JPH06100535B2 - 複屈折測定装置 - Google Patents
複屈折測定装置Info
- Publication number
- JPH06100535B2 JPH06100535B2 JP61023487A JP2348786A JPH06100535B2 JP H06100535 B2 JPH06100535 B2 JP H06100535B2 JP 61023487 A JP61023487 A JP 61023487A JP 2348786 A JP2348786 A JP 2348786A JP H06100535 B2 JPH06100535 B2 JP H06100535B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- analyzer
- light
- state
- polarizer
- receiving element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は複屈折測定装置に関する。
光ディスク基板を製作する成形加工の工程においては、
その材質として一般的には、ポリカーボネート、ポリメ
チルメタクリレートなどがよく使われているが、これら
の分子の配向によって複屈折が大きく変化し、光ディス
クとしての性能に影響を与えるものであり、工程の途中
にてこの複屈折性を測定することは非常に重要なことで
ある。本発明はこの複屈折性の測定を簡単で且つ、高精
度で行うことができる複屈折測定装置に関するものであ
る。
その材質として一般的には、ポリカーボネート、ポリメ
チルメタクリレートなどがよく使われているが、これら
の分子の配向によって複屈折が大きく変化し、光ディス
クとしての性能に影響を与えるものであり、工程の途中
にてこの複屈折性を測定することは非常に重要なことで
ある。本発明はこの複屈折性の測定を簡単で且つ、高精
度で行うことができる複屈折測定装置に関するものであ
る。
光学的異方性を有する物質（方向によって屈折率が異な
る物質）に偏光している光が入射すると、方向によって
屈折率が異なる為、その位相速度が変化し、結果とし
て、偏光状態が変化する。これらの複屈折を測定する方
法として、一般的には、セナルモン補償器を用いる方法
が知られている。セナルモン補償器は、1/4λ板と回転
検光子から成っている。試料（被測定物）の光学軸と45
°の方向に、直線偏光の光を入射させると、ｚ軸方向に
光が進行し、ｘ軸、ｙ軸方向の屈折率がそれぞれnx,ny
のとき、試料を透過した光は だけ位相がずれる。このときλは入射光の波長であり、
ｄは試料のｚ軸方向の厚さである。δ＝π/2のときは、
直線偏光から円偏光になり、δ＜π/2のときは、一般的
に楕円偏光となる。楕円偏光は、次式の形に書くことが
できる。
る物質）に偏光している光が入射すると、方向によって
屈折率が異なる為、その位相速度が変化し、結果とし
て、偏光状態が変化する。これらの複屈折を測定する方
法として、一般的には、セナルモン補償器を用いる方法
が知られている。セナルモン補償器は、1/4λ板と回転
検光子から成っている。試料（被測定物）の光学軸と45
°の方向に、直線偏光の光を入射させると、ｚ軸方向に
光が進行し、ｘ軸、ｙ軸方向の屈折率がそれぞれnx,ny
のとき、試料を透過した光は だけ位相がずれる。このときλは入射光の波長であり、
ｄは試料のｚ軸方向の厚さである。δ＝π/2のときは、
直線偏光から円偏光になり、δ＜π/2のときは、一般的
に楕円偏光となる。楕円偏光は、次式の形に書くことが
できる。
EY＝RP・cos（τ＋δ） EX＝RS・cosτ しかも座標軸を（X,Y）より（x,y）に適当に回転する
と、δ＝π/2とすることができ、次式の様に書ける。
と、δ＝π/2とすることができ、次式の様に書ける。
Ey＝AO・sinτ′ Ex＝BO・cosτ′ これに1/4λ板の光学軸を上の（x,y）座標軸に合わせる
ことにより、1/4λ板を透過した光はπ/2の位相差が生
じる為、次式の様に表される。
ことにより、1/4λ板を透過した光はπ/2の位相差が生
じる為、次式の様に表される。
Ey＝AO・sin（τ″＋π/2）＝AO・cosτ″ Ex＝BO・cosτ″ これは直線偏光を意味している。セナルモンの補償器
は、1/4λ板の次に回転検光子が置かれているが、これ
