JPH059313A - フツ素樹脂製フイルムの封孔処理方法 - Google Patents
フツ素樹脂製フイルムの封孔処理方法Info
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- JPH059313A JPH059313A JP18952191A JP18952191A JPH059313A JP H059313 A JPH059313 A JP H059313A JP 18952191 A JP18952191 A JP 18952191A JP 18952191 A JP18952191 A JP 18952191A JP H059313 A JPH059313 A JP H059313A
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Landscapes
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フッ素樹脂製フィルムに高い気密性をもた
せ、過酷な条件下でのシール材として使用できるように
する。 【構成】 ポリテトラフルオロエチレン製フィルム１３
に、原子酸素発生装置Ｉで発生させた高速の原子酸素１
１を照射する。原子酸素１１による酸化反応でフィルム
１３の小孔を塞ぐ。
せ、過酷な条件下でのシール材として使用できるように
する。 【構成】 ポリテトラフルオロエチレン製フィルム１３
に、原子酸素発生装置Ｉで発生させた高速の原子酸素１
１を照射する。原子酸素１１による酸化反応でフィルム
１３の小孔を塞ぐ。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフッ素樹脂製フィルムを
過酷な条件下での使用に適したシール材とするためのフ
ッ素樹脂製フィルムの封孔処理方法に関するものであ
る。
過酷な条件下での使用に適したシール材とするためのフ
ッ素樹脂製フィルムの封孔処理方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】フッ素樹脂であるＰＴＦＥ（ポリテトラ
フルオロエチレン）製のフィルムは、耐薬品性、耐熱性
（連続使用２６０℃）、撥水性、絶縁性などの優れた性
質を有するため、多方面で多用途に使用されている。一
方、上記ＰＴＦＥは融点３２７℃の熱可塑性樹脂である
が、溶融粘度が１０11〜１０12ポイズと高いため、フィ
ルムとする場合、フィルム製法の常法である溶融押出加
工を行うことができない。そのため、ＰＴＦＥの微粉末
を一度圧縮し、これを融点以上に加熱してＰＴＦＥ粒子
を融着させた成形品を作り、それを更に切削加工してフ
ィルムとするような製作方法が採用されている。
フルオロエチレン）製のフィルムは、耐薬品性、耐熱性
（連続使用２６０℃）、撥水性、絶縁性などの優れた性
質を有するため、多方面で多用途に使用されている。一
方、上記ＰＴＦＥは融点３２７℃の熱可塑性樹脂である
が、溶融粘度が１０11〜１０12ポイズと高いため、フィ
ルムとする場合、フィルム製法の常法である溶融押出加
工を行うことができない。そのため、ＰＴＦＥの微粉末
を一度圧縮し、これを融点以上に加熱してＰＴＦＥ粒子
を融着させた成形品を作り、それを更に切削加工してフ
ィルムとするような製作方法が採用されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記製作方
法によって製作されたＰＴＦＥ製フィルムの場合、上述
した優れた特性から、過酷な条件下でのシール材として
用いることができれば極めて有利であるが、ＰＴＦＥ
微粒子間の凝集強さが弱いこと、微粒子間の空隙のた
めに、フィルム加工したときに、５０００倍の倍率で撮
影した図４の写真に示す如き小孔（ボイド）が生じるこ
と、等の問題があり、特に、上記項による小孔のた
め、ガス透過膜として利用することはできるものの、反
面、気密性が悪いので、シール材としての使用には適さ
ないものであった。
法によって製作されたＰＴＦＥ製フィルムの場合、上述
した優れた特性から、過酷な条件下でのシール材として
用いることができれば極めて有利であるが、ＰＴＦＥ
微粒子間の凝集強さが弱いこと、微粒子間の空隙のた
めに、フィルム加工したときに、５０００倍の倍率で撮
影した図４の写真に示す如き小孔（ボイド）が生じるこ
と、等の問題があり、特に、上記項による小孔のた
め、ガス透過膜として利用することはできるものの、反
面、気密性が悪いので、シール材としての使用には適さ
ないものであった。
