JPH0592939A - 6α−ヒドロキシメビン酸誘導体 - Google Patents
6α−ヒドロキシメビン酸誘導体Info
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- JPH0592939A JPH0592939A JP3099620A JP9962091A JPH0592939A JP H0592939 A JPH0592939 A JP H0592939A JP 3099620 A JP3099620 A JP 3099620A JP 9962091 A JP9962091 A JP 9962091A JP H0592939 A JPH0592939 A JP H0592939A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/16—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D309/28—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/30—Oxygen atoms, e.g. delta-lactones
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
- A61P3/06—Antihyperlipidemics
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
- A61P9/10—Drugs for disorders of the cardiovascular system for treating ischaemic or atherosclerotic diseases, e.g. antianginal drugs, coronary vasodilators, drugs for myocardial infarction, retinopathy, cerebrovascula insufficiency, renal arteriosclerosis
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/66—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
- C07C69/73—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids
- C07C69/732—Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of unsaturated acids of unsaturated hydroxy carboxylic acids
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、細胞選択的HMG−CoA還元酵
素阻害活性を有し、抗高コレステロール血症剤として有
用な新規化合物を提供する。 【構成】 本発明に係る新規化合物は、下記式: 【化1】 [式中、Zは 【化2】 R1は水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまた
はアリールアルキル;およびR2は水素、アルキル、アン
モニウムまたはアルカリ金属である]で示され、その薬
学的に許容される塩類も包含する6α−ヒドロキシメビ
ン酸誘導体である。
素阻害活性を有し、抗高コレステロール血症剤として有
用な新規化合物を提供する。 【構成】 本発明に係る新規化合物は、下記式: 【化1】 [式中、Zは 【化2】 R1は水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまた
はアリールアルキル;およびR2は水素、アルキル、アン
モニウムまたはアルカリ金属である]で示され、その薬
学的に許容される塩類も包含する6α−ヒドロキシメビ
ン酸誘導体である。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は6α−ヒドロキシメビン
酸誘導体、更に詳しくは抗高コレステロール血症剤とし
て有用なHMG−CoA還元酵素阻害剤である6α−ヒ
ドロキシメビン酸(mevinic acid)誘導体、およびこの化
合物の医薬用途に関する。
酸誘導体、更に詳しくは抗高コレステロール血症剤とし
て有用なHMG−CoA還元酵素阻害剤である6α−ヒ
ドロキシメビン酸(mevinic acid)誘導体、およびこの化
合物の医薬用途に関する。
【0002】
【発明の構成と効果】本発明は式:
【化14】 で示される化合物およびその薬学的に許容される塩類を
提供するものであり、これらの化合物は、HMG−Co
A還元酵素阻害剤としての活性を有し、それ故かかる化
合物を抗高コレステロール血症剤として有用である。
提供するものであり、これらの化合物は、HMG−Co
A還元酵素阻害剤としての活性を有し、それ故かかる化
合物を抗高コレステロール血症剤として有用である。
【0003】式[I]中、および本明細書を通して各記号
は次の意義を有する:Zは
は次の意義を有する:Zは
【化15】 R1は水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまた
はアリールアルキル;およびR2は水素、アルキル、アン
モニウムまたはアルカリ金属(たとえばNa、Liまたは
K)を表わす。
はアリールアルキル;およびR2は水素、アルキル、アン
モニウムまたはアルカリ金属(たとえばNa、Liまたは
K)を表わす。
【0004】本発明化合物[I]およびその中間体の新規
製造法もまた、本発明の不可部を構成する。
製造法もまた、本発明の不可部を構成する。
【0005】本発明を記述するために使用する種々の用
語の定義を以下に示す。これらの置換基の定義は、本明
細書を通して(特定の例において別に限定をしない限り)
個々の基またはより大なる基の一部として使用する用語
に適用する。“アルキル"または“alk"は炭素数12好
ましくは炭素数1〜8を越えない直鎖および分枝状の双
方の鎖状基を包含する。典型的アルキル基はメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、
イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプ
チル、4,4−ジメチルペンチル、オクチル、2,2,4
−トリメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、
ドデシル、これらの種々の分枝鎖状異性基および同様の
基である。また“アルキル"または“alk"という用語は
これらの基であってF、Br、ClもしくはIまたはCF
3のようなハロ−置換基、アルコキシ置換基、アリール
置換基、アルキル−アリール置換基、ハロアリール置換
基、シクロアルキル置換基あるいはアルキル−シクロア
ルキル置換基を有する基を包含する。
語の定義を以下に示す。これらの置換基の定義は、本明
細書を通して(特定の例において別に限定をしない限り)
個々の基またはより大なる基の一部として使用する用語
に適用する。“アルキル"または“alk"は炭素数12好
ましくは炭素数1〜8を越えない直鎖および分枝状の双
方の鎖状基を包含する。典型的アルキル基はメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、t−ブチル、
イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプ
チル、4,4−ジメチルペンチル、オクチル、2,2,4
−トリメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、
ドデシル、これらの種々の分枝鎖状異性基および同様の
基である。また“アルキル"または“alk"という用語は
これらの基であってF、Br、ClもしくはIまたはCF
3のようなハロ−置換基、アルコキシ置換基、アリール
置換基、アルキル−アリール置換基、ハロアリール置換
基、シクロアルキル置換基あるいはアルキル−シクロア
ルキル置換基を有する基を包含する。
【0006】“シクロアルキル"は炭素数3〜12、好
ましくは炭素数3〜8の飽和環式炭化水素基を包含し、
これらはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、シクロデシルおよびシクロドデシルを包含し、かか
る基はハロゲン1〜2個、低級アルキル基1〜2個およ
び/または低級アルコキシ基で置換されていることがで
きる。
ましくは炭素数3〜8の飽和環式炭化水素基を包含し、
これらはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、シクロデシルおよびシクロドデシルを包含し、かか
る基はハロゲン1〜2個、低級アルキル基1〜2個およ
び/または低級アルコキシ基で置換されていることがで
きる。
【0007】“アリール"または“Ar"という用語は、
環部分中に炭素数6〜10を含む単環もしくは二環式芳
香族基たとえばフェニル、ナフチル、置換フェニルまた
は置換ナフチルのような基を表わし、フェニルまたはナ
フチル上の置換基は低級アルキル基1〜2個、ハロゲン
(Cl、BrもしくはF)1〜2個および/または低級アル
コキシ基1〜2個であることができる。
環部分中に炭素数6〜10を含む単環もしくは二環式芳
香族基たとえばフェニル、ナフチル、置換フェニルまた
は置換ナフチルのような基を表わし、フェニルまたはナ
フチル上の置換基は低級アルキル基1〜2個、ハロゲン
(Cl、BrもしくはF)1〜2個および/または低級アル
コキシ基1〜2個であることができる。
【0008】“ハロゲン"または“ハロ"はフッ素、塩
素、臭素およびヨウ素ならびにトリフルオロメチルを引
用する。
素、臭素およびヨウ素ならびにトリフルオロメチルを引
用する。
【0009】好ましい化合物[I]は次の化合物である:
R1が水素またはアルキル(メチルが最も好ましい);Zが
R1が水素またはアルキル(メチルが最も好ましい);Zが
【化16】 R2が水素またはアルカリ金属(リチウムが最も好まし
い)である化合物。
い)である化合物。
【0010】本発明化合物[I]は薬学的担体または希釈
