JPH0594814U - microscope - Google Patents

microscope

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JPH0594814U
JPH0594814U JP4151692U JP4151692U JPH0594814U JP H0594814 U JPH0594814 U JP H0594814U JP 4151692 U JP4151692 U JP 4151692U JP 4151692 U JP4151692 U JP 4151692U JP H0594814 U JPH0594814 U JP H0594814U
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 対物レンズのレボルバ近傍の下方位置に作業
空間を確保する。 【構成】 レボルバ11aの対物レンズ装着面を基板S
を出入れする側から反対方向でかつ顕微鏡の前面、すな
わち接眼レンズ12が取り付けられている側から見て斜
め後方に向くように設置する。
(57) [Summary] [Purpose] To secure a working space below the revolver of the objective lens. [Structure] The objective lens mounting surface of the revolver 11a is a substrate S.
Is installed so as to face in the opposite direction from the side where the lens is inserted and withdrawn, and to face obliquely rearward when viewed from the front surface of the microscope, that is, the side to which the eyepiece lens 12 is attached.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は顕微鏡に係り、特に大型の液晶基板等の板状試料の外観検査を容易に 行えるようにした顕微鏡に関する。 The present invention relates to a microscope, and more particularly to a microscope capable of easily performing a visual inspection of a plate-shaped sample such as a large liquid crystal substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

近年ラップトップのワープロ、パーソナルコンピュータや液晶テレビ等では表 示画面の大型化や高解像化が進んでおり、表示部分を構成する液晶ディスプレイ 基板も大型化するとともに、高い製品精度が要求されるようになっている。この ため製品の外観検査等に使用するために液晶板の寸法に応じた大きな板状試料を ステージ上に載置して検査できる顕微鏡が必要になってきている。 一方、半導体製造工程においても使用するウェハや露光用レチクルのような大 型の板状試料の状態を検査するため、試料のハンドリング等を考慮した顕微鏡も 各種開発されている。 In recent years, the display screens of laptop word processors, personal computers, LCD TVs, etc. have become larger and have higher resolutions, and the liquid crystal display substrates that make up the display parts have also become larger and high product accuracy is required. It is like this. For this reason, there is a need for a microscope that can mount and inspect a large plate-shaped sample according to the size of the liquid crystal plate on the stage for use in visual inspection of products. On the other hand, in order to inspect the state of large plate-shaped samples such as wafers and exposure reticles used in the semiconductor manufacturing process, various microscopes have been developed that take sample handling into consideration.

【0003】 図4乃至図6は従来のこの種の検査用の顕微鏡を示した平面図及び側面図であ る。 同図において、符号50はベースを示しており、ベース50の上面にはステー ジ51が載置されている。このステージ51はX、Y軸方向の直交方向にスライ ドさせることができ、ステージ51上にセットされた試料Sの位置を粗微動調整 するようになっている。4 to 6 are a plan view and a side view showing a conventional microscope for inspection of this kind. In the figure, reference numeral 50 indicates a base, and a stage 51 is placed on the upper surface of the base 50. The stage 51 can be slid in the directions orthogonal to the X and Y axis directions, and the position of the sample S set on the stage 51 is adjusted for coarse and fine movement.

【0004】 一方、このステージ51を跨ぐようにして門型のアーム53が架設されている 。 その形状としては図4に示したように平面形状は脚部がベース50の端部に位置 するような略Y字形をなし、また図5に示したように長い水平スパンの水平梁部 53aとその両端に位置する斜め梁53bと支持部である短柱部53cとからな る門型形状で顕微鏡本体55の重量を支持するようになっている。 このとき顕微鏡本体55は焦準用昇降機構54により昇降可能にアーム53に 片持ち状態で支持され、焦準用昇降機構54の駆動により昇降するようになって いる。On the other hand, a gate-shaped arm 53 is installed so as to straddle the stage 51. As shown in FIG. 4, the planar shape is substantially Y-shaped so that the legs are located at the ends of the base 50, and as shown in FIG. 5, a horizontal beam portion 53a having a long horizontal span is formed. The weight of the microscope main body 55 is supported by a gate-like shape composed of diagonal beams 53b located at both ends thereof and a short column portion 53c which is a supporting portion. At this time, the microscope main body 55 is supported in a cantilever state on the arm 53 so that it can be raised and lowered by the focusing raising and lowering mechanism 54, and is moved up and down by driving of the focusing raising and lowering mechanism 54.