【０００４】そこで、本発明は、上記ＰＴＦＥ製フィル
ムの気密性を高め、過酷な条件下での使用に適したシー
ル材とすることができるようなフッ素樹脂製フィルムの
封孔処理方法を提供しようとするものである。
ムの気密性を高め、過酷な条件下での使用に適したシー
ル材とすることができるようなフッ素樹脂製フィルムの
封孔処理方法を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、ポリテトラフルオロエチレン製フィルム
に、１０Km／sec 以下の流速で原子酸素を照射し、上記
フィルムに有する小孔を原子酸素による酸化反応により
封孔させることを特徴とするフッ素樹脂製フィルムの封
孔処理方法とする。
決するために、ポリテトラフルオロエチレン製フィルム
に、１０Km／sec 以下の流速で原子酸素を照射し、上記
フィルムに有する小孔を原子酸素による酸化反応により
封孔させることを特徴とするフッ素樹脂製フィルムの封
孔処理方法とする。
【０００６】
【作用】ポリテトラフルオロエチレン製のフィルムに、
原子酸素を１０Km／sec 以下の流速で照射すると、原子
酸素による酸化反応によって上記フィルムの小孔が塞が
れる。
原子酸素を１０Km／sec 以下の流速で照射すると、原子
酸素による酸化反応によって上記フィルムの小孔が塞が
れる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
する。
【０００８】図１は本発明のフッ素樹脂製フィルムの封
孔処理方法の実施に用いる原子酸素発生装置Ｉの一例を
示すもので、油回転ポンプやメカニカルブースタポンプ
等からなる排気装置１によって真空引きされるようにし
た真空チャンバー２に、直流定電流電源３によって駆動
されるようにしたアークジェット４を設置し、該アーク
ジェット４に、ガス制御器５と開閉弁６を介してアルゴ
ンガスボンベ７を接続すると共にガス制御器８と開閉弁
９を介して酸素ボンベ１０を接続し、上記アルゴンガス
ボンベ７からのアルゴンガスをキャリアガスとして直流
定電流電源３によって直流のアークを放電させ、該直流
アークの放電により生成されたアルゴンプラズマ中に、
酸素ボンベ１０からの酸素を、上記キャリアガスの流量
に対し約３〜５％の流量で添加することにより、酸素を
解離させてクリーンな状態の原子酸素１１をアークジェ
ット４から発生させられるようにし、且つ該原子酸素１
１を、上記真空チャンバー２内の試料ホルダ１２にセッ
トされたＰＴＦＥ製フィルム１３に向けて照射させられ
るようにしてある。図１において、１４は排ガスを冷却
するためのヒートシンク、１５は真空計を示す。
孔処理方法の実施に用いる原子酸素発生装置Ｉの一例を
示すもので、油回転ポンプやメカニカルブースタポンプ
等からなる排気装置１によって真空引きされるようにし
た真空チャンバー２に、直流定電流電源３によって駆動
されるようにしたアークジェット４を設置し、該アーク
ジェット４に、ガス制御器５と開閉弁６を介してアルゴ
ンガスボンベ７を接続すると共にガス制御器８と開閉弁
９を介して酸素ボンベ１０を接続し、上記アルゴンガス
ボンベ７からのアルゴンガスをキャリアガスとして直流
定電流電源３によって直流のアークを放電させ、該直流
アークの放電により生成されたアルゴンプラズマ中に、
酸素ボンベ１０からの酸素を、上記キャリアガスの流量
に対し約３〜５％の流量で添加することにより、酸素を
解離させてクリーンな状態の原子酸素１１をアークジェ
ット４から発生させられるようにし、且つ該原子酸素１
１を、上記真空チャンバー２内の試料ホルダ１２にセッ
トされたＰＴＦＥ製フィルム１３に向けて照射させられ
るようにしてある。図１において、１４は排ガスを冷却
するためのヒートシンク、１５は真空計を示す。
【０００９】上記原子酸素発生装置Ｉを用いてフッ素樹
脂製フィルムにシール材としての機能をもたせるように
改質処理する場合、ＰＴＦＥ製フィルム１３を真空チャ
ンバー２内の試料ホルダ１２に保持させ、且つ上記真空
チャンバー２内を排気装置１により排気しながら、アー
クジェット４から発生させた原子酸素１１のビームを上
記ＰＴＦＥ製フィルム１３の表面に１０Km／sec 以下の
流速で所要時間照射し、このとき、必要に応じてＰＴＦ
Ｅ製フィルム１３の裏面を冷却させるようにして、ＰＴ
ＦＥ製フィルム１３の小孔を封孔処理する。
脂製フィルムにシール材としての機能をもたせるように
改質処理する場合、ＰＴＦＥ製フィルム１３を真空チャ
ンバー２内の試料ホルダ１２に保持させ、且つ上記真空