剤と共に配合される。かかる薬学的組成物は、固体もし
くは液体担体または希釈剤および所望の投与様式に適合
する薬学的付加物と共に伝統的方法で薬剤形に製造する
ことができる。活性化合物を経口的(たとえば錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤または散剤として)もしくは非経口的
(たとえば注射剤として)方法で投与することができる。
剤と共に配合される。かかる薬学的組成物は、固体もし
くは液体担体または希釈剤および所望の投与様式に適合
する薬学的付加物と共に伝統的方法で薬剤形に製造する
ことができる。活性化合物を経口的(たとえば錠剤、カ
プセル剤、顆粒剤または散剤として)もしくは非経口的
(たとえば注射剤として)方法で投与することができる。
【0011】経口投与のための典型的カプセル剤は活性
成分(25mg)、ラクトース(75mg)およびステアリン酸
マグネシウム(15mg)を含有する。この混合物を60−
メッシュふるいに通し、No.1ゼラチンカプセルに充填
する。
成分(25mg)、ラクトース(75mg)およびステアリン酸
マグネシウム(15mg)を含有する。この混合物を60−
メッシュふるいに通し、No.1ゼラチンカプセルに充填
する。
【0012】典型的注射剤は、滅菌活性成分の水溶性塩
25mgをバイアルに無菌的に入れて無菌的に凍結乾燥
し、封入することによって製造される。この用途のため
バイアル内容物を生理的食塩水2mlと混合して注射剤を
製造する。
25mgをバイアルに無菌的に入れて無菌的に凍結乾燥
し、封入することによって製造される。この用途のため
バイアル内容物を生理的食塩水2mlと混合して注射剤を
製造する。
【0013】本発明化合物は、3−ヒドロキシ−3−メ
チルグルタリル補酵素A(HMG−CoA)還元酵素の阻
害剤であって、コレステロール生合成を阻害する。本発
明化合物の重要な特性は、これが他の器官または組織の
細胞でよりも標的の器官(肝臓)の細胞で選択的に作用す
るということである。
チルグルタリル補酵素A(HMG−CoA)還元酵素の阻
害剤であって、コレステロール生合成を阻害する。本発
明化合物の重要な特性は、これが他の器官または組織の
細胞でよりも標的の器官(肝臓)の細胞で選択的に作用す
るということである。
【0014】かかる化合物は、アテローム性動脈硬化症
を処置して疾病の進行を抑制すること、高脂質血症を処
置してアテローム性動脈硬化症の進行を抑制すること、
およびネフローゼ高脂質血症を処置することで有用であ
る。加うるに本発明化合物は、血漿高密度リポタンパク
コレステロール濃度を増大させる。また本発明化合物
は、HMG−CoA還元酵素阻害剤として、胆石形成の
抑制および腫瘍の処置に有用となりうる。
を処置して疾病の進行を抑制すること、高脂質血症を処
置してアテローム性動脈硬化症の進行を抑制すること、
およびネフローゼ高脂質血症を処置することで有用であ
る。加うるに本発明化合物は、血漿高密度リポタンパク
コレステロール濃度を増大させる。また本発明化合物
は、HMG−CoA還元酵素阻害剤として、胆石形成の
抑制および腫瘍の処置に有用となりうる。
【0015】また本発明化合物は、抗高リポタンパク血
症剤たとえばプロブコール(probucol)および/または1
種ないしそれ以上の血清コレステロール低下剤たとえば
ロピド(Lopid、登録商標)(ジェムフィブロジル(gemfib
rozil))、胆汁酸金属イオン封鎖剤(sequestrant)たとえ
ばコレスチラミン(cholertyramine)、コレスチポール(c
olestipol)、DEAE−セファデックス(DEAE−Se
phadex、登録商標)ならびにクロフィブラート、ニコチ
ン酸およびその誘導体、ネオマイシン、p−アミノサリ
チル酸、ロバスタチン(lovastatin)、プラバスタチン(p
ravastatin)、ビシノリン(visinolin)(ベロスタチン(ve
lostatin)、シンバスタチン(symvastatin)またはシンビ
ノリン(sinvinolin))および類似体および/または1種
ないしそれ以上のスクアレン合成酵素阻害剤と組合わせ
て使用することができる。
症剤たとえばプロブコール(probucol)および/または1
種ないしそれ以上の血清コレステロール低下剤たとえば
ロピド(Lopid、登録商標)(ジェムフィブロジル(gemfib
rozil))、胆汁酸金属イオン封鎖剤(sequestrant)たとえ
ばコレスチラミン(cholertyramine)、コレスチポール(c
olestipol)、DEAE−セファデックス(DEAE−Se
phadex、登録商標)ならびにクロフィブラート、ニコチ
ン酸およびその誘導体、ネオマイシン、p−アミノサリ
チル酸、ロバスタチン(lovastatin)、プラバスタチン(p
ravastatin)、ビシノリン(visinolin)(ベロスタチン(ve
lostatin)、シンバスタチン(symvastatin)またはシンビ
ノリン(sinvinolin))および類似体および/または1種
ないしそれ以上のスクアレン合成酵素阻害剤と組合わせ
て使用することができる。
【0016】本発明のHMG−CoA還元酵素阻害剤と
組合わせて使用する上記のような化合物はデスクリファ
レンス(Physicians' Desk Reference)(PDR))に示
される量で使用する。
組合わせて使用する上記のような化合物はデスクリファ
レンス(Physicians' Desk Reference)(PDR))に示
される量で使用する。
【0017】投与すべき量は、単位投与量、患者の徴
候、年令および体重に依存する。成人のための投与量は
好ましくは20〜2000mg/日であって、これを1日
1回または1日当り1〜4回の分割型投与量で投与する
ことができる。
候、年令および体重に依存する。成人のための投与量は
好ましくは20〜2000mg/日であって、これを1日
1回または1日当り1〜4回の分割型投与量で投与する
ことができる。
【0018】また本発明化合物は有用な抗菌活性を有す
る。たとえばこの化合物はペニシリウム属(Penicilliu
m sp.)、アスペルギルス・ニゲル(Aspergillus nige
r)、クラドスポリウム属(Cladosporium sp.)、コク
リオボールス・ミヤベオルス(Cochliobolus miyabeoru
s)およびヘルミントスポリウム・シノドノテイス(Helm
inthosporium cynodnotis)のような種類の菌類を制御す
るために使用することができる。かかる用途のため本発
明化合物を適当な薬剤形成剤、粉末剤、乳化剤または
(水性エタノールのような)溶媒と混合し、保護すべき植
物上に噴霧あるいは散布する。
る。たとえばこの化合物はペニシリウム属(Penicilliu
m sp.)、アスペルギルス・ニゲル(Aspergillus nige
r)、クラドスポリウム属(Cladosporium sp.)、コク
リオボールス・ミヤベオルス(Cochliobolus miyabeoru
s)およびヘルミントスポリウム・シノドノテイス(Helm
inthosporium cynodnotis)のような種類の菌類を制御す
るために使用することができる。かかる用途のため本発
明化合物を適当な薬剤形成剤、粉末剤、乳化剤または
(水性エタノールのような)溶媒と混合し、保護すべき植
物上に噴霧あるいは散布する。
【0019】加うるに本発明化合物は、HDL−コレス
テロール濃度を増大させる一方、LDL−コレステロー
ルおよび血清トリグリセリド類の濃度を低下させるのに
有用である。
テロール濃度を増大させる一方、LDL−コレステロー
ルおよび血清トリグリセリド類の濃度を低下させるのに
有用である。
【0020】本発明化合物[I]は以下に示す典型的方法
により製造することができる。式:
により製造することができる。式:
【化17】 で示される化合物[II]の製造法は米国特許第3,98
3,140号および同第4,346,227号に開示され
ている。本発明化合物[I]の製造法において、上記化合
物[II]を出発物質とし、これを不活性雰囲気(たとえ
ばアルゴンまたは窒素)下、約115〜25℃の不活性
溶媒(たとえばテトラヒドロフランまたはジクロロメタ
ン)中に入れ、適当なアミン塩基(たとえばイミダゾー
ル)の存在下、適当なシリル保護試剤(たとえばt−ブチ
ルジメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド
またはフェニルジメチルシリルクロリド)で処理し、式:
3,140号および同第4,346,227号に開示され
ている。本発明化合物[I]の製造法において、上記化合
物[II]を出発物質とし、これを不活性雰囲気(たとえ
ばアルゴンまたは窒素)下、約115〜25℃の不活性
溶媒(たとえばテトラヒドロフランまたはジクロロメタ
ン)中に入れ、適当なアミン塩基(たとえばイミダゾー
ル)の存在下、適当なシリル保護試剤(たとえばt−ブチ
ルジメチルシリルクロリド、トリエチルシリルクロリド
またはフェニルジメチルシリルクロリド)で処理し、式:
【化18】 [式中、Pro1は
【化19】 などのようなシリル酵素−保護基を表わす]で示される
化合物(III)を形成させる。
化合物(III)を形成させる。
【0021】この化合物[III]を有機溶媒(たとえば
酢酸エチル)中、触媒(たとえば白金/炭素)の存在下に
水素化(たとえば水素ガスで処理)して式:
酢酸エチル)中、触媒(たとえば白金/炭素)の存在下に
水素化(たとえば水素ガスで処理)して式:
【化20】 で示される化合物[IV]を製する。
【0022】得られた化合物[IV]を水およびトルエン
のような有機溶媒の混合物中(任意にいくらかメタノー
ルを含有させ)、塩基(たとえば水酸化カリウム)で処理
して式:
のような有機溶媒の混合物中(任意にいくらかメタノー
ルを含有させ)、塩基(たとえば水酸化カリウム)で処理
して式:
【化21】 で示されるカリウム塩[V]を得る。
【0023】このカリウム塩[V]を、テトラヒドロフラ
ンのような有機溶媒中、不活性雰囲気(たとえばアルゴ
ン)下、有機塩基(たとえばピロリジンまたはピペリジ
ン)およびn−ブチルリチウムおよびアルキル化剤(たと
えばヨードメタンと約−60〜−20℃で反応させる。
得られたアミド生成物を酸性にして単離し、有機溶媒