【0005】 また、顕微鏡本体55は、図5に示したようにステージ51上に載置された板 状試料を観察する複数の対物レンズ56A、56B…と、これら対物レンズ56 A、56B…を保持し電動操作により対物レンズを切り替えるためのレボルバ5 7Rを正逆自在に回転駆動する電動レボルバユニット57と、光路上に配置され た対物レンズ56Cを介して試料面を照明する反射照明装置58と、対物レンズ 56Cからの結像光線の鉛直光軸A1をステージ51のY軸方向に向いた水平光 線となるように光線を偏角してさらにベース50端部の上方に位置する観察用鏡 筒59の位置まで延長するリレー光学系A2を収容する延長リレー鏡筒60と、 この延長リレー鏡筒60の先端に取着され接眼レンズ61を備えた観察用鏡筒5 9とから構成されている。As shown in FIG. 5, the microscope main body 55 includes a plurality of objective lenses 56 A, 56 B ... For observing a plate-shaped sample placed on the stage 51, and these objective lenses 56 A, 56 B. An electric revolver unit 57 for rotating and driving a revolver 57R for holding and switching the objective lens by electric operation, and a reflection illuminating device 58 for illuminating the sample surface via an objective lens 56C arranged on the optical path. , An observation mirror positioned above the end of the base 50 by declining the light beam so that the vertical optical axis A1 of the image-forming light beam from the objective lens 56C becomes a horizontal light line oriented in the Y-axis direction of the stage 51. An extension lens barrel 60 for accommodating the relay optical system A2 extending to the position of the cylinder 59, and an observation lens barrel 59 having an eyepiece 61 attached to the tip of the extension relay lens barrel 60. It consists of and.

【0006】 したがって顕微鏡本体55では対物レンズ56Cからの鉛直光軸A1は、図示 しないプリズムまたは反射鏡により直角に偏角され、リレー光学系の水平光軸A 2に導かれ、さらに図示しないプリズムまたは反射鏡により上方に向けて直角に 偏角され、観察用鏡筒59内を経由して接眼レンズ61に入射するように設定さ れている。Therefore, in the microscope body 55, the vertical optical axis A1 from the objective lens 56C is deviated at a right angle by a prism or a reflecting mirror (not shown), is guided to the horizontal optical axis A2 of the relay optical system, and is further guided by a prism (not shown) or It is set so that it is deviated at a right angle upward by a reflecting mirror, and enters the eyepiece lens 61 through the observation lens barrel 59.

【0007】 このとき前述の電動レボルバユニット57は反射照明装置58の下面に取り付 けられ、その内部には複数の対物レンズ56が装着されたレボルバ57Rを微動 焦準する駆動機構が内蔵されている。そしてレボルバ57Rは対物レンズ装着面 が観察者に正対するように取り付けられており、光路上にない対物レンズ56A 、56B…が光路上にある対物レンズ56Cより観察者側に位置するように装着 されている。 また、一般の正立型の顕微鏡には使用しない対物レンズが基板面上方に位置し ないようにレボルバを観察者に対して奥側に向けたものが開発されている。At this time, the above-described electric revolver unit 57 is attached to the lower surface of the reflection illumination device 58, and a driving mechanism for finely focusing the revolver 57R having a plurality of objective lenses 56 mounted therein is built therein. There is. The revolver 57R is mounted so that the objective lens mounting surface faces the observer, and the objective lenses 56A, 56B, ... Which are not on the optical path are mounted on the observer side of the objective lens 56C on the optical path. ing. Also, a revolver has been developed with the revolver facing the back of the observer so that the objective lens, which is not used in a general upright microscope, is not located above the substrate surface.