を回転させて消光させ角度からリターデーションを測定
するものである。この測定法によると、入射する偏光の
方向を常に試料の光学軸と45°方向に設定する必要があ
り、又1/4λ板の光学軸も試料の光学軸と45°方向に設
定する必要がある。
は、1/4λ板の次に回転検光子が置かれているが、これ
を回転させて消光させ角度からリターデーションを測定
するものである。この測定法によると、入射する偏光の
方向を常に試料の光学軸と45°方向に設定する必要があ
り、又1/4λ板の光学軸も試料の光学軸と45°方向に設
定する必要がある。
従って試料の光学軸が未知のときは、光学軸を見つける
手順が必要となり、又その試料の光学軸と45°の方向に
入射する偏光の方向と1/4λ板の光学軸を合わせる必要
がある為、操作が複雑となり、且つ連続的に試料の光学
軸が変化しているときは、光学軸を見つける手順も併せ
て行う必要がある。又、回転検光子の角度の読み取りも
精度を要する。
手順が必要となり、又その試料の光学軸と45°の方向に
入射する偏光の方向と1/4λ板の光学軸を合わせる必要
がある為、操作が複雑となり、且つ連続的に試料の光学
軸が変化しているときは、光学軸を見つける手順も併せ
て行う必要がある。又、回転検光子の角度の読み取りも
精度を要する。
（問題点を解決するための手段） 本発明者は上記の如き問題点を解決すべく鋭意研究の結
果、本発明を完成するに到った。
果、本発明を完成するに到った。
即ち、本発明は、 （１）光源の直線偏光レーザーを1/4λ板により直線偏
光から円偏光に変換する装置、 （２）被測定物の両側に回転する偏光子と検光子を、ま
た該検光子の後方に受光素子を配置し、併せて偏光子と
検光子を直交ニコル及び平行ニコルの状態にして回転さ
せる制御部、並びに （３）前記受光素子から得られる信号をデジタル信号に
変換する装置を具備し、且つ直交ニコル状態及び平行ニ
コル状態の信号からリターデーション及び光学軸の方向
を求める演算部 から成ることを特徴とする複屈折測定装置を提供するも
のである。
光から円偏光に変換する装置、 （２）被測定物の両側に回転する偏光子と検光子を、ま
た該検光子の後方に受光素子を配置し、併せて偏光子と
検光子を直交ニコル及び平行ニコルの状態にして回転さ
せる制御部、並びに （３）前記受光素子から得られる信号をデジタル信号に
変換する装置を具備し、且つ直交ニコル状態及び平行ニ
コル状態の信号からリターデーション及び光学軸の方向
を求める演算部 から成ることを特徴とする複屈折測定装置を提供するも
のである。
以下、図面により本発明の具体的事例について説明す
る。
る。
第１図は本発明はの複屈折測定装置の一実施例を示す図
であり、この図において１は光源であってHe−Neレーザ
ー、半導体レーザーなどの直線偏光レーザーを使用す
る。２は1/4λ板であって、直線偏光を円偏光に変換す
る。３は偏光子であって、７のパルスモーターで回転さ
れる。偏光子３が回転することにより任意の方向の直線
偏光が得られる。４は被測定物であって、複屈折性を有
する光ディスク基板などである。５は検光子であって８
のパルスモーターで回転される。６は受光素子であって
光の強度を電気信号の強度に変換する。９はA/D変換器
であってアナログの信号をデジタルの信号に変換する。
10はマイクロコンピュータであって偏光子回転用パルス
モーター７と検光子回転用パルスモーター８を制御し
て、A/D変換器９から得られたデジタル信号を入力し
て、被測定物４の光学軸の方向とリターデーションを計
算する。
であり、この図において１は光源であってHe−Neレーザ
ー、半導体レーザーなどの直線偏光レーザーを使用す
る。２は1/4λ板であって、直線偏光を円偏光に変換す
る。３は偏光子であって、７のパルスモーターで回転さ
れる。偏光子３が回転することにより任意の方向の直線
偏光が得られる。４は被測定物であって、複屈折性を有
する光ディスク基板などである。５は検光子であって８
のパルスモーターで回転される。６は受光素子であって
光の強度を電気信号の強度に変換する。９はA/D変換器
であってアナログの信号をデジタルの信号に変換する。
10はマイクロコンピュータであって偏光子回転用パルス
モーター７と検光子回転用パルスモーター８を制御し
て、A/D変換器９から得られたデジタル信号を入力し
て、被測定物４の光学軸の方向とリターデーションを計