(たとえばトルエン)中約100〜110℃に加熱して
式:
ンのような有機溶媒中、不活性雰囲気(たとえばアルゴ
ン)下、有機塩基(たとえばピロリジンまたはピペリジ
ン)およびn−ブチルリチウムおよびアルキル化剤(たと
えばヨードメタンと約−60〜−20℃で反応させる。
得られたアミド生成物を酸性にして単離し、有機溶媒
(たとえばトルエン)中約100〜110℃に加熱して
式:
【化22】 [式中、R1はメチルである]で示される化合物[VI]を
得る。
得る。
【0024】この化合物[VI]を、たとえば有機溶媒
(たとえば塩化メチレン)中、アミン塩基(たとえばN,N
−ジメチルアニリン)の存在下、保護試薬(たとえばベン
ジルブロモメチルエーテル)と反応させることにより、
式:
(たとえば塩化メチレン)中、アミン塩基(たとえばN,N
−ジメチルアニリン)の存在下、保護試薬(たとえばベン
ジルブロモメチルエーテル)と反応させることにより、
式:
【化23】 [式中、Pro2はPro1と異なる保護基であってベンジル
オキシメチル(これが好ましい)、パラメトキシベンジル
オキシメチル、テトラヒドリルピラニルオキシ、低級ア
シルおよび類似基から選択することができる]で示され
る化合物[VII]を得る。
オキシメチル(これが好ましい)、パラメトキシベンジル
オキシメチル、テトラヒドリルピラニルオキシ、低級ア
シルおよび類似基から選択することができる]で示され
る化合物[VII]を得る。
【0025】次いでPro1を脱離するため、化合物[VI
I]を、たとえば不活性溶媒(たとえばアセトニトリル)
中、不活性雰囲気(たとえば窒素)下に脱保護試薬(たと
えばフッ化水素−ピリジン)と、約−10〜10℃で反
応させることにより、Pro1を脱離して式:
I]を、たとえば不活性溶媒(たとえばアセトニトリル)
中、不活性雰囲気(たとえば窒素)下に脱保護試薬(たと
えばフッ化水素−ピリジン)と、約−10〜10℃で反
応させることにより、Pro1を脱離して式:
【化24】 で示される化合物[VIII]を得ることができる。
【0026】次いでこの化合物[VIII]を、たとえば
有機溶媒(たとえば塩化メチレン)(約0〜30℃)中、弱
求核有機塩基とスルホン酸無水物(たとえばトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物)で処理することにより、6
位のヒドロキシル基の異性配置を変換し、式:
有機溶媒(たとえば塩化メチレン)(約0〜30℃)中、弱
求核有機塩基とスルホン酸無水物(たとえばトリフルオ
ロメタンスルホン酸無水物)で処理することにより、6
位のヒドロキシル基の異性配置を変換し、式:
【化25】 で示される化合物[IX]を得る。弱求核有機塩基として
2,6−ルチジン(これが好ましい)、コリジン、ピリジ
ン、キノリン、2−メチルキノリン、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムなどが例示される。
2,6−ルチジン(これが好ましい)、コリジン、ピリジ
ン、キノリン、2−メチルキノリン、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムなどが例示される。
【0027】次いでこの化合物[IX]を有機溶媒(たと
えば酢酸エチル)中、触媒(たとえば水酸化パラジウム/
炭素)の存在下、約20〜30℃でPro2を(たとえば水
素ガスで処理することにより)脱保護し、Zが式:
えば酢酸エチル)中、触媒(たとえば水酸化パラジウム/
炭素)の存在下、約20〜30℃でPro2を(たとえば水
素ガスで処理することにより)脱保護し、Zが式:
【化26】 で示される環式ラクトン基である化合物[I]を得ること
ができる。
ができる。
【0028】別法として、化合物[III]を(1)不活性
有機溶媒(たとえばテトラヒドロフランまたは酢酸エチ
ル)中、金属触媒(たとえば白金/炭素)の(ガス抜きし
た)懸濁液に入れ、(2)水素ガスで約30〜60psiに加
圧し、(3)前記(化合物[VI]→化合物[VII])のよう
に酸素−保護してR1が水素である化合物[VII]を製
造することにより、R1が水素である化合物[I]を得る
ことができる。また化合物[VII]を前記(化合物[VI
I]→化合物[VIII])のように酸素−脱保護してR1
が水素である化合物[VIII]を製造する。次いでR1
が水素である化合物[VIII]を、(1)前記のようにス
ルホン酸無水物と反応させてR1が水素である化合物[I
X]を製し、(2)酸素−脱保護することによりR1が水素
である化合物[I]を得ることができる。
有機溶媒(たとえばテトラヒドロフランまたは酢酸エチ
ル)中、金属触媒(たとえば白金/炭素)の(ガス抜きし
た)懸濁液に入れ、(2)水素ガスで約30〜60psiに加
圧し、(3)前記(化合物[VI]→化合物[VII])のよう
に酸素−保護してR1が水素である化合物[VII]を製
造することにより、R1が水素である化合物[I]を得る
ことができる。また化合物[VII]を前記(化合物[VI
I]→化合物[VIII])のように酸素−脱保護してR1
が水素である化合物[VIII]を製造する。次いでR1
が水素である化合物[VIII]を、(1)前記のようにス
ルホン酸無水物と反応させてR1が水素である化合物[I
X]を製し、(2)酸素−脱保護することによりR1が水素
である化合物[I]を得ることができる。
【0029】Zがラクトン基である化合物[I]を、不活
性溶媒(たとえばテトラヒドロフラン)中、水性アンモニ
ウムまたはアルカリ金属塩基(たとえば水酸化リチウム)
により約20〜30℃で加水分解することにより、開鎖
型に変換することができる。温和な酸(たとえば硫酸水
素カリウム)水溶液との処理により、R2を水素に変換す
ることができる。
性溶媒(たとえばテトラヒドロフラン)中、水性アンモニ
ウムまたはアルカリ金属塩基(たとえば水酸化リチウム)
により約20〜30℃で加水分解することにより、開鎖
型に変換することができる。温和な酸(たとえば硫酸水
素カリウム)水溶液との処理により、R2を水素に変換す
ることができる。
【0030】
【実施例】以下の実施例は本発明の好ましい実施態様を
表わす。特に記載しない限り、温度はすべて摂氏温度
(℃)である。各化合物の製造はその化合物名の下に記述
する。短縮引用語として、各実施例の1A項で製せられ
る化合物は“化合物1A"または“中間体1A"と呼称
し、これに続くすべての化合物を同様に呼称する。
表わす。特に記載しない限り、温度はすべて摂氏温度
(℃)である。各化合物の製造はその化合物名の下に記述
する。短縮引用語として、各実施例の1A項で製せられ
る化合物は“化合物1A"または“中間体1A"と呼称
し、これに続くすべての化合物を同様に呼称する。
【0031】実施例1 [1S−[1α,3α,4aα,7β,8β(2S*,4S*),
8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸デカヒドロ−3−ヒ
ドロキシ−7−メチル−8−[2−[テトラヒドロ−4−
ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル]エ
チル]−ナフタレニルエステルの製造:− 1A. [1S−[1α(R*),3β,4β,7β,8β(2S
*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸3−[[(1,1
−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]−1,2,3,
7,8,8a−ヘキサヒドロ−7−メチル−8−[2−(テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラ
ン−2−イル)エチル]−1−ナフタレニルエステル 中間体1A製造のための出発物質は、(3R,5R)−3,
5−ジヒドロキシ−7−[(1S,2S,6S,8S,8aR)
−1,2,6,7,8,8a−ヘキサヒドロ−6−ヒドロキシ
−2−メチル−8−[(S)−2−メチル−1−オキソブ
トキシ]−1−ナフタレニル]ヘプタン酸である。この出
発物質の製造法は米国特許第3,983,140号および
同第4,346,227号に開示されている。
8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸デカヒドロ−3−ヒ
ドロキシ−7−メチル−8−[2−[テトラヒドロ−4−
ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル]エ
チル]−ナフタレニルエステルの製造:− 1A. [1S−[1α(R*),3β,4β,7β,8β(2S
*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸3−[[(1,1
−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]−1,2,3,
7,8,8a−ヘキサヒドロ−7−メチル−8−[2−(テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラ
ン−2−イル)エチル]−1−ナフタレニルエステル 中間体1A製造のための出発物質は、(3R,5R)−3,
5−ジヒドロキシ−7−[(1S,2S,6S,8S,8aR)
−1,2,6,7,8,8a−ヘキサヒドロ−6−ヒドロキシ
−2−メチル−8−[(S)−2−メチル−1−オキソブ
トキシ]−1−ナフタレニル]ヘプタン酸である。この出
発物質の製造法は米国特許第3,983,140号および
同第4,346,227号に開示されている。
【0032】アルゴン雰囲気下、雰囲気温度で出発物質
8.43g(20.7ミリモル、1.00当量)の乾燥テトラ
ヒドロフラン80ml溶液を、イミダゾール1.76g(2
5.9ミリモル、1.25当量)、次いでt−ブチルジメチ
ルシリルクロリド3.44g(22.8ミリモル、1.10
当量)で処理する。ほとんど直ちに(5〜10秒)白色沈
澱が生成する。26時間撹拌後、反応混合物をエーテル
80mlで希釈し、濾過して減圧下に濃縮する。フラッシ
ュクロマトグラフィー(メルク(Merck)シリカゲル;ヘキ
サン中40%酢酸エチルを用いる)により残留物を精製
し、白色固体としてモノシリル化生成物(中間体A)7.
