３を真空容器の中心に
あるヒータ１２に押しあてて、基板１５のみを独立して
加熱する等の真空容器１１中での基板処理を行う（図１
０参照）。
と基板１５はポジショナー１３に受け渡される（図９参
照）。ポジショナー１３をいったん元の位置に戻し、基
板搬送台車２１ごとに台車リフター１８も他の真空容器
に移動し、その後ポジショナー１３を真空容器の中心に
あるヒータ１２に押しあてて、基板１５のみを独立して
加熱する等の真空容器１１中での基板処理を行う（図１
０参照）。
【００２９】以上述べたように、Ｘ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の三
軸の動きを独立に行い、真空中で確実な基板搬送及び基
板設定を行う。尚、基板１５を台車リフター１８に受け
渡し搬送する操作は基本的にこの逆の操作を行うように
すればよい。
軸の動きを独立に行い、真空中で確実な基板搬送及び基
板設定を行う。尚、基板１５を台車リフター１８に受け
渡し搬送する操作は基本的にこの逆の操作を行うように
すればよい。
【００３０】
【発明の効果】以上、実施例と共に詳しく述べたよう
に、本発明によれば、基板ホルダーを使用することなく
基板処理を施すことができるので、真空容器内の不純物
の混入を最小限に抑え、基板加熱及び冷却に関する時間
を短縮できる。また、従来の基板ホルダーのリターン機
能が不要な真空用基板搬送装置が可能となり、例えばプ
ラズマＣＶＤ装置及びスパッタリング等の真空を要する
薄膜製造装置に用いて極めて有効である。
に、本発明によれば、基板ホルダーを使用することなく
基板処理を施すことができるので、真空容器内の不純物
の混入を最小限に抑え、基板加熱及び冷却に関する時間
を短縮できる。また、従来の基板ホルダーのリターン機
能が不要な真空用基板搬送装置が可能となり、例えばプ
ラズマＣＶＤ装置及びスパッタリング等の真空を要する
薄膜製造装置に用いて極めて有効である。
【図１】本実施例に係る成膜装置の基板搬送装置の斜視
図である。
図である。
【図２】図１の側面概略図である。
【図３】ポジショナーの斜視図である。
【図４】図３の側面図である。
【図５】アーム上端の詳細図である。
【図６】本実施例の動作手順を示す概略図である。
【図７】本実施例の動作手順を示す概略図である。
【図８】本実施例の動作手順を示す概略図である。
【図９】本実施例の動作手順を示す概略図である。
【図１０】本実施例の動作手順を示す概略図である。
【図１１】従来技術に係る成膜装置の概略図である。
１１ 真空容器 １２ 加熱ヒータ １３ ポジショナー １４ 横送り装置 １５ 基板 １６ つめ １７ 窪み １８ 台車リフター １９ アーム ２０ 溝 ２１ 基板搬送台車 ２２ ガイドレール ２３ ガイドローラ ２４ 駆動伝達部 ２５ 駆動装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村田 正義 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎研究所内 (72)発明者 児玉 克 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎研究所内 (72)発明者 竹内 良昭 長崎県長崎市飽の浦町１番１号 三菱重工 業株式会社長崎研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】 加熱ヒータ及び電極を用いて基板に成膜
を施す真空容器内に該基板を自動搬送する装置におい
て、真空容器内で基板を加熱ヒータ及び電極と平行なＸ
軸方向に搬送する基板搬送台車と、該基板をＸ軸方向と
直交するＺ軸方向に昇降させる台車リフターと、基板に
成膜処理を施す設定位置までＸ軸及びＺ軸と直交するＹ
軸方向に移動するポジショナーとを具備してなり、且つ
基板を縦置にして搬送する際、Ｘ軸，Ｙ軸及びＺ軸の各
軸方向への移動を独立して行うことを特徴とする成膜装
置の基板搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25124991A JPH0590380A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 成膜装置の基板搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25124991A JPH0590380A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 成膜装置の基板搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0590380A true JPH0590380A (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17219959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25124991A Withdrawn JPH0590380A (ja) | 1991-09-30 | 1991-09-30 | 成膜装置の基板搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0590380A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009164516A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Ihi Corp | 基板搬送装置 |
-
1991
- 1991-09-30 JP JP25124991A patent/JPH0590380A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009164516A (ja) * | 2008-01-10 | 2009-07-23 | Ihi Corp | 基板搬送装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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