算する。
偏光子３と検光子５を直交ニコルの位置にそれぞれを回
転させ、直交ニコルの状態にて回転させるとき、被測定
物４にδのリターデーションがあれば、受光素子６にて
得られる信号は次式の通りである。
転させ、直交ニコルの状態にて回転させるとき、被測定
物４にδのリターデーションがあれば、受光素子６にて
得られる信号は次式の通りである。
I1＝I0・sin2（２θ）・sin2（δ/2） 次に偏光子３と検光子５を平行ニコルの位置にそれぞれ
回転させ、平行ニコルの状態にて回転させるとき、受光
素子６にて得られる信号は次式の通りである。
回転させ、平行ニコルの状態にて回転させるとき、受光
素子６にて得られる信号は次式の通りである。
I11＝I0（１−sin2（２θ）・sin2（δ/2）） 上の二式においてθは入射する直線偏光の方向と被測定
物４の光学軸との角度であり、θが０度の時直交ニコル
の状態ではI1＝０となり受光素子６で得られる信号は０
となる。又平行ニコルのときはI11＝I0となる。次にθ
が45度のとき直交ニコルの状態では得られる信号は最大
となり、I1＝I0・sin2（δ/2）となる。平行ニコルの状
態では得られる信号は最小となりI11＝I0（１−sin
2（δ/2））となる。直交ニコルの状態で測定すると、
θが０度即ち最小光での信号と、θが45度即ち最大光で
の信号との差は、I1(45)-I1(0)=I0・sin2（δ/2）とな
り、I0がわかればδは計算より容易に求めることができ
る。I0は平行ニコルの状態でθが０度のときの値を使用
することができる。
物４の光学軸との角度であり、θが０度の時直交ニコル
の状態ではI1＝０となり受光素子６で得られる信号は０
となる。又平行ニコルのときはI11＝I0となる。次にθ
が45度のとき直交ニコルの状態では得られる信号は最大
となり、I1＝I0・sin2（δ/2）となる。平行ニコルの状
態では得られる信号は最小となりI11＝I0（１−sin
2（δ/2））となる。直交ニコルの状態で測定すると、
θが０度即ち最小光での信号と、θが45度即ち最大光で
の信号との差は、I1(45)-I1(0)=I0・sin2（δ/2）とな
り、I0がわかればδは計算より容易に求めることができ
る。I0は平行ニコルの状態でθが０度のときの値を使用
することができる。
平行ニコルの状態で測定すると、θが０度即ち最大光で
の信号と、θが45度即ち最小光での信号との差は、I
11(0)−I11(45)＝I0・sin2（δ/2）となる。このときの
I0は平行ニコル状態でのθが０度の値を使用することが
できる。ただし平行ニコルの状態で測定すると、小さい
リターデーションのときに1/4λ板などの精度が大きく
問題となる為、本実施例では直交コニルと平行ニコルを
併用して測定することとし、以下、第２図に示す測定の
ためのフローチャートにもとずいて説明を行う。
の信号と、θが45度即ち最小光での信号との差は、I
11(0)−I11(45)＝I0・sin2（δ/2）となる。このときの
I0は平行ニコル状態でのθが０度の値を使用することが
できる。ただし平行ニコルの状態で測定すると、小さい
リターデーションのときに1/4λ板などの精度が大きく
問題となる為、本実施例では直交コニルと平行ニコルを
併用して測定することとし、以下、第２図に示す測定の
ためのフローチャートにもとずいて説明を行う。
最初のステップとして被測定物４を置かない状態にて偏
光子３と検光子５を平行ニコルの状態にして回転してそ
のときの信号をマイクロコンピュータに入力して、回転
角度に対する光量のばらつき信号として記憶し、以後の
ステップでの補正信号として使用する。第２のステップ
として被測定物４を置き、偏光子３と検光子５を直交ニ
コルの状態にする。第３のステップにて、直交ニコルの
状態のままで偏光子３と検光子５を１回転させると同時
に偏光子３の回転角度に合わせ受光素子６からの信号を
A/D変換器９にてデジタル信号に変換してマイクロコン
ピュータ10に入力する。第４のステップとして、第１の
ステップにて記憶している補正信号で、第３のステップ
で入力した信号を補正する。これにより1/4λ板２の精
度に起因する円偏光からのずれの要素を補正することが
できる。
光子３と検光子５を平行ニコルの状態にして回転してそ
のときの信号をマイクロコンピュータに入力して、回転
角度に対する光量のばらつき信号として記憶し、以後の