41g(69%収率)を得る。融点111〜115℃(この
変換のより典型的収率は80〜85%の範囲にある)。
8.43g(20.7ミリモル、1.00当量)の乾燥テトラ
ヒドロフラン80ml溶液を、イミダゾール1.76g(2
5.9ミリモル、1.25当量)、次いでt−ブチルジメチ
ルシリルクロリド3.44g(22.8ミリモル、1.10
当量)で処理する。ほとんど直ちに(5〜10秒)白色沈
澱が生成する。26時間撹拌後、反応混合物をエーテル
80mlで希釈し、濾過して減圧下に濃縮する。フラッシ
ュクロマトグラフィー(メルク(Merck)シリカゲル;ヘキ
サン中40%酢酸エチルを用いる)により残留物を精製
し、白色固体としてモノシリル化生成物(中間体A)7.
41g(69%収率)を得る。融点111〜115℃(この
変換のより典型的収率は80〜85%の範囲にある)。
【0033】1B. [1S−[1α(R*),3β,4aα,
7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン
酸3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]デカヒドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イ
ル)エチル]−1−ナフタレニルエステル 化合物1A(9.38g、18.0ミリモル)の酢酸エチル
200ml溶液(ガス抜きしてアルゴンを充填)に、10%
白金/炭素1.4gを加える。この懸濁液をパル(Parr)
水素化装置中、50psi水素圧で14.5時間(一夜)加圧
する。薄層クロマトグラフィー(分析)は、出発物質が完
全に消費され、所望の生成物といくらかのジシリル化生
成物を示した。反応混合物を濾過し、濃縮して生成物を
フラッシュクロマトグラフィーにより単離する。酢酸エ
チル中45%ヘキサンで溶離し、透明なガラス様物質と
して化合物1B(7.73g、82%)を得る。酢酸エチル
中30%ヘキサンで溶離し、脱シリル化生成物0.98g
(13%)を得る。
7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン
酸3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]デカヒドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イ
ル)エチル]−1−ナフタレニルエステル 化合物1A(9.38g、18.0ミリモル)の酢酸エチル
200ml溶液(ガス抜きしてアルゴンを充填)に、10%
白金/炭素1.4gを加える。この懸濁液をパル(Parr)
水素化装置中、50psi水素圧で14.5時間(一夜)加圧
する。薄層クロマトグラフィー(分析)は、出発物質が完
全に消費され、所望の生成物といくらかのジシリル化生
成物を示した。反応混合物を濾過し、濃縮して生成物を
フラッシュクロマトグラフィーにより単離する。酢酸エ
チル中45%ヘキサンで溶離し、透明なガラス様物質と
して化合物1B(7.73g、82%)を得る。酢酸エチル
中30%ヘキサンで溶離し、脱シリル化生成物0.98g
(13%)を得る。
【0034】1C. [1S−[1α,3β,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]デカヒドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イ
ル)エチル]−1−ナフタレニルエステル 窒素雰囲気下、室温でトルエン(200ml)とメタノール
(42ml)の混合物中、化合物1B(10.5g、20.04
ミリモル)の溶液を、1.0N水酸化カリウム(20ml)で
45分間処理する。溶媒を減圧下に蒸発してガム状物質
を得る。これをベンゼン(250ml)と共沸し、減圧下に
45℃(油浴温度)で一夜乾燥して泡様固体を得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]デカヒドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ
−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イ
ル)エチル]−1−ナフタレニルエステル 窒素雰囲気下、室温でトルエン(200ml)とメタノール
(42ml)の混合物中、化合物1B(10.5g、20.04
ミリモル)の溶液を、1.0N水酸化カリウム(20ml)で
45分間処理する。溶媒を減圧下に蒸発してガム状物質
を得る。これをベンゼン(250ml)と共沸し、減圧下に
45℃(油浴温度)で一夜乾燥して泡様固体を得る。
【0035】窒素雰囲気下、上記固体の乾燥テトラヒド
ロフラン(150ml)溶液を冷却(−55℃、アセトニト
リル−ドライアイス浴)、撹拌しながらこれに、乾燥ピ
ロリジン(6.48ml、77.63ミリモル)、次いでn−
ブチルリチウム(ヘキサン中2.5M、27.84ml、6
9.6ミリモル)を加える。混合物をゆっくり−25℃
(四塩化炭素−ドライアイス浴)に昇温し、2.5時間撹
拌する。ヨードメタン(3.12ml、50.12ミリモル)
を滴加する。1.0時間後、少量部分を採取してその1H
−NMRスペクトル分析した結果、15〜20%の非メ
チル化出発物質が存在した。それ故混合物を−55℃に
再冷却して更に乾燥ピロリジン(3.24ml)とn−ブチル
リチウム(ヘキサン中2.5M、13.92ml)を加え、混
合物を−25℃に昇温する。2.5時間後、ヨードメタ
ン(1.56ml)を加え、1時間撹拌する。得られた混合
物に10%硫酸水素カリウム溶液(100ml)を加えて
(−25℃)反応を停止し、室温に昇温して塩化ナトリウ
ムで飽和し、酢酸エチルで(100ml×3回)抽出する。
酢酸エチル抽出物を合して5%チオ硫酸ナトリウム溶液
少量と食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下に蒸発してガム様残留物(11.0g)を得る。
ロフラン(150ml)溶液を冷却(−55℃、アセトニト
リル−ドライアイス浴)、撹拌しながらこれに、乾燥ピ
ロリジン(6.48ml、77.63ミリモル)、次いでn−
ブチルリチウム(ヘキサン中2.5M、27.84ml、6
9.6ミリモル)を加える。混合物をゆっくり−25℃
(四塩化炭素−ドライアイス浴)に昇温し、2.5時間撹
拌する。ヨードメタン(3.12ml、50.12ミリモル)
を滴加する。1.0時間後、少量部分を採取してその1H
−NMRスペクトル分析した結果、15〜20%の非メ
チル化出発物質が存在した。それ故混合物を−55℃に
再冷却して更に乾燥ピロリジン(3.24ml)とn−ブチル
リチウム(ヘキサン中2.5M、13.92ml)を加え、混
合物を−25℃に昇温する。2.5時間後、ヨードメタ
ン(1.56ml)を加え、1時間撹拌する。得られた混合
物に10%硫酸水素カリウム溶液(100ml)を加えて
(−25℃)反応を停止し、室温に昇温して塩化ナトリウ
ムで飽和し、酢酸エチルで(100ml×3回)抽出する。
酢酸エチル抽出物を合して5%チオ硫酸ナトリウム溶液
少量と食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減
圧下に蒸発してガム様残留物(11.0g)を得る。
【0036】このガム様物を窒素雰囲気下、乾燥トルエ
ン(200ml)中で4.0時間還流する。減圧下に溶媒を
蒸発してガム様物質を得る。この物質をシリカゲルカラ
ム(LPS−1)450g上、クロマトグラフィーにより
酢酸エチル−ヘキサン(1:3)で溶離し、矛盾のない1H
−NMRおよび13C−NMRスペクトルを有するガム様
物として化合物1C(7.3g、67.5%)を得る。
ン(200ml)中で4.0時間還流する。減圧下に溶媒を
蒸発してガム様物質を得る。この物質をシリカゲルカラ
ム(LPS−1)450g上、クロマトグラフィーにより
酢酸エチル−ヘキサン(1:3)で溶離し、矛盾のない1H
−NMRおよび13C−NMRスペクトルを有するガム様
物として化合物1C(7.3g、67.5%)を得る。
【0037】1D. [1S−[1α,3β,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]デカヒドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ
−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)メトキシ]−2
H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエス
テル 窒素雰囲気下、化合物1C(7.3g、13.52ミリモ
ル)の乾燥ジクロロメタン(80ml)溶液を冷却(0℃、氷
浴)、撹拌しながらこれに、乾燥N,N−ジメチルアニリ
ン(3.7g、30.53ミリモル)を加える。15分後、
ベンジルブロモメチルエーテル(5.62g、26.13ミ
リモル)を加える。この溶液を徐々に室温に高めて20
時間撹拌する。減圧下、溶媒を一部除く。酢酸エチル
(300ml)を加える。酢酸エチル溶液を10%硫酸水素
カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液および食塩
水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発
して油状物を得る。この油状物をシリカゲルカラム(L
PS−1、300g)上、クロマトグラフィーにより酢酸
エチル−ヘキサン(1:9)で溶離し、1H−NMRおよび
13C−NMRスペクトルと矛盾しない油状物として化合
物1D(8.5g、95.4%)を得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]デカヒドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ
−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)メトキシ]−2
H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエス
テル 窒素雰囲気下、化合物1C(7.3g、13.52ミリモ
ル)の乾燥ジクロロメタン(80ml)溶液を冷却(0℃、氷