チャンバー２内を排気装置１により排気しながら、アー
クジェット４から発生させた原子酸素１１のビームを上
記ＰＴＦＥ製フィルム１３の表面に１０Km／sec 以下の
流速で所要時間照射し、このとき、必要に応じてＰＴＦ
Ｅ製フィルム１３の裏面を冷却させるようにして、ＰＴ
ＦＥ製フィルム１３の小孔を封孔処理する。
【００１０】一例として、アルゴンガス流量を２ｌ／mi
n 、酸素流量を６２cc／min 、アークジェット放電電圧
を２０Ｖ、アークジェット放電電流を４５Ａ、雰囲気圧
力（真空度）を０．０６Ｔorr 、フィルム冷却水を−２
０℃で０．５ｌ／min とし、このとき、原子酸素１１が
ＰＴＦＥ製フィルム１３に衝突する速度をアークジェッ
ト４の下流４０cmの試料ホルダ１２の位置で１Km／sec
の条件で３０分間実施したところ、原子酸素１１による
酸化反応と、アルゴンプラズマ中のアルゴンイオン及び
電子の衝突との相互作用により、５０００倍の倍率で撮
影した図２の写真に示す如く、ＰＴＦＥ製フィルム１３
の小孔が封孔された状態となり、又、かかる状態から更
に３０分間継続して実施したところ、５０００倍の倍率
で撮影した図３の写真に示す如く、上記小孔が完全に消
失した状態となり、ＰＴＦＥ製フィルム１３の高気密化
を達成できた。なお、上記において、ＰＴＦＥ製フィル
ム１３に対する原子酸素１１の照射速度を１０Km／sec
以下としたが、これは、アークジェット４から吹き出さ
れた原子酸素１１はＰＴＦＥ製フィルム１３の表面に達
するだけの流速があればＰＴＦＥ製フィルム１３の小孔
を酸化反応により封孔できるのであるが、１０Km／sec
以上では、小孔が削られることにより逆に拡げられてし
まったり、折角酸化しても酸化したところまで削られて
持って行かれてしまうからである。
n 、酸素流量を６２cc／min 、アークジェット放電電圧
を２０Ｖ、アークジェット放電電流を４５Ａ、雰囲気圧
力（真空度）を０．０６Ｔorr 、フィルム冷却水を−２
０℃で０．５ｌ／min とし、このとき、原子酸素１１が
ＰＴＦＥ製フィルム１３に衝突する速度をアークジェッ
ト４の下流４０cmの試料ホルダ１２の位置で１Km／sec
の条件で３０分間実施したところ、原子酸素１１による
酸化反応と、アルゴンプラズマ中のアルゴンイオン及び
電子の衝突との相互作用により、５０００倍の倍率で撮
影した図２の写真に示す如く、ＰＴＦＥ製フィルム１３
の小孔が封孔された状態となり、又、かかる状態から更
に３０分間継続して実施したところ、５０００倍の倍率
で撮影した図３の写真に示す如く、上記小孔が完全に消
失した状態となり、ＰＴＦＥ製フィルム１３の高気密化
を達成できた。なお、上記において、ＰＴＦＥ製フィル
ム１３に対する原子酸素１１の照射速度を１０Km／sec
以下としたが、これは、アークジェット４から吹き出さ
れた原子酸素１１はＰＴＦＥ製フィルム１３の表面に達
するだけの流速があればＰＴＦＥ製フィルム１３の小孔
を酸化反応により封孔できるのであるが、１０Km／sec
以上では、小孔が削られることにより逆に拡げられてし
まったり、折角酸化しても酸化したところまで削られて
持って行かれてしまうからである。
【００１１】本発明においては、上述した如く、材料の
物性から製造過程で小孔が生じ、ガス透過性を有してい
るため、耐熱性（−２６８〜２６０℃）などの優れた性
質を有しているが高気密性がないＰＴＦＥ製フィルム１
３に、原子酸素１１を照射することにより、小孔を封孔
して高い気密性をもたせることができる。かかる封孔処
理が行われたＰＴＦＥ製フィルム１３は耐熱性、耐薬品
性などのＰＴＦＥの優れた性質を維持しているため、た
とえば、高圧、高真空、高温雰囲気下等でのシール材と
して、あるいは、ガス透過のない気密性が要求される部
分のシール材として用いることができる。
物性から製造過程で小孔が生じ、ガス透過性を有してい
るため、耐熱性（−２６８〜２６０℃）などの優れた性
質を有しているが高気密性がないＰＴＦＥ製フィルム１
３に、原子酸素１１を照射することにより、小孔を封孔
して高い気密性をもたせることができる。かかる封孔処
理が行われたＰＴＦＥ製フィルム１３は耐熱性、耐薬品
性などのＰＴＦＥの優れた性質を維持しているため、た
とえば、高圧、高真空、高温雰囲気下等でのシール材と
して、あるいは、ガス透過のない気密性が要求される部
分のシール材として用いることができる。
【００１２】なお、本発明は上記実施例のみに限定され
るものではなく、原子酸素発生装置Ｉとしては、図１に
示したものの他、マイクロ波放電方式を利用した装置や