【0008】[0008]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

ところで、この種の顕微鏡では広い面積の基板Sの各部を検査するためにステ ージをX、Y軸方向に自由に動かして基板面を全面にわたり観察できることが必 要である。このとき前述のように使用しない対物レンズが光路上にある対物レン ズ56Cより観察者側にあると、観察者が顕微鏡の観察視野の近傍を対物レンズ の装着されている脇から覗くようにして目視観察しようとすると、使用していな い対物レンズ56A、56B…が観察者の側に位置してしまうので、光路位置の 対物レンズ56Cの下方の基板が見え難い。 By the way, in this type of microscope, in order to inspect each part of the substrate S having a large area, it is necessary to freely move the stage in the X and Y axis directions so that the entire surface of the substrate can be observed. At this time, if the unused objective lens is on the observer side of the objective lens 56C on the optical path as described above, the observer should look into the vicinity of the observation field of the microscope from the side where the objective lens is attached. When attempting visual observation, since the unused objective lenses 56A, 56B, ... Are located on the observer side, it is difficult to see the substrate below the objective lens 56C at the optical path position.

【0009】 また、顕微鏡を見ながら視野内の基板表面にマーキングしたりその一部を加工 したりする場合もあり、この場合は対物レンズの真下に手や作業機材の先端部分 を入れるための作業空間が十分確保できず、十分な作業ができないという欠点も ある。 さらに、図6に示したようにステージ51をX方向に引き出して基板Sを取り 出す際に観察者側にある使用していない対物レンズで基板を傷めてしまうおそれ もある。In addition, there are cases where the surface of the substrate in the field of view is marked or a part of it is processed while observing the microscope. In this case, the work of inserting a hand or the tip of the work equipment directly under the objective lens. There is also a drawback that sufficient space cannot be secured and sufficient work cannot be done. Further, as shown in FIG. 6, when the stage 51 is pulled out in the X direction and the substrate S is taken out, the unused objective lens on the observer side may damage the substrate.

【0010】 そこで、本考案の目的は前述した従来の技術が有する問題点を解消し、作業者 が基板を直に目視観察したり基板を交換したりする際等に顕微鏡の対物レンズや 作業者の手が基板にぶつかったりしないようにし、対物レンズ直下のオープンス ペースを確保するようにした顕微鏡を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional technique, and to allow the operator to directly observe the substrate or to replace the substrate, the objective lens of the microscope or the operator. The objective is to provide a microscope that prevents the hands of the robot from hitting the substrate and ensures an open space directly below the objective lens.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

上記目的を達成するために、本考案は基台と、該基台上の案内面に沿い直交方 向に移動可能なステージと、前記基台に固着され前記ステージを跨ぐように架設 された門型アームと、該アームに焦準用昇降機構を介して昇降可能に支持された レボルバとを具備し、該レボルバに装着された対物レンズで前記ステージ上に載 置された板状試料を観察する顕微鏡において、前記レボルバはその対物レンズ装 着面が前記板状試料を出入れする側から反対方向でかつ該顕微鏡の接眼側前面か ら見て斜め後方に向けて設置されたことを特徴とするものである。 In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a base, a stage movable along a guide surface on the base in an orthogonal direction, and a gate fixed to the base so as to straddle the stage. Microscope for observing a plate-shaped sample mounted on the stage with an objective lens mounted on the revolver The revolver is characterized in that the objective lens mounting surface is installed in the opposite direction from the side in which the plate-like sample is taken in and out, and obliquely rearward when viewed from the front surface on the eyepiece side of the microscope. Is.