浴)、撹拌しながらこれに、乾燥N,N−ジメチルアニリ
ン(3.7g、30.53ミリモル)を加える。15分後、
ベンジルブロモメチルエーテル(5.62g、26.13ミ
リモル)を加える。この溶液を徐々に室温に高めて20
時間撹拌する。減圧下、溶媒を一部除く。酢酸エチル
(300ml)を加える。酢酸エチル溶液を10%硫酸水素
カリウム溶液、飽和炭酸水素ナトリウム溶液および食塩
水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に蒸発
して油状物を得る。この油状物をシリカゲルカラム(L
PS−1、300g)上、クロマトグラフィーにより酢酸
エチル−ヘキサン(1:9)で溶離し、1H−NMRおよび
13C−NMRスペクトルと矛盾しない油状物として化合
物1D(8.5g、95.4%)を得る。
【0038】1E. [1S−[1α,3β,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
デカヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−
(テトラヒドロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)
メトキシ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナ
フタレニルエステル 窒素雰囲気下、化合物1D(8.5g、12.9ミリモル)
の乾燥アセトニトリル(100ml)溶液を0℃(氷浴)に冷
やし、1.5時間に渡ってフッ化水素−ピリジン(4ml×
2回)で処理する。反応混合物を酢酸エチル(200ml)
で希釈し、10%硫酸水素カリウム溶液、食塩水および
希炭酸水素ナトリウム溶液で洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下に蒸発してガム様物を得る。このガム
様物をシリカゲル(ベーカー(Baker)60〜200メッ
シュ、300g)カラム上、クロマトグラフィーにより酢
酸エチル−ヘキサン(35:65)および(1:1)で溶離
し、1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルと矛盾
しない固体(融点73〜77℃)として化合物1E(6.0
g、85.4%)を得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
デカヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−
(テトラヒドロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)
メトキシ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナ
フタレニルエステル 窒素雰囲気下、化合物1D(8.5g、12.9ミリモル)
の乾燥アセトニトリル(100ml)溶液を0℃(氷浴)に冷
やし、1.5時間に渡ってフッ化水素−ピリジン(4ml×
2回)で処理する。反応混合物を酢酸エチル(200ml)
で希釈し、10%硫酸水素カリウム溶液、食塩水および
希炭酸水素ナトリウム溶液で洗い、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧下に蒸発してガム様物を得る。このガム
様物をシリカゲル(ベーカー(Baker)60〜200メッ
シュ、300g)カラム上、クロマトグラフィーにより酢
酸エチル−ヘキサン(35:65)および(1:1)で溶離
し、1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルと矛盾
しない固体(融点73〜77℃)として化合物1E(6.0
g、85.4%)を得る。
【0039】1F. [1S−[1α,3α,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
デカヒドロ−3−ヒドロキシメチル−8−[2−[テトラ
ヒドロ−6−オキシ−4−[(フェニルメトキシ)メトキ
シ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフタレ
ニルエステル 窒素雰囲気下、化合物1E(500mg、0.92ミリモ
ル)の乾燥ジクロロメタン(5ml)溶液を冷やして(氷浴)
撹拌しながらこれに、2,6−ルチジン(642μl、5.
51ミリモル)、次いでトリフルオロメタンスルホン酸
無水物(232μl、1.38ミリモル)を滴加する。混合
物を30分間撹拌し、水(1.0ml)を加えて反応を停止
させ、室温に昇温して10%硫酸水素カリウム溶液(2
0ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×3回)抽出する。
酢酸エチル抽出物を10%硫酸水素カリウム溶液、希炭
酸水素ナトリウム溶液および食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下に蒸発してガム様物を得る。
これをメルク・キーゼルゲル(Merck Kieselgel−6
0、登録商標)150gカラム上、クロマトグラフィーに
より、酢酸エチル−ヘキサン(1:3)および(4:6)で溶
離し、1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルと矛
盾しないガム様物として化合物1F(245mg、49%)
を得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
デカヒドロ−3−ヒドロキシメチル−8−[2−[テトラ
ヒドロ−6−オキシ−4−[(フェニルメトキシ)メトキ
シ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフタレ
ニルエステル 窒素雰囲気下、化合物1E(500mg、0.92ミリモ
ル)の乾燥ジクロロメタン(5ml)溶液を冷やして(氷浴)
撹拌しながらこれに、2,6−ルチジン(642μl、5.
51ミリモル)、次いでトリフルオロメタンスルホン酸
無水物(232μl、1.38ミリモル)を滴加する。混合
物を30分間撹拌し、水(1.0ml)を加えて反応を停止
させ、室温に昇温して10%硫酸水素カリウム溶液(2
0ml)で希釈し、酢酸エチル(20ml×3回)抽出する。
酢酸エチル抽出物を10%硫酸水素カリウム溶液、希炭
酸水素ナトリウム溶液および食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、減圧下に蒸発してガム様物を得る。
これをメルク・キーゼルゲル(Merck Kieselgel−6
0、登録商標)150gカラム上、クロマトグラフィーに
より、酢酸エチル−ヘキサン(1:3)および(4:6)で溶
離し、1H−NMRおよび13C−NMRスペクトルと矛
盾しないガム様物として化合物1F(245mg、49%)
を得る。
【0040】1G. [1S−[1α,3α,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
デカヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−
[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−
ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエステル 20%水酸化パラジウム/炭素(150mg)を含む酢酸エ
チル(6ml)中、化合物1F(240mg、0.441ミリモ
ル)溶液(室温)に、ゆっくり2.0時間水素気流を通して
発泡させる。混合物をセライト(Celite、登録商標)床
に通して濾過し、少量の酢酸エチルで洗う。濾液と洗液
を合して減圧下に蒸発し、ガム様物を得る。これをシリ
カゲル(ベーカー(Baker)60〜200メッシュ、50
g)カラム上、クロマトグラフィーにより、酢酸エチル−
ヘキサン(1:3)で溶離し、1H−NMRおよび13C−N
MRスペクトルと矛盾しない固体として実施例1の化合
物145mg(77.5%)を得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸
デカヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−
[テトラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−
ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエステル 20%水酸化パラジウム/炭素(150mg)を含む酢酸エ
チル(6ml)中、化合物1F(240mg、0.441ミリモ
ル)溶液(室温)に、ゆっくり2.0時間水素気流を通して
発泡させる。混合物をセライト(Celite、登録商標)床
に通して濾過し、少量の酢酸エチルで洗う。濾液と洗液
を合して減圧下に蒸発し、ガム様物を得る。これをシリ
カゲル(ベーカー(Baker)60〜200メッシュ、50
g)カラム上、クロマトグラフィーにより、酢酸エチル−
ヘキサン(1:3)で溶離し、1H−NMRおよび13C−N
MRスペクトルと矛盾しない固体として実施例1の化合
物145mg(77.5%)を得る。
【0041】実施例2 [1S−[1α(βS*,ΔS*),2α,4aβ,6β,8β,
8aα]]−デカヒドロ−β,Δ,6−トリヒドロキシ−2
−メチル−8−(2,2−ジメチル−1−オキソブトキ
シ)−1−ナフタレンヘプタン酸モノリチウム塩の製造:
− 窒素雰囲気下、実施例1の化合物(140mg、0.33ミ
リモル)のテトラヒドロフラン(3ml)溶液(室温)を撹拌
しながら1.0N水酸化リチウム(660μl、0.66ミ
リモル)で処理する。30分後、窒素気流により溶媒を
蒸発し、ガム様残留物を得る。この残留物を水に溶解
し、HP−20カラム(1.5"×1"カラム床)上、クロ
マトグラフィーにより、脱イオン蒸留水(250ml)およ
び50%メタノール−水(250ml)で溶離し、後者の溶
出液中にTLC−均質な実施例2の化合物が生成する。
この溶出液を減圧下に蒸発して一夜凍結乾燥し、IR、
質量および1H−NMRスペクトルデータと矛盾しない
白色固体として、実施例2の分析的試料(水和物)130
mg(87.9%)を得る。元素分析、C24H41O7Li・0.