高周波放電（ＲＦ）方式を利用した装置等を採用しても
よいこと、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲内にお
いて種々変更を加え得ることは勿論である。
るものではなく、原子酸素発生装置Ｉとしては、図１に
示したものの他、マイクロ波放電方式を利用した装置や
高周波放電（ＲＦ）方式を利用した装置等を採用しても
よいこと、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲内にお
いて種々変更を加え得ることは勿論である。
【００１３】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明のフッ素樹脂製
フィルムの封孔処理方法によれば、元来、小孔を有する
ポリテトラフルオロエチレン製のフィルムに、原子酸素
を１０Km／sec 以下の速度で照射することにより、原子
酸素の酸化反応で上記小孔を封孔処理するようにしたの
で、上記フィルムの物性を維持しつつ気密性を付加する
ことができ、したがって、処理後のフィルムを過酷な条
件下でのシール材として用いることができる、という優
れた効果を発揮する。
フィルムの封孔処理方法によれば、元来、小孔を有する
ポリテトラフルオロエチレン製のフィルムに、原子酸素
を１０Km／sec 以下の速度で照射することにより、原子
酸素の酸化反応で上記小孔を封孔処理するようにしたの
で、上記フィルムの物性を維持しつつ気密性を付加する
ことができ、したがって、処理後のフィルムを過酷な条
件下でのシール材として用いることができる、という優
れた効果を発揮する。
【図１】本発明のフッ素樹脂製フィルムの封孔処理方法
の実施に用いる原子酸素発生装置の一例を示す概要図で
ある。
の実施に用いる原子酸素発生装置の一例を示す概要図で
ある。
【図２】本発明の封孔処理方法により原子酸素を３０分
間照射した後のフィルムの粒子構造を示す写真である。
間照射した後のフィルムの粒子構造を示す写真である。
【図３】本発明の封孔処理方法により原子酸素を６０分
間照射した後のフィルムの粒子構造を示す写真である。
間照射した後のフィルムの粒子構造を示す写真である。
【図４】ＰＴＦＥの繊維組織を示す写真である。
Ｉ 原子酸素発生装置 ２ 真空チャンバー ４ アークジェット １０ 酸素ボンベ １１ 原子酸素 １３ ＰＴＦＥ製フィルム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 ポリテトラフルオロエチレン製フィルム
に、１０Km／sec 以下の流速で原子酸素を照射し、上記
フィルムに有する小孔を原子酸素による酸化反応により
封孔させることを特徴とするフッ素樹脂製フィルムの封
孔処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18952191A JPH059313A (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | フツ素樹脂製フイルムの封孔処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18952191A JPH059313A (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | フツ素樹脂製フイルムの封孔処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059313A true JPH059313A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=16242682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18952191A Pending JPH059313A (ja) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | フツ素樹脂製フイルムの封孔処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH059313A (ja) |
-
1991
- 1991-07-04 JP JP18952191A patent/JPH059313A/ja active Pending
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