【0012】[0012]

【作用】[Action]

本考案によれば、対物レンズを含む鉛直光軸A1を基準として前記レボルバの 対物レンズ装着面が基板を出し入れする側と反対方向を向くように、すなわち光 路上にない対物レンズが、観察者の側から見て基板を出し入れする側と反対の側 の斜め後方に向くように設置したので、観察に使用される対物レンズが基板の交 換時や検査中の基板取扱い時において、顕微鏡観察者に対して最も手前側に位置 するようになり、使用していない対物レンズが邪魔にならないとともに、この対 物レンズに隣接して装着されている使用していない対物レンズが観察者から均等 な距離を保持して使用している対物レンズより奥になるように配置され、対物レ ンズ直下で基板面を細工するような場合にも支障なく行える。 According to the present invention, the objective lens mounting surface of the revolver is oriented in a direction opposite to the side of loading and unloading the substrate with respect to the vertical optical axis A1 including the objective lens. The objective lens used for observation is designed to face the microscope observer when replacing the substrate or when handling the substrate during inspection, because it is installed so that it is facing diagonally backward from the side where the substrate is taken in and out. The objective lens that is not in use will not be in the way, and the unused objective lens that is mounted adjacent to this object lens will keep a uniform distance from the observer. It is placed so that it is deeper than the objective lens that is being held and used, and it can be performed without problems even when the substrate surface is worked directly under the objective lens.

【0013】[0013]

【実施例】【Example】

以下、本考案による顕微鏡の一実施例を図1乃至図3を参照して説明する。 図1は本考案による顕微鏡の平面図を示している。同図において、符号1はベ ースを示しており、このベース1は作業テーブルT上に水平を保持して設置され ている。本実施例ではこの作業テーブルTは内部に除振機構を装備しており、こ の除振機構により外部振動を遮断できるようになっている。またこのベース1内 には照明用光源及びその安定装置が収容されており、顕微鏡本体の複数の対物レ ンズ2A、2B…の直上に装着された反射照明装置3まで図示しない光ファイバ ケーブルを介して照明光を導出できるようになっている。 なお、ベース1内には併せて透過照明装置も装備されており、両方の照明系に より基板Sの観察が行えるようになっている。 An embodiment of the microscope according to the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 shows a plan view of a microscope according to the present invention. In the figure, reference numeral 1 indicates a base, and the base 1 is installed on the work table T while holding it horizontally. In this embodiment, the work table T is internally provided with a vibration isolation mechanism, and the vibration isolation mechanism can block external vibration. An illumination light source and a stabilizer for the illumination are housed in the base 1, and a reflection illumination device 3 mounted directly above the plurality of objective lenses 2A, 2B ... Of the microscope main body is connected via an optical fiber cable (not shown). Illumination light can be derived. A transmissive illumination device is also provided in the base 1 so that the substrate S can be observed by both illumination systems.

【0014】 またステージ4は直交するX、Y軸方向の2層に配置された案内レール5、6 上にスライド可能に載置され、図示しない手動のハンドル及びDCモータとによ り移動する。The stage 4 is slidably mounted on guide rails 5 and 6 arranged in two layers in the X and Y axis directions orthogonal to each other, and is moved by a manual handle and a DC motor (not shown).

【0015】 一方、観察者側の前面側から後方に向けてステージ4を跨ぐようにして門型の アーム7が架設されている。この門型アーム7は前述のステージのY軸方向に沿 ってスパン中央部から両方の肩部にかけて大きな半径の緩い円弧形状をなし、ま た平面形状としては図1に示したように側壁7aがベース1の両端部に固定され た略く字形をなしている。On the other hand, a gate-shaped arm 7 is installed so as to straddle the stage 4 from the front side on the observer side to the rear side. This gate-shaped arm 7 has a gentle arcuate shape with a large radius from the center of the span to both shoulders along the Y-axis direction of the above-mentioned stage, and also has a side wall 7a as shown in FIG. Has a substantially V shape fixed to both ends of the base 1.