75H2O(MW=462.04)として、 計算値:C,62.38;H,9.27 実測値:C,62.41;H,9.15 IRスペクトル(KBr):μMax3424cm-1(OH)、1
715cm-1(C=0、エステル)、1583cm-1(C=
0、塩)など。 質量スペクトル:m/e(m+Li)+=469、(m−H)-=4
61、(m+2Li−H)+=655、(m+Li−2H)-=4
67、(m+3Li−2H)+=461、(m+2Li−3H)-
=453など。 H1−NMRスペクトル(270mHz,D20): δ0.77(t+d,6H,CH3) 1.00(s,3H,CH3) 1.02(s,3H,CH3) 2.28(m,2H,CH 2C=O) 3.65(m,1H,CH−OH) 4.04(m,2H,CHOH+CHOH)
8aα]]−デカヒドロ−β,Δ,6−トリヒドロキシ−2
−メチル−8−(2,2−ジメチル−1−オキソブトキ
シ)−1−ナフタレンヘプタン酸モノリチウム塩の製造:
− 窒素雰囲気下、実施例1の化合物(140mg、0.33ミ
リモル)のテトラヒドロフラン(3ml)溶液(室温)を撹拌
しながら1.0N水酸化リチウム(660μl、0.66ミ
リモル)で処理する。30分後、窒素気流により溶媒を
蒸発し、ガム様残留物を得る。この残留物を水に溶解
し、HP−20カラム(1.5"×1"カラム床)上、クロ
マトグラフィーにより、脱イオン蒸留水(250ml)およ
び50%メタノール−水(250ml)で溶離し、後者の溶
出液中にTLC−均質な実施例2の化合物が生成する。
この溶出液を減圧下に蒸発して一夜凍結乾燥し、IR、
質量および1H−NMRスペクトルデータと矛盾しない
白色固体として、実施例2の分析的試料(水和物)130
mg(87.9%)を得る。元素分析、C24H41O7Li・0.
75H2O(MW=462.04)として、 計算値:C,62.38;H,9.27 実測値:C,62.41;H,9.15 IRスペクトル(KBr):μMax3424cm-1(OH)、1
715cm-1(C=0、エステル)、1583cm-1(C=
0、塩)など。 質量スペクトル:m/e(m+Li)+=469、(m−H)-=4
61、(m+2Li−H)+=655、(m+Li−2H)-=4
67、(m+3Li−2H)+=461、(m+2Li−3H)-
=453など。 H1−NMRスペクトル(270mHz,D20): δ0.77(t+d,6H,CH3) 1.00(s,3H,CH3) 1.02(s,3H,CH3) 2.28(m,2H,CH 2C=O) 3.65(m,1H,CH−OH) 4.04(m,2H,CHOH+CHOH)
【0042】実施例3 [1S−[1α,3β,4aα,7β,8β(2S*,4S*),
8aβ]]−2−メチルブタン酸・デカヒドロ−3−ヒド
ロキシ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ−4−ヒ
ドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル)エチ
ル]−1−ナフタレニルエステル・部分ラセミ体の製造:
− 3A. [1S−[1α(R*),3β,4aα,7β,8β(2
S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸3−[[(1,
1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]−デカヒ
ドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ−4−ヒド
ロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル)エチル]
−1−ナフタレニルエステル 中間体1A(9.38g、18.0ミリモル)の酢酸エチル
200ml溶液をガス抜きしてアルゴンを充填し、この溶
液に10%白金/炭素1.4gを加える。この懸濁液をパ
ル(Parr)水素化装置中、水素圧50psiで14.5時間
加圧する。薄層クロマトグラフィー(分析)により、中間
体1Aが完全に消費され、中間体3Aと副生物の生成が
示された。濾過した反応混合物を濃縮し、フラッシュク
ロマトグラフィーにより、酢酸エチル中45%ヘキサン
で溶離して生成物を単離し、透明なガラス様固体として
中間体3A(7.73g、82%)を得る。
8aβ]]−2−メチルブタン酸・デカヒドロ−3−ヒド
ロキシ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ−4−ヒ
ドロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル)エチ
ル]−1−ナフタレニルエステル・部分ラセミ体の製造:
− 3A. [1S−[1α(R*),3β,4aα,7β,8β(2
S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸3−[[(1,
1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキシ]−デカヒ
ドロ−7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ−4−ヒド
ロキシ−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル)エチル]
−1−ナフタレニルエステル 中間体1A(9.38g、18.0ミリモル)の酢酸エチル
200ml溶液をガス抜きしてアルゴンを充填し、この溶
液に10%白金/炭素1.4gを加える。この懸濁液をパ
ル(Parr)水素化装置中、水素圧50psiで14.5時間
加圧する。薄層クロマトグラフィー(分析)により、中間
体1Aが完全に消費され、中間体3Aと副生物の生成が
示された。濾過した反応混合物を濃縮し、フラッシュク
ロマトグラフィーにより、酢酸エチル中45%ヘキサン
で溶離して生成物を単離し、透明なガラス様固体として
中間体3A(7.73g、82%)を得る。
【0043】3B. [1S−[1α(R*),3β,4aα,
7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン
酸3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]−デカヒドロ−7−メチル−8−[2−[テトラヒド
ロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)メトキシ]−
2H−ピラン−2−イル)エチル]−1−ナフタレニルエ
ステル ベンジルオキシメチルクロリドの塩化メチレン溶液(0
℃)に、15分間臭化水素を通して発泡させ、次いで雰
囲気温度で45分間撹拌し、減圧下にすべての揮発分を
完全に除くことにより、ベンジルオキシメチルブロミド
をつくる。
7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン
酸3−[[(1,1−ジメチルエチル)ジメチルシリル]オキ
シ]−デカヒドロ−7−メチル−8−[2−[テトラヒド
ロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)メトキシ]−
2H−ピラン−2−イル)エチル]−1−ナフタレニルエ
ステル ベンジルオキシメチルクロリドの塩化メチレン溶液(0
℃)に、15分間臭化水素を通して発泡させ、次いで雰
囲気温度で45分間撹拌し、減圧下にすべての揮発分を
完全に除くことにより、ベンジルオキシメチルブロミド
をつくる。
【0044】ベンジルオキシメチルブロミド23.1g
(115ミリモル、2.42当量)の塩化メチレン40ml
溶液(0℃)に、N,N−ジメチルアニリン15.6ml(1
23ミリモル、2.60当量)、および中間体3A(24.
9g、47.4ミリモル、1.0当量)の塩化メチレン50
ml溶液を加える。この混合物をすばやく雰囲気温度にし
て18時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチル400ml
で希釈し、引続いて飽和硫酸銅水溶液で(200ml×1
回、75ml×1回)、食塩水で(150ml×1回)洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。シリカゲルからヘ
キサン中10%酢酸エチルで溶離して生成物を単離し、
無色透明で粘性を有する油状物として中間体3B(29.