ステップでの補正信号として使用する。第２のステップ
として被測定物４を置き、偏光子３と検光子５を直交ニ
コルの状態にする。第３のステップにて、直交ニコルの
状態のままで偏光子３と検光子５を１回転させると同時
に偏光子３の回転角度に合わせ受光素子６からの信号を
A/D変換器９にてデジタル信号に変換してマイクロコン
ピュータ10に入力する。第４のステップとして、第１の
ステップにて記憶している補正信号で、第３のステップ
で入力した信号を補正する。これにより1/4λ板２の精
度に起因する円偏光からのずれの要素を補正することが
できる。
第５のステップで、第４のステップにて補正の結果得ら
れた信号の最大値、最小値を見つけ、その差ΔＩとす
る。又、このときの最小値のときの偏光子の角度ψが光
学軸の角度方向を示している。第３図は、このときに実
際にマイクロコンピュータ10にて得られた信号である。
第６図のステップにて偏光子３と検光子５を平行ニコル
の状態にする。第７のステップにて第５のステップで求
められた光学軸の角度に偏光子３の軸方向が合うように
偏光子３と検光子５を平行ニコルの状態のままで回転す
る。第８のステップにて、このときの受光素子６の信号
をA/D変換器９にてデジタル信号に変換してマイクロコ
ンピュータ10に入力し、第１のステップで得られた補正
信号にて補正し、その結果をI0とする。第９のステップ
で測定するδの計算をマイクロコンピュータ10により次
式の通り行う。
れた信号の最大値、最小値を見つけ、その差ΔＩとす
る。又、このときの最小値のときの偏光子の角度ψが光
学軸の角度方向を示している。第３図は、このときに実
際にマイクロコンピュータ10にて得られた信号である。
第６図のステップにて偏光子３と検光子５を平行ニコル
の状態にする。第７のステップにて第５のステップで求
められた光学軸の角度に偏光子３の軸方向が合うように
偏光子３と検光子５を平行ニコルの状態のままで回転す
る。第８のステップにて、このときの受光素子６の信号
をA/D変換器９にてデジタル信号に変換してマイクロコ
ンピュータ10に入力し、第１のステップで得られた補正
信号にて補正し、その結果をI0とする。第９のステップ
で測定するδの計算をマイクロコンピュータ10により次
式の通り行う。
このδがリターデーションとなり、第５のステップで求
めたψが光学軸の方向となる。
めたψが光学軸の方向となる。
以上、第１のステップから第９のステップまでをマイク
ロコンピュータ10で順番に制御し、結果を計算すればよ
いことがわかる。但し、第１のステップで得られる補正
信号は、被測定物４の光ディスク基板に依存するもので
ない為、初期に１回だけ行えばよく、第２回目以後は、
第２のステップから第９のステップを繰り返せばよい。
この様な手順で行えば、1/4λ板をとりかえても、調整
する必要もなく、又、被測定物４の透過率が変化して
も、全く同じ手順で測定することができる。このことは
被測定物４が光ディスクの基板であっても、記録膜が蒸
着されていても、影響を受けることなく測定できる特徴
がある。述べるまでもなく被測定物４である光ディスク
をモータにて角度方向と半径方向に自動的に移動すれば
連続的にリターデーションと光学軸の測定は可能であ
る。
ロコンピュータ10で順番に制御し、結果を計算すればよ
いことがわかる。但し、第１のステップで得られる補正
信号は、被測定物４の光ディスク基板に依存するもので
ない為、初期に１回だけ行えばよく、第２回目以後は、
第２のステップから第９のステップを繰り返せばよい。
この様な手順で行えば、1/4λ板をとりかえても、調整
する必要もなく、又、被測定物４の透過率が変化して
も、全く同じ手順で測定することができる。このことは
被測定物４が光ディスクの基板であっても、記録膜が蒸
着されていても、影響を受けることなく測定できる特徴
がある。述べるまでもなく被測定物４である光ディスク
をモータにて角度方向と半径方向に自動的に移動すれば
連続的にリターデーションと光学軸の測定は可能であ
る。
第４図は本発明の複屈折測定装置の別の実施例を示す図
であり、第１図に示す実施例に加えて、集光ビーム状態
を維持するための装置を具備し、被測定物４の微少領域
でのリターデーションと光学軸を測定することを目的と
するものである。１は光源であって、He−Neレーザー、
半導体レーザーなどの直線偏光である。２は1/4λ板で
