JPH06101557B2 - 光集積回路 - Google Patents

光集積回路

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JPH06101557B2
JPH06101557B2 JP22304986A JP22304986A JPH06101557B2 JP H06101557 B2 JPH06101557 B2 JP H06101557B2 JP 22304986 A JP22304986 A JP 22304986A JP 22304986 A JP22304986 A JP 22304986A JP H06101557 B2 JPH06101557 B2 JP H06101557B2
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JP
Japan
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optical
hbt
optical waveguide
collector
base
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JP22304986A
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JPS6377151A (ja
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賢一 松田
淳 柴田
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H29/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one light-emitting semiconductor element covered by group H10H20/00
    • H10H29/10Integrated devices comprising at least one light-emitting semiconductor component covered by group H10H20/00

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  • Bipolar Transistors (AREA)
  • Bipolar Integrated Circuits (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はICチップ内の信号伝達を光によって行う光集積
回路の構造に関するものである。
従来の技術 本発明はヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBT)を
受光素子および発光素子として用い、複数のHBT間の信
号伝達を光によって行うことを目的としているので、従
来の技術としてまずHBTの従来構造を示す。HBTの従来構
造としては、例えばJ.Shibata他,“Monolithic integr
ation of an InGaAsP/InP laser diode with heterojun
ction bipolar transisters,"アプライド フィジック
ス レター(Appl.Phys.Lett.)vol.45,P.191(1984)
に示されている第4図のような構造がある。本構造は、
n−InPエミッタ1、p−InGaAsPベース2、n−InPコ
レクタ3の3層によってHBTが構成されており、HBTとn
−InP基板4および複数のHBT相互の電気的分離を行うた
めにp−InP分離層5およびp型分離拡散領域6が形成
されている。本HBTは電気信号による動作のみを考えて
おり、受発光機能を有しているものの光信号の有効な入
出力方法が無く、乎素子としての利用は困難である。
一方、光素子相互の信号伝達を光によって行う光集積回
路としては、従来より半導体レーザとホトダイオードの
間を光導波路で接合するというものが提案されている
(例えばJ.L.Merz他,“GaAs integrated optical circ
uits by wet chemical etching,"アイ イーイーイージ
ャーナル オブ カンタム エレクトロン(I EEE J.Qu
antum Electron),vol.QE−15,P.72(1979))。
しかし、このような組合せでは電気信号と光信号の相互
変換において増幅作用がないため、これだけでは単に半
導体レーザの光出力をホトダイオードでモニタするとい
う機能しか持ち得ない。
発明が解決しようとする問題点 ベースが直接遷移型半導体よりなるHBTは、本質的に受
発光機能を有しているが、従来の構造では光信号の有効
な入出力方法が無かったために光素子としての利用は困
難であった。本発明はこの点を改善し、同一ICチップ内
に形成されたHBT相互の信号伝達を光によって行うこと
が可能になるようにしようとするものである。また、HB
Tの増幅機能を利用することによって、増幅機能を有し
ない光素子相互を光結合した場合よりも、はるかに多く
の機能を付与することも目的としている。
問題点を解決するための手段 本発明は上記問題点を解決するために、半導体基板と、
前記基板上に形成されたストライプ状の光導波路と、前
記光導波路の一部領域をコレクタもしくはエミッタとす
るヘテロ接合バイポーラトランジスタとを具備し、前記
ヘテロ接合バイポーラトランジスタは前記コレクタもし
くはエミッタ上に形成された前記光導波路よりもバンド
ギャップの小さいベースと、前記ベース上に形成された
エミッタもしくはコレクタより成るような構造で光集積
回路を構成するというものである。
作用 ベースが直接遷移型の半導体よりなるHBTは飽和領域に
おいて発光する。その発光波長はベースのバンドギャッ
プによって決まるので、ベースに接してこれよりバンド
ギャップの大きな光導波路があれば、発光した光は光導
波路へ出力される。一方、HBTはホトトランジスタとし
ても機能するので、光導波路を伝播してきた光の波長が
ベースの吸収端よりも短かければHBTはこの光を受光す
ることができる。従って、複数のHBTのベースに接する
光導波路があれば、この光導波路を介してHBT間で光信
号の送受信を行うことができる。この際、光導波路のう
ち各HBTのベースに接する部分がコレクタもしくはエミ
ッタとなるようにしておけば簡単な構造で上記機能を実
現することが可能である。