4g、96.1%)を得る。
(115ミリモル、2.42当量)の塩化メチレン40ml
溶液(0℃)に、N,N−ジメチルアニリン15.6ml(1
23ミリモル、2.60当量)、および中間体3A(24.
9g、47.4ミリモル、1.0当量)の塩化メチレン50
ml溶液を加える。この混合物をすばやく雰囲気温度にし
て18時間撹拌する。反応混合物を酢酸エチル400ml
で希釈し、引続いて飽和硫酸銅水溶液で(200ml×1
回、75ml×1回)、食塩水で(150ml×1回)洗い、
硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮する。シリカゲルからヘ
キサン中10%酢酸エチルで溶離して生成物を単離し、
無色透明で粘性を有する油状物として中間体3B(29.
4g、96.1%)を得る。
【0045】3C. [1S−[1α(R*),3β,4aα,
7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン
酸・デカヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8[2
−[テトラヒドロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキ
シ)メトキシ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−
ナフタレニルエステル アルゴン雰囲気下、中間体3B(28.8g、44.7ミリ
モル)のアセトニトリル400ml溶液を−20℃に冷や
し、HF−ピリジンで(10ml×3回)2時間(1.5時間
経過して0℃に昇温)処理する。反応混合物を酢酸エチ
ル500mlで希釈し、飽和硫酸銅水溶液(150ml×2
回)、食塩水(250ml、200mlおよび150ml)およ
び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(250ml×2回、2
00ml×1回)で順次洗浄する。この酢酸エチル溶液を
硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、粗生成物をシリカゲル
クロマトグラフィーにより、酢酸エチル中40%ヘキサ
ンで溶離して精製し、無色透明な油状物として中間体3
C(2.2g、93.7%)を得る。
7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン
酸・デカヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8[2
−[テトラヒドロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキ
シ)メトキシ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−
ナフタレニルエステル アルゴン雰囲気下、中間体3B(28.8g、44.7ミリ
モル)のアセトニトリル400ml溶液を−20℃に冷や
し、HF−ピリジンで(10ml×3回)2時間(1.5時間
経過して0℃に昇温)処理する。反応混合物を酢酸エチ
ル500mlで希釈し、飽和硫酸銅水溶液(150ml×2
回)、食塩水(250ml、200mlおよび150ml)およ
び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(250ml×2回、2
00ml×1回)で順次洗浄する。この酢酸エチル溶液を
硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮後、粗生成物をシリカゲル
クロマトグラフィーにより、酢酸エチル中40%ヘキサ
ンで溶離して精製し、無色透明な油状物として中間体3
C(2.2g、93.7%)を得る。
【0046】3D. [1S−[1α,3α,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸・デ
カヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−[テ
トラヒドロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)メ
トキシ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフ
タレニルエステル・部分ラセミ体 窒素雰囲気下、化合物3C(3.78g、7.14ミリモ
ル)のジクロロメタン30ml溶液を冷やし(0℃、氷浴)
撹拌しながらこれに、2,6−ルチジン(5.02ml、4
3.2ミリモル)を滴加する。15分後、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物(1.78ml、10.7ミリモル)を
滴加する。混合物を30分間撹拌し、水3mlを加えて反
応を停止させ、室温に上げて10%硫酸水素カリウム溶
液75mlで希釈し、酢酸エチルで(150ml×2回)抽出
する。酢酸エチル抽出物を合して10%硫酸水素カリウ
ム溶液で2回、5%炭酸水素ナトリウム溶液で2回、お
よび食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に蒸発してガム様物質を得る。これをメルク・キーゼ
ルゲル(Merck Kieselgel−60、登録商標)250gカ
ラム上、クロマトグラフィーにより酢酸エチル−ヘキサ
ン(3:7)および(4:6)で溶離し、H1−NMRおよび
C13−NMRスペクトルと矛盾しないガム様物質として
薄層クロマトグラフィー的に均質な化合物3D(1.25
g、33.1%)を得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸・デ
カヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−[テ
トラヒドロ−6−オキソ−4−[(フェニルメトキシ)メ
トキシ]−2H−ピラン−2−イル]エチル]−1−ナフ
タレニルエステル・部分ラセミ体 窒素雰囲気下、化合物3C(3.78g、7.14ミリモ
ル)のジクロロメタン30ml溶液を冷やし(0℃、氷浴)
撹拌しながらこれに、2,6−ルチジン(5.02ml、4
3.2ミリモル)を滴加する。15分後、トリフルオロメ
タンスルホン酸無水物(1.78ml、10.7ミリモル)を
滴加する。混合物を30分間撹拌し、水3mlを加えて反
応を停止させ、室温に上げて10%硫酸水素カリウム溶
液75mlで希釈し、酢酸エチルで(150ml×2回)抽出
する。酢酸エチル抽出物を合して10%硫酸水素カリウ
ム溶液で2回、5%炭酸水素ナトリウム溶液で2回、お
よび食塩水で洗い、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下に蒸発してガム様物質を得る。これをメルク・キーゼ
ルゲル(Merck Kieselgel−60、登録商標)250gカ
ラム上、クロマトグラフィーにより酢酸エチル−ヘキサ
ン(3:7)および(4:6)で溶離し、H1−NMRおよび
C13−NMRスペクトルと矛盾しないガム様物質として
薄層クロマトグラフィー的に均質な化合物3D(1.25
g、33.1%)を得る。
【0047】3E. [1S−[1α,3α,4aα,7β,8
β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸・デ
カヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−[テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラ
ン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエステル・部
分ラセミ体 20%水酸化パラジウム/炭素(50mg)含有酢酸エチル
(3ml)中、化合物3D(100mg、0.188ミリモル)
の溶液(室温)に、1.0時間水素気流を通して発泡さ
せ、この間混合物の一部を薄層クロマトグラフィーによ
り監視する。次いでこれをセライト(Celite、登録商
標)床に通して濾過し、少量の酢酸エチルで洗う。濾液
と洗液を合して減圧下に蒸発させ、ガム様物質を得る。
これをシリカゲル(15g、ベーカー(Baker)60〜20
0メッシュ)カラム上クロマトグラフィーにより酢酸エ
チル−ジクロロメタン(3:7)で溶離し、H1−NMRお
よびC13−NMRスペクトルと矛盾しないガム様物質と
して薄層クロマトグラフィー的に均質な実施例3の化合
物(68mg、87.9%)を得る。化合物3D(120mg)
を用いて更に実施例3の化合物82mgを得る。
β(2S*,4S*),8aβ]]−2−メチルブタン酸・デ
カヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−[テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラ
ン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエステル・部
分ラセミ体 20%水酸化パラジウム/炭素(50mg)含有酢酸エチル
(3ml)中、化合物3D(100mg、0.188ミリモル)
の溶液(室温)に、1.0時間水素気流を通して発泡さ
せ、この間混合物の一部を薄層クロマトグラフィーによ
り監視する。次いでこれをセライト(Celite、登録商
標)床に通して濾過し、少量の酢酸エチルで洗う。濾液