あって直線偏光を円偏光に変換するものである。11はハ
ーフミラーであり、一般的には反射率、透過率がそれぞ
れ50％のミラーである。３は偏光子で７のパルスモータ
で回転される。12はフォーカスレンズを被測定物４の方
向に前後させるフォーカス用アクチュエータである。15
のフォーカスサーボ回路との組み合わせにて常に被測定
物４の後面にその焦点を結ばせるものである。４は被測
定物であって、複屈折性を有する光ディスク基板などで
ある。13は集光レンズであって被測定物４からの透過光
を集めるものである。５は検光子であって８のパルスモ
ータで回転される。６は受光素子であって光の強度を電
気信号の強度に変換する。14はシリンドリカルレンズと
４分割の受光素子から成り、一般に非点収差法と呼ばれ
るフォーカスエラーの検知手段である。15はフォーカス
サーボ回路であり、14からのフォーカスエラー信号を増
幅して、12のフォーカスアクチュエータを駆動して回転
などによって生ずる被測定物４の面振れ、あるいは被測
定物４自身が初めから待ちあわせているそりなどの影響
を受けずに、被測定物４である光ディスク基板の後面に
焦点を結ばせる。これらの手段と併せて第１図に示す実
施例における第２図のフローチャートにそって制御を行
って、微少領域でのリターデーションと光学軸の測定を
行うものである。第４図に示す実施例では被測定物４が
光ディスク基板などのときには、実際の信号記録、再生
に近い形であり、より実際的な評価が可能となる。
であり、第１図に示す実施例に加えて、集光ビーム状態
を維持するための装置を具備し、被測定物４の微少領域
でのリターデーションと光学軸を測定することを目的と
するものである。１は光源であって、He−Neレーザー、
半導体レーザーなどの直線偏光である。２は1/4λ板で
あって直線偏光を円偏光に変換するものである。11はハ
ーフミラーであり、一般的には反射率、透過率がそれぞ
れ50％のミラーである。３は偏光子で７のパルスモータ
で回転される。12はフォーカスレンズを被測定物４の方
向に前後させるフォーカス用アクチュエータである。15
のフォーカスサーボ回路との組み合わせにて常に被測定
物４の後面にその焦点を結ばせるものである。４は被測
定物であって、複屈折性を有する光ディスク基板などで
ある。13は集光レンズであって被測定物４からの透過光
を集めるものである。５は検光子であって８のパルスモ
ータで回転される。６は受光素子であって光の強度を電
気信号の強度に変換する。14はシリンドリカルレンズと
４分割の受光素子から成り、一般に非点収差法と呼ばれ
るフォーカスエラーの検知手段である。15はフォーカス
サーボ回路であり、14からのフォーカスエラー信号を増
幅して、12のフォーカスアクチュエータを駆動して回転
などによって生ずる被測定物４の面振れ、あるいは被測
定物４自身が初めから待ちあわせているそりなどの影響
を受けずに、被測定物４である光ディスク基板の後面に
焦点を結ばせる。これらの手段と併せて第１図に示す実
施例における第２図のフローチャートにそって制御を行
って、微少領域でのリターデーションと光学軸の測定を
行うものである。第４図に示す実施例では被測定物４が
光ディスク基板などのときには、実際の信号記録、再生
に近い形であり、より実際的な評価が可能となる。
本発明の装置は光ディスク基板あるいは記録膜が施され
ている光ディスク基板の複屈折性の評価を、光学軸の方
向とリターデーションに分離して測定可能ならしめるも
のであり、光ディスク基板の透過率の変化、あるいはレ
ーザー光の光量変動、1/4λ板の不完全性などに影響さ
れずに複屈折性が測定可能であり、更に集光ビーム状態
にて使用すれば微少領域での複屈折性を測定する手段を
提供することができる。
ている光ディスク基板の複屈折性の評価を、光学軸の方
向とリターデーションに分離して測定可能ならしめるも
のであり、光ディスク基板の透過率の変化、あるいはレ
ーザー光の光量変動、1/4λ板の不完全性などに影響さ
れずに複屈折性が測定可能であり、更に集光ビーム状態
にて使用すれば微少領域での複屈折性を測定する手段を
提供することができる。
第１図は本発明の複屈折測定装置の一実施例を示す図、
第２図は第１図に示す装置を用いた測定法のフローチャ
ート、第３図は第２図の第４のステップで得られたマイ
クロコンピュータの信号、第４図は本発明の複屈折測定