実 施 例 第1図は本発明の光集積回路の一実施例を示す要部断面
斜視図である。半絶縁性InP基板11上にInGaAsP光導波層
12(バンドギャップ波長λg=1.1μm)が形成されて
いるが、光導波層12には層厚の厚いストライプ状領域が
あり、これが光導波路13となる。すなわち、光導波層12
を伝播する光はこのストライプ状光導波路13内を伝播し
ていくことになる。一方、光導波路13上には複数のHBT1
4が形成されているが、光導波路13のうちHBT14が形成さ
れる部分のみがn型となっており、HBT14のコレクタ15
として機能する。コレクタ15以外の光導波層12はp型と
なっており、複数のHBTを電気的に分離している。コレ
クタ15上にはp型InGaAsPベース16(λg=1.3μm)、
n型InGaAsPエミッタ17(λg=1.1μm)が形成されて
おり、ベース16はp型拡散によって形成されたグラフト
ベース18を介してベース電極19に接続されている。さら
に、エミッタ17,コレクタ18上にはエミッタ電極20,コレ
クタ電極21がそれぞれ設けられている。なお、以上の構
成において、一部もしくは全部のHBTが、エミッタとコ
レクタを逆に使用する(説明におけるエミッタをコレク
タ、コレクタをエミッタと読み換える)ものであっても
よい。
本実施例では、複数のHBT14が光導波路13によって結合
されている。従って、一方のHBTを飽和状態にして発光
させれば、他方のHBTでこれを受光することができる。
さらに受光用HBTはホトトランジスタとして機能してい
るから、光信号を増幅して電気信号に変換することがで
きる。第1図には、HBTの電気的配線は明示していない
が、通常のIC内の配線方法に従って任意の電気配線を施
すことが可能である。この電気配線と光結合による光配
線を組合せれば、種々の機能を有する光集積回路が構成
できる。以下にその例を示す。
第2図は本実施例を光読出しメモリへ応用した場合の回
路図である。ここで、第1のHBT22と第1の負荷抵抗23
および第2のHBT24と第2の負荷抵抗25のペアが双安定
回路を構成しており、第3のHBT26によって保持電流が
供給されている。以上の回路(図中の点線で囲んだ部
分)が一つのメモリセルになっており、電源線27と接地
線28の間にこのようなセルが多数接続されてメモリを構
成している。一方、メモリ全体の光配線を模式的に示し
たのが第3図である。図中斜線を施した部分がHBTを示
しているが、簡略化のため第1のHBT22および第3のHBT
26のみを示している。すなわち、各セルをマトリクス状
に配置し、縦方向には第1HBT22を貫くように出力用光導
波路29が形成されており、横方向には第3のHBT26を貫
くように選択用光導波路30が形成されている。さらに、
選択用光導波路30の端には選択用HBT31が、出力用光導
波路29の端にはセンス用HBT32が形成されている。
次に本メモリの動作機構について説明する。まず、メモ
リセルが選択されていない状態では、第3のHBT26のベ
ースには光が入力されておらず、ベース配線33から入力
されるベースバイアス電流によって双安定回路に定電流
を供給している。この際、ベースバイアス電流の値は双
安定回路のオン側のHBTが飽和しないように設定してお
く。この場合第1,第2のHBTはともに発光しない。次に
メモリセルを選択して、その内容を読出す時には、選択
したい行に光配線されている選択用HBT31を発光させ
る。この選択光信号34は選択用光導波路30を通じてその
行にあるセルの第3のHBT26に入力される。その結果、
双安定回路に供給される電流が増えて、オン側のHBTは
発光する。ここで第1のHBT22がオンであれば、その発
光は出力用光導波路30に出力され、出力光信号35はセン
ス用HBT32によって受光される。また、第1のHBTがオフ
であれば、出力光信号35は出力されないので、これによ
って第1のHBTのオン,オフが判別できる。すなわち、
選択した行のメモリ内容が読出せたことになる。
以上の光読出しメモリの構成において、選択用光導波路
と出力用光導波路は直交しているので、同一の光導波層
を用いて両光導波路を形成しても、選択光信号と出力光
信号の間にクロストークを生じることはない。
なお、以上の実施例の説明においては、半導体材料とし
てInGaAsP/InP系を用いてきたが、AlGaAs/GaAs系等の他
の化合物半導体材料を用いてもよい。また、HBTの電気
的分離に関しても,p−n分離に限定されるものではな
く、コレクタ以外の光導波層に例えばプロトン照射を行
って半絶縁性としてもよい。さらに、本光集積回路の応
用例としても、上記の光読出しメモリに限定されるもの
ではなく、電気配線と光配線を組合せた種々の光集積回
路に応用することが可能である。
発明の効果 以上述べてきたように、本発明によれば簡単な構造で電
気配線と光配線を兼ね備えた光集積回路を構成できる。
また、発光素子、受光素子としてHBTを用いているの
で、光素子自体が増幅機能を有しており、簡単な回路構
成で光メモリ等を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の光集積回路の要部断面斜視
図、第2図はその応用例である光読出しメモリの回路
図、第3図はその光読出しメモリの光配線を示す模式
図、第4図は従来のヘテロ接合バイポーラトランジスタ
の断面図である。 11……基板、13……光導波路、14……ヘテロ接合バイポ
ーラトランジスタ、15……コレクタ、16……ベース、17
……エミッタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 29/205 29/73 33/00 A 7376−4M

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体基板と、前記基板上に形成されたス
    トライプ状の光導波路と、前記光導波路の一部領域をコ
    レクタもしくはエミッタとするヘテロ接合バイポーラト
    ランジスタとを具備し、前記ヘテロ接合バイポーラトラ
    ンジスタは前記コレクタもしくはエミッタ上に形成され
    た前記光導波路よりもバンドギャップの小さいベース
    と、前記ベース上に形成されたエミッタもしくはコレク
    タより成る光集積回路。
JP22304986A 1986-09-19 1986-09-19 光集積回路 Expired - Lifetime JPH06101557B2 (ja)

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