と洗液を合して減圧下に蒸発させ、ガム様物質を得る。
これをシリカゲル(15g、ベーカー(Baker)60〜20
0メッシュ)カラム上クロマトグラフィーにより酢酸エ
チル−ジクロロメタン(3:7)で溶離し、H1−NMRお
よびC13−NMRスペクトルと矛盾しないガム様物質と
して薄層クロマトグラフィー的に均質な実施例3の化合
物(68mg、87.9%)を得る。化合物3D(120mg)
を用いて更に実施例3の化合物82mgを得る。
【0048】実施例4 [1S−[1α(βS*,ΔdS*),2α,4aβ,6β,8β,
8aα]]−デカヒドロ−β,Δ,6−トリヒドロキシ−2
−メチル−8−(2−ジメチル−1−オキソブトキシ)−
1−ナフタレンヘプタン酸モノリチウム塩の製造:− 窒素雰囲気下、実施例3の化合物(135mg、0.329
ミリモル)のテトラヒドロフラン4ml溶液を室温で撹拌
しながら1.0N水酸化リチウム(411ml、0.411
ミリモル)で処理する。1.0時間後、窒素気流により溶
媒を蒸発し、ガム様物質を得る。ガム様物を水に溶解
し、HP−20カラム(1.5"×1.0"カラム床)上、ク
ロマトグラフィーにより、脱イオン蒸留水(約250ml)
および50%メタノール−水(約250ml)で溶離し、後
の溶出液中に薄層クロマトグラフィー的に均質な実施例
4の化合物が生成する。溶出液を減圧下に蒸発して一夜
凍結乾燥し、IR、質量およびH1−NMRスペクトル
データと矛盾しない白色固体として実施例4の分析的試
料生成物(水和物)110mg(77%)を得る。元素分析、
C23H39O7Li・0.3H2O(MW:434.50+0.3
H2O)として、 計算値:C,62.80;H,9.07 実測値:C,62.71;H,9.10 IRスペクトル(KBr):μMax3424cm-1(OH)、1
718および1707cm-1(C=0、エステル)、158
3cm-1(C=0、酸塩)など。 質量スペクトル:m/e(m−H)-=427、(m+Li)+=6
35、(m+Li−2H)-=633、(m−2Li−H)+=6
61など。 H1−NMRスペクトル(270MHz、D20): δ0.75(d,3H,J=7.0,CH 3) 0.81、082(2t,3H,J=〜7.6,CH 3) 1.05(d,3H,J=〜7.0,CH 3) 3.65(m,1H,CH−OH)
8aα]]−デカヒドロ−β,Δ,6−トリヒドロキシ−2
−メチル−8−(2−ジメチル−1−オキソブトキシ)−
1−ナフタレンヘプタン酸モノリチウム塩の製造:− 窒素雰囲気下、実施例3の化合物(135mg、0.329
ミリモル)のテトラヒドロフラン4ml溶液を室温で撹拌
しながら1.0N水酸化リチウム(411ml、0.411
ミリモル)で処理する。1.0時間後、窒素気流により溶
媒を蒸発し、ガム様物質を得る。ガム様物を水に溶解
し、HP−20カラム(1.5"×1.0"カラム床)上、ク
ロマトグラフィーにより、脱イオン蒸留水(約250ml)
および50%メタノール−水(約250ml)で溶離し、後
の溶出液中に薄層クロマトグラフィー的に均質な実施例
4の化合物が生成する。溶出液を減圧下に蒸発して一夜
凍結乾燥し、IR、質量およびH1−NMRスペクトル
データと矛盾しない白色固体として実施例4の分析的試
料生成物(水和物)110mg(77%)を得る。元素分析、
C23H39O7Li・0.3H2O(MW:434.50+0.3
H2O)として、 計算値:C,62.80;H,9.07 実測値:C,62.71;H,9.10 IRスペクトル(KBr):μMax3424cm-1(OH)、1
718および1707cm-1(C=0、エステル)、158
3cm-1(C=0、酸塩)など。 質量スペクトル:m/e(m−H)-=427、(m+Li)+=6
35、(m+Li−2H)-=633、(m−2Li−H)+=6
61など。 H1−NMRスペクトル(270MHz、D20): δ0.75(d,3H,J=7.0,CH 3) 0.81、082(2t,3H,J=〜7.6,CH 3) 1.05(d,3H,J=〜7.0,CH 3) 3.65(m,1H,CH−OH)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/675 9279−4H C07D 309/30 6701−4C (72)発明者 サム・テイ・チヤオ アメリカ合衆国ニユージヤージー州イース ト・ウインザー、デビイ・レイン3番 (72)発明者 エリツク・エム・ゴードン アメリカ合衆国ニユージヤージー州ペニン トン、レーニング・アベニユー126番
Claims (21)
- 【請求項1】 式: 【化1】 で示される化合物またはその薬学的に許容される塩類
[式中、Zは 【化2】 R1は水素、アルキル、シクロアルキル、アリールまた
はアリールアルキル;およびR2は水素、アルキル、アン
モニウムまたはアルカリ金属を表わす]。 - 【請求項2】 R1が水素またはアルキルである請求項
1記載の化合物。 - 【請求項3】 R1がメチルである請求項1記載の化合
物。 - 【請求項4】 Zが 【化3】 およびR2が水素またはアルカリ金属である請求項1記
載の化合物。 - 【請求項5】 Zが 【化4】 およびR2がリチウムである請求項1記載の化合物。
- 【請求項6】 [1S−[1α,3α,4aα,7β,8β(2
S*,4S*),8aβ]]−2,2−ジメチルブタン酸・デ
カヒドロ−3−ヒドロキシ−7−メチル−8−[2−[テ
トラヒドロ−4−ヒドロキシ−6−オキソ−2H−ピラ
ン−2−イル]エチル]−1−ナフタレニルエステル;[1
S−[1α(βS*,ΔS*),2α,4aβ,6β,8β,8a
α]]−デカヒドロ−β,Δ,6−トリヒドロキシ−2−メ
チル−8−(2,2−ジメチル−1−オキソブトキシ)−
1−ナフタレンヘプタン酸・モノリチウム塩;[1S−
[1α,3α,4aα,7β,8β(2S*,4S*),8aβ]]
−2−メチルブタン酸・デカヒドロ−3−ヒドロキシ−
7−メチル−8−[2−(テトラヒドロ−4−ヒドロキシ
−6−オキソ−2H−ピラン−2−イル)エチル]−1−
ナフタレニルエステル・部分ラセミ体;または[1S−
[1α(βS*,ΔS*),2α,4aβ,6β,8β,8aα]]
−デカヒドロ−β,Δ,6−トリヒドロキシ−2−メチル
−8−(2−メチル−1−オキソブトキシ)−1−ナフタ
レンヘプタン酸・モノリチウム塩である請求項1記載の
化合物。 - 【請求項7】 請求項1記載の化合物から成ることを特
徴とする高コレステロール血症の抑制または処置用組成
物。 - 【請求項8】 請求項1記載の化合物から成ることを特
徴とするアテローム性動脈硬化症の抑制または処置用組
成物。 - 【請求項9】 請求項1記載の化合物およびその薬学的
に許容される担体から成ることを特徴とするコレステロ
ール血症降下剤または脂質血症降下剤。 - 【請求項10】 請求項1記載の化合物から成ることを
特徴とするコレステロール生合成の阻害用組成物。 - 【請求項11】 請求項1記載の化合物および抗高リポ
タンパク血症剤から成ることを特徴とする医薬組成物。 - 【請求項12】 抗高リポタンパク血症剤がプロブコー
ル、ジェムフィブロジル、胆汁酸金属イオン封鎖剤、ク
ロフィブラート、ニコチン酸、ネオマイシン、p−アミ
ノサリチル酸またはベンザフィブラートである請求項1
1記載の組成物。 - 【請求項13】 式: 【化5】 で示される化合物を弱求核有機塩基とスルホン酸無水物
で処理することを特徴とする式: 【化6】 で示される化合物の製造法[式中、R1は水素、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールまたはアリールアルキ
ル;およびPro2は保護基を表わす]。 - 【請求項14】 弱求核有機塩基が2,6−ルチジンで
ある請求項13記載の製造法。 - 【請求項15】 保護基がベンジルオキシメチルである
請求項13記載の製造法。 - 【請求項16】 (a)式: 【化7】 [式中、Pro2は保護基を表わす]で示される化合物を弱
求核有機塩基とスルホン酸無水物で処理して式: 【化8】 で示されるα−ヒドロキシ中間体を形成し、次いで(b)
このα−ヒドロキシ中間体を脱保護して生成物を得るこ
とを特徴とする式: 【化9】 で示される生成物の製造法[式中、R1は水素、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールまたはアリールアルキル
を表わす]。 - 【請求項17】 弱求核有機塩基が2,6−ルチジンで
ある請求項16記載の製造法。 - 【請求項18】 Pro2がベンジルオキシメチルである
請求項16記載の製造法。 - 【請求項19】 (a)式: 【化10】 [式中、Pro2は保護基を表わす]で示される化合物を弱
求核有機塩基とスルホン酸無水物で処理して式: 【化11】 で示されるα−ヒドロキシ中間体を形成し、(b)このα
−ヒドロキシ中間体を脱保護して式: 【化12】 で示されるラクトンを形成し、次いで(c)このラクトン
体を加水分解して生成物を得ることを特徴とする式: 【化13】 で示される生成物の製造法[式中、R1は水素、アルキ
ル、シクロアルキル、アリールまたはアリールアルキ
ル;およびR2は水素、アルキル、アンモニウムまたはア
ルカリ金属を表わす]。 - 【請求項20】 弱求核有機塩基が2,6−ルチジンで
ある請求項19記載の製造法。 - 【請求項21】 Pro2がベンジルオキシメチルである
請求項19記載の製造法。
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