装置の別の実施例を示す図である。 １……光源、２……1/4λ板 ３……偏光子、４……被測定物 ５……検光子、６……受光素子 ７……偏光子回転用パルスモーター ８……検光子回転用パルスモーター ９……A/D変換器 10……マイクロコンピュータ 11……ハーフミラー 12……フォーカスアクチュエータ 13……集光レンズ 14……シリンドリカルレンズと４分割の受光素子 15……フォーカスサーボ回路
第２図は第１図に示す装置を用いた測定法のフローチャ
ート、第３図は第２図の第４のステップで得られたマイ
クロコンピュータの信号、第４図は本発明の複屈折測定
装置の別の実施例を示す図である。 １……光源、２……1/4λ板 ３……偏光子、４……被測定物 ５……検光子、６……受光素子 ７……偏光子回転用パルスモーター ８……検光子回転用パルスモーター ９……A/D変換器 10……マイクロコンピュータ 11……ハーフミラー 12……フォーカスアクチュエータ 13……集光レンズ 14……シリンドリカルレンズと４分割の受光素子 15……フォーカスサーボ回路
Claims (3)
- 【請求項１】（１）光源の直線偏光レーザーを1/4λ板
により直線偏光から円偏光に変換する装置、 （２）被測定物の両側に回転する偏光子と検光子を、ま
た該検光子の後方に受光素子を配置し、併せて偏光子と
検光子を直交ニコル及び平行ニコルの状態にして回転さ
せる制御部、並びに （３）前記受光素子から得られる信号をデジタル信号に
変換する装置を具備し、且つ直交ニコル状態及び平行ニ
コル状態の信号からリターデーション及び光学軸の方向
を求める演算部 から成ることを特徴とする複屈折測定装置。 - 【請求項２】（１）光源の直線偏光レーザーを1/4λ板
により直線偏光から円偏光に変換する装置、 （２）被測定物の両側に回転する偏光子と検光子、更に
集光ビーム状態を維持するための装置を、また該検光子
の後方に受光素子を配置し、併せて偏光子と検光子を直
交ニコル及び平行ニコルの状態にして回転させる制御
部、並びに （３）前記受光素子から得られる信号をデジタル信号に
変換する装置を具備し、且つ直交ニコル状態及び平行ニ
コル状態の信号からリターデーション及び光学軸の方向
を求める演算部 から成ることを特徴とする複屈折測定装置。 - 【請求項３】集光ビーム状態を維持するための装置がハ
ーフミラー、４分割受光素子、フォーカスサーボ回路、
フォーカスアクチュエータ及び集光レンズから成るもの
である特許請求の範囲第２項記載の複屈折測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61023487A JPH06100535B2 (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 複屈折測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61023487A JPH06100535B2 (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 複屈折測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62180242A JPS62180242A (ja) | 1987-08-07 |
| JPH06100535B2 true JPH06100535B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=12111874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61023487A Expired - Lifetime JPH06100535B2 (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | 複屈折測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100535B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2530454Y2 (ja) * | 1989-07-27 | 1997-03-26 | 株式会社 京都フィッション・トラック | 偏光顕微鏡用プリズム自転装置 |