【0016】 顕微鏡の光学系を構成する部材としては、ステージ4上に載置された基板Sを 観察する複数の対物レンズ2A、2B…と、これら対物レンズ2A、2B…を保 持し電動操作によりレンズ切り替え可能な電動レボルバユニット11と、光路上 の対物レンズ2Aを介して試料面を照明する反射照明装置3と、対物レンズ2A からの結像光線の鉛直光軸A1をさらにベース1端部の上方に位置する観察用鏡 筒13の位置まで延長するリレー光学系A2を収容する延長リレー鏡筒14と、 この延長リレー鏡筒14の先端に取着され接眼レンズ12を備えリレー光学系A 2からの光線を接眼レンズ12に導く鏡筒光学系A3が収容されている観察用鏡 筒13とがある。As a member constituting the optical system of the microscope, a plurality of objective lenses 2A, 2B ... For observing the substrate S placed on the stage 4, and those objective lenses 2A, 2B. The lens-switchable electric revolver unit 11, the reflection illuminator 3 for illuminating the sample surface via the objective lens 2A on the optical path, and the vertical optical axis A1 of the image forming light beam from the objective lens 2A are further connected to the end of the base 1. A relay optical system A including an extension relay lens barrel 14 for accommodating a relay optical system A2 extending to the position of the observation lens barrel 13 located above, and an eyepiece lens 12 attached to the tip of the extension relay lens barrel 14. There is an observation lens barrel 13 that accommodates a lens barrel optical system A3 that guides light rays from the lens 2 to the eyepiece lens 12.

【0017】 このうち反射照明装置3と、この反射照明装置3の下面に連結された電動レボ ルバユニット11とが焦準用昇降機構15を介してアーム7のほぼ中心位置から 吊持されている。反射照明装置3は図1及び図2に示したように直方体形状のハ ウジングに収容され、このハウジングのほぼ中央位置に吊り点が設けられ、焦準 用昇降機構15の駆動に対して滑らかな昇降が可能となる。 このとき反射照明装置3は図1に示したようにステージ4のX、Y軸方向に対 して45°傾いた状態で水平に設置されている。そして反射照明装置3の下面に は電動レボルバユニット11が固着されている。この電動レボルバユニット11 の内部にはレボルバ11aの回転駆動機構が内蔵され、また反射照明装置3内に は電動レボルバユニット11の微動焦準昇降を行うための駆動機構が内蔵されて いる。Of these, the reflection illumination device 3 and the electric revolution unit 11 connected to the lower surface of the reflection illumination device 3 are suspended from a substantially central position of the arm 7 via a focusing elevating mechanism 15. As shown in FIGS. 1 and 2, the reflection illuminating device 3 is housed in a rectangular parallelepiped housing, and a hanging point is provided at a substantially central position of this housing, which is smooth against the drive of the focusing elevating mechanism 15. It is possible to move up and down. At this time, the reflection illuminator 3 is horizontally installed in a state of being inclined by 45 ° with respect to the X and Y axis directions of the stage 4, as shown in FIG. An electric revolver unit 11 is fixed to the lower surface of the reflective lighting device 3. The electric revolver unit 11 has a built-in rotation drive mechanism for the revolver 11a, and the reflection illuminator 3 has a built-in drive mechanism for finely moving and focusing the electric revolver unit 11.

【0018】 またレボルバ11aは対物レンズ2A、2B…の装着面が反射照明装置3の長 手方向と同一方向となるように観察者の位置と反対側の斜め後方に向いて取り付 けられている。 したがって、使用しない対物レンズ2B、2C…は観察者側から見て使用して いる対物レンズ2Aの後方に配置される。したがって観察者が顕微鏡を見ながら 基板表面等に対してマーキングや部分的改造等の作業を行うのに対物レンズ2A の近くに手を入れて作業をするような場合にも手が対物レンズにぶつかったりす ることもない。 また、基板面の作業を行いながら電動レボルバユニット11によりレボルバ1 1aを回転させ倍率を変えることもできる。Further, the revolver 11a is attached so that the mounting surfaces of the objective lenses 2A, 2B, ... Are in the same direction as the longitudinal direction of the reflection illuminating device 3, facing obliquely rearward on the side opposite to the position of the observer. There is. Therefore, the unused objective lenses 2B, 2C ... Are arranged behind the objective lens 2A which is being used when viewed from the observer side. Therefore, even when the observer looks at the microscope and puts his / her hand near the objective lens 2A to perform the work such as marking or partial modification on the substrate surface, the hand hits the objective lens. There is no loss. Also, the magnification can be changed by rotating the revolver 11a by the electric revolver unit 11 while working on the substrate surface.

【0019】 このとき反射照明装置3の機能としてはベース1内の図示しない光源から光フ ァイバを介して導かれた照明光が対物レンズ2Aの直上位置に■置された図示し ないハーフミラーで対物レンズ2Aに向けて反射され対物レンズ2A内を経由し て試料を照明するようになっている。At this time, as the function of the reflection illumination device 3, the illumination light guided from the light source (not shown) in the base 1 through the optical fiber is provided by a half mirror (not shown) directly above the objective lens 2A. The sample is illuminated toward the objective lens 2A after being reflected toward the objective lens 2A.

【0020】 また、焦準用昇降機構15は反射照明装置3側に固着された外筒部と、この外 筒部と入れ子構造になるアーム7側に固着された内筒部とからなり、内筒部内に 収容された図示しないDCモータによりギヤトレイン等の駆動伝達部を介して外 筒部15aを昇降させることができる。 対物レンズ2Aからの結像光線の鉛直光軸A1が通過する鏡筒16も入れ子式 になっており、外筒部が上下動して全体が自由に伸縮し、筒長を自由に設定でき るとともに、外部からの迷光を遮断できるように内筒部15bの外周にリング状 のブラインド部材が装着されている。The focusing elevating mechanism 15 is composed of an outer cylinder portion fixed to the reflection illumination device 3 side and an inner cylinder portion fixed to the outer cylinder portion and the arm 7 side having a nested structure. The outer cylinder portion 15a can be moved up and down via a drive transmission portion such as a gear train by a DC motor (not shown) housed inside the portion. The lens barrel 16 through which the vertical optical axis A1 of the image forming light beam from the objective lens 2A passes is also nested, and the outer cylinder part moves up and down to freely expand and contract, and the cylinder length can be freely set. At the same time, a ring-shaped blind member is attached to the outer periphery of the inner cylindrical portion 15b so as to block stray light from the outside.

【0021】 さらに鉛直光軸A1の鏡筒16と、この直上のアーム7の頂点位置7bとの交 点近傍には光路切り替え可能なプリズムシステム20が装備されている。このプ リズムシステム20は光軸を観察用鏡筒13に向けて偏角する全反射偏角プリズ ム20Aと、対物レンズ2Aからの光線を、アーム7の中央位置7bに設けられ た写真用直筒21への光線と観察用鏡筒13への光線とに所定の分割比で分割す るハーフミラー(図示せず)と、写真用直筒21の位置に設置され液晶基板表面 の修復作業等を行う図示しないレーザリペアリング装置のレーザ光を通過させる ための円筒ガラス(図示せず)とから構成されている。これらの光路分割部材群 はX方向に直列に並べて配置されており、切り替えレバー22で簡単に切り替え ることができる。Further, an optical path switchable prism system 20 is provided in the vicinity of the intersection between the lens barrel 16 having the vertical optical axis A1 and the apex position 7b of the arm 7 immediately above. This prism system 20 is a total reflection declination prism 20A that deviates the optical axis toward the observation lens barrel 13, and a straight lens for photography provided at the central position 7b of the arm 7 for the light beam from the objective lens 2A. A half mirror (not shown) that splits the light beam to the light beam 21 and the light beam to the observation lens barrel 13 at a predetermined splitting ratio, and performs repair work on the surface of the liquid crystal substrate installed at the position of the straight tube 21 for photography. It is composed of a cylindrical glass (not shown) for passing the laser light of a laser repairing device (not shown). These optical path dividing member groups are arranged side by side in series in the X direction and can be easily switched by the switching lever 22.

【0022】 ここで前述のプリズムシステム20の全反射偏角プリズム20Aで光軸を偏角 し観察用鏡筒13で観察する観察光学系の構成について説明する。 対物レンズ2Aからの対物像の結像光線は、反射照明装置3内の図示しないハ ーフミラーを通過し、プリズムシステム20の全反射偏角プリズムに相当する第 1の偏角プリズム20Aで図1及び図2に示したように振れ角α°及び俯角β° で偏角される。Here, the configuration of the observation optical system in which the optical axis is deviated by the total reflection declination prism 20A of the prism system 20 and observed by the observation lens barrel 13 will be described. The image forming light beam of the objective image from the objective lens 2A passes through a half mirror (not shown) in the reflection illuminating device 3, and is reflected by the first deflection prism 20A corresponding to the total reflection deflection prism of the prism system 20 in FIG. As shown in FIG. 2, the deflection angle is α ° and the depression angle is β °.

【0023】 リレー光学系は図2に示したように第1の偏角プリズム20Aにより水平面と なす角が下方に向けてβ°となるように光線が鋭角に偏向されている。これに伴 い、延長リレー鏡筒14はアーチ形状に沿って斜めに傾斜してアーム7の下面に 直接取り付けられている。このベース1端部に向けて下方に傾斜している延長リ レー鏡筒14の内部には複数のリレーレンズ群が収容され、所定の中間倍率のリ レー光学系が構成されている。As shown in FIG. 2, in the relay optical system, the light beam is deflected by the first deflection angle prism 20A at an acute angle so that the angle formed with the horizontal plane is β ° downward. Along with this, the extension relay barrel 14 is directly attached to the lower surface of the arm 7 while being inclined obliquely along the arch shape. A plurality of relay lens groups are housed inside the extended relay lens barrel 14 that is inclined downward toward the end of the base 1 to form a relay optical system with a predetermined intermediate magnification.

【0024】 このリレー光学系により光路が延長された光線は、さらに延長リレー鏡筒14 の端部に配置された第2の偏角プリズム23により鉛直上方に鋭角をなすように 偏角され観察用鏡筒13を通過して接眼レンズ12に至る。これによりステージ 4のほぼ中央位置にある対物レンズ2Aでの対物像をアーム7の端位置に設けら れた接眼レンズで拡大された観察像として観察することができる。 このとき図2に示したように前述の第2の偏角プリズム23による光軸偏向点 は第1の光軸偏向点に対して低くなるように設計されている。 なお、前述の偏角プリズム23に代えてミラーを所定角度で取り付けて偏角ミ ラーとして使用しても良い。The light beam whose optical path is extended by this relay optical system is further deflected by a second deflection prism 23 arranged at the end of the extension relay barrel 14 so as to make an acute angle vertically upward and for observation. It passes through the lens barrel 13 and reaches the eyepiece lens 12. As a result, the objective image at the objective lens 2A located substantially at the center of the stage 4 can be observed as an enlarged observation image by the eyepiece lens provided at the end position of the arm 7. At this time, as shown in FIG. 2, the optical axis deflection point by the second deflection angle prism 23 is designed to be lower than the first optical axis deflection point. In addition, a mirror may be attached at a predetermined angle in place of the deflection angle prism 23 described above and used as a deflection angle mirror.

【0025】 図3はステージ4をX方向に引き出して基板Sを交換する状態を示したもので ある。このようにレボルバの対物レンズ装着面が観察者から見て斜め後方に向い ているので、基板全面が大きくオープンスペース側に引き出される。このため基 板交換時等において、レボルバに装着された対物レンズと基板とがぶつかったり して基板を傷めたりすることを防止することができる。FIG. 3 shows a state in which the stage 4 is pulled out in the X direction and the substrate S is exchanged. In this way, the surface of the revolver on which the objective lens is mounted faces obliquely rearward when viewed from the observer, so that the entire surface of the substrate is largely pulled out toward the open space. Therefore, it is possible to prevent the objective lens mounted on the revolver from colliding with the substrate and damaging the substrate at the time of exchanging the substrate.

【0026】 なお、本実施例では反射照明装置3は前述のように観察者から斜め後方にX, Y軸から傾いた状態で配置されているが、Y軸方向に向いて取り付けられても良 い。 また、レボルバ装着面の向く方向も本実施例のように45°に限定されるもの ではなく、観察時に基板面との干渉を避けられるような適正角度に設定すれば良 い。In the present embodiment, the reflective illumination device 3 is arranged obliquely rearward from the observer in a state of being tilted from the X and Y axes, but may be attached in the Y axis direction. Yes. Further, the direction in which the revolver mounting surface faces is not limited to 45 ° as in the present embodiment, but may be set to an appropriate angle so as to avoid interference with the substrate surface during observation.

【0027】[0027]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上の説明から明らかなように、本考案によれば、使用していない対物レンズ が作業空間内にないので、目視観察や基板表面の細工を行うためのオープンスペ ースを確保でき、観察が容易になるばかりでなく基板交換時等に基板を傷つけた りすることがなくなる等の効果を奏する。 As is clear from the above description, according to the present invention, since the unused objective lens is not in the working space, it is possible to secure an open space for performing visual observation and work on the surface of the substrate, and the observation can be performed. Not only is it easy, but there is an effect that the substrate is not damaged when it is replaced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案による顕微鏡の一実施例を示した平面
図。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a microscope according to the present invention.

【図2】図1に示した顕微鏡の側面図。FIG. 2 is a side view of the microscope shown in FIG.

【図3】図1に示した状態からステージを引き出した状
態を示した平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a state in which a stage is pulled out from the state shown in FIG.

【図4】従来の顕微鏡の一例を示した平面図。FIG. 4 is a plan view showing an example of a conventional microscope.

【図5】図4に示した顕微鏡の側面図。5 is a side view of the microscope shown in FIG.

【図6】図4に示した状態からステージを引き出した状
態を示した平面図。
6 is a plan view showing a state in which a stage is pulled out from the state shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベース 2 対物レンズ 3 反射照明装置 4 ステージ 5、6 案内レール 7 アーム 12 接眼レンズ 13 観察用鏡筒 14 延長リレー鏡筒 15 焦準用昇降機構 A1 対物レンズ鉛直光軸 A2 リレー光学系光軸 A3 鏡筒光軸 α 光軸振れ角 β 光軸俯角 1 Base 2 Objective Lens 3 Reflective Illuminator 4 Stages 5 and 6 Guide Rail 7 Arm 12 Eyepiece 13 Observation Lens Tube 14 Extension Relay Lens Tube 15 Focusing Lifting Mechanism A1 Objective Lens Vertical Optical Axis A2 Relay Optical System Optical Axis A3 Mirror Cylindrical optical axis α Optical axis deflection angle β Optical axis depression angle

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】基台と、該基台上の案内面に沿い直交方向
に移動可能なステージと、前記基台に固着され前記ステ
ージを跨ぐように架設された門型アームと、該アームに
焦準用昇降機構を介して昇降可能に支持されたレボルバ
とを具備し、該レボルバに装着された対物レンズで前記
ステージ上に載置された板状試料を観察する顕微鏡にお
いて、 前記レボルバはその対物レンズ装着面が前記板状試料を
出入れする側から反対方向でかつ該顕微鏡の接眼側前面
から見て斜め後方に向けて設置されたことを特徴とする
顕微鏡。
1. A base, a stage movable in a direction orthogonal to a guide surface on the base, a gate-shaped arm fixed to the base so as to straddle the stage, and the arm. A revolver supported so as to be able to move up and down via a focus raising / lowering mechanism, wherein a revolver observes a plate-shaped sample placed on the stage with an objective lens attached to the revolver. A microscope in which a lens mounting surface is installed in a direction opposite to a side where the plate-shaped sample is taken in and out, and is obliquely rearward when viewed from a front surface of an eyepiece side of the microscope.
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