| JPH0434338A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 複屈折測定方法およびその装置 |
| CA2105785A1 (en) * | 1992-09-10 | 1994-03-11 | Akihiro Ooka | Optical fiber type polarizer |
| JP2001343329A (ja) * | 2000-05-31 | 2001-12-14 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | フィルムまたはフィルムパッケージ検査装置及び検査方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6013245A (ja) * | 1983-07-04 | 1985-01-23 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光学異方性測定装置 |
-
1986
- 1986-02-05 JP JP61023487A patent/JPH06100535B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62180242A (ja) | 1987-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN103134592B (zh) | 一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法 | |
| JP7316355B2 (ja) | 垂直入射エリプソメータおよびこれを用いた試験片の光物性の測定方法 | |
| JPH054606B2 (ja) | ||
| JP2021529328A5 (ja) | ||
| CN115112028A (zh) | 一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法 | |
| JPH02503115A (ja) | デファレンシャルエリプソメーター | |
| CN104535500A (zh) | 成像椭偏仪的系统参数校准方法 | |
| KR100195397B1 (ko) | 복굴절층의 두께측정방법 및 장치 | |
| CN111207677A (zh) | 一种介质薄膜厚度及折射率的测量方法 | |
| US4456339A (en) | Laser heterodyne surface profiler | |
| CN116295838B (zh) | 基于分光瞳的天文偏振光谱仪系统 | |
| Andrushchak et al. | Automated interferometric technique for express analysis of the refractive indices in isotropic and anisotropic optical materials | |
| JPH06100535B2 (ja) | 複屈折測定装置 | |
| JPWO2020013517A5 (ja) | ||
| JP3520379B2 (ja) | 光学定数測定方法およびその装置 | |
| JP2791479B2 (ja) | レターデーション測定方法 | |
| CN201004124Y (zh) | 一种用于光度测量中的调节装置 | |
| US20050068531A1 (en) | Performing retardation measurements | |
| Xu et al. | A grating to transfer polarization rotation to straight line movement-designs and applications | |
| CN1350155A (zh) | 光学波片的检测仪 | |
| JP3343795B2 (ja) | 偏光解析装置 | |
| JPH01184444A (ja) | 複屈折測定装置 | |
| JPH1082697A (ja) | 複屈折測定装置 | |
| JPH07111327B2 (ja) | 偏光解析装置 | |
| JP3554374B2 (ja) | 偏光測